TWI376302B - - Google Patents

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1376302 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關透明薄膜之製造方法，特別有關使液狀 之光硬化性樹脂組成物藉由紫外線照射硬化，形成透明硬 化薄膜之適於光學用途之透明薄膜的製造方法。 ·· 【先前技術】 透明之樹脂薄膜其光學特性佳，相較於.玻璃具有不易 割裂之特性，因此’近年來廣泛取代先行技術之玻璃領域 的使用。樹脂薄膜大致部分爲熱塑性薄膜與熱或光之硬化 性薄膜’而，硬化性樹脂具高度耐熱性，因此被期待適於 新穎的利用領域。特別是期待開發一種伴隨電子機器等小 型化之薄膜透明薄膜材料》 目前爲止，被揭示有幾個有關利用光硬化性樹脂之透 明板、透明薄膜的製造方法。如：特開平8-132455號公報 (文獻1)中被揭示有模室中注入聚合性單體後製造甲基 丙烯系樹脂鑄造板之方法。此方法亦稱模室鑄造法，惟， 藉由分批式而未能連續性製造板之面上導致效率不佳，且 不易適用於薄的薄膜材料製作。 又’特開平4-80007號公報（文獻2 )、特開 2002-2294〇號公報（文獻3)中被揭示使紫外線硬化性樹 脂所成之液體狀聚合物溶液流延於苯乙烯帶上，之後，製 造紫外線照射之光學薄膜的方法。惟，使苯乙烯帶上之光 硬化性樹脂硬化時’導致於反應時產生分佈、或往厚度方 (2) (2)1376302 向於硬化率產生分佈出現物性不均化之主因，又，使用苯 乙烯帶時’由其分離薄膜時’其硬化之薄膜強度弱時，亦 會出現裂化。 又’塗佈光硬化性樹脂基材中使用聚酯薄膜後，塗佈 紫外線硬化性樹脂，使任意施予表面處理之薄片基材與聚 醋薄膜重疊，由其雙面照射紫外線，硬化後剝離聚酯薄膜 之方法被揭示於特開昭60-197270號公報（文獻4)。以此 法進行光硬化時，雖可達成硬化薄膜之硬化率均勻性，取 得品質良好之薄膜，惟，聚酯薄膜等基材薄膜、被覆薄膜 (簡稱爲基材薄膜）藉由紫外線劣化而出現彎曲、變形（ 以下簡稱此爲扭曲）之問題點被指出。如此，彎曲、變形 之產生，被期待改善其於單面不易剝離基礎薄膜等之問題 點。另外，考量將基材薄膜等材質做成玻璃，惟，玻璃曲 面無法彎曲，因此，不適於帶狀之連續薄膜製造方法。 【發明內容】 本發明鑑於上述有先行技術之課題，而以提供一種光 硬化性樹脂之透明薄膜製造方法中，於做成均勻透明薄膜 內之硬化反應率下保持物性之均一性，於光硬化性中產生 彎曲 '變形可藉由縱剪切裝置去除後，穩定進行基材及被 覆薄膜之剝離去除，且，隨後製品薄膜之卷取安定性亦良 好之連續製造透明滾筒薄膜之方法爲其目的。 本發明者爲解決上述課題，進行精密硏討後結果發現 ，使光硬化性樹脂呈薄膜狀流延於平滑之透明基材薄膜上 -6- (3) (3)

1376302 ’於上面層合平滑之透明被覆薄膜後，照射紫外 ’使光硬化性樹脂之硬化收縮產生薄膜頂端之扭 由縱剪切裝置剪切去除’可解決該課題，進而完 本發明係於透明基材薄膜上使藉由硬化前後二 縮率爲3〜1 0 %液狀之光硬化性樹脂組成物以厚| 0 · 4 m m之範圍下呈薄膜狀流延，形成光硬化性樹朋 於上面層合透明被覆薄膜後，做成光硬化性樹脂層 有透明層之層合體，於該層合體之至少一面照射袅 使該光硬化性樹脂層硬化後，藉由縱剪切機裝置蔓 層合體頂端之透明薄膜製造方法。 本發明該透明薄膜之製造方法中，使該光硬刊 層硬化，藉由縱剪切裝置使該層合體頂端剪切去闻 有利於使該透明基材薄膜及該透明被覆薄膜之單缝 連續進行剝離之剝離步驟，該剝離步驟後更具有i 所得透明薄膜物性評定之步驟亦爲理想形態之一。 做爲該光硬化性樹脂組成物者以使用含於其光硬化 組成物中具有光硬化性之聚矽氧系樹脂爲3重量％ 宜。 本發明中該透明被覆薄膜與該透明基材薄膜爲 材者宜，此時，照射紫外線後硬化光硬化性樹脂之 T)對於透明基材薄膜及透明被覆薄膜之玻璃轉移 Tg )，以滿足式：20°c S TS Tg所示之條件者宜。 又，本發明中，該透明被覆薄膜與該透明基材 硬化後 部份藉 本發明 體積收 :0.03 〜 層，並 雙面具 外線， 切去除 性樹脂 後，更 或雙邊 續進行 其中， 性樹脂 以上者 相同基 溫度（ 溫度（ 薄膜爲 (4) 1376302 相同基材者宜，且藉由雙軸延伸法所製造之薄膜爲更佳’ 此時，照射紫外線，硬化光硬化性樹脂之溫度（T )對於 透明基材薄膜及透明被覆薄膜之玻璃轉移溫度（Tg)及溶 融溫度（Tm )以滿足式：Tg + 5(TC S T < Tm所示之條件 者宜。 • ·-· · - - · - ...... ，冊. . - 藉由本發明透明薄膜之製造方法，不僅所製造之透明 薄膜物性、品質之均勻性良好，藉由光硬化性樹脂硬化收 縮所產生之薄膜頂端扭曲部份經剪切去除後可穩定進行基 材及被覆薄膜之剝離去除，甚至製品薄膜之卷取安定性亦 佳。因此，本發明所製造之透明薄膜適用於液晶顯示器、 觸碰控制盤、附電極透明薄膜、透鏡薄片等光學薄膜、透 明基板等。可有效取得此透明樹脂薄膜之本發明於其產業 上具極高之利用價値。 【實施方式】 φ [發明實施之最佳形態] 以下，於必要時參考添附圖面，同時針對本發明透明 薄膜製造方法之理想實施形態進行詳細說明。 圖1代表本發明透明薄膜製造方法所使用裝置之一例 的槪略圖。本發明中做爲透明薄膜原料之液狀光硬化性樹 脂組成物於透明基材薄膜上呈薄膜狀流延。圖1中，光硬 化性樹脂組成物於透明基材薄膜1由塗佈頭2各以一定量供 應之。透明基材薄膜1可適用於滾筒化之聚酯薄膜等，將 此以一定速度下連續拉出之連續步驟。 (5) (5)1376302 光硬化性樹脂組成物所使用之光硬化性樹脂可使用具 有光硬化性’具有流動性或可塑性之液狀者光硬化性樹脂 照射紫外線後爲可硬化之樹脂，硬化前後之硬化收縮率於 一定範圍內除外無特別限定。亦即，本發明係於透明基材 薄膜上使光硬化性樹脂組成物進行流延，抑制硬化時產生 彎曲、變形’且去除後，爲製造平坦之滾筒薄膜，因此， 所使用之光硬化性樹脂之硬化前後體積收縮率務必使用3 〜10%之範圍者。當體積收縮率之値未達3%雖不致造成 困擾’不易產生自體之彎曲、變形，因此，於本發明進行 層合體頂端剪切等之必要性降低。反之，體積收縮率之値 超出10%則不僅層合體頂端，整體層合體均出現變形，而 無法穩定製造平坦之滾筒薄膜。另外，本發明所謂體積收 縮率係指可測定光硬化性樹脂之硬化前後密度求取之。體 積收縮率亦依其光硬化性樹脂之反應率而改變，本發明所 定義之體積收縮率係指反應率85%以上之値。 做爲理想之光硬化性樹脂組成物者以含有3重量％以 上具光硬化性之聚矽氧系樹脂者宜，較佳者爲含有5〜30 重量％之光硬化性樹脂。做爲具有光硬化性之聚矽氧系樹 脂者如：具有雙鍵等官能基之矽氧烷系樹脂例。其他成份 之例者如：（甲基）丙烯酸酯、多官能（甲基）丙烯酸酯 、環氧基等例。甚至在不阻礙光硬化性下，亦可於光硬化 性樹脂中添加塡料系添加物。 —般，光硬化性樹脂組成物中配合光聚合引發劑。又 ，本發明中以適當之溶媒做爲稀釋劑使用，亦可依光硬化 (6) 1376302 性樹脂組成物之黏度調整等使用之。惟，此時，考量溶媒 之揮發去除步驟，時間的耗費而降低生產效率，於硬化薄 膜內部存在殘留溶媒等，導致降低成形薄膜之特性，因此 ，所塗佈之光硬化性樹脂組成物中，溶媒含量止於5 %以 下者宜，實質上以未含溶媒者使用爲較佳者。亦即，本發 明中，透明被覆薄膜3之層合時，光硬化性樹脂層實質上 爲未含溶媒之狀態者宜。 φ 透明基材薄膜1上之光硬化性樹脂層厚度務必爲0.03 〜0.4mm之範圍。當光硬化性樹脂層之厚度未達〇.〇3mm則 塗層厚度均勻性恐不良，甚至於透明薄膜等剝離時易出現 透明薄膜之破損等。另外，光硬化性樹脂層厚度若超出 0.4mm則滾筒卷取時恐出現透明薄膜之破損等。 ' 光硬化性樹脂組成物爲液狀，故可以公知之塗佈裝置 進行塗佈，惟，於塗佈頭2產生硬化反應導致出現凝膠狀 之附著物之線條、異物之起因，因此，期待塗佈頭2未接 • 觸紫外線者宜。又，爲不使光硬化性樹脂進行硬化，此步 驟以5〜50 °C下進行爲宜。塗佈方式之例者如：影寫版塗 層、滾輥塗層、逆輥 '刮刀塗層、塑模塗層、凸緣塗層、 刮漿刀塗層、擠塑塗層、滑動塗層、線棒塗層、簾塗層、 擠壓塗層、轉子塗層，等公知之方法例。 透明基材薄膜1可單獨或合併聚酯、聚丙烯、聚乙烯 、乙酸酯、丙烯基、氟化乙烯、聚碳酸酯、聚醯胺、聚伸 芳基、玻璃紙、聚醚碼' 原菠烯樹脂系等薄膜使用之。其 中又以聚酯薄膜之耐熱性與透明性良好，且各特性均衡度 -10- (7) 1376302 亦佳爲特別理想者。 透明基材薄膜之光透過率以80%以上者宜，85%以上 爲更佳。透明基材薄膜之厚度並未特別限定，〜般以10〜 40〇em者宜，特別以50〜300// m爲較佳。表面形狀即使 具平坦性仍於表面施予凹凸加工亦可。惟’以不妨礙透明 性之表面形狀爲宜。透明基材薄膜之厚度未達lOem則用 於本發明之製造方法時，恐不耐其延伸力，另外，製造步 φ 驟中產生層合體之彎曲、變形增大之可能性提高。反之， 透明基材薄膜之厚度超出400/zm則降低透光率，而降低 賦予光硬化性樹脂之紫外線能量，導致光硬化性樹脂之硬 化不足。 本發明中於透明基材薄膜上使光硬化性樹脂組成物呈 ' 所定厚度流延後，於紫外線照射前，使透明被覆薄膜3層 合於光硬化性樹脂層上◊做爲可使用之透明被覆薄膜3者 以上述之透明基材薄膜1爲例，亦可使用相同者。透明被 φ 覆薄膜3與透明基材薄膜1爲具有相同特性者宜，由此觀點 視之’其光透過率爲80%以上，厚度爲10〜400a m之聚 酯薄膜爲理想例者。 由以上步驟’依透明基材薄膜1、光硬化性樹脂層及 透明被覆薄膜3之順序層合形成層合體，而，本發明持續 於光硬化性樹脂層經由透明基材薄膜等，由光硬化性樹脂 層之至少一面照射紫外線。此紫外線照射係使用紫外線燈 4產生紫外線’藉由照射其紫外線而達成。紫外線燈4中可 任意使用金屬鹵素燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、脈動型 -11 - (8) (8)1376302 氙燈、氙/水銀混合燈、低壓殺菌燈、無電極燈等。此等 紫外線燈4中以金屬鹵素燈或高壓水銀燈爲佳。照射條件 依各類燈種而異’一般照射曝光量以20〜10000 mj/cm2者 宜，更佳者爲100〜l〇〇〇〇mJ/cm2。 紫外線燈4中爲有利利用光能，以裝置橢圓形、拋物 線形’擴散形等反射板者宜。做爲冷卻之對策，更可裝置 熱剪切濾器。 又’紫外線之照射個處以具有加熱.冷卻裝置5者宜 。藉由此加熱.冷卻裝置5，使與由紫外線燈4產生之熱合 倂之層合體進行加熱•冷卻’經紫外線照射使光硬化性樹 脂控制硬化溫度（T )後，可抑制透明基材薄膜等之熱變 形。做爲冷卻方式有空冷方式 '水冷方式等公知方法。 藉由上述紫外線照射使光硬化性樹脂硬化之溫度（T )對於透明基材薄膜及透明被覆薄膜之玻璃轉移溫度（Tg )可滿足式：20°c S T各Tg所示條件者宜。 另外’透明基材薄膜及透明被覆薄膜藉由雙軸延伸法 所製造之薄膜時，藉由該紫外線照射使光硬化性樹脂硬化 之溫度（T)對於透明基材薄膜及透明被覆薄膜之玻璃轉 移溫度（Tg)及熔融溫度（Tm)以躅足式：Tg+5(TCST < T m所示條件者宜。 透明基材薄膜與透明被覆薄膜更爲有效抑制光硬化時 ’或硬化後之扭曲等熱變形，以相同基材者爲更佳。 紫外線照射光硬化性樹脂硬化之溫度（T )若未達2 0 °C則光硬化性樹谪之硬化速度將極爲緩慢，務必大量照射 -12- 1376302 Ο) 紫外線，導致阻礙生產而不理想。又，硬化溫度（T )於 Tg<T<Tg+50°C之範圍時，於透明基材薄膜及透明被覆 薄膜中產生熱收縮之同時增加與光硬化性樹脂之線膨脹係 數（CTE )之差，特別是寬度方向薄膜頂端明顯出現扭曲 而不理想。使硬化溫度（T)爲20°C STSTg之範圍後， 可抑制透明基材薄膜、透明被覆薄膜及光硬化性樹脂之線 膨脹係數（CTE)之差導致之扭曲、變形，提昇製造時之 I 製品收率。 又，透明基材薄膜及透明被覆薄膜藉由雙軸延伸法所 製造時，硬化溫度（T)於Tg+50ST<之範圍下，雖產 生透明基材薄膜及透明被覆薄膜之熱收縮，而，結果顯示 ' 與光硬化性樹脂變形量之差有縮小傾向，特別可抑制寬度 - 方向薄膜頂端之扭曲。另外，硬化溫度（T)爲透明基材 薄膜及透明被覆薄膜之熔融溫度（Tm)以上時，出現透 明基材薄膜或透明被覆薄膜之熔融破損，導致不易自體製 φ 造透明薄膜。 另外，紫外線硬化反應爲自由基反應，藉由氧而受阻 擾，因此，紫外線照射區域，亦即，藉由透明基材薄膜及 透明被覆薄膜挾住，於流延原料之液狀光硬化性樹脂表面 使氧濃度爲1%以下者宜，更佳者爲0.1%以下。使氧濃度 縮小時，務必採用於透明基材薄膜等表面中無空孔、氧透 光率小之薄膜。 如此’使光硬化性樹脂層硬化做成透明薄膜，而，本 發明’於原料中幾乎不含溶劑等揮發成份，形成同等塗佈 -13- 1376302 do) 厚度之透明薄膜厚度。其中，光硬化後之層合體頂端出現 形狀不均，且，藉由硬化收縮易於薄膜頂端產生扭曲。本 發明中，整合層合體頂端之形狀，爲去除彎曲部份藉由縱 剪切裝置6使層合體頂端剪切去除之。此現象，層合體寬 度越寬越容易出現，其層合體寬度爲50〜1500mm之範圍 。而，頂端部之剪切於整體寬度之1〜10%範圍下進行者 宜。本發明中剪切去除層合體頂端後，可穩定進行層合體 φ 兩面所具有透明基材薄膜及/或透明被覆薄膜之剝離，甚 至呈滾筒狀之卷取安定性亦爲良好，可順利進行透明薄膜 之連續製造。 做爲層合體頂端之樹脂切斷方法者有鋸盤法、輪廓機 (contour machine)法、抽摺法、旋盤法、氣體剪切法、 - 雷射剪切法、電漿剪切法、水噴射剪切法等公知方法》 剪切去除層合體頂端之層合體又於其雙面具有透明基 材薄膜與透明被覆薄膜，做爲透明薄膜10爲做成製品化， φ 其至少單面之薄膜（透明基材薄膜及/或透明被覆薄膜） 剝離者宜。此剝離具有卷取裝置機構，藉由具有控制剝離 時之速度及張力機構之裝置進行者宜。如：由透明薄膜所 剝離之透明基材薄膜1經由基材薄膜卷取部8可卷取滾筒狀 。又，由透明薄膜剝離之透明被覆薄膜3可經由被覆薄膜 卷取部7呈滾筒狀卷取。 本發明中，剝離透明基材薄膜等，使透明薄膜於卷取 前藉由光硬化性樹脂後，有利於所形成透明薄膜之物性、 品質之連續測定（物性評定）。藉由此，可連續進行由製 -14- (11) (11)1376302 造至製造品品質管理之步驟。做爲用於測定之物性評定裝 置9者有藉由紅外線吸光裝置之反應率測定裝置，藉由分 光光度計之光透過率測定裝置，藉由雷射反射之表面缺陷 檢出裝置，藉由雷射變位計之薄膜厚度檢出裝置等，針對 薄膜之物性及品質測定裝置，並未特別限定。其中進行透 明薄膜自體之光透過率測定等時，造成透明被覆薄膜等之 測定障礙，因此，使雙面透明基材薄膜及透明被覆薄膜藉 由該剝離步驟預先剝離者宜。 本發明中可由抽出上述透明基材薄膜等，以光硬化性 樹脂之塗佈爲始，至層合體頂端之剪切去除，更佳者至物 性評定連續進行之，最後可做成呈滾筒狀卷取、透明薄膜 製品。另外，本發明之特徵係可連續製造透明薄膜，而， 於任意位置暫時呈滾筒狀卷取，不致影響轉移另一步驟。 亦即，本發明中，如：由透明基材薄膜之抽出，製造硬化 光硬化性樹脂層之層合體後，亦可達成此暫時呈滾筒狀卷 取。此時’務必再度由滾筒抽出層合體，使層合體頂端剪 切去除後卷取之。本發明所使用之製造裝置的環境計置， 爲防止異物混入等，以清靜室環境者宜，一般只要考量裝 置循環之異物混入等排氣、吸氣環境即可。 [實施例] 以下’以實施例爲基準，進行本發明透明薄膜製造方 法之詳細說明，而，本發明並未受限於下記實施例。另外 ，實施例中之「份」代表「重量份」。 -15- (12) (12)1376302 (實施例1 ) 將三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（日本化藥公司製KS-TMPTA ) 80份，含甲基丙烯基之苯基倍半氧化矽低聚物20 份，經基環己基苯酮（chiba· speciality, chemicals公司 製IRGACURE 1 84 ) 2.5份均勻攪拌混合後，脫泡取得液狀 之光硬化性樹脂組成物。另外，測定光硬化性樹脂組成物 之硬化收縮率後，爲5 · 0 %。此光硬化性樹脂組成物做爲 原料投入塗佈裝置，將此以每分鐘lm卷成透明基材薄膜 (聚對苯二甲酸乙二醇酯雙軸延伸薄膜，寬600mm、厚度 lOOym、光透過率90%以上，Tg 80°C、Tm 250t )上以 旋轉塗層法進行塗佈。再將透明被覆薄膜（聚對苯二甲酸 乙二醇醋雙軸延伸薄膜，寬600mm、厚度100// m、光透過 率90%以上，Tg 80°C、Tra 25〇t )往塗佈樹脂進行壓延 後，維持於45°C之狀態下，以500 mJ/cm2之比例照射金屬 鹵素燈。硬化之透明薄膜厚度爲200/zm，寬爲500mm。 之後，由透明基材薄膜-透明薄膜一透明被覆薄膜之 3層薄膜透明薄膜頂端至25mm之範圍中出現硬化時之彎曲 ，藉由雷射剪切方式，去除產生彎曲部份。再使透明基材 薄膜及透明被覆薄膜藉由此等卷取裝置由透明薄膜剝離， 取得無彎曲之理想透明薄膜（光硬化性樹脂薄膜）。隨後 ，將所得透明薄膜於滾筒狀卷取前步驟時，以分光光度計 進行光透過率測定，測定後使透明薄膜呈滾筒狀卷取。所 得透明薄膜之評定結果其光透過率爲85%以上》又藉由紅. -16- (13) (13)1376302 外線吸光裝置所測定之反應率爲85%以上，藉由拉曼分光 測定之透明薄膜深度方向之反應率外覯結果亦爲8 5 %以上 取ί辱結果極爲均衡。 (實施例2 ) 使紫外線照射時之溫度保持於1 60 °C之狀態下，以金 屬鹵素燈照射紫外線之外，與實施例1同法，取得厚度200 # m ’寬度5 00mm之透明薄膜。此時，紫外線照射量做成 5 0 0 m<J/cm2。反應率測定爲85%以上，拉曼分光測定之光 硬化性樹脂薄膜深度方向之反應率外觀結果亦爲85%以上 ’可得均勻之透明薄膜。 (實施例3 ) 使紫外線照射時之溫度維持於95 °C之狀態下，以金屬 鹵素燈照射紫外線外，與實施例1同法，取得厚度2 0 0 # m ’寬度5 00mm之透明薄膜。此時紫外線照射量爲500 mJ/cm2。反應率測定爲85%以上，拉曼分光測定之光硬化 性樹脂薄膜深度方向之反應率外觀結果亦爲85%以上，可 得均勻之透明薄膜。 (彎曲之評定） 針對實施例1、實施例2及實施例3所製作之透明薄膜 (其中’使用未去除產生彎曲之部份，剝離透明基材薄膜 及透明被覆薄膜者），依以下判定觀察每5mm剪切寬方向 -17- (14) Ϊ376302 兩端，同時判定爲透明薄膜爲無扭曲變形之合格品。亦即 ，使剪切兩端之透明薄膜靜置於平滑面上’由側面觀察時 ，檢測判定平滑面無浮出現象之無扭曲變形（彎曲）之透 明薄膜的製品（合格品）爲可使用製品寬度之最大幅度。 結果如以下表1所示。 [表1 ] 實施例1 實施例2 實施例3 透明薄膜厚度（θ m) 200 200 200 樹脂塗工寬度（mm) 500 500 500 製品寬度（mm) 4 5.0 445 350 [產業上可利用性] 由以上說明，本發明透明薄膜之製造方法，不僅其所 製造之透明薄膜物性、品質均勻性均良好，剪切去除光硬 化性樹脂硬化收縮所產生薄瞋頂端之扭曲部份後可穩定進 行基材及被覆薄膜之剝離去除，甚至製品薄膜之卷取安定 性亦良好。因此，本發明使用光硬化性樹脂後可有效利用 於連續製造0.4 mm以下極薄之光學用薄膜等。又，本發明 所製造之透明薄膜多半被要求其透明性、表面硬度、耐熱 去' 平滑性之領域，具體而言用於透鏡、顯示基板、光導 波路、太陽電池基板、光碟等各種用途。 -18- (15) 1376302 【圖式簡單說明】 [圖1]圖1係代表用於本發明透明薄膜製造方法裝置之 一例槪略圖。 【主要元件符號說明】 1 :透明基材薄膜 2 :塗佈頭 φ 3 :透明被覆薄膜 4 :紫外線燈 5 :加熱•冷卻裝置 6 :縱剪切裝置 ' 7:被覆薄膜卷取部份 " 8:基材薄膜卷取部份 9 :物性評定裝置 1 〇 :透明薄膜 -19-

Claims (1)

1376302 ___ * /。1年7月1丄曰修(更)正替換頁 ·' 第095n0407號專利申請案中文申請專利範圍修正本 • 民國101年7月 12 曰修正 十、申請專利範圍 1. 一種透明薄膜之製造方法，其係將於透明基材薄 膜上使硬化則後之體積收縮率爲3〜10%之液狀光硬化性 .樹脂組成物流延至厚度0.03〜0.4mm之範圍下呈薄膜狀， 而形成光硬化性樹脂層’並於上面層合透明被覆薄膜後， 、 做成於光硬化性樹脂層的雙面上具有透明層之層合體後， J 於該層合體之至少一面藉由照射紫外線，使該光硬化性樹 脂層硬化後，藉由縱剪切機裝置剪切去除層合體頂端者， 其特徵爲該透明被覆薄膜係與該透明基材薄膜爲相同材料 ，藉由照射紫外線使光硬化性樹脂硬化之溫度（T )對於 透明基材薄膜及透明被覆薄膜之玻璃轉移溫度（Tg)爲滿 足式：2(TC S TS Tg所示之條件者。 .2. —種透明薄膜.之製造方法，其係將於透明基材薄 j 膜上使硬化前後之體積收縮率爲3〜10%之液狀光硬化性 樹脂組成物流延至厚度〇.〇3〜0.4mm之範圍下呈薄膜狀， 而形成光硬化性樹脂層，並於上面層合透明被覆薄膜後， 做成於光硬化性樹脂層的雙面上具有透明層之層合體後， 於該層合體之至少一面藉由照射紫外線，使該光硬化性樹 脂層硬化後，藉由縱剪切機裝置剪切去除層合體頂端者’ 其特徵爲該透明被覆薄膜係與該透明基材薄膜爲相同材料 者，且藉由雙軸延伸法所製造之薄膜者，其藉由照射紫外 線使光硬化性樹脂硬化之溫度（T )對於透明基材薄膜及 1376302 (0丨年？月/2_曰修(更)正替换頁 透明被覆薄膜之玻璃轉移溫度（Tg)及熔融溫度（Tm) 爲滿足式：Tg+50°CST<Tm所示之條件者。 3. 如申請專利範圍第1項或第2項之透明薄膜之製造 方法’其中更具有硬化該光硬化性樹脂層，藉由縱剪切機 裝置剪切去除該層合體頂端後，連續地剝離該透明基材薄 膜及該透明被覆薄膜之一方或雙方之剝離步驟。 4. 如申請專利範圍第3項之透明薄膜之製造方法，其 中該剝離步驟後，更具有連續進行所得透明薄膜之物性評 〕 定之步驟。 5. 如申請專利範圍第丨項或第2項之透明薄膜之製造 方法’其中該光硬化性樹脂組成物中含有3重量％以上之 具光硬化性的聚矽氧系樹脂。 -2-