TWM653301U - 可調式晶圓清洗架及其運送箱 - Google Patents

Abstract

本新型是一種可調式晶圓清洗架，包含：一架體，包括複數桿件、一由複數桿件圍成的承載空間、及二由複數桿件構成且位於該承載空間相對兩側的框部；二側板，分別固設在該架體兩側的框部，並各具有一呈縱向設置的第一條孔、及二呈橫向設置且位於該第一條孔兩側的第二條孔；一第一承載桿組，能夠縱向調整的定位在二該側板的第一條孔之間，並包括複數位於該承載空間的第一定晶部；以及二第二承載桿組，分別能夠橫向調整的定位在二該側板的第二條孔之間，並包括複數位於該承載空間的第二定晶部。

Description

可調式晶圓清洗架及其運送箱

本新型係與晶圓清洗架有關，特別是指一種可調式晶圓清洗架及其運送箱。

晶圓清洗架是一種用來承載半導體晶圓的容器，通常是由塑膠或金屬製成，可以容納多片晶圓，並保持它們的間距和方向。晶圓清洗架的用途是在晶圓的製造過程中，將晶圓送入不同的清洗液中，去除晶圓表面的污染物，如有機物、金屬離子、氧化層等，以提高晶圓的品質和性能。

然而，單一尺寸的晶圓清洗架僅能適用單一尺寸的晶圓，例如8 吋(200mm)或12吋(300mm)，因此，多種尺寸的晶圓必須準備多個相對應尺寸的晶圓清洗架，倘若8吋晶圓適用的晶圓清洗架承載不同尺寸的晶圓時，容易在清洗晶圓的過程中造成晶圓定位不穩固而傷及晶圓，凸顯出成本高、適用性不足的缺陷。

本新型的目的係在於提供一種能解決上述其中一問題之可調式晶圓清洗架及其運送箱，即單一晶圓清洗架可適用承載不同尺寸的晶圓，以降低成本及增加適用性。

為達前述目的，本新型係一種可調式晶圓清洗架，包含：一架體，包括複數桿件、一由複數桿件圍成的承載空間、及二由複數桿件構成且位於該承載空間相對兩側的框部；二側板，分別固設在該架體兩側的框部，並各具有一呈縱向設置的第一條孔、及二呈橫向設置且位於該第一條孔兩側的第二條孔；一第一承載桿組，能夠縱向調整的定位在二該側板的第一條孔之間，並包括複數位於該承載空間的第一定晶部；以及二第二承載桿組，分別能夠橫向調整的定位在二該側板的第二條孔之間，並包括複數位於該承載空間的第二定晶部。

本新型的功效在於：藉由該第一承載桿組能夠縱向調整的定位在二該側板之間搭配二該第二承載桿組能夠橫向調整的定位在二該側板之間，使得該第一承載桿組與二該第二承載桿組之間的相對位置可以隨著晶圓的尺寸大小而相對調動，以承載晶圓進行清洗，據此，本創作所提供的可調式晶圓清洗架可適用承載不同尺寸的晶圓，以降低成本及增加適用性。

較佳地，該第一承載桿組包括一第一承載桿及二第一固定件，該第一承載桿具有一位於該承載空間的第一桿部、二分別設於該第一桿部兩側且分別穿出該第一條孔的第一螺鎖部、及複數設於該第一桿部的第一定晶部，二該第一固定件固設在該第一承載桿的第一螺鎖部，使該第一承載桿定位在二該側板之間。

較佳地，各該第二承載桿組包括一第二承載桿及二第二固定件，該第二承載桿具有一位於該承載空間的第二桿部、二分別設於該第二桿部兩側且分別穿出該第二條孔的第二螺鎖部、及複數設於該第二桿部的第二定晶部，二該第二固定件固設在該第二承載桿的第二螺鎖部，使該第二承載桿定位在二該側板之間。

較佳地，各該側板的二該第二條孔是分別位於該第一條孔的上方。

較佳地，該第一承載桿的各第一定晶部呈三角形凹槽狀、矩形凹槽狀或梯形凹槽狀，且各該第一定晶部的槽口朝上。

較佳地，各該第二承載桿的各第二定晶部呈三角形凹槽狀、矩形凹槽狀或梯形凹槽狀，且其中一該第二承載桿的第二定晶部的槽口朝向另一該第二承載桿的第二定晶部的槽口。

較佳地，各該第一固定件為螺帽，並螺設在該第一螺鎖部且迫抵在該側板的外側面。

較佳地，各該第二固定件為螺帽，並螺設在該第二螺鎖部且迫抵在該側板的外側面。

較佳地，各該側板的第一條孔數量為兩個，該第一承載桿組的數量為兩組。

另外，本創作所提供一種可調式晶圓清洗架的運送箱，包含：一箱本體，具有一容置槽；如上述的可調式晶圓清洗架，設置於該箱本體的容置槽內；以及一箱蓋，封設在該箱本體的容置槽。

藉此，本創作提供一種可調式晶圓清洗架的運送箱，藉以容納可調式晶圓清洗架及其上的晶圓，使得晶圓的製造和供應鏈中，將晶圓從一個地點送到另一個地點時可以減少晶圓在運輸過程中受到的污染、磨損和損壞，提高晶圓的品質和壽命。

較佳地，該箱本體為透明材質。該箱蓋為透明材質。

較佳地，該箱本體還具有複數個相對設在該容置槽內的固定部，該可調式晶圓清洗架的架體卡制在各該固定部之間。

參閱圖1至圖6A所示，本新型第一實施例所提供一種可調式晶圓清洗架100，適用於承載一晶圓10，該可調式晶圓清洗架100主要是由一架體20、二側板30、一第一承載桿組40、及二第二承載桿組50所組成，其中：

該架體20，包括複數桿件21、一由複數桿件21圍成的承載空間22、及二由複數桿件21構成且位於該承載空間22相對兩側的框部23；本實施例中，各該桿件21區分為長短不一的橫桿件及縱桿件相互連接而成，使得該承載空間22呈矩形狀，藉由各該桿件21所形成的架體20，使得該架體20具有足夠的間隙，達到更好的洗淨及烘乾效果。

二該側板30為相同結構，二該側板30分別固設在該架體20兩側的框部23，並各具有一呈縱向設置的第一條孔31、及二呈橫向設置且位於該第一條孔31兩側的第二條孔32。本實施例中，各該側板30的二該第二條孔32除了是位於該第一條孔31的兩側之外，更分別位於該第一條孔31的上方。

該第一承載桿組40，能夠縱向調整的定位在二該側板30的第一條孔31之間，並包括複數位於該承載空間22的第一定晶部413。本實施例中，該第一承載桿組40包括一第一承載桿41及二第一固定件42。該第一承載桿41具有一位於該承載空間22的第一桿部411、二分別設於該第一桿部411兩側且分別穿出該第一條孔31的第一螺鎖部412、及複數設於該第一桿部411且供該晶圓10靠抵的第一定晶部413，各該第一定晶部413呈三角形凹槽狀，且各該第一定晶部413的槽口朝上，但不以此為限，各該第一定晶部413亦可呈矩形凹槽狀(如圖6B)或大小不同的梯形凹槽狀(如圖6C或圖6D)。二該第一固定件42固設在該第一承載桿41的第一螺鎖部412，使該第一承載桿41定位在二該側板30之間；本實施例中，各該第一固定件42為螺帽，並螺設在該第一螺鎖部412且藉由一第一墊片43而迫抵在該側板30的外側面。

二該第一承載桿組50為相同結構，二該第二承載桿組50分別能夠橫向調整的定位在二該側板30的第二條孔32之間，並包括複數位於該承載空間22的第二定晶部513。本實施例中，各該第二承載桿組50包括一第二承載桿51及二第二固定件52，該第二承載桿51具有一位於該承載空間22的第二桿部511、二分別設於該第二桿部511兩側且分別穿出該第二條孔32的第二螺鎖部512、及複數設於該第二桿部511且供該晶圓10靠抵的第二定晶部513，各該第二定晶部513呈三角形凹槽狀，且其中一該第二承載桿51的第二定晶部513的槽口朝向另一該第二承載桿51的第二定晶部513的槽口，但不以此為限，各該第二定晶部513亦可呈矩形凹槽狀(如圖6B)或大小不同的梯形凹槽狀(如圖6C或圖6D)。二該第二固定件52固設在該第二承載桿51的第二螺鎖部512，使該第二承載桿51定位在二該側板30之間；本實施例中，各該第二固定件52為螺帽，並螺設在該第二螺鎖部512且藉由一第二墊片53而迫抵在該側板30的外側面。

以上所述即為本創作第一實施例各主要構件之結構及其組態說明。本創作所提供的可調式晶圓清洗架100的作動方式及功效說明如下。

參閱圖4所示，將該晶圓10置於該架體20的承載空間22內，並讓該晶圓10同時靠抵在該第一承載桿41的第一定晶部413、及二該第二承載桿51的第二定晶部513，使該晶圓10獲得三個定位結構的支撐，讓該晶圓10得以穩固的置於該架體20的承載空間22，以便進行晶圓清洗製程，而去除晶圓表面的污染物作業。

參閱圖1、圖2、圖3及圖5所示，如欲承載不同尺寸的晶圓10進行清洗製程時，旋鬆該第一承載桿41上的第一固定件42及該第二承載桿51上的第二固定件52，並對該第一承載桿41進行縱向的位移調整、對該第二承載桿51進行橫向的位移調整，待調定位置後，旋緊該第一固定件42及該第二固定件52，使該第一承載桿41及該第二承載桿51重新定位在二該側板30之間，讓該第一定晶部413及二該第二定晶部513朝中心方向內縮，藉以承載尺寸較小的晶圓10，以便進行晶圓清洗製程。

由此可知，藉由該第一承載桿組40能夠縱向調整的定位在二該側板30之間搭配二該第二承載桿組50能夠橫向調整的定位在二該側板30之間，使得該第一承載桿組40與二該第二承載桿組50之間的相對位置可以隨著晶圓10的尺寸大小而相對調動，以承載晶圓10進行清洗，據此，本創作所提供的可調式晶圓清洗架100可適用承載不同尺寸的晶圓10，以降低成本及增加適用性。

參閱圖7所示，本新型第二實施例所提供一種可調式晶圓清洗架，其與第一實施例不同處在於：

各該側板30的第一條孔31數量為兩個，該第一承載桿組40的數量為兩組，藉以構成另一種實施狀態。

參閱圖8所示，本新型第三實施例所提供一種可調式晶圓清洗架的運送箱，包含：一箱本體60，具有一容置槽61，本實施例中該箱本體60是由透明材質所製，例如透明的壓克力材料，但不以此為限，另外，該箱本體60還具有複數個相對設在該容置槽61之槽底面611的固定部62，各該固定部62可圍成一矩形或呈前、後、左、右的四點方式設置，但不以此為限，各該固定部62亦可設置在該容置槽61的槽壁面；如上述第一實施例(或第二實施例)的可調式晶圓清洗架100，設置於該箱本體60的容置槽61內，且該可調式晶圓清洗架100的架體20卡制在各該固定部62之間，亦即該架體20底部的桿件21受限並靠抵在所對應的固定部62，使該架體20該箱本體60不會相對位移；以及一箱蓋70，封設在該箱本體60的容置槽61，本實施例中該箱蓋70是由透明材質所製，例如透明的壓克力材料，但不以此為限。

藉此，本創作第三實施例所提供一種可調式晶圓清洗架的運送箱，藉以容納可調式晶圓清洗架100及其上的晶圓10，使得晶圓的製造和供應鏈中，將晶圓10從一個地點送到另一個地點時可以減少晶圓10在運輸過程中受到的污染、磨損和損壞，提高晶圓的品質和壽命。

另一方面，藉由該箱本體60的容置槽61內設有固定部62的設計，使得該可調式晶圓清洗架100設置於該箱本體60的容置槽61後，該架體20得以被該固定部62卡制固定住，使得在運送過程中，該架體20該箱本體60不會相對位移，也就是該架體20不會與該箱本體60產生內部碰撞，造成晶圓10的大幅度晃動而增加受損的機率。其次，藉由該箱本體60由透明材質所製、或該箱蓋70由透明材質所製、或該箱本體60及該箱蓋70都是由透明材質所製的設計，使得在運送過程，可以明確清晰的觀察到該可調式晶圓清洗架100上的晶圓10運送情形。

100:可調式晶圓清洗架 10:晶圓 20:架體 21:桿件 22:承載空間 23:框部 30:側板 31:第一條孔 32:第二條孔 40:第一承載桿組 41:第一承載桿 411:第一桿部 412:第一螺鎖部 413:第一定晶部 42:第一固定件 43:第一墊片 50:第一承載桿組 51:第二承載桿 511:第二桿部 512:第二螺鎖部 513:第二定晶部 52:第二固定件 53:第二墊片 60:箱本體 61:容置槽 611:槽底面 62:固定部 70:箱蓋

圖1是本新型第一實施例的立體圖； 圖2是本新型第一實施例的側視圖； 圖3是本新型第一實施例的上視圖； 圖4是本新型第一實施例的剖面圖，顯示本創作承載大尺寸晶圓的狀態； 圖5是本新型第一實施例的剖面圖，顯示本創作承載小尺寸晶圓的狀態； 圖6A是本新型第一實施例的局部上視圖，顯示第一承載桿(第二承載桿)的各第一定晶部(第二定晶部)呈三角形凹槽狀的狀態； 圖6B是本新型第一實施例的局部上視圖，顯示第一承載桿(第二承載桿)的各第一定晶部(第二定晶部)呈矩形凹槽狀的狀態； 圖6C是本新型第一實施例的局部上視圖，顯示第一承載桿(第二承載桿)的各第一定晶部(第二定晶部)呈梯形凹槽狀的狀態； 圖6D是本新型第一實施例的局部上視圖，顯示第一承載桿(第二承載桿)的各第一定晶部(第二定晶部)呈另一種梯形凹槽狀的狀態； 圖7是本新型第二實施例的上視圖；以及 圖8是本新型第三實施例的側視圖。

100:可調式晶圓清洗架

20:架體

21:桿件

22:承載空間

23:框部

30:側板

31:第一條孔

32:第二條孔

412:第一螺鎖部

413:第一定晶部

42:第一固定件

43:第一墊片

50:第一承載桿組

51:第二承載桿

511:第二桿部

512:第二螺鎖部

513:第二定晶部

52:第二固定件

53:第二墊片

Claims (13)

1. 一種可調式晶圓清洗架，包含： 一架體，包括複數桿件、一由複數桿件圍成的承載空間、及二由複數桿件構成且位於該承載空間相對兩側的框部； 二側板，分別固設在該架體兩側的框部，並各具有一呈縱向設置的第一條孔、及二呈橫向設置且位於該第一條孔兩側的第二條孔； 一第一承載桿組，能夠縱向調整的定位在二該側板的第一條孔之間，並包括複數位於該承載空間的第一定晶部；以及 二第二承載桿組，分別能夠橫向調整的定位在二該側板的第二條孔之間，並包括複數位於該承載空間的第二定晶部。
2. 如請求項1所述之可調式晶圓清洗架，其中該第一承載桿組包括一第一承載桿及二第一固定件，該第一承載桿具有一位於該承載空間的第一桿部、二分別設於該第一桿部兩側且分別穿出該第一條孔的第一螺鎖部、及複數設於該第一桿部的第一定晶部，二該第一固定件固設在該第一承載桿的第一螺鎖部，使該第一承載桿定位在二該側板之間。
3. 如請求項1所述之可調式晶圓清洗架，其中各該第二承載桿組包括一第二承載桿及二第二固定件，該第二承載桿具有一位於該承載空間的第二桿部、二分別設於該第二桿部兩側且分別穿出該第二條孔的第二螺鎖部、及複數設於該第二桿部的第二定晶部，二該第二固定件固設在該第二承載桿的第二螺鎖部，使該第二承載桿定位在二該側板之間。
4. 如請求項1所述之可調式晶圓清洗架，其中各該側板的二該第二條孔是分別位於該第一條孔的上方。
5. 如請求項2所述之可調式晶圓清洗架，其中該第一承載桿的各第一定晶部呈三角形凹槽狀、矩形凹槽狀或梯形凹槽狀，且各該第一定晶部的槽口朝上。
6. 如請求項3所述之可調式晶圓清洗架，其中各該第二承載桿的各第二定晶部呈三角形凹槽狀、矩形凹槽狀或梯形凹槽狀，且其中一該第二承載桿的第二定晶部的槽口朝向另一該第二承載桿的第二定晶部的槽口。
7. 如請求項2所述之可調式晶圓清洗架，其中各該第一固定件為螺帽，並螺設在該第一螺鎖部且迫抵在該側板的外側面。
8. 如請求項3所述之可調式晶圓清洗架，其中各該第二固定件為螺帽，並螺設在該第二螺鎖部且迫抵在該側板的外側面。
9. 如請求項1所述之可調式晶圓清洗架，其中各該側板的第一條孔數量為兩個，該第一承載桿組的數量為兩組。
10. 一種可調式晶圓清洗架的運送箱，包含： 一箱本體，具有一容置槽； 如請求項1至9的任一項所述的可調式晶圓清洗架，設置於該箱本體的容置槽內；以及 一箱蓋，封設在該箱本體的容置槽。
11. 如請求項10所述之可調式晶圓清洗架的運送箱，其中該箱本體為透明材質。
12. 如請求項10所述之可調式晶圓清洗架的運送箱，其中該箱蓋為透明材質。
13. 如請求項10所述之可調式晶圓清洗架的運送箱，其中該箱本體還具有複數個相對設在該容置槽內的固定部，該可調式晶圓清洗架的架體卡制在各該固定部之間。