TWI404571B - 維修裝置及吐出裝置 - Google Patents

維修裝置及吐出裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI404571B
TWI404571B TW99117940A TW99117940A TWI404571B TW I404571 B TWI404571 B TW I404571B TW 99117940 A TW99117940 A TW 99117940A TW 99117940 A TW99117940 A TW 99117940A TW I404571 B TWI404571 B TW I404571B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
sub
mobile station
track
moving
discharge
Prior art date
Application number
TW99117940A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
TW201111048A (en
Inventor
Yuuya Inoue
Takumi Namekawa
Kei Baba
Kouji Hane
Hiromi Maekawara
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Publication of TW201111048A publication Critical patent/TW201111048A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI404571B publication Critical patent/TWI404571B/zh

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
TW99117940A 2009-06-18 2010-06-03 維修裝置及吐出裝置 TWI404571B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009145358A JP5274389B2 (ja) 2009-06-18 2009-06-18 メンテナンス装置及び吐出装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201111048A TW201111048A (en) 2011-04-01
TWI404571B true TWI404571B (zh) 2013-08-11

Family

ID=43367163

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW99117940A TWI404571B (zh) 2009-06-18 2010-06-03 維修裝置及吐出裝置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5274389B2 (ko)
KR (1) KR101207244B1 (ko)
CN (1) CN101927608B (ko)
TW (1) TWI404571B (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104647920B (zh) * 2015-02-15 2017-03-01 广东峰华卓立科技股份有限公司 一种打印机喷头喷墨检测和控制系统及其工作方法
JP6539344B2 (ja) * 2015-05-29 2019-07-03 富士フイルム株式会社 調剤監査装置、調剤監査方法、プログラムおよび記録媒体

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200519352A (en) * 2003-11-10 2005-06-16 Seiko Epson Corp Liquid droplet ejection method, liquid droplet ejection device, nozzle abnormality determination method, display device, and electronic equipment
TW200909798A (en) * 2007-07-06 2009-03-01 Olympus Corp Appearance inspecting device for substrate

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10206624A (ja) * 1997-01-17 1998-08-07 Asahi Glass Co Ltd カラーフィルタ製造方法及びそれに用いるカラーフィルタ製造装置
JP2004216642A (ja) * 2003-01-10 2004-08-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd インクジェット記録装置、そのインクジェットヘッドのクリーニング方法、並びにそのインクジェット記録方法を用いた画像表示素子の製造方法及び光記録媒体の製造方法
JP2006154128A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Sharp Corp カラーフィルタ製造装置およびカラーフィルタ製造方法
EP1875404B1 (en) 2005-04-25 2013-06-12 Ulvac, Inc. Drop analysis system
JP2006305989A (ja) * 2005-05-02 2006-11-09 Fuji Xerox Co Ltd 液滴吐出装置及び液滴吐出ヘッドのクリーニング方法
JP2007007977A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置およびメンテナンス方法
KR100736593B1 (ko) 2005-09-07 2007-07-06 (주)에스티아이 잉크젯 프린터용 다기능 헤드 클리너
JP2007175614A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Toshiba Corp 液滴吐出検査装置及び液滴吐出装置
JP2008216728A (ja) * 2007-03-06 2008-09-18 Seiko Epson Corp 吐出量測定方法、液状体の吐出方法、カラーフィルタの製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法
JP5391524B2 (ja) * 2007-03-23 2014-01-15 凸版印刷株式会社 インクジェットヘッド管理装置
JP2010099606A (ja) * 2008-10-24 2010-05-06 Shibaura Mechatronics Corp 液滴塗布方法及び装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200519352A (en) * 2003-11-10 2005-06-16 Seiko Epson Corp Liquid droplet ejection method, liquid droplet ejection device, nozzle abnormality determination method, display device, and electronic equipment
TW200909798A (en) * 2007-07-06 2009-03-01 Olympus Corp Appearance inspecting device for substrate

Also Published As

Publication number Publication date
CN101927608B (zh) 2013-02-06
JP5274389B2 (ja) 2013-08-28
CN101927608A (zh) 2010-12-29
KR101207244B1 (ko) 2012-12-03
JP2011002641A (ja) 2011-01-06
KR20100136422A (ko) 2010-12-28
TW201111048A (en) 2011-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI511794B (zh) A film pattern forming apparatus, a film pattern forming method, and a device adjusting method
KR101689926B1 (ko) 기판 처리 장치
JP2012166159A (ja) 吐出装置および吐出する方法
TWI404571B (zh) 維修裝置及吐出裝置
JP7346082B2 (ja) 錠剤印刷検査装置
KR20110007866A (ko) 처리액 도포 장치 및 방법
JP2006344705A (ja) 基板のステージ装置、検査装置及び修正装置
JP2009072691A (ja) インク噴射状態検査装置、フラットパネルの製造装置およびフラットパネル
JP7362462B2 (ja) 液体吐出装置、インプリント装置、および検査方法
EP3800054A1 (en) Solution application apparatus and a tablet printing apparatus
JP7023369B2 (ja) 描画装置および描画方法
TW201433463A (zh) 基板製造裝置及基板製造裝置的維護方法
KR102599572B1 (ko) 액적 토출 장치, 액적 토출 방법, 프로그램 및 컴퓨터 기억 매체
JP4432322B2 (ja) 液滴吐出装置
TWI834283B (zh) 塗布裝置、液滴噴出檢查方法
JP2009247917A (ja) 基板検査装置、基板検査方法、液滴吐出装置及び吐出方法
US20240034056A1 (en) Droplet analysis unit and substrate treatment apparatus including the same
TWM328949U (en) Ink-jet apparatus
WO2021039183A1 (ja) 液滴量計測装置
KR20240066088A (ko) 액적 토출 시스템, 액적 토출 방법 및 액적 토출 장치
CN117984661A (zh) 基板处理装置及方法
KR20240033864A (ko) 잉크젯 헤드 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
CN115780171A (zh) 涂布装置、液滴喷出检查方法
JP2008229582A (ja) インクジェットヘッド管理装置
JP2020127921A (ja) ノズル検査装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees