KR20240066088A - 액적 토출 시스템, 액적 토출 방법 및 액적 토출 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 토출 노즐로부터 액적으로서 토출되는 기능액의 토출 상태를, 기능액의 종류에 상관없이 적절히 조정하는 것을 가능하게 한다.
액적 토출 시스템으로서, 기판이 배치되는 스테이지, 검사용 기판이 배치되는 검사용 스테이지, 상기 스테이지 및 상기 검사용 스테이지를 향해 기능액의 액적을 토출하는 토출 노즐, 및 상기 토출 노즐로부터 토출된 상기 기능액의 액적을 촬상하는 촬상부를 갖는 액적 토출 장치와, 발액성을 갖는 검사용 막을 검사용 기판에 형성하는 성막 장치와, 상기 액적 토출 장치 및 상기 성막 장치에 대하여 상기 검사용 기판을 반송하는 반송 장치, 그리고 제어 장치를 구비하고, 상기 제어 장치는, 그 제어 및 연산에 의해, (A) 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대응하는 막질을 갖는 상기 검사용 막을, 상기 성막 장치에 의해 상기 검사용 기판에 형성하는 공정과, (B) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판을 상기 액적 토출 장치의 상기 검사용 스테이지에 배치하는 공정과, (C) 그 후, 상기 검사용 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 검사용 막에 대응하는 종류의 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과, (D) 상기 (C) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정과, (E) 상기 (D) 공정에서의 취득 결과에 기초하여, 상기 토출 노즐로부터의 상기 기능액의 액적의 토출 조건을 조정하는 공정, 그리고 (F) 상기 (E) 공정에서 조정된 토출 조건으로, 상기 스테이지에 배치된 기판에 상기 토출 노즐로부터 기능액의 토출을 행하는 공정을 상기 액적 토출 시스템이 실행하게 하도록 구성되어 있는 액적 토출 시스템이다.

Description

액적 토출 시스템, 액적 토출 방법 및 액적 토출 장치{DROPLET DISCHARGING SYSTEM, DROPLET DISCHARGING METHOD AND DROPLET DISCHARGING APPARATUS}

본 개시는, 액적 토출 시스템, 액적 토출 방법 및 액적 토출 장치에 관한 것이다.

특허문헌 1에는, 검사 필름의 발액성을 갖는 표면에 액적 토출 헤드로부터 기능액의 액적을 검사 토출하고, 상기 검사 토출된 액적을 촬상부로 촬상하고, 촬상 결과에 기초하여 액적 토출 헤드의 토출 불량을 검사하는 방법이 개시되어 있다.

특허문헌 1 : 일본특허공개 제2018-8231호 공보

본 개시에 따른 기술은, 토출 노즐로부터 액적으로서 토출되는 기능액의 토출 상태를, 기능액의 종류에 상관없이 적절히 조정하는 것을 가능하게 한다.

본 개시의 일양태는, 액적 토출 시스템으로서, 기판이 배치되는 스테이지, 검사용 기판이 배치되는 검사용 스테이지, 상기 스테이지 및 상기 검사용 스테이지를 향해 기능액의 액적을 토출하는 토출 노즐, 및 상기 토출 노즐로부터 토출된 상기 기능액의 액적을 촬상하는 촬상부를 갖는 액적 토출 장치와, 발액성을 갖는 검사용 막을 검사용 기판에 형성하는 성막 장치와, 상기 액적 토출 장치 및 상기 성막 장치에 대하여 상기 검사용 기판을 반송하는 반송 장치, 그리고 제어 장치를 구비하고, 상기 제어 장치는, 그 제어 및 연산에 의해, (A) 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대응하는 막질을 갖는 상기 검사용 막을, 상기 성막 장치에 의해 상기 검사용 기판에 형성하는 공정과, (B) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판을 상기 액적 토출 장치의 상기 검사용 스테이지에 배치하는 공정과, (C) 그 후, 상기 검사용 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 검사용 막에 대응하는 종류의 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과, (D) 상기 (C) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정과, (E) 상기 (D) 공정에서의 취득 결과에 기초하여, 상기 토출 노즐로부터의 상기 기능액의 액적의 토출 조건을 조정하는 공정, 그리고 (F) 상기 (E) 공정에서 조정된 토출 조건으로, 상기 스테이지에 배치된 기판에 상기 토출 노즐로부터 기능액의 토출을 행하는 공정을 상기 액적 토출 시스템이 실행하도록 구성되어 있는 액적 토출 시스템이다.

본 개시에 의하면, 토출 노즐로부터 액적으로서 토출되는 기능액의 토출 상태를, 기능액의 종류에 상관없이 적절히 조정할 수 있다.

도 1은 제1 실시형태에 따른 액적 토출 시스템의 구성의 개략을 도시하는 설명도이다.
도 2는 도 1의 액적 토출 시스템이 구비하는 액적 토출 장치의 내부 구성의 개략을 도시하는 모식 측면도이다.
도 3은 도 2의 액적 토출 장치의 모식 평면도이다.
도 4는 도 2의 액적 토출 장치가 갖는 후술하는 캐리지의 구성의 개략을 도시하는 모식 평면도이다.
도 5는 도 1의 액적 토출 시스템에서의, 토출 노즐로부터의 토출 조건의 조정 처리의 주요 공정을 도시하는 플로우차트이다.
도 6은 검사용 막으로의 기능액의 토출 형태의 다른 예를 설명하는 도면이다.
도 7은 검사용 막으로의 기능액의 토출 형태의 다른 예를 설명하는 도면이다.
도 8은 제2 실시형태에 따른 액적 토출 시스템의 구성의 개략을 도시하는 설명도이다.
도 9는 도 8의 액적 토출 시스템에서의, 토출 노즐로부터의 토출 조건의 조정 처리의 일례의 주요 공정을 도시하는 플로우차트이다.
도 10은 도 8의 액적 토출 시스템에서의, 토출 노즐로부터의 토출 조건의 조정 처리의 다른 예의 주요 공정을 도시하는 플로우차트이다.
도 11은 제3 실시형태에 따른 액적 토출 시스템의 구성의 개략을 도시하는 설명도이다.
도 12는 제4 실시형태에 따른 액적 토출 장치의 구성의 개략을 도시하는 설명도이다.

종래, 기능액을 사용하여 기판에 묘화를 행하는 장치로서, 토출 노즐로부터 기능액을 액적으로 하여 토출하는 잉크젯 방식의 액적 토출 장치가 알려져 있다. 액적 토출 장치는, 예컨대 유기 EL 장치, 컬러 필터, 액정 표시 장치, 플라즈마 디스플레이(PDP 장치), 전자 방출 장치(FED 장치, SED 장치) 등의 전기 광학 장치(플랫 패널 디스플레이 : FPD)를 제조할 때 등에 널리 이용되고 있다.

액적 토출 장치에 있어서는, 기능액의 토출 상태가 적절한 것, 구체적으로는, 예컨대 토출 노즐 사이에 있어서 토출량이나 토출 위치에 변동이 없는 것, 혹은, 토출 노즐의 토출량이나 토출 위치에 기초하여 그 조합을 적절히 조정하여 화소 내의 도포량에 변동이 없는 것이 요구된다. 따라서, 종래, 토출 노즐로부터 기능액을 실제로 토출하고, 그 토출 결과에 기초하여 토출 상태를 조정하는 것이 행해지고 있다. 구체적으로는, 예컨대, 액적 토출 장치 내에 배치된, 발액성을 갖는 검사용 필름에 기능액의 액적을 토출하여 착탄시키고, 상기 액적을 촬상하여, 촬상 결과로부터, 토출된 기능액의 액적의 정보를 취득하고(즉 해석하고), 그 취득 결과에 기초하여 토출량이나 토출 위치를 조정하는 것이 행해지고 있다.

그러나, 토출되는 기능액의 종류는 많고, 기능액의 종류에 따라서는, 검사용 필름과의 상성 때문에, 검사용 필름 상으로의 액적의 토출 결과, 즉 착탄 결과의 재현성이 나쁜 경우가 있다. 예컨대, 검사용 필름의 접촉각이 지나치게 작으면, 검사용 필름 상에서 액적이 퍼지기 쉬워져 검사용 필름 상의 액적의 면적의 재현성이 나빠져 버리고, 또한, 검사용 필름의 접촉각이 지나치게 크면, 검사용 필름 상에서 액적이 움직이기 쉬워져 검사용 필름 상의 액적의 위치의 재현성이 나빠져 버린다. 그 때문에, 검사용 필름 상에 토출된 액적의 촬상 결과에 기초하여 토출 상태를 조정하더라도, 적절하게 되지 않는 경우가 있다.

본 개시에 따른 기술은, 토출 노즐로부터 액적으로서 토출되는 기능액의 토출 상태(예컨대 토출량이나 토출 위치)를, 기능액의 종류에 상관없이 적절히 조정하기 위한 것이다.

이하, 본 실시형태에 따른 액적 토출 시스템, 도포 방법 및 액적 토출 장치에 대해, 도면을 참조하면서 설명한다. 한편, 본 명세서 및 도면에 있어서, 실질적으로 동일한 기능 구성을 갖는 요소에 대해서는, 동일한 부호를 붙임으로써 중복 설명을 생략한다.

[제1 실시형태]

<액적 토출 시스템(1)>

도 1은, 제1 실시형태에 따른 액적 토출 시스템의 구성의 개략을 도시하는 설명도이다. 도 2는, 도 1의 액적 토출 시스템이 구비하는 액적 토출 장치의 내부 구성의 개략을 도시하는 모식 측면도이다. 도 3은, 도 2의 액적 토출 장치의 모식 평면도이다. 도 4는, 도 2의 액적 토출 장치가 갖는 후술하는 캐리지의 구성의 개략을 도시하는 모식 평면도이다.

도 1의 액적 토출 시스템(1)은 액적 토출 장치(2)를 구비한다.

액적 토출 장치(2)는, 기능막을 구성하는 재료를 포함하는 액체인 기능액을 액적으로 하여 토출하여 제품 기판(W)(도 2 참조) 상에 액적의 패턴을 형성하는, 잉크젯 방식의 성막 장치이다. 기능막이란, 유기 EL 소자 등의 전자 디바이스용의 박막이며, 소정의 기능(예컨대 발광 기능, 광선택 흡수 기능 등의 광학적 기능이나, 도전 기능 등의 전기적 기능)을 갖는 것이다. 또한, 제품 기판(W)은 예컨대 유리 기판이다.

액적 토출 장치(2)는, 도 2 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 주주사 방향(X축 방향)으로 연장되어, 제품 기판(W) 등의 기판(구체적으로는 제품 기판(W)이 배치되는 후술하는 스테이지(40) 등)을 주주사 방향으로 이동시키는 X축 테이블(10)을 갖는다. 또한, 액적 토출 장치(2)는, X축 테이블(10)에 걸치도록 가교되고, 주주사 방향에 직교하는 부주사 방향(Y축 방향)으로 연장된 한쌍의 Y축 테이블(11, 11)을 갖고 있다.

X축 테이블(10)의 상면에는, 한쌍의 X축 가이드 레일(12, 12)이 X축 방향으로 연신되어 설치되고, 각 X축 가이드 레일(12)에는 X축 리니어 모터(도시하지 않음)가 설치되어 있다. 각 Y축 테이블(11)의 상면에는, Y축 가이드 레일(13)이 Y축 방향으로 연신되어 설치되고, 상기 Y축 가이드 레일(13)에는 Y축 리니어 모터(도시하지 않음)가 설치되어 있다.

한쌍의 Y축 테이블(11, 11)에는, 캐리지 유닛(20)과 촬상 유닛(30)이 설치되어 있다. X축 테이블(10) 상에는 스테이지(40)가 설치되어 있다. X축 테이블(10) 상에는 플러싱 유닛(50) 및 검사용 스테이지(60)도 설치되어 있다. 스테이지(40)에는 제품 기판(W)이 배치되고, 검사용 스테이지(60)에는 검사용 기판(Wi)이 배치된다. X축 테이블(10)의 외측(Y축 방향 마이너스측)이자 한쌍의 Y축 테이블(11, 11)의 사이에는 메인터넌스 유닛(80)이 설치되어 있다.

캐리지 유닛(20)은, Y축 테이블(11)에 있어서, 복수(예컨대 10개) 설치되어 있다. 각 캐리지 유닛(20)은, 캐리지 플레이트(21)와, 캐리지 회동 기구(22)와, 캐리지(23)를 갖고 있다.

캐리지 플레이트(21)는, 금속제의 플레이트로 이루어지고, Y축 가이드 레일(13)에 부착되어, Y축 가이드 레일(13)에 설치된 Y축 리니어 모터에 의해 Y축 방향으로 이동 가능하게 되어 있다. 한편, 복수의 캐리지 플레이트(21)를 일체로 하여 Y축 방향으로 이동시키는 것도 가능하다.

캐리지 플레이트(21)의 하면의 중앙에는 캐리지 회동 기구(22)가 설치되고, 상기 캐리지 회동 기구(22)의 하단부에 캐리지(23)가 착탈 가능하게 부착되어 있다. 캐리지(23)는, 캐리지 회동 기구(22)에 의해, X축 방향 및 Y축 방향에 직교하는 연직 방향(Z축 방향) 둘레의 회동 방향(θ 방향)으로 회동 가능하게 되어 있다.

캐리지(23)의 하면에는, 도 4에 도시하는 바와 같이, 복수의 토출 헤드(24)가 설치되어 있다. 토출 헤드(24)는, 예컨대, R, G, B, C, M, Y의 6색에 대해 각 1개(총 6개) 설치되어 있다. 한편, 캐리지(23)의 수 및 각 캐리지(23)에 설치되는 토출 헤드(24)의 수는 임의이다.

또한, 토출 헤드(24)는, 각각의 하면에 복수(예컨대 10개)의 토출 구멍, 즉 토출 노즐(24a)이 형성되어 있고, 상기 토출 노즐(24a)이 스테이지(40)를 향해 기능액의 액적을 토출한다. 토출 노즐(24a)은, 구체적으로는, 상기 토출 노즐(24a)의 하측에 위치하는 스테이지(40)를 향해 기능액을 토출한다. 토출 노즐(24a)은, 부주사 방향(Y축 방향)을 따라 나열되도록 설치되어 있다.

촬상 유닛(30)은, 도 2 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 촬상부로서의 토출 검사 카메라(31)를 갖고 있다. 토출 검사 카메라(31)는, 캐리지(23)에 대하여 X축 방향 플러스측에 배치되어 있다.

토출 검사 카메라(31)는, 검사용 기판(Wi)을 촬상하고, 구체적으로는, 검사용 기판(Wi)의 후술하는 검사용 막 위에 토출 노즐(24a)로부터 토출된 기능액의 액적을 촬상한다. 토출 검사 카메라(31)는, 예컨대 라인 센서이다. 토출 검사 카메라(31)는, 한쌍의 Y축 테이블(11, 11) 중, X축 방향 플러스측의 Y축 테이블(11)의 측면에 설치된 베이스(32)에 지지되어 있다. 토출 검사 카메라(31)의 바로 아래로 스테이지(40)가 안내되었을 때, 토출 검사 카메라(31)는, 스테이지(40) 상의 검사용 기판(Wi)에 착탄된 기능액의 액적을 촬영할 수 있다. 토출 검사 카메라(31)는, 후술하는 제어 장치(5)에 제어되고, 토출 검사 카메라(31)에 의한 촬상 결과는 제어 장치(5)에 출력된다.

스테이지(40)는, 예컨대 진공 흡착 스테이지이며, 제품 기판(W)을 흡착하여 유지한다. 스테이지(40)는, 상기 스테이지(40)의 하면측에 설치된 스테이지 회동 기구(41)에 의해, θ 방향으로 회동 가능하게 지지되어 있다. 한편, Y축 테이블(11)의 X축 방향 마이너스측이자 스테이지(40)의 상측에는, 스테이지(40) 상의 제품 기판(W)의 얼라인먼트 마크를 촬상하는 얼라인먼트 카메라(도시하지 않음)가 설치되어 있다. 그리고, 얼라인먼트 카메라로 촬상된 화상에 기초하여, 스테이지 회동 기구(41)에 의해, 스테이지(40)에 배치된 제품 기판(W)의 θ 방향의 위치가 보정된다.

스테이지(40)와 스테이지 회동 기구(41)는, 스테이지 회동 기구(41)의 하면측에 설치된 X축 슬라이더(42)에 지지되어 있다. X축 슬라이더(42)는, X축 가이드 레일(12)에 부착되어, 상기 X축 가이드 레일(12)에 설치된 X축 리니어 모터에 의해 X축 방향으로 이동 가능하게 되어 있다. 따라서, 스테이지(40) 및 스테이지(40)에 배치된 제품 기판(W)도, X축 슬라이더(42)에 의해 X축 가이드 레일(12)을 따라 X축 방향으로 이동 가능하게 되어 있다.

플러싱 유닛(50)은, 토출 헤드(24)로부터 버려지는 토출을 받는 유닛이다. 플러싱 유닛(50)에는, 액받침부로서의 플러싱 회수대(51)가 X축 방향으로 나란히 복수(예컨대 10개) 설치되어 있다. 이 플러싱 회수대(51)의 수는 캐리지(23)의 수와 동일하고, 플러싱 회수대(51)의 피치도 캐리지(23)의 피치와 동일하다.

플러싱 회수대(51)는, 그 상면이 개구되어, 플러싱 회수대(51)가 대응하는 캐리지(23)의 바로 아래로 안내되었을 때에, 캐리지(23)의 토출 헤드(24)로부터 토출된(플러싱된) 액적을 받아내어 수용하도록 되어 있다.

검사용 스테이지(60)는, 예컨대, 스테이지(40)와 같이 진공 흡착 스테이지이며, 검사용 기판(Wi)을 흡착하여 유지한다.

플러싱 유닛(50) 및 검사용 스테이지(60)는, X축 슬라이더(70)에 지지되어 있다. X축 슬라이더(70)는, X축 가이드 레일(12)에 부착되어, 상기 X축 가이드 레일(12)에 설치된 X축 리니어 모터에 의해 X축 방향으로 이동 가능하게 되어 있다. 따라서, 플러싱 유닛(50), 검사용 스테이지(60) 및 검사용 스테이지(60)에 배치된 검사용 기판(Wi)도, X축 슬라이더(52)에 의해 X축 가이드 레일(12)을 따라 X축 방향으로 이동 가능하게 되어 있다.

메인터넌스 유닛(80)은, 토출 헤드(24)의 메인터넌스를 행하여, 상기 토출 헤드(24)의 토출 불량을 해소한다. 메인터넌스 유닛(80)은, 복수의 캡 유닛(81)이 X축 방향으로 나란히 설치되어 있다. 이 캡 유닛(81)의 수는 캐리지(23)의 수와 동일하고, 캡 유닛(81)의 피치도 캐리지(23)의 피치와 동일하다.

캡 유닛(81)은, 상기 캡 유닛(81)을 통해 토출 헤드(24) 내의 기능액을 흡인하기 위한 것이다. 또한, 캡 유닛(81)은, 액적 토출 장치(2)가 휴지 상태일 때, 토출 헤드(24)를 덮어 기능액의 건조를 억제한다.

또한, 액적 토출 장치(2)는, 도 1에 도시하는 바와 같이, 케이스(90)를 갖는다. 케이스(90)의 내부에는, 전술한 X축 테이블(10), Y축 테이블(11, 11), 캐리지 유닛(20), 촬상 유닛(30), 스테이지(40), 플러싱 유닛(50), 검사용 스테이지(60), 메인터넌스 유닛(80) 등의, 액적 토출 장치(2)를 구성하는 부재가 수용된다. 케이스(90)의 내부는, 대기압보다 약간 정압(正壓)으로 유지되고, 또한, 질소 분위기로 유지된다.

또한, 액적 토출 시스템(1)은, 성막 장치(3)와 반송 장치(4)와 제어 장치(5)를 구비한다.

성막 장치(3)는, 발액성을 갖는 검사용 막을 검사용 기판(Wi)에 형성한다. 예컨대, 성막 장치(3)는, CVD법에 의해 검사용 막을 형성한다. 검사용 막은, 예컨대 불소를 함유하는 불소계 막이다. 액적 토출 장치(2)의 토출 노즐(24a)로부터 토출될 수 있는 기능액의 종류가 복수인 데 비해, 성막 장치(3)는, 적어도 액적 토출 장치(2)에 현재 설정되어 있는 하나의 기능액의 종류에 따른 막질의 검사용 막을 형성하는 것이 가능하게 구성되어 있다. 검사용 막이 상면에 형성되는 검사용 기판(Wi)은 예컨대 제품 기판(W)보다 작다. 구체적으로는, 예컨대, 제품 기판(W)이 상면시 정방형으로 형성되어 있는 경우, 검사용 기판(Wi)은, 상면시에서, 1변의 길이가 제품 기판(W)의 1/N(N은 2 이상의 정수)의 정방형으로 형성되어 있다. 또한, 검사용 기판(Wi)은, 예컨대, 제품 기판(W)과 마찬가지로 유리 기판이다.

성막 장치(3)는, 실내가 감압 가능하게 구성되어 감압 상태(진공 상태)로 유지되는 진공 처리실(100)을 갖는다. 감압하의 진공 처리실(100) 내에 있어서, 검사용 기판(Wi)에 대하여 검사용 막의 형성이 행해진다.

반송 장치(4)는, 액적 토출 장치(2) 및 성막 장치(3)에 대하여 검사용 기판(Wi)을 반송하는 것이며, 대기부(110)와 감압부(120)를 갖고, 대기부(110)와 감압부(120)의 사이에 로드록 모듈(130)을 갖고 있다.

대기부(110)는, 복수 매의 검사용 기판(Wi)을 수용 가능한 기판 용기로서의 캐리어(C)가 반입 반출되어 배치되는 배치대(111)를 갖는다. 한편, 캐리어(C) 내는 질소 분위기로 되어 있다.

대기부(110)는, 대기압 반송 모듈(112)을 더 갖는다. 대기압 반송 모듈(112)은, 내부가 대기압보다 약간 정압이고 질소 분위기로 유지되는 대기압 반송실(113)을 갖는다. 대기압 반송실(113)과 액적 토출 장치(2)의 케이스(90)는 셔터(도시하지 않음)를 통해 접속되어 있다. 셔터를 개방 상태로 함으로써, 대기압 반송실(113) 내와 케이스(90) 내를 연통시킬 수 있다. 또한, 대기압 반송실(113)은, 배치대(111)에 배치된 캐리어(C)의 덮개(도시하지 않음)가 개방되었을 때에, 상기 대기압 반송실(113) 내와 캐리어(C) 내가 연통하도록 구성되어 있다. 또한, 대기압 반송실(113)은, 로드록 모듈(130)의 후술하는 로드록실(131)과 게이트 밸브(도시하지 않음)를 통해 접속되어 있다.

대기압 반송실(113) 내에는, 대기압 반송 기구(도시하지 않음)가 설치되어 있다. 대기압 반송 기구는, 배치대(111)에 배치된 캐리어(C), 액적 토출 장치(2) 및 로드록 모듈(130)의 사이에서, 검사용 기판(Wi)을 대기압하에 반송한다. 이 대기압 반송 기구는, 검사용 기판(Wi)을 반송시에 지지하는 반송 아암(도시하지 않음)을 갖고 있다.

로드록 모듈(130)은, 실내를 대략 대기압 상태와 진공 상태로 전환할 수 있도록 구성된 로드록실(131)을 갖는다.

감압부(120)는 진공 반송 모듈(121)을 갖는다. 진공 반송 모듈(121)은, 내부가 감압 상태(진공 상태)로 유지되는 진공 반송실(122)을 갖는다. 진공 반송실(122)은, 로드록 모듈(130)의 로드록실(131)과 게이트 밸브(도시하지 않음)를 통해 접속되어 있다. 또한, 진공 반송실(122)은, 성막 장치(3)의 진공 처리실(100)과 게이트 밸브(도시하지 않음)를 통해 접속되어 있다.

진공 반송실(122) 내에는 진공 반송 기구(도시하지 않음)가 설치되어 있다. 진공 반송 기구는, 성막 장치(3)와 로드록 모듈(130)의 사이에서, 검사용 기판(Wi)을 감압하에 반송한다.

제어 장치(5)는, 예컨대 CPU 등의 프로세서나 메모리를 구비한 컴퓨터이며, 데이터 저장부(도시하지 않음)를 갖고 있다. 데이터 저장부에는, 예컨대 기능액의 액적의 토출을 제어하고, 검사용 기판(Wi)에 액적에 의한 소정의 패턴을 형성, 즉 묘화하기 위한 묘화 데이터(비트맵 데이터) 등이 저장되어 있다. 또한, 제어 장치(5)는, 프로세서에 의해 실행되는 지령을 포함하는 프로그램을 저장하는 프로그램 저장부(도시하지 않음)를 갖고 있다. 프로그램 저장부에는, 액적 토출 장치(2)에서의 제품 기판(W)으로의 묘화 처리를 행하기 위한 지령을 포함하는 프로그램이 저장되어 있다. 또한, 프로그램 저장부에는, 토출 노즐(24a)로부터의 기능액의 토출 조건을 조정하는 조정 처리를 행하기 위한 지령을 포함하는 프로그램이 저장되어 있다.

일실시형태에서는, 제어 장치(5)는, 액적 토출 장치(2)를 제어하는 제어부(이하, 메인 제어부라고 한다.)와, 액적 토출 시스템(1)의 액적 토출 장치(2) 이외(즉 성막 장치(3)나 반송 장치(4) 등)를 제어하는 다른 제어부(이하, 서브 제어부라고 한다.)를 별개로 갖는다.

한편, 상기 묘화 데이터나 상기 프로그램은, 예컨대 컴퓨터 판독 가능한 하드디스크(HD), 플렉시블디스크(FD), 컴팩트디스크(CD), 마그넷옵티컬데스크(MO), 메모리카드 등의 컴퓨터에 판독 가능한 기억 매체에 기록되어 있던 것이며, 그 기억 매체로부터 제어 장치(5)에 인스톨된 것이어도 좋다. 상기 기억 매체는, 일시적 기억 매체여도 좋고 비일시적인 기억 매체여도 좋다.

<묘화 처리>

다음으로, 이상과 같이 구성된 액적 토출 시스템(1)의 액적 토출 장치(2)에서의 제품 기판(W)으로의 묘화 처리의 일례에 대해 설명한다. 이하의 설명에서는, X축 테이블(10) 상에 있어서, Y축 테이블(11)보다 X축 부방향측의 영역을 반입 반출 영역(A1)이라고 하고, 한쌍의 Y축 테이블(11, 11) 사이의 영역을 처리 영역(A2)이라고 하고, Y축 테이블(11)보다 X축 정방향측의 영역을 대기 영역(A3)이라고 한다. 또한, 이하의 묘화 처리는, 제어 장치(5)의 제어하에 행해진다.

우선, 반입 반출 영역(A1)에 스테이지(40)가 배치되고, 반송 장치(4)와는 상이한 반송 장치(도시하지 않음)에 의해 케이스(90)에 반입된 제품 기판(W)이 스테이지(40)에 배치된다. 계속해서, 얼라인먼트 카메라에 의해 스테이지(40) 상의 제품 기판(W)의 얼라인먼트 마크가 촬상된다. 그리고, 상기 촬상된 화상에 기초하여, 스테이지 회동 기구(41)에 의해, 스테이지(40)에 배치된 제품 기판(W)의 θ 방향의 위치가 보정되고, 제품 기판(W)의 얼라인먼트가 행해진다(스텝 S1).

그 후, 스테이지(40)가, X축 슬라이더(42)에 의해, 반입 반출 영역(A1)으로부터 처리 영역(A2)으로 이동된다. 처리 영역(A2)에서는, 토출 헤드(24)의 하측으로 이동된 제품 기판(W)에 대하여, 토출 헤드(24)로부터 기능액의 액적이 토출된다. 또한, 제품 기판(W)의 전면이 토출 헤드(24)의 하측을 통과하도록, 스테이지(40)가 대기 영역(A3)측으로 이동된다. 그리고, 제품 기판(W)이 X축 방향으로 왕복 운동됨과 더불어, 캐리지 유닛(20)이 적절하게 Y축 방향으로 이동되어, 묘화 데이터에 기초하는 기능액의 액적에 의한 소정의 패턴이 제품 기판(W)에 묘화된다(스텝 S2).

그 후, 스테이지(40)가 대기 영역(A3)으로부터 반입 반출 영역(A1)으로 이동된다. 이어서, 묘화 처리가 종료한 제품 기판(W)이 액적 토출 장치(2)로부터 반출된다(스텝 S3).

계속해서, 다음 제품 기판(W)이 액적 토출 장치(2)에 반입되고, 전술한 스텝 S1∼S3이 반복된다.

<조정 처리>

다음으로, 액적 토출 시스템(1)에서의, 토출 노즐(24a)의 토출 조건의 조정 처리의 일례에 대해 설명한다. 도 5는, 액적 토출 시스템(1)에서의, 토출 노즐(24a)의 토출 조건의 조정 처리의 주요 공정을 도시하는 플로우차트이다.

(스텝 S11)

우선, 도 5에 도시하는 바와 같이, 검사용 막이, 제어 장치(5)의 제어하에, 성막 장치(3)에 의해 검사용 기판(Wi)에 형성된다. 여기서 검사용 기판(Wi)에 형성되는 검사용 막은, 제품 기판(W)에 대하여 액적 토출 장치(2)의 토출 노즐(24a)로부터 토출되는 예정 기능액의 종류(이하, 토출 예정 기능액 종류)에 대응하는 막질, 보다 구체적으로는, 토출 예정 기능액 종류로서 현재 설정되어 있는 기능액의 종류에 대응하는 막질을 갖는다. 본 스텝 S11은 예컨대 전술한 묘화 처리 중에 행해진다.

본 스텝 S11에서는, 구체적으로는, 예컨대, 우선, 배치대(111)에 배치된 캐리어(C) 내의 검사용 기판(Wi)이 성막 장치(3)에 반입된다.

보다 구체적으로는, 예컨대, 우선, 검사용 기판(Wi)이, 대기압 반송실(113) 내의 대기압 반송 장치에 의해, 배치대(111)에 배치된 캐리어(C)로부터 취출되어, 로드록실(131) 내에 반입된다. 계속해서, 로드록실(131) 내가 밀폐되고 감압된다. 로드록실(131) 내가 소정 압력 이하가 되면, 검사용 기판(Wi)이, 진공 반송실(122) 내의 진공 반송 기구에 의해, 성막 장치(3)의 진공 처리실(100) 내에 반입된다.

그리고, 성막 장치(3)에 의해, 발액성을 갖는 검사용 막이 검사용 기판(Wi)의 표면 전체에 형성된다. 이 검사용 막의 형성에 이용되는 성막 조건은, 토출 예정 기능액 종류로서 현재 설정되어 있는 기능액의 종류에 대응하는 성막 조건이며, 예컨대 기억부(도시하지 않음)에 미리 기억된 대응 테이블을 참조하여, 제어 장치(5)에 의해 결정된다. 대응 테이블은, 기능액의 종류마다 상기 기능액의 종류에 적합한 성막 조건이 기록된 것이며, 예컨대 액적 토출 시스템(1)의 외부에서 미리 작성된다. 따라서, 본 스텝 S11에서는, 토출 예정 기능액 종류에 대응하는 막질을 갖는 검사용 막, 즉 토출 예정액 종류와 상성이 좋은 막질을 갖는 검사용 막이 검사용 기판(Wi)에 형성된다. 「상성이 좋은 막질」을 갖는 막이란, 원하는 접촉각을 갖는 막이며, 토출 노즐(24a)로부터 상기 막으로의 기능액의 액적의 토출 결과에 관한 재현성이 좋은 막, 구체적으로는, 토출 노즐(24a)의 상태가 동일하면 상기 토출 노즐(24a)로부터 토출된 기능액의 액적이 착탄한 상태가 대략 동일해지는 막을 의미한다.

한편, 성막 조건이란, 예컨대, 원료 가스의 종류, 원료 가스의 유량, 성막 시간, 성막 온도, 성막에 이용되는 전력(파워) 및 이들의 2 이상의 조합이다.

검사용 막의 형성 후, 검사용 기판(Wi)이 캐리어(C) 내로 복귀된다.

구체적으로는, 예컨대, 성막 장치(3)로의 반입과 역순으로, 성막 장치(3)로부터 배치대(111) 상의 캐리어(C) 내의 원래 위치로 복귀된다.

스텝 S11은, 후술하는 스텝 S12, 스텝 S13에서 필요한 검사용 기판(Wi)의 매수만큼 행해진다.

한편, 제어 장치(5)가 전술한 메인 제어부와 서브 제어부를 별개로 갖는 경우, 스텝 S11에 있어서, 메인 제어부가, 토출 예정액 종류에 대응하는 막질을 갖는 검사용 막이 검사용 기판(Wi)에 형성되도록, 제어 신호를 서브 제어부에 출력한다.

(스텝 S12)

그 후, 검사용 막이 형성된 검사용 기판(Wi)이, 제어 장치(5)의 제어하에, 액적 토출 장치(2)의 검사용 스테이지(60)에 배치된다.

구체적으로는, 예컨대, 우선, 대기 영역(A3)에 검사용 스테이지(60)가 배치된다. 이어서, 검사용 막이 형성된 복수의 검사용 기판(Wi)이, 대기압 반송실(113) 내의 대기압 반송 장치에 의해, 배치대(111)에 배치된 캐리어(C)로부터 순차적으로 취출되고, 액적 토출 장치(2)의 케이스(90) 내에 반입되고, 부주사 방향으로 대략 간극없이 나열되도록, 검사용 스테이지(60)에 배치된다.

스텝 S12에서 나열되는 검사용 기판(Wi)의 매수는, 부주사 방향에 관해, 나열된 검사용 기판(Wi) 전체의 폭이 제품 기판(W)의 폭과 같아지는 매수이다. 구체적으로는, 예컨대, 검사용 기판(Wi)이 상면시에서 1변의 길이가 제품 기판(W)의 1/N의 정방형으로 형성되어 있는 경우, 스텝 S12에서 부주사 방향을 따라 나열되는 검사용 기판(Wi)의 매수는 N장이다.

한편, 제어 장치(5)가 전술한 메인 제어부와 서브 제어부를 별개로 갖는 경우, 스텝 S12에 있어서, 메인 제어부가, 검사용 막이 형성된 검사용 기판(Wi)이 반송 장치(4)에 의해 검사용 스테이지(60)에 배치되도록, 제어 신호를 서브 제어부에 출력한다. 구체적으로는, 메인 제어부가, 복수의 검사용 기판(Wi)이 부주사 방향을 따라 나열되어 배치되도록, 제어 신호를 서브 제어부에 출력한다.

(스텝 S13)

그 후, 제어 장치(5)의 제어하에, 검사용 스테이지(60)에 배치된 검사용 기판(Wi)의 검사용 막에, 상기 검사용 막에 대응하는 종류, 즉 토출 예정액 종류의 기능액의 액적이, 토출 노즐(24a)로부터 토출되고, 상기 검사용 막 위의 기능액의 액적이 토출 검사 카메라(31)로 촬상된다.

구체적으로는, 예컨대, 우선, 검사용 스테이지(60)가, X축 슬라이더(70)에 의해, 대기 영역(A3)으로부터 처리 영역(A2)으로 이동된다. 처리 영역(A2)에서는, 토출 헤드(24)의 하측으로 이동된 검사용 기판(Wi)에 대하여, 모든 토출 노즐(24a)로부터, 토출 예정 기능액 종류로서 현재 설정되어 있는 종류의 기능액의 액적이 1회 토출된다. 이것에 의해, 토출 노즐(24a)로부터의 토출 상태를 보정하기 위한 패턴으로서, 액적이 부주사 방향으로 나열된 액적열이 검사용 기판(Wi) 상에 1열 형성된다. 그 후, 검사용 스테이지(60)가 대기 영역(A3)까지 이동되고, 이것에 의해 검사용 기판(Wi)이 토출 검사 카메라(31)의 하측을 통과한다. 그리고, 통과시에, 검사용 기판(Wi)에서의 기능액의 액적이 토출된 부분이, 토출 검사 카메라(31)에 의해 촬상된다. 이 촬상 결과는 제어 장치(5)에 출력된다. 촬상 종료 후, 제어 장치(5)는, 라인 센서인 토출 검사 카메라(31)로부터의 1차원적인 화상에 기초하여, 검사용 기판(Wi) 상의 기능액의 액적의 2차원 화상, 즉 촬상 화상을 작성하여 취득한다.

(스텝 S14)

이어서, 제어 장치(5)가 촬상 결과를 해석한다. 구체적으로는, 제어 장치(5)가, 촬상 결과에 기초하여, 토출 노즐(24a)로부터 토출된 기능액의 액적의 정보를 취득한다.

보다 구체적으로는, 예컨대, 제어 장치(5)가, 토출 노즐(24a)마다, 상기 토출 노즐(24a)로부터 토출된 기능액의 액적의 정보로서, 스텝 S13에서 취득된 촬상 화상에서의 액적의 착탄 도트의 면적을 산출하여 취득한다. 또한, 제어 장치(5)가, 토출 노즐(24a)마다, 상기 토출 노즐(24a)로부터 토출된 기능액의 액적의 정보로서, 스텝 S13에서 취득된 촬상 화상에서의 액적의 착탄 도트의 위치(예컨대 무게 중심 위치)를 산출하여 취득한다.

(스텝 S15)

계속해서, 제어 장치(5)가, 스텝 S14에서의 해석 결과, 즉 취득 결과에 기초하여, 토출 노즐(24a)로부터의 기능액의 토출 조건을 조정한다.

구체적으로는, 제어 장치(5)가, 예컨대, 토출 노즐(24a)마다, 상기 착탄 도트의 면적을 검사하고, 구체적으로는, 상기 착탄 도트의 면적이 소정 범위 내에 수습되는지 아닌지를, 즉 토출량이 소정 범위 내에 수습되는지 아닌지를 판정한다. 그리고, 제어 장치(5)는, 소정 범위 내에 수습되지 않은 토출 노즐(24a)에 대해, 착탄 도트의 면적에 기초하여, 기능액의 토출량에 관한 토출 조건을 조정한다. 이것에 의해, 해당하는 토출 노즐(24a)에 대해, 기능액의 토출량을 소정 범위 내에 수습할 수 있다. 한편, 기능액의 토출량에 관한 조건이란, 예컨대, 토출 노즐(24a)로부터 기능액을 토출시키기 위한 소자(압전 소자 등)를 구동시키는 구동 전압치이다.

또한, 제어 장치(5)가, 예컨대, 토출 노즐(24a)마다, 상기 착탄 도트의 위치를 검사하고, 구체적으로는, 상기 착탄 도트의 위치가 소정 범위 내에 수습되는지 아닌지를 판정한다. 그리고, 제어 장치(5)는, 소정 범위 내에 수습되지 않은 토출 노즐(24a)에 대해, 기능액의 토출 위치에 관한 토출 조건을 조정한다. 이것에 의해, 해당하는 토출 노즐(24a)에 대해, 착탄 도트의 위치를 소정 범위 내에 수습할 수 있다. 기능액의 토출 위치에 관한 토출 조건의 조정은, 예컨대 전술한 비트맵 데이터를 보정함으로써 행해진다.

한편, 스텝 S14 및 스텝 S15 대신에, 또는, 스텝 S14 및 스텝 S15에 더해, 제어 장치(5)가, 촬상 결과에 기초하여, 토출 노즐(24a)로부터의 토출 상태를 검사하고, 검사 결과에 따라서, 토출 노즐(24a)에 대한 메인터넌스가 행해지도록 제어해도 좋다. 구체적으로는, 제어 장치(5)가, 토출 노즐(24a)마다, 스텝 S13에서 취득된 촬상 화상에 기초하여, 액적의 노즐 빠짐이나 비행 굴곡의 토출 불량이 발생했는지 아닌지를 판정한다. 그리고, 제어 장치(5)가, 상기 토출 불량이 발생한 토출 노즐(24a)을 갖는 토출 헤드(24)에 대한 메인터넌스가 메인터넌스 유닛(80)에 의해 행해지도록 제어한다. 이것에 의해, 해당하는 토출 노즐(24a)에 대해, 토출 불량을 해소할 수 있다.

(스텝 S16)

그 후, 검사용 기판(Wi)이, 제어 장치(5)의 제어하에, 액적 토출 장치(2)의 검사용 스테이지(60)로부터 제거된다.

구체적으로는, 예컨대, 액적 토출 장치(2)의 검사용 스테이지(60)에 배치되어 있던 복수의 검사용 기판(Wi)이 순차적으로 검사용 스테이지(60)로부터 제거되고, 대기압 반송실(113) 내의 대기압 반송 장치에 의해, 액적 토출 장치(2)의 케이스(90)로부터 반출된다.

(스텝 S17)

그리고, 검사용 기판(Wi)이, 제어 장치(5)의 제어하에, 대기압 반송실(113) 내의 대기압 반송 장치에 의해, 배치대(111)에 배치된 캐리어(C)로 복귀된다.

이로써, 일련의 토출 노즐(24a)의 토출 조건의 조정 처리가 완료한다.

검사용 기판(Wi)은, 예컨대, 한번 이용되면(즉 한번 검사용 스테이지(60)로부터 제거되어 액적 토출 장치(2)의 케이스(90)로부터 반출되면), 폐기된다.

한편, 검사용 기판(Wi)의 폐기는 예컨대 캐리어(C) 단위로 행해진다.

상기 조정 처리가 완료된 후의, 액적 토출 장치(2)에 의한 제품 기판(W)으로의 묘화 처리에서는, 스텝 S15에서 조정된 토출 조건으로, 토출 노즐(24a)로부터, 스테이지(40)에 배치된 제품 기판(W)에 기능액의 토출이 행해진다.

<본 실시형태의 주요 효과>

이상과 같이, 본 실시형태에 따른 액적 토출 방법은,

(a) 발액성과, 토출 예정액 종류에 대응하는 막질, 즉 토출 예정액 종류와 상성이 좋은 막질을 갖는 검사용 막을, 검사용 기판(Wi)에 형성하는 공정과,

(b) 그 후, 검사용 막이 형성된 검사용 기판(Wi)을 액적 토출 장치(2)의 검사용 스테이지(60)에 배치하는 공정, 그리고

(c) 그 후, 검사용 스테이지(60)에 배치된 검사용 기판(Wi)의 검사용 막에, 상기 검사용 막에 대응하는 토출 예정액 종류의 기능액의 액적을 토출 노즐(24a)로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 기능액의 액적을 토출 검사 카메라(31)로 촬상하는 공정

을 포함한다.

또한, 본 실시형태에 따른 액적 토출 방법은,

(d) 상기 (c) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정과,

(e) 상기 (d) 공정에서의 취득 결과에 기초하여, 토출 노즐(24a)로부터의 기능액의 액적의 토출 조건을 조정하는 공정, 그리고

(f) 상기 (e) 공정에서 조정된 토출 조건으로, 스테이지(40)에 배치된 제품 기판(W)에 토출 노즐(24a)로부터 기능액의 토출을 행하는 공정

을 더 포함한다.

즉, 본 실시형태에서는, 토출 노즐(24a)로부터 검사용으로 토출된 토출 예정액 종류의 기능액의 액적을 받는 검사용 막이, 토출 예정액 종류에 대응하는 막질을 갖고 있다. 그 때문에, 토출 노즐(24a)로부터 검사용 막으로의 기능액의 액적의 토출 결과에 관한 재현성이, 토출 예정액 종류로서 설정되는 기능액의 종류에 상관없이 좋다. 그리고, 본 실시형태에서는, 재현성 좋게 토출 노즐(24a)로부터 검사용 막으로 토출된 토출 예정액 종류의 기능액의 액적을 촬상하고, 그 촬상 결과로부터 상기 액적의 정보를 취득하고, 취득 결과에 기초하여, 토출 노즐(24a)로부터의 기능액의 토출 조건을 조정하고 있다. 그 때문에, 토출 노즐(24a)로부터의 기능액의 토출 상태를 적절하게 할 수 있다. 즉, 본 실시형태에 의하면, 토출 노즐(24a)로부터 액적으로서 토출되는 기능액의 토출 상태를, 기능액의 종류에 상관없이 적절하게 조정할 수 있다.

또한, 종래, 토출 노즐(24a)로부터의 기능액의 액적이 토출되어 있던 검사용 필름은, 롤러에 미리 권취되어 있고, 토출될 때에는 연장되어 이용되었다. 그 때문에, 검사용 필름이 권취된 상태일 때에, 상기 검사용 필름의 기능액의 액적이 토출되는 표면과 이면이 서로 접착하지 않도록, 상기 표면에 요철을 형성하는 경우가 있다. 이 경우, 토출 노즐(24a)로부터 피토출체인 검사용 필름으로의 기능액의 액적의 토출 결과가, 상기 요철의 영향을 받아 버리는 경우가 있다. 그것에 대하여, 본 실시형태에서는, 검사용 막에 요철을 형성할 필요가 없기 때문에, 토출 노즐(24a)로부터 피토출체인 검사용 기판(Wi)으로의 기능액의 액적의 토출 결과가 요철의 영향을 받지 않는다.

또한, 미리 권취된 검사용 필름을 이용하는 경우, 필름끼리의 접촉에 의한 정전기에 의해, 검사용 필름에 이물이 부착되는 경우가 있다. 그것에 대하여, 본 실시형태에서는, 검사용 막으로의 정전기에 의한 이물의 부착이 생기기 어렵기 때문에, 검사용 기판(Wi)으로의 기능액의 액적의 토출 결과가 이물의 영향을 받는 것을 억제할 수 있다.

한편, 종래의 검사용 필름을 이용하는 형태에서도, 피토출체인 검사용 필름을 적절하게 교체함으로써, 토출 노즐(24a)로부터 피토출체인 검사용 필름으로의 기능액의 액적의 토출 결과에 관한 재현성을, 기능액의 액종류에 상관없이 확보하는 것은 가능하다. 그러나, 검사용 필름의 교체를 위해서는, 액적 토출 장치(2)의 케이스(90)를 대기 개방할 필요가 있다. 대기 개방하면, 케이스(90) 내를 질소 분위기로 하는 데 시간을 요하기 때문에, 토출 노즐(24a)의 검사에 의해 스루풋이 저하되어 버린다. 그것에 대하여, 본 실시형태에서는, 케이스(90)를 대기개방할 필요가 없기 때문에, 검사에 의한 스루풋의 저하를 억제할 수 있다.

(성막 조건의 결정 방법의 다른 예 1)

이상의 예에서는, 스텝 S11에서 이용되는 성막 조건은, 액적 토출 시스템(1)의 외부에서 미리 작성된 대응 테이블에 기초하여 결정되어 있었다. 이것 대신에, 스텝 S11에서 이용되는 성막 조건은, 이하와 같이 결정되어도 좋다.

즉, 우선, 현재 설정되어 있는 토출 예정액 종류에 대해, 서로 다른 복수의 성막 조건마다, 이하의 (X1)∼(X4) 공정이 행해져도 좋다.

(X1) 제어 장치(5)의 제어하에, 상기 성막 조건에 기초하여, 검사용 막이, 성막 장치(3)에 의해 검사용 기판(Wi)에 형성된다.

(X2) 그 후, 검사용 막이 형성된 검사용 기판(Wi)이, 제어 장치(5)의 제어하에, 액적 토출 장치(2)의 검사용 스테이지(60)에 배치된다.

(X3) 그 후, 제어 장치(5)의 제어하에, 검사용 스테이지(60)에 배치된 검사용 기판(Wi)의 검사용 막에, 토출 예정액 종류의 기능액의 액적이, 토출 노즐(24a)로부터 토출되고, 상기 검사용 막 위의 기능액의 액적이 토출 검사 카메라(31)로 촬상된다.

(X4) 상기 (X3) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 기능액의 액적의 정보가 취득된다.

(X1) 공정의 구체적인 내용은, 예컨대 스텝 S11과 동일하다. 다만, (X1) 공정과 스텝 S11에서는 성막 조건이 다를 수 있다. 한편, 제어 장치(5)가 전술한 메인 제어부와 서브 제어부를 별개로 갖는 경우, (X1) 공정에 있어서, 메인 제어부가, 상기 성막 조건에 기초하여 검사용 막이 검사용 기판(Wi)에 형성되도록, 제어 신호를 서브 제어부에 출력한다.

또한, (X2) 공정의 구체적인 내용은, 예컨대 스텝 S12와 동일하다. 한편, 제어 장치(5)가 전술한 메인 제어부와 서브 제어부를 별개로 갖는 경우, (X2) 공정에 있어서, 메인 제어부가, 검사용 막이 형성된 검사용 기판(Wi)이 반송 장치(4)에 의해 검사용 스테이지(60)에 배치되도록, 제어 신호를 서브 제어부에 출력한다. 구체적으로는, 메인 제어부가, 복수의 검사용 기판(Wi)이 부주사 방향을 따라 나열되어 배치되도록, 제어 신호를 서브 제어부에 출력한다.

(X3) 공정 및 (X4) 공정의 구체적인 내용은 각각, 예컨대 스텝 S13 및 스텝 S14와 동일하다.

그리고, 제어 장치(5)에 의해, 복수의 성막 조건마다의 (X4)의 결과에 기초하여, 스텝 S11에서 이용되는 성막 조건이 결정되어도 좋다. 제어 장치(5)가 전술한 메인 제어부와 서브 제어부를 별개로 갖는 경우는, 메인 제어부가, 복수의 성막 조건마다의 (X4)의 결과에 기초하여, 스텝 S11에서 출력하는 제어 신호에 포함되는 성막 조건을 결정해도 좋다.

복수의 성막 조건마다의 (X4)의 결과에 기초하여, 스텝 S11에서 이용되는 성막 조건을 결정하는 방법은, 예컨대 이하와 같다. 즉, 복수의 성막 조건마다 (X1)∼(X4) 공정을 각각 복수회 행하고, (X4) 공정의 결과의 재현성이 좋은 토출 노즐(24a)이 많은 성막 조건을, 스텝 S11에서 이용되는 성막 조건으로 결정하는 방법이다. 또한, 복수의 성막 조건마다, (X1) 공정 및 (X2) 공정을 각각 1회 행함과 더불어, 전술한 액적열이 복수열 형성되고 각 열의 액적이 촬상되도록 (X3) 공정을 행하고, (X3) 공정에서의 촬상 결과에 기초하는 (X4) 공정의 결과의 재현성이 좋은 토출 노즐(24a)이 많은 성막 조건을, 스텝 S11에서 이용되는 성막 조건으로 결정하는 방법이어도 좋다. 한편, 여기서의 (X4) 공정의 결과란, 예컨대, 촬상 화상에서의 액적의 착탄 도트의 면적 및 위치이다.

(성막 조건의 결정 방법의 다른 예 2)

또한, 우선, 토출 노즐(24a)로부터 토출될 수 있는 복수의 기능액의 종류 각각에 대해, 서로 다른 복수의 성막 조건마다, 상기 (X1)∼(X4) 공정이 행해져도 좋다.

그리고, 제어 장치(5)에 의해, 토출 노즐(24a)로부터 토출될 수 있는 복수의 기능액의 종류 각각에 대해, 복수의 성막 조건마다의 (X4)의 결과에 기초하여, 스텝 S11에서 이용되는 성막 조건이 결정되어, 전술한 대응 테이블이 작성되어도 좋다. 제어 장치(5)가 전술한 메인 제어부와 서브 제어부를 별개로 갖는 경우, 메인 제어부가, 토출 노즐(24a)로부터 토출될 수 있는 복수의 기능액의 종류 각각에 대해, 복수의 성막 조건마다의 (X4)의 결과에 기초하여, 스텝 S11에서 출력하는 제어 신호에 포함되는 성막 조건을 결정하고, 전술한 대응 테이블을 작성해도 좋다.

이와 같이 전술한 대응 테이블이 액적 토출 시스템(1) 내에서 작성되어도 좋다. 이 경우, 스텝 S11에서는, 액적 토출 시스템(1) 내에서 작성된 대응 테이블에 기초하여, 제어 장치(5)에 의해 성막 조건이 결정되어도 좋다.

(검사용 막의 형성 형태의 다른 예)

이상의 예에서는, 스텝 S11에 있어서, 검사용 기판(Wi)에 형성되는 검사용 막의 종류는 1종류이지만, 2종류 이상이어도 좋다. 이 경우, 스텝 S12에서는, 토출 예정액 종류에 대응하는 종류의 검사용 막이 형성된 검사용 기판(Wi), 즉, 토출 예정액 종류에 대응하는 성막 조건으로 검사용 막이 형성된 검사용 기판(Wi)이, 캐리어(C) 내에서 선택되어, 액적 토출 장치(2)의 스테이지(40)에 배치된다.

(검사용 막으로의 기능액의 토출 형태의 다른 예)

도 6 및 도 7은, 검사용 막으로의 기능액의 토출 형태의 다른 예를 설명하는 도면이다.

스텝 S13에 있어서, 도 6에 도시하는 바와 같이, 액적열(QL)을 1열만 형성하면, 일부의 토출 노즐(24a)에 대해, 기능액의 액적(Q)이, 부주사 방향으로 인접하는 검사용 기판(Wi)의 경계선(B)에 토출되는 것, 즉 착탄하는 경우가 있다. 이 경우는, 예컨대, 적어도 상기 일부의 토출 노즐(24a) 이외의 토출 노즐(24a)에 대해, 스텝 S13이 전술한 것과 동일하게, 즉, 기능액의 부주사 방향에 따른 토출 위치를 초기 위치로 하여 스텝 S13이 행해져도 좋다. 그리고, 그 전 또는 후에, 적어도 상기 일부의 토출 노즐(24a)에 대해, 도 7의 우측에 도시하는 바와 같이, 기능액의 액적(Q)이 상기 경계선(B)에 착탄하지 않도록 토출 위치를 초기 위치로부터 부주사 방향으로 이동시켜 스텝 S13이 행해져도 좋다. 그리고, 상기 일부의 토출 노즐(24a)에 대해서는, 토출 위치가 초기 위치로부터 부주사 방향으로 이동된 상태에서 행해진 스텝 S13의 결과에 기초하여, 스텝 S14의 토출된 기능액의 정보의 취득 및 스텝 S15의 토출 조건의 조정이 행해진다.

기능액의 부주사 방향에 따른 토출 위치를 초기 위치로 하여 스텝 S13이 행해지는 검사용 기판(Wi)과, 초기 위치로부터 부주사 방향으로 이동되어 스텝 S13이 행해지는 검사용 기판(Wi)은 동일해도 좋다.

(검사용 기판(Wi)의 폐기 형태의 다른 예)

이상의 예에서는, 검사용 기판(Wi)은 한번 이용되면 폐기되었지만, 폐기 전에 검사용 기판(Wi)은 복수회 이용되어도 좋다. 한편, 검사용 기판(Wi)이 복수회 이용되는 경우, 상기 검사용 기판(Wi)에 대한 기능액의 주사 방향에 따른 토출 위치가 매회 상이하도록 제어된다.

[제2 실시형태]

<액적 토출 시스템(1A)>

도 8은, 제2 실시형태에 따른 액적 토출 시스템의 구성의 개략을 도시하는 설명도이다.

도 8의 액적 토출 시스템(1A)은, 액적 토출 장치(2) 및 성막 장치(3) 외에, 에칭 장치(6) 및 액적 제거 장치(7)를 구비한다.

에칭 장치(6)는, 검사용 기판(Wi)에 형성된 검사용 막을 제거한다. 예컨대, 에칭 장치(6)는, 플라즈마화된 처리 가스에 의해 검사용 막을 제거한다.

에칭 장치(6)는, 실내가 감압 가능하게 구성되어 감압 상태로 유지되는 진공 처리실(140)을 갖는다. 감압하의 진공 처리실(140) 내에 있어서, 검사용 기판(Wi)에 대하여 검사용 막의 형성이 행해진다.

액적 제거 장치(7)는, 검사용 기판(Wi)의 검사용 막에 토출된 액적을 제거한다. 구체적으로는, 액적 제거 장치(7)는, 예컨대, 액화 탄산 가스의 저류원(도시하지 않음)이 접속되어 있고, 상기 저류원으로부터 공급된 액화 탄산 가스를, 노즐(도시하지 않음)을 통해 분출함으로써, 미소한 고체 이산화탄소 입자로 변화시켜, 검사용 막에 고속(예컨대 초음속)으로 충돌시킨다. 이것에 의해, 검사용 막 위의 기능액의 액적 및 상기 액적이 고화한 것이 제거된다. 미소한 고체 이산화탄소 입자를 충돌시키는 방식이면, 기능액이 유기 재료인 경우뿐만 아니라, 양자 도트의 형성 등에 이용되는 무기 재료인 경우에도 적절하게 제거할 수 있다.

액적 제거 장치(7)는 케이스(150)를 갖는다. 케이스(150) 내에 있어서, 검사용 막에 착탄한 액적의 제거가 행해진다.

액적 토출 시스템(1A)에서는, 반송 장치(4A)가, 액적 토출 장치(2) 및 성막 장치(3)에 대해서만이 아니라, 에칭 장치(6) 및 액적 제거 장치(7)에 대해서도 검사용 기판(Wi)을 반송한다.

반송 장치(4A)에서는, 대기압 반송실(113)이, 액적 제거 장치(7)의 케이스(150)와 셔터(도시하지 않음)를 통해 접속되어 있다. 셔터를 개방 상태로 함으로써, 대기압 반송실(113) 내와 케이스(150) 내를 연통시킬 수 있다.

또한, 반송 장치(4A)에서는, 진공 반송실(122)이, 에칭 장치(6)의 진공 처리실(140)과 게이트 밸브(도시하지 않음)를 통해 접속되어 있다.

<조정 처리>

다음으로, 액적 토출 시스템(1A)에서의, 토출 노즐(24a)의 토출 조건의 조정 처리의 일례에 대해 설명한다. 도 9는, 액적 토출 시스템(1A)에서의, 토출 노즐(24a)의 토출 조건의 조정 처리의 일례의 주요 공정을 도시하는 플로우차트이다.

우선, 도 9에 도시하는 바와 같이, 전술한 스텝 S11∼S16이 행해진다.

(스텝 S21)

이어서, 제어 장치(5)의 제어하에, 검사용 막이 에칭 장치(6)에 의해 제거된다.

구체적으로는, 예컨대, 우선, 검사용 막이 형성되고 액적이 토출된 검사용 기판(Wi)이, 대기압 반송실(113) 내의 대기압 반송 장치에 의해, 로드록실(131) 내에 반입된다. 계속해서, 로드록실(131) 내가 밀폐되고 감압된다. 로드록실(131) 내가 소정의 압력 이하가 하면, 검사용 기판(Wi)이, 진공 반송실(122) 내의 진공 반송 기구에 의해, 에칭 장치(6)의 진공 처리실(140) 내에 반입된다. 그리고, 에칭 장치(6)에 의해, 기능액의 액적이 착탄한 상태의 검사용 막이 검사용 기판(Wi)으로부터 제거된다.

한편, 제어 장치(5)가 전술한 메인 제어부와 서브 제어부를 별개로 갖는 경우, 스텝 S21에 있어서, 메인 제어부가, 검사용 기판(Wi)에 형성된 검사용 막을 에칭 장치(6)에 의해 제거하기 위한 제어 신호를 서브 제어부에 출력한다.

그 후, 에칭 장치(6)에 의해 검사용 막이 제거된 검사용 기판(Wi)이 검사에 재이용되도록, 제어 장치(5)가 제어를 행한다. 제어 장치(5)가 전술한 메인 제어부와 서브 제어부를 별개로 갖는 경우는, 메인 제어부가, 검사용 막이 제거된 검사용 기판(Wi)이 검사에 재이용되도록 제어 신호를 서브 제어부에 출력한다.

재이용시에는, 예컨대, 우선, 전술한 스텝 S16이 행해지고, 그 후, 처리가 스텝 S11로 복귀된다. 한편, 전술한 스텝 S16가 행해지지 않고, 처리가 스텝 S11로 복귀되어도 좋다.

한편, 본 예와 같이 처리가 행해지는 경우, 액적 제거 장치(7)를 액적 토출 시스템(1A)에서 생략해도 좋다.

도 10은, 액적 토출 시스템(1A)에서의, 토출 노즐(24a)의 토출 조건의 조정 처리의 다른 예의 주요 공정을 도시하는 플로우차트이다.

도 10에 도시하는 바와 같이, 본 예에 있어서도, 도 9의 예와 마찬가지로, 먼저 전술한 스텝 S11∼S16이 행해진다.

(스텝 S31)

이어서, 제어 장치(5)의 제어하에, 검사용 기판(Wi)의 검사용 막에 토출된 액적이, 액적 제거 장치(7)에 의해 제거된다.

구체적으로는, 예컨대, 우선, 검사용 막이 형성되고 액적이 토출된 검사용 기판(Wi)이, 대기압 반송실(113) 내의 대기압 반송 장치에 의해, 액적 제거 장치(7)의 케이스(150) 내에 반입된다. 그리고, 액적 제거 장치(7)에 의해, 검사용 막 위의 기능액의 액적이, 미소한 고체 이산화탄소 입자에 의해, 검사용 기판(Wi)으로부터 제거된다.

한편, 제어 장치(5)가 전술한 메인 제어부와 서브 제어부를 별개로 갖는 경우, 스텝 S31에 있어서, 메인 제어부가, 검사용 막 위의 기능액의 액적을 액적 제거 장치(7)에 의해 제거하기 위한 제어 신호를 서브 제어부에 출력한다.

그 후, 액적 제거 장치(7)에 의해 검사용 막으로부터 기능액의 액적이 제거된 검사용 기판(Wi)이 검사에 재이용되도록, 제어 장치(5)가 제어를 행한다. 제어 장치(5)가 전술한 메인 제어부와 서브 제어부를 별개로 갖는 경우는, 메인 제어부가, 검사용 막으로부터 기능액의 액적이 제거된 검사용 기판(Wi)이 검사에 재이용되도록 제어 신호를 서브 제어부에 출력한다.

재이용시에는, 예컨대, 우선, 전술한 스텝 S16이 행해지고, 그 후, 처리가 스텝 S12로 복귀된다.

한편, 본 예와 같이 처리가 행해지는 경우, 에칭 장치(6)를 액적 토출 시스템(1A)에서 생략해도 좋다.

이상의 예에서는, 에칭 장치(6)에 의한 검사용 막의 제거 및 액적 제거 장치(7)에 의한 기능액의 액적의 제거 중 어느 한쪽만이 행해졌지만, 양쪽이 행해져도 좋다. 구체적으로는, 액적 제거 장치(7)에 의한 검사용 막으로부터의 기능액의 액적의 제거 후, 에칭 장치(6)에 의한 검사용 기판(Wi)으로부터의 검사용 막의 제거가 행해져도 좋다. 그리고, 액적 및 검사용 막이 제거된 검사용 기판(Wi)이 검사에 재이용되도록, 제어 장치(5)가 제어를 행해도 좋다.

[제3 실시형태]

<액적 토출 시스템(1B)>

도 11은, 제3 실시형태에 따른 액적 토출 시스템의 구성의 개략을 도시하는 설명도이다.

도 11의 액적 토출 시스템(1B)은, 액적 토출 장치(2) 및 성막 장치(3) 외에, 이물 검출 장치(8)를 구비한다.

이물 검출 장치(8)는, 검사용 기판(Wi)의 검사용 막 위의 이물을 검출한다. 예컨대, 이물 검출 장치(8)는, 레이저광을 검사용 막을 향해 조사하고, 검사용 막에 의해 반사된 레이저광의 강도에 기초하여 이물의 유무를 검출한다.

이물 검출 장치(8)는 케이스(160)를 갖는다. 케이스(160) 내에 있어서, 검사용 막 위의 이물의 유무가 검출된다.

액적 토출 시스템(1B)에서는, 반송 장치(4B)가, 액적 토출 장치(2) 및 성막 장치(3)에 대해서만이 아니라, 이물 검출 장치(8)에 대해서도 검사용 기판(Wi)을 반송한다.

반송 장치(4B)에서는, 대기압 반송실(113)이, 이물 검출 장치(8)의 케이스(160)와 셔터(도시하지 않음)를 통해 접속되어 있다. 셔터를 개방 상태로 함으로써, 대기압 반송실(113) 내와 케이스(160) 내를 연통시킬 수 있다.

또한, 반송 장치(4B)에서는, 진공 반송실(122)이, 성막 장치(3)의 진공 처리실(100)과 게이트 밸브(도시하지 않음)를 통해 접속되어 있다.

액적 토출 시스템(1B)에서의, 토출 노즐(24a)의 토출 조건의 조정 처리에서는, 제어 장치(5)의 제어하에, 검사용 기판(Wi)의 검사용 막 위의 이물이, 이물 검출 장치(8)에 의해 검출된다. 제어 장치(5)가 전술한 메인 제어부와 서브 제어부를 별개로 갖는 경우는, 메인 제어부가, 검사용 기판(Wi)의 검사용 막 위의 이물의 유무를 이물 검출 장치(8)가 검출하도록, 제어 신호를 서브 제어부에 출력한다.

검사용 막이 형성된 검사용 기판(Wi) 상의 이물의 검출은, 예컨대, 검사용 기판(Wi)마다, 액적 토출 장치(2)에 반입되기 전에 행해진다.

이와 같이 이물을 검출함으로써, 검사용 막에 토출된 기능액의 액적의 촬상 결과가, 이물의 영향을 받는 것을 억제할 수 있다.

한편, 검사용 막이 형성되기 전의 검사용 기판(Wi) 상의 이물의 유무를, 이물 검출 장치(8)로 검출해도 좋다.

또한, 액적 토출 시스템(1B)에, 전술한 에칭 장치(6) 또는 액적 제거 장치(7)의 적어도 어느 하나를 설치하여, 검사용 기판(Wi)을 재이용할 때에, 검사용 막의 형성 전 또는 후의 검사용 기판(Wi) 상의 이물의 유무를, 이물 검출 장치(8)로 검출해도 좋다.

[제4 실시형태]

<액적 토출 장치(2A)>

도 12는, 제4 실시형태에 따른 액적 토출 장치의 구성의 개략을 도시하는 설명도이다.

도 12의 액적 토출 장치(2A)는, 도 2 등에 도시한 액적 토출 장치(2)와 마찬가지로, 케이스(90)를 갖고, 케이스(90)의 내부는 액적 토출 장치(2)와 동일하게 구성되어 있다. 다만, 도 12의 액적 토출 장치(2A)는, 액적 토출 장치(2)와 달리 배치대(111)와 대기압 반송 모듈(112)을 갖는다.

재치대(111)에는 캐리어(C)가 배치된다. 캐리어(C)에는, 발액성과 토출 예정액 종류에 대응하는 막질을 갖는 검사용 막이 외부에서 미리 형성된 검사용 기판(Wi)이 복수 매 수용되어 있다.

본 실시형태에 있어서, 대기압 반송 모듈(112)의 대기압 반송실(113) 내의 대기압 반송 기구는, 배치대(111)에 배치된 캐리어(C)와 케이스(90)의 사이에서만 검사용 기판(Wi)을 반송한다.

또한, 액적 토출 장치(2A)는 제어부(200)를 갖는다.

제어부(200)는, 예컨대 CPU 등의 프로세서나 메모리를 구비한 컴퓨터이며, 데이터 저장부(도시하지 않음)를 갖고 있다. 데이터 저장부에는, 예컨대 기능액의 액적의 토출을 제어하고, 검사용 기판(Wi)에 액적에 의한 소정의 패턴을 형성, 즉 묘화하기 위한 묘화 데이터(비트맵 데이터) 등이 저장되어 있다. 또한, 제어부(200)는, 프로세서에 의해 실행되는 지령을 포함하는 프로그램을 저장하는 프로그램 저장부(도시하지 않음)를 갖고 있다. 프로그램 저장부에는, 액적 토출 장치(2A)에서의 제품 기판(W)으로의 묘화 처리를 행하기 위한 지령을 포함하는 프로그램이 저장되어 있다. 또한, 프로그램 저장부에는, 토출 노즐(24a)로부터의 기능액의 토출 조건을 조정하는 조정 처리를 행하기 위한 지령을 포함하는 프로그램이 저장되어 있다.

액적 토출 장치(2A)에서의, 토출 노즐(24a)의 토출 조건의 조정 처리에서는, 예컨대, 액적 토출 시스템(1)에서의, 토출 노즐(24a)의 토출 조건의 조정 처리와는 달리, 전술한 스텝 S11의 성막 공정이 행해지지 않고, 제어 장치(5) 대신에 제어부(200)를 이용하여 스텝 S12∼S17가 행해진다.

그리고, 액적 토출 장치(2A)에서의 상기 조정 처리에서는, 액적 토출 시스템(1)에서의 상기 조정 처리와는 달리, 스텝 S12에 있어서, 발액성와 상기 막질을 갖는 검사용 막이 외부에서 미리 형성된 검사용 기판(Wi)이, 검사용 스테이지(60)에 배치된다.

또한, 본 실시형태에 있어서도, 상기 조정 처리가 완료한 후의, 액적 토출 장치(2A)에 의한 제품 기판(W)으로의 묘화 처리에서는, 스텝 S15에서 조정된 토출 조건으로, 토출 노즐(24a)로부터, 스테이지(40)에 배치된 제품 기판(W)으로 기능액의 토출이 행해진다.

본 실시형태에 의해서도, 토출 노즐(24a)로부터 액적으로서 토출되는 기능액의 토출 상태를, 기능액의 종류에 상관없이 적절히 조정할 수 있다.

이번에 개시된 실시형태는 모든 점에서 예시이며 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 상기 실시형태는, 첨부한 청구범위 및 그 주지를 벗어나지 않고, 다양한 형태로 생략, 치환, 변경되어도 좋다. 예컨대, 상기 실시형태의 구성 요건은 임의로 조합할 수 있다. 상기 임의의 조합으로부터는, 조합에 관한 각각의 구성 요건에 대한 작용 및 효과가 당연히 얻어짐과 더불어, 본 명세서의 기재로부터 당업자에게는 분명한 다른 작용 및 다른 효과가 얻어진다.

또한, 본 명세서에 기재된 효과는, 어디까지나 설명적 또는 예시적인 것이며, 한정적인 것은 아니다. 즉, 본 개시에 따른 기술은, 상기 효과와 함께, 또는, 상기 효과 대신에, 본 명세서의 기재로부터 당업자에게는 분명한 다른 효과를 발휘할 수 있다.

한편, 이하와 같은 구성예도 본 개시의 기술적 범위에 속한다.

(1) 액적 토출 시스템으로서,

기판이 배치되는 스테이지, 검사용 기판이 배치되는 검사용 스테이지, 상기 스테이지 및 상기 검사용 스테이지를 향해 기능액의 액적을 토출하는 토출 노즐, 및 상기 토출 노즐로부터 토출된 상기 기능액의 액적을 촬상하는 촬상부를 갖는 액적 토출 장치와,

발액성을 갖는 검사용 막을 검사용 기판에 형성하는 성막 장치와,

상기 액적 토출 장치 및 상기 성막 장치에 대하여 상기 검사용 기판을 반송하는 반송 장치, 그리고

제어 장치

를 구비하고,

상기 제어 장치는, 그 제어 및 연산에 의해,

(A) 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대응하는 막질을 갖는 상기 검사용 막을, 상기 성막 장치에 의해 상기 검사용 기판에 형성하는 공정과,

(B) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판을 상기 액적 토출 장치의 상기 검사용 스테이지에 배치하는 공정과,

(C) 그 후, 상기 검사용 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 검사용 막에 대응하는 종류의 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과,

(D) 상기 (C) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정과,

(E) 상기 (D) 공정에서의 취득 결과에 기초하여, 상기 토출 노즐로부터의 상기 기능액의 액적의 토출 조건을 조정하는 공정, 그리고

(F) 상기 (E) 공정에서 조정된 토출 조건으로, 상기 스테이지에 배치된 기판에 상기 토출 노즐로부터 기능액의 토출을 행하는 공정

을 상기 액적 토출 시스템이 실행하게 하도록 구성되어 있는 것인 액적 토출 시스템.

(2) 상기 제어 장치는, 그 제어 및 연산에 의해, 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대해,

서로 다른 복수의 성막 조건마다,

(G) 상기 성막 조건에 기초하여, 상기 검사용 막을 상기 성막 장치에 의해 상기 검사용 기판에 형성하는 공정과,

(H) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판을 상기 액적 토출 장치의 상기 검사용 스테이지에 배치하는 공정과,

(I) 그 후, 상기 검사용 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과,

(J) 상기 (I) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정, 그리고

상기 복수의 성막 조건마다의 상기 (J) 공정의 결과에 기초하여, 상기 (A) 공정에서 적용하는 성막 조건을 결정하는 공정

을 상기 액적 토출 시스템이 실행하게 하도록 구성되어 있는, 상기 (1)에 기재된 액적 토출 시스템.

(3) 상기 기능액의 종류 각각에 대해,

서로 다른 복수의 성막 조건마다, 상기 (G)∼(J) 공정이 실행되고,

상기 복수의 성막 조건마다의 상기 (J) 공정의 결과에 기초하여, 상기 (A) 공정에서 적용하는 성막 조건이 결정되는, 상기 (2)에 기재된 액적 토출 시스템.

(4) 상기 검사용 기판에 형성된 상기 검사용 막을 제거하는 에칭 장치 또는 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에 토출된 상기 기능액의 액적을 제거하는 액적 제거 장치 중 적어도 어느 한쪽을 더 구비하는, 상기 (1)∼(3)의 어느 하나에 기재된 액적 토출 시스템.

(5) 상기 제어 장치는, 상기 에칭 장치에 의해 상기 검사용 막이 제거된 상기 검사용 기판 또는 상기 액적 제거 장치에 의해 상기 검사용 막으로부터 상기 기능액의 액적이 제거된 상기 검사용 기판 중 적어도 어느 한쪽을 상기 액적 토출 시스템이 재이용하도록 제어를 행하도록 구성되어 있는, 상기 (4)에 기재된 액적 토출 시스템.

(6) 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막 위의 이물을 검출하는 검출 장치를 더 구비하는, 상기 (1)∼(5)의 어느 하나에 기재된 액적 토출 시스템.

(7) 상기 액적 토출 장치는, 상기 검사용 스테이지와 상기 토출 노즐이 하나의 방향으로 상대적으로 이동 가능하게 구성되고, 상기 토출 노즐이 상기 하나의 방향과 교차하는 다른 방향을 따라 나열되도록 설치되고,

상기 (B) 공정은, 복수의 상기 검사용 기판을, 상기 다른 방향을 따라 나열하도록 배치하고, 상기 제어 장치는, 그 제어 및 연산에 의해, 상기 토출 노즐 중, 적어도 상기 (C) 공정에 있어서 인접한 상기 검사용 기판의 경계선에 토출하는 토출 노즐에 대해, 토출 위치를 상기 경계선으로부터 상기 다른 방향으로 이동시켜 상기 (C) 공정을 상기 액적 토출 시스템이 별도로 실행하고, 별도로 실행한 상기 (C) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 상기 (D) 및 (E) 공정을 상기 액적 토출 시스템이 실행하도록 구성되어 있는, 상기 (1)∼(6)의 어느 하나에 기재된 액적 토출 시스템.

(8) (a) 발액성과, 액적 토출 장치의 토출 노즐로부터 토출되는 기능액의 종류에 대응하는 막질을 갖는 검사용 막을, 검사용 기판에 형성하는 공정과,

(b) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판을 상기 액적 토출 장치의 검사용 스테이지에 배치하는 공정과,

(c) 그 후, 상기 검사용 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 검사용 막에 대응하는 종류의 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 액적 토출 장치의 촬상부로 촬상하는 공정과,

(d) 상기 (c) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정과,

(e) 상기 (d) 공정에서의 취득 결과에 기초하여, 상기 토출 노즐로부터의 상기 기능액의 액적의 토출 조건을 조정하는 공정, 그리고

(f) 상기 (e) 공정에서 조정된 토출 조건으로, 스테이지에 배치된 기판에 상기 토출 노즐로부터 기능액의 토출을 행하는 공정

을 포함하는 액적 토출 방법.

(9) 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대해,

서로 다른 복수의 성막 조건마다,

(g) 상기 성막 조건에 기초하여, 상기 검사용 막을 상기 검사용 기판에 형성하는 공정과,

(h) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판을 상기 액적 토출 장치의 상기 검사용 스테이지에 배치하는 공정과,

(i) 그 후, 상기 검사용 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정, 그리고

(j) 상기 (i) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정

을 포함하고,

상기 복수의 성막 조건마다의 상기 (j) 공정의 결과에 기초하여, 상기 (a) 공정에서 적용하는 성막 조건을 결정하는, 상기 (8)에 기재된 액적 토출 방법.

(10) 상기 기능액의 종류 각각에 대해,

서로 다른 복수의 성막 조건마다, 상기 (g)∼(j) 공정을 행하고,

상기 복수의 성막 조건마다의 상기 (j) 공정의 결과에 기초하여, 상기 (a) 공정에서 적용하는 성막 조건을 결정하는, 상기 (9)에 기재된 액적 토출 방법.

(11) 상기 검사용 기판에 형성된 상기 검사용 막을 제거하는 공정 또는 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에 토출된 상기 기능액의 액적을 제거하는 공정 중 적어도 어느 한쪽을 더 포함하고,

상기 검사용 막이 제거된 상기 검사용 기판 또는 상기 검사용 막으로부터 상기 기능액의 액적이 제거된 상기 검사용 기판 중 적어도 어느 한쪽을 재이용하는, 상기 (8)∼(10)의 어느 하나에 기재된 액적 토출 방법.

(12) 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막 위의 이물을 검출하는 공정을 더 포함한다, 상기 (8)∼(11)의 어느 하나에 기재된 액적 토출 방법.

(13) 상기 액적 토출 장치는, 상기 검사용 스테이지와 상기 토출 노즐이 하나의 방향으로 상대적으로 이동 가능하게 구성되고, 상기 토출 노즐이 상기 하나의 방향과 교차하는 다른 방향을 따라 나열되도록 설치되고,

상기 (b) 공정은, 복수의 상기 검사용 기판을, 상기 다른 방향을 따라 나열하도록 배치하고, 상기 토출 노즐 중, 적어도 상기 (c) 공정에 있어서 인접한 상기 검사용 기판의 경계선에 토출하는 토출 노즐에 대해, 토출 위치를 상기 경계선으로부터 상기 다른 방향으로 이동시켜 상기 (c) 공정을 별도로 행하고, 별도로 행한 상기 (c) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여 상기 (d) 및 (e) 공정을 행하는, 상기 (8)∼(12)의 어느 하나에 기재된 액적 토출 방법.

(14) 액적 토출 장치로서,

기판이 배치되는 스테이지와,

검사용 기판이 배치되는 검사용 스테이지와,

상기 스테이지를 향해 기능액의 액적을 토출하는 토출 노즐과,

상기 토출 노즐로부터 토출된 상기 기능액의 액적을 촬상하는 촬상부, 그리고

제어부

를 갖고,

상기 제어부는, 그 제어 및 연산에 의해,

(α) 발액성와, 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대응하는 막질을 갖는 검사용 막이, 성막 장치에 의해 검사용 기판에 형성되도록 제어 신호를 출력하는 공정과,

(β) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판이 반송 장치를 통해 상기 스테이지에 배치되도록 제어 신호를 출력하는 공정과,

(γ) 그 후, 상기 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 검사용 막에 대응하는 종류의 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과,

(δ) 상기 (γ) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정과,

(ε) 상기 (δ) 공정에서의 취득 결과에 기초하여, 상기 토출 노즐로부터의 상기 기능액의 토출 조건을 조정하는 공정, 그리고

(ζ) 상기 (ε) 공정에서 조정된 토출 조건으로, 상기 스테이지에 배치된 기판에 상기 토출 노즐로부터 기능액의 토출을 행하는 공정

을 상기 액적 토출 장치가 실행하게 하도록 구성되어 있는 것인 액적 토출 장치.

(15) 상기 제어부는, 그 제어 및 연산에 의해, 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대해,

서로 다른 복수의 성막 조건마다,

(η) 상기 성막 조건에 기초하여 상기 검사용 막이 상기 성막 장치에 의해 상기 검사용 기판에 형성되도록 제어 신호를 출력하고,

(θ) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판이 상기 반송 장치를 통해 상기 스테이지에 배치되도록 제어 신호를 출력하고,

(ι) 그 후, 상기 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과,

(j) 그 후, 상기 검사용 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과,

(κ) 상기 (ι) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정, 그리고

상기 복수의 성막 조건마다의 상기 (κ) 공정의 결과에 기초하여, 상기 (α) 공정에서 출력하는 상기 제어 신호에 포함되는 성막 조건을 결정하는 공정

을 상기 액적 토출 장치가 더 실행하게 하도록 구성되어 있는, 상기 (14)에 기재된 액적 토출 장치.

(16) 상기 제어부는, 상기 기능액의 종류 각각에 대해,

서로 다른 복수의 성막 조건마다, 상기 (η)∼(κ) 공정이 실행되고,

상기 복수의 성막 조건마다의 상기 (κ) 공정의 결과에 기초하여, 상기 (α) 공정에서 출력하는 상기 제어 신호에 포함되는 성막 조건이 결정되는, 상기 (15)에 기재된 액적 토출 장치.

(17) 액적 토출 장치로서,

기판이 배치되는 스테이지와,

검사용 기판이 배치되는 검사용 스테이지와,

상기 스테이지 및 상기 검사용 스테이지를 향해 기능액의 액적을 토출하는 토출 노즐과,

상기 토출 노즐로부터 토출된 상기 기능액의 액적을 촬상하는 촬상부, 그리고

제어부

를 갖고,

상기 제어부는, 그 제어 및 연산에 의해,

발액성와, 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대응하는 막질을 갖는 검사용 막이 미리 형성된 상기 검사용 기판을 상기 검사용 스테이지에 배치하는 공정과,

그 후, 상기 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 검사용 막에 대응하는 종류의 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과,

상기 촬상하는 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정과,

상기 취득하는 공정에서의 취득 결과에 기초하여, 상기 토출 노즐로부터의 상기 기능액의 액적의 토출 조건을 조정하는 공정, 그리고

상기 조정하는 공정에서 조정된 상기 토출 조건으로, 상기 스테이지에 배치된 기판에 상기 토출 노즐로부터 기능액의 토출을 행하는 공정

을 상기 액적 토출 장치가 실행하게 하도록 구성되어 있는 것인 액적 토출 장치.

1, 1A, 1B : 액적 토출 시스템
2, 2A : 액적 토출 장치
3 : 성막 장치
4, 4A, 4B : 반송 장치
5 : 제어 장치
24a : 토출 노즐
31 : 토출 검사 카메라
200 : 제어부
Q : 액적
W : 제품 기판
Wi : 검사용 기판

Claims (17)

1. 액적 토출 시스템으로서,
   기판이 배치되는 스테이지, 검사용 기판이 배치되는 검사용 스테이지, 상기 스테이지 및 상기 검사용 스테이지를 향해 기능액의 액적을 토출하는 토출 노즐, 및 상기 토출 노즐로부터 토출된 상기 기능액의 액적을 촬상하는 촬상부를 갖는 액적 토출 장치와,
   발액성을 갖는 검사용 막을 검사용 기판에 형성하는 성막 장치와,
   상기 액적 토출 장치 및 상기 성막 장치에 대하여 상기 검사용 기판을 반송하는 반송 장치, 그리고
   제어 장치
   를 구비하고,
   상기 제어 장치는, 그 제어 및 연산에 의해,
   (A) 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대응하는 막질을 갖는 상기 검사용 막을, 상기 성막 장치에 의해 상기 검사용 기판에 형성하는 공정과,
   (B) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판을 상기 액적 토출 장치의 상기 검사용 스테이지에 배치하는 공정과,
   (C) 그 후, 상기 검사용 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 검사용 막에 대응하는 종류의 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과,
   (D) 상기 (C) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정과,
   (E) 상기 (D) 공정에서의 취득 결과에 기초하여, 상기 토출 노즐로부터의 상기 기능액의 액적의 토출 조건을 조정하는 공정, 그리고
   (F) 상기 (E) 공정에서 조정된 토출 조건으로, 상기 스테이지에 배치된 기판에 상기 토출 노즐로부터 기능액의 토출을 행하는 공정
   을 상기 액적 토출 시스템이 실행하게 하도록 구성되어 있는 것인 액적 토출 시스템.
2. 제1항에 있어서,
   상기 제어 장치는, 그 제어 및 연산에 의해, 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대해,
   서로 다른 복수의 성막 조건마다,
   (G) 상기 성막 조건에 기초하여, 상기 검사용 막을 상기 성막 장치에 의해 상기 검사용 기판에 형성하는 공정과,
   (H) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판을 상기 액적 토출 장치의 상기 검사용 스테이지에 배치하는 공정과,
   (I) 그 후, 상기 검사용 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과,
   (J) 상기 (I) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정, 그리고
   상기 복수의 성막 조건마다의 상기 (J) 공정의 결과에 기초하여, 상기 (A) 공정에서 적용하는 성막 조건을 결정하는 공정
   을 상기 액적 토출 시스템이 실행하게 하도록 구성되어 있는 것인 액적 토출 시스템.
3. 제2항에 있어서,
   상기 기능액의 종류 각각에 대해,
   서로 다른 복수의 성막 조건마다, 상기 (G)∼(J) 공정이 실행되고,
   상기 복수의 성막 조건마다의 상기 (J) 공정의 결과에 기초하여, 상기 (A) 공정에서 적용하는 성막 조건이 결정되는 것인 액적 토출 시스템.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 검사용 기판에 형성된 상기 검사용 막을 제거하는 에칭 장치 또는 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에 토출된 상기 기능액의 액적을 제거하는 액적 제거 장치 중 적어도 어느 한쪽을 더 구비하는 액적 토출 시스템.
5. 제4항에 있어서,
   상기 제어 장치는, 상기 에칭 장치에 의해 상기 검사용 막이 제거된 상기 검사용 기판 또는 상기 액적 제거 장치에 의해 상기 검사용 막으로부터 상기 기능액의 액적이 제거된 상기 검사용 기판 중 적어도 어느 한쪽을 상기 액적 토출 시스템이 재이용하도록 제어를 행하도록 구성되어 있는 것인 액적 토출 시스템.
6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 검사용 기판의 상기 검사용 막 위의 이물을 검출하는 검출 장치를 더 구비하는 액적 토출 시스템.
7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 액적 토출 장치는, 상기 검사용 스테이지와 상기 토출 노즐이 하나의 방향으로 상대적으로 이동 가능하게 구성되고, 상기 토출 노즐이 상기 하나의 방향과 교차하는 다른 방향을 따라 나열되도록 설치되고,
   상기 (B) 공정은, 복수의 상기 검사용 기판을, 상기 다른 방향을 따라 나열하도록 배치하고, 상기 제어 장치는, 그 제어 및 연산에 의해, 상기 토출 노즐 중, 적어도 상기 (C) 공정에 있어서 인접한 상기 검사용 기판의 경계선에 토출하는 토출 노즐에 대해, 토출 위치를 상기 경계선으로부터 상기 다른 방향으로 이동시켜 상기 (C) 공정을 상기 액적 토출 시스템이 별도로 실행하고, 별도로 실행한 상기 (C) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 상기 (D) 및 (E) 공정을 상기 액적 토출 시스템이 실행하도록 구성되어 있는 것인 액적 토출 시스템.
8. (a) 발액성과, 액적 토출 장치의 토출 노즐로부터 토출되는 기능액의 종류에 대응하는 막질을 갖는 검사용 막을, 검사용 기판에 형성하는 공정과,
   (b) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판을 상기 액적 토출 장치의 검사용 스테이지에 배치하는 공정과,
   (c) 그 후, 상기 검사용 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 검사용 막에 대응하는 종류의 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 액적 토출 장치의 촬상부로 촬상하는 공정과,
   (d) 상기 (c) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정과,
   (e) 상기 (d) 공정에서의 취득 결과에 기초하여, 상기 토출 노즐로부터의 상기 기능액의 액적의 토출 조건을 조정하는 공정, 그리고
   (f) 상기 (e) 공정에서 조정된 토출 조건으로, 스테이지에 배치된 기판에 상기 토출 노즐로부터 기능액의 토출을 행하는 공정
   을 포함하는 액적 토출 방법.
9. 제8항에 있어서,
   상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대해,
   서로 다른 복수의 성막 조건마다,
   (g) 상기 성막 조건에 기초하여, 상기 검사용 막을 상기 검사용 기판에 형성하는 공정과,
   (h) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판을 상기 액적 토출 장치의 상기 검사용 스테이지에 배치하는 공정과,
   (i) 그 후, 상기 검사용 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정, 그리고
   (j) 상기 (i) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정
   을 포함하고,
   상기 복수의 성막 조건마다의 상기 (j) 공정의 결과에 기초하여, 상기 (a) 공정에서 적용하는 성막 조건을 결정하는 것인 액적 토출 방법.
10. 제9항에 있어서,
    상기 기능액의 종류 각각에 대해,
    서로 다른 복수의 성막 조건마다 상기 (g)∼(j) 공정을 행하고,
    상기 복수의 성막 조건마다의 상기 (j) 공정의 결과에 기초하여, 상기 (a) 공정에서 적용하는 성막 조건을 결정하는 것인 액적 토출 방법.
11. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 검사용 기판에 형성된 상기 검사용 막을 제거하는 공정 또는 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에 토출된 상기 기능액의 액적을 제거하는 공정 중 적어도 어느 한쪽을 더 포함하고,
    상기 검사용 막이 제거된 상기 검사용 기판 또는 상기 검사용 막으로부터 상기 기능액의 액적이 제거된 상기 검사용 기판 중 적어도 어느 한쪽을 재이용하는 것인 액적 토출 방법.
12. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 검사용 기판의 상기 검사용 막 위의 이물을 검출하는 공정을 더 포함하는 액적 토출 방법.
13. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 액적 토출 장치는, 상기 검사용 스테이지와 상기 토출 노즐이 하나의 방향으로 상대적으로 이동 가능하게 구성되고, 상기 토출 노즐이 상기 하나의 방향과 교차하는 다른 방향을 따라 나열되도록 설치되고,
    상기 (b) 공정은, 복수의 상기 검사용 기판을, 상기 다른 방향을 따라 나열하도록 배치하고, 상기 토출 노즐 중, 적어도 상기 (c) 공정에 있어서 인접한 상기 검사용 기판의 경계선에 토출하는 토출 노즐에 대해, 토출 위치를 상기 경계선으로부터 상기 다른 방향으로 이동시켜 상기 (c) 공정을 별도로 행하고, 별도로 행한 상기 (c) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여 상기 (d) 및 (e) 공정을 행하는 것인 액적 토출 방법.
14. 액적 토출 장치로서,
    기판이 배치되는 스테이지와,
    검사용 기판이 배치되는 검사용 스테이지와,
    상기 스테이지를 향해 기능액의 액적을 토출하는 토출 노즐과,
    상기 토출 노즐로부터 토출된 상기 기능액의 액적을 촬상하는 촬상부, 그리고
    제어부
    를 갖고,
    상기 제어부는, 그 제어 및 연산에 의해,
    (α) 발액성와, 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대응하는 막질을 갖는 검사용 막이, 성막 장치에 의해 검사용 기판에 형성되도록, 제어 신호를 출력하는 공정과,
    (β) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판이 반송 장치를 통해 상기 스테이지에 배치되도록, 제어 신호를 출력하는 공정과,
    (γ) 그 후, 상기 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 검사용 막에 대응하는 종류의 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과,
    (δ) 상기 (γ) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정과,
    (ε) 상기 (δ) 공정에서의 취득 결과에 기초하여, 상기 토출 노즐로부터의 상기 기능액의 토출 조건을 조정하는 공정, 그리고
    (ζ) 상기 (ε) 공정에서 조정된 토출 조건으로, 상기 스테이지에 배치된 기판에 상기 토출 노즐로부터 기능액의 토출을 행하는 공정
    을 상기 액적 토출 장치가 실행하게 하도록 구성되어 있는 것인 액적 토출 장치.
15. 제14항에 있어서,
    상기 제어부는, 그 제어 및 연산에 의해, 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대해,
    서로 다른 복수의 성막 조건마다,
    (η) 상기 성막 조건에 기초하여 상기 검사용 막이 상기 성막 장치에 의해 상기 검사용 기판에 형성되도록 제어 신호를 출력하고,
    (θ) 그 후, 상기 검사용 막이 형성된 상기 검사용 기판이 상기 반송 장치를 통해 상기 스테이지에 배치되도록 제어 신호를 출력하고,
    (ι) 그 후, 상기 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과,
    (κ) 상기 (ι) 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정, 그리고
    상기 복수의 성막 조건마다의 상기 (κ) 공정의 결과에 기초하여, 상기 (α) 공정에서 출력하는 상기 제어 신호에 포함되는 성막 조건을 결정하는 공정
    을 상기 액적 토출 장치가 더 실행하게 하도록 구성되어 있는 것인 액적 토출 장치.
16. 제15항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 기능액의 종류 각각에 대해,
    서로 다른 복수의 성막 조건마다, 상기 (η)∼(κ) 공정이 실행되고,
    상기 복수의 성막 조건마다의 상기 (κ) 공정의 결과에 기초하여, 상기 (α) 공정에서 출력하는 상기 제어 신호에 포함되는 성막 조건이 결정되는 것인 액적 토출 장치.
17. 액적 토출 장치로서,
    기판이 배치되는 스테이지와,
    검사용 기판이 배치되는 검사용 스테이지와,
    상기 스테이지 및 상기 검사용 스테이지를 향해 기능액의 액적을 토출하는 토출 노즐과,
    상기 토출 노즐로부터 토출된 상기 기능액의 액적을 촬상하는 촬상부, 그리고
    제어부
    를 갖고,
    상기 제어부는, 그 제어 및 연산에 의해,
    발액성와, 상기 토출 노즐로부터 토출되는 상기 기능액의 종류에 대응하는 막질을 갖는 검사용 막이 미리 형성된 상기 검사용 기판을 상기 검사용 스테이지에 배치하는 공정과,
    그 후, 상기 스테이지에 배치된 상기 검사용 기판의 상기 검사용 막에, 상기 검사용 막에 대응하는 종류의 상기 기능액의 액적을 상기 토출 노즐로부터 토출하고, 상기 검사용 막 위의 상기 기능액의 액적을 상기 촬상부로 촬상하는 공정과,
    상기 촬상하는 공정에서의 촬상 결과에 기초하여, 토출된 상기 기능액의 액적의 정보를 취득하는 공정과,
    상기 취득하는 공정에서의 취득 결과에 기초하여, 상기 토출 노즐로부터의 상기 기능액의 액적의 토출 조건을 조정하는 공정, 그리고
    상기 조정하는 공정에서 조정된 상기 토출 조건으로, 상기 스테이지에 배치된 기판에 상기 토출 노즐로부터 기능액의 토출을 행하는 공정
    을 상기 액적 토출 장치가 실행하게 하도록 구성되어 있는 것인 액적 토출 장치.

Images