TWI357432B - Antireflective coating composition with stain resi - Google Patents
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Description
1357432 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種抗反射塗料組成物,使用其之抗反 射膜及其製造方法。尤指一種具優異抗污性及良好抗刮性 5 之抗反射塗料組成物,使用其之抗反射膜及其製造方法。 【先前技術】 現代人會接觸到各式的顯示器,像是布朗管(如螢幕顯 示器中的陰極射線管(CRT,Cathode-Ray Tube)和電視中的彩色 10 顯像管(CPT,Color Picture Tube))、薄膜電晶體液晶顯示器 (TFT-LCD,Thin Film Transistor - Liquid Crystal Display)的偏光鏡、 電聚顯示器(PD P,Plasma Display Panel)的遽光鏡、電視螢幕投 影機(RPTS,Rear Projection TV Screen)的渡光鏡、行動電話的.液 晶顯示器、手錶、照片及相框。當暴露在光線下,如由顯 15 示器所產生的反射光時,會導致眼睛的疲勞或頭痛,而且 在這種會產生反射光顯示器下所形成之影像會不清楚,而 I 導致不好的對比。 為解決這些問題,一種生成抗反射塗層薄膜的研究正 在進行。本研究中,在載板上形成一種較載板低折射率的 20 薄膜可以得到較低的反射性。其較低折射率的薄膜可能含 有由具較低折射率的氟化鎂(MgF2)真空蒸鍍而形成的單層 結構,或是藉由壓合各種不同折射率薄膜所產生的多層結 構。然而,如真空蒸鍍的真空技術若是用來形成多層膜, 需要高的費用,所以不實際。 5 1357432 . 在此考量下,日本早斯公開專利號H5-105424中揭露一 種形成低折射率薄膜的方法,此法是用濕塗法(wet c〇ating) 如旋轉塗佈法(spinning)或含浸法(dipping),在载板上塗覆 一含有氟化鋇(MgF2)粒子的塗覆液而製成。然而’以此法 5 得到的薄膜具有非常低的機械強度以及與載板間的附著力 很差的缺點,所以它非常難被使用◊此外,這種薄膜具有 超過100°C的固化溫度,所以它不能被用在由聚對苯二甲 酸乙二醇酯(PET,polyethylene terephthalate)、聚碳酸酯(PC , i polycarbonate)或三醋酸纖維素(TAC , 所製成 10 的塑膠載板上。 同時,為解決使用上述含有氟化鎂粒子塗覆液方法的 缺點,有其他方法發表在曰本早期公開專利號 1997-208898,日本早期公開專利號1996-122501等》這些文 件揭露一種製造具有低反射功能和具抗污性功能之塗覆液 15 的方法’而這些功能是由於使用含有具較低的表面能之氟 矽烷(fluoric silane)和氟烷基化合物而來。然而,此含有 丨氟碎烧的低反射層容易因為摩擦而形成電荷聚集,或是因 在薄膜表面形成氟基雨導致的類似情形,所以灰塵容易附 者在此’而且一旦灰塵附者在此就不容易被清除。同時, 20 這種方法需要熱來固.化’所以它的缺點就是需要高的固化 溫度或長的固化時間。 .至於其他先前技術’日本早期公開專利號1994-65529 中發表一種使用摻雜錫之氧化銦(ΙΤ〇,Tin-doped indium oxide)、摻雜銻之二氧化錫(AT〇, 1357432 ; Antimony-d〇ped tin oxide)、摻雜銻之氧化辞(AZ〇,
Antimony-doped Zinc oxide)或其類似材料之具傳導性 之金屬氧化物薄膜的製造方法,以便解決由氣石夕烧之低折 射率薄膜所產生的問題。然而,這類具傳導性之金屬氧化 5物薄膜通常具有高的折射率,所以無法期待其具有優異的 抗反射效果。同時,它也無法具.有移除液態髒污來源(如指 紋)的能力。 如果能藉由使用一種含有折射率小於或等於14〇的金 • 屬氟化物粒子之塗覆液來達到好的機械強度、對載板有好 10的附著力及擁有低的固化時間,上述的問題可能可以被解 決。然而’具有折射率小於或等於⑽的金屬氣化物粒子通 常是使用濕塗法來塗覆,而非使用單獨蒸鍍的方式,所以 當形成一低折射率薄膜時,它的機械強度及對載板的附著 力是會下降的。同時,這樣的金屬氟化物粒子需要高的固 15化溫度。此外,當和其他需要加熱固化的材料(如矽烷)一起 使用時,該金屬粒子會有相容性的問題,那就是在形成薄 φ 膜時很容易沉澱下來或變的混濁,所以它是很難被使用的。 如上述所提,已有很多的努力用來製造一種具有解決 下列缺點之抗反射塗覆薄膜。其缺點包含有不好的機械強 20度,高固化溫度及低相容性。藉由使用具有折射率小於或 等於1.40的金屬氟化物粒子之組成物,可能可以隨著低的折 射率而降低由灰塵導致的髒污。本發明即是在這種環境下 被設計出來的。 1357432 【發明内容】 本發明是係為了解決上述問題。本發明之主要目的係 在提供一種抗反射塗料組成物,該組成物確定具有優異的 .機械強度、對載板有好的附著力、具有100°C或更低的固化 5 溫度及可以避免灰塵的附著;一種使用該組成物之抗反射 塗覆薄膜:及製造該薄膜之方法。 為完成上述目標,本發明提供一種抗反射塗料組成 物,該組成物包含:烧氧基石夕院(C11) (alkoxy silane)和氟 化烧氧基石夕烧(C12) (fluoric alkoxy silane)之水解縮合物 10 (Cl) (hydrolytic condensate); —具有折射率小於或等於 1.40 之粒子型態的金屬氟化物(C2);及一種能增進分散之液態 螯合劑(C3)。 根據本發明之抗反射塗料組成物,烷氧基矽烷(C11) 和氟化烷氧基矽烷(C12)之水解縮合物(C1)是係用來增進塗 15 覆薄膜的強度,及其在顯示器載板上的附著力。 .烧氧基石夕烧(C11)提供一種使用在顯示器最外層薄膜 丨之基本需求強度的成分。烷氧基矽烷(Cl 1)可以是採用3取 代基的梦化合物(3-functional silicon compound)或4取代基 的石夕化合物(4-functional siliconcompound)。同時,其炫氧 20 基矽烷(C11)較佳為至少一種化合物選自由:四乙氧基矽坑 (tetraethoxysilane)、四曱氧基矽烧(tetramethoxysilane)、甲 基三曱氧基石夕烧(methyltrimethoxysilane)、甲基三乙氧基石夕 烧(methyltriethoxysilane)、環氧乙基甲氧丙基三甲氧基石夕炫 (glycydoxy propyl trimethoxysilane)、及環氧乙基甲氧丙基 8 1357432 三乙氧基石夕炫(glycydoxy propyl ‘triethoxysilane)所組成的 群組。 氟化烷氧基矽烷(C12)是一種能降低塗覆薄膜之折射 率及減少表面張力的成分,以便能輕易的將液態髒污去 5 除。氟化烷氧基矽烷(C12)較佳為至少一種化合物選自由: 十三 氟辛基 三乙氧 基矽烷 (tridecafluorooctyltriethoxysilane)、十七氟癸基三曱.氧基石夕 院(heptadecafluorodecyltrimethoxysilane)、及十七氟癸基 三異丙氧基石夕烧(heptadecafluorodecyltriisopropoxysilane) 10 所組成的群組。
烷氧基矽烷(C11)和氟化烷氧基矽烷(C12)之水解縮合 物(C1)最常使用溶膠-凝膠法(sol-gel)來製備。同時,為了維 持顯示器之塗覆薄膜適當的硬度和抗反射性效杲,烷氧基 矽烷(C11)和氟化烷氧基矽烷(C12)較佳是以30:70到99:1的 15 重量比例混合及反應。 L 溶膠-凝膠法可能是這個領域最常用的方法。其溶膠-凝膠反應是在0°C到150°C的反應溫度持續1小時到70小時 的反應時間下完成的,其包含烷氧基矽烷、氟化烷氧基矽 炫、催化劑、水和有機溶劑。 20 在溶膠-凝膠反應中,催化劑的作用是用來控制溶膠- 凝膠反應的時間。酸是較佳的催化劑,如硝酸、鹽酸及醋 酸,更佳的酸則是額外含有鹽類,如錯和銦之鹽酸鹽、硝 酸鹽、硫酸鹽或醋酸鹽。同時,當烷氧基矽烷和氟化烷氧 9 1357432 基石夕炫總和為1 〇〇重量份時,催化劑的含量較佳是〇 〇 1至4〇 重量份。 另外,在溶膠-凝膠反應令.,水是用來水解和縮合的成 分。當烧氧基矽烷和氟化烷氧基矽烷總和為100重量份時, 5 水的含量較佳是0.01至100重量份。 另外’在溶膠-凝膠反應令,有機溶劑是用來在水解和 縮合過程中控制分子量的成分。有機溶劑較佳為醇類、赛 璐素(cellosolves)或至少包含兩種選自由上述溶劑種類所 丨組成的混合溶劑。同時’當烷氧基矽烷和氟化烷氧基矽烷 10 總和為100重量份時,有機溶劑的含量較佳為〇.〇1至5〇〇重量 份。 根據本發明’抗反射塗料組成物中,金屬氟化物(C2) 是粒子型態的粉狀物’其平均粒徑為1〇到1〇〇11111。金屬氟化 物(C2)較佳為至少一種化合物選自由:氟化鈉(NaF)、氟化 15 链(LiF)、氟化鋁(A1F3)、錐冰晶石(NasAl3F14)、六氟鋁酸鈉 (Na3A1F6)、氟化鎂(MgF2)及氟化釔(YF3)所組成的群組。 丨 以100重量份之烷氧基矽烷(C11)和氟化烷氧基矽烷 (12)的水解縮合物(C1)為基準時,金屬氟化物(C2)的含量較 佳為0.5至30重量份。也就是說,金屬氟化物的含量較佳為 2〇 〇. 5重1伤或以上,以能提供塗覆薄膜一低的反射特性,以 及30重量份或更少,以用來維持塗覆薄膜的強度及對載板 的附著力。 根據本發明,在抗反射塗料組成物中,促進分散之螯 合劑(C3)是一種用來改善金屬氟化物(C2)與含有烷氧基矽 1357432 烷(C11)和氟化烷氧基矽烷(12)的水解縮合物(Cl)間所產生 相容性問題的成分,用來避免在形成塗覆薄膜時變成混濁 的問題。促進分散之螯合劑(C3)較佳為至少一種化合物選 自由:Mg(CF3COO)2、Na(CF3COO)、K(CF3COO)、 5 Ca(CF3COO)2 、 Mg(CF2COCHCOCF3)2 及
Na(CF2COCHCOCF3)所組成的群組。 以100重量份之烷氧基矽烷(Cl 1)和氟化烷氧基矽烷 (12)的水解縮合物(C1)為基準,促進分散之螯合劑(C3)的含 量較佳是0.1至30重量份。也就是說,當促進分散之螯合劑 10 (C3)的含量為0.1重量份或以上時,能防止金屬氟化物粒子 因容易結塊而導致塗覆薄膜的混濁,同時,含有30重量份 或更少時則可以維持塗覆薄膜的強度及對載板的附著力.》 根據本發明,該抗反射塗料組成物可更進一步的含有 有機溶劑(C4)。 15 當在選擇所使用的有機溶劑(C4)時,可能要考慮其乾 燥溫度及固化時間,且較佳採用單一穠或至少兩種混合溶 劑包括至少一選自由:醇類,賽璐素及酮類所組成之群組。 同時,有機溶劑(C4)更佳為至少一種溶劑選自由:甲醇 (methanol)、乙醇(ethanol)、丙醇(propanol)、丁醇(butanol)、 20 乙基溶纖維(ethyl cellosolve)、丁基溶纖維(butyl cellosolve)、己基溶纖維(hexyl cellosolve)、甲基溶纖維 (methyl cellosolve)、異丙基溶纖維(isopropoxy cellosolve)、 丙 _ (acetone)、曱乙酮(methylethylketone)、二丙醇酮 11 1357432 (diacetone alcohol)、N-曱基吡咯酮(n-methylpyrrolidinon) 以及甲基異丁基酮(methyl isobutylketone)所組成的群组。 有機溶劑(C4)可被用.來當成稀釋用的溶劑,用來確認 該抗反射塗料組成物的固體含量為〇.1到3〇重量百分比 5 (wt.%) ° 另一方面而言’本發明亦提供一抗反射塗覆薄膜,該 薄膜是利用上述的抗反射塗料組成物所製成。 那就是說,本發明中的抗反射塗料組成物可以被當成 | 一種反射塗覆層的材料,其中可能更進一步的包含用來製 10 .造多層結構的硬式塗覆層或高折射率塗覆層。 在此領域中,顯示器的載板通常是使用玻璃載板、塑 膠載板、塑膠薄膜、或其類似的材料,而且該組成物之塗 佈方式可以根據各種不同的載板而自由的被選擇。另外, 硬式塗覆層可以採用以紫外線固化(UV-curable)的樹脂、或 15 分散有無機奈米材料的紫外線固化(UV-curable)樹脂以改 善其耐磨性》 本發明中,抗反射塗覆薄膜的厚度是根據所使用顯示 器的載板和其他材料之折射率、及其入射光波長來決定 的,但並不以此為限。不過,抗反射塗覆層的教佳厚度是 20 50到 200nm。 以塗覆在顯示器載板上的硬式塗覆層和抗反射塗覆層 為例,假設硬式塗覆層的折射率是151,抗反射塗覆層的折 射率疋1.3 8,而入射光波長為55〇nm ,則根據該光學設計, 該抗反射塗覆層的厚度以1〇〇ηιη為佳。另外,一般而言,抗 12 1357432 反射’塗覆層的折射率較低的話是比較好的。特別是,若抗 反射塗覆層和一較低層間的折射率差別大的時候,其抗反 射的效果就會增加。 另一方面而言,本發明亦提供一種製造抗反射塗覆薄 5 膜的方法’該方法包含(si)塗覆上述之抗反射塗料組成物於 顯不器載板上,得到50到200ηπι之乾燥後的厚度;(S2)乾燥 由步驟(S1)所製備已塗覆組成物後的載板’在5。(:到150°C溫 度條件下反應0.1分鐘到3〇分鐘;以及(S3)固化由步驟(S2) 所製備之已乾燥的已塗覆顯示器載板,在一般溫度下反應 10 至少12小時。 根據本發明所製備之抗反射塗覆薄膜的方法將在下文 中詳細地被描述。 【實施方式】 15 下文中,本發明中較佳的範例將以實施例為基礎詳細 陳述之。然而’本發明之實施例可能以各種方式修飾,而 且本發明之範圍不應被視為以此實施例為限。本發明之實 施例僅是對本發明提供解釋而非針對此領域中已存在之技 術。 表1中顯示有實施例1和2及比較例1到3所製備而得的 成分及含量的組成物,且塗覆薄膜即是使用該組成物來製 備的。 實施例1 13 1357432 含有70克四乙氧基矽烷、30克十七氟癸基三曱氧基矽 烷、10克水、10克鹽酸及200克乙醇之混合物在78°C下進行 .溶膠-凝膠反應3小時。反應後,該混合物冷卻至常溫,加 入150克10%氤化鎂(MgF2)分散劑(Nissan MFS-10P)和15克 5 三氟醋酸鎂,然後以100克乙基溶纖維及100克乙醇稀釋之。 如上所製備的抗反射塗料組成物以滚軸塗佈法塗佈於 一硬式塗覆薄膜上,至具有100nm的乾燥後之厚度。該塗覆 薄膜在90°C烘箱内乾燥5分鐘,然後在常溫下固化24小時。 實施例2 10 含有85克四乙氧基矽烷、15克十七氟癸基三曱氧基矽 烷、10克水、10克鹽酸及200克乙醇之混合物在78°C下進行 溶膠-凝膠反應3小時。在溶膠-凝膠反應後,該混合物冷卻 至常溫,加入250克10%氟化鎂分散劑(Nissan MFS-10P)和 25克三氟醋酸鎂,然後以100克乙基溶纖維及100克乙醇稀 15 釋之。 如上所製備的抗反射塗料組成物以與實施例1相同的 方法塗覆與固化。 比較例1 20 除了使用100克10%氟化鎂分散劑(Nissan MFS-10P)及 不使用作為促進分散螯合劑的三氟醋酸鎂之外,使用與實 施例1相同方法製備之抗反射塗料組成物塗覆製備一抗反 射塗料膜層。 比較例2 14 1357432 除了不加入十七氟癸基三甲氧基矽烷,且在溶膠-凝膠 反應中使用100克四乙氧基矽烷之外,使用與實施例1相同 方法製備之抗反射塗料組成物塗覆製備一抗反射塗料膜 層。 5 比較例3 除了不使用作為金屬氟化物之氟化鎂(其折射率為1.40 或更小)及作為促進分散螯合劑之三氟醋酸鎂之外,使用同 實施例1相同方法製備之抗反射塗料組成物塗覆製備一抗 反射塗料膜層。 ίο 表1 含量(重量比例) 實施例 比較例 1 2 1 2 3 縮合 四乙氧基矽烷 70 85 70 100 70 十七氟癸基三甲氧基矽烷 30 15 30 - 30 水 10 10 10 10 10 鹽酸 10 10 10 10 10 乙醇 200 200 200 200 200 10%氟化鎂(MgF2)分散劑 150 250 100 150 三氟醋酸鎂 15 25 15 - 乙基溶纖維 100 100 100 100 100 乙醇 100 100 100 100 100 實驗例 對實施例1至2及比較例1至3製造的塗覆薄膜而言,分 別測量其對載板的附著力、筆潰去除力、髒污去除力、抗 15 1357432 刮性、反射率及光澤,以分別評估每一塗覆薄膜之髒污去 移除的容易度及光學特徵。 f驗例1 :對載;te的斛签六 以lmm間隔的1〇條水平及垂直線在一個檢查合格的樣 5 板中行成切割部分,該樣板是根據JIS K5400之塗佈及固化 方式所得的塗覆膜,之後,一賽璐玢(cell〇phane)附著帶 (Cellotape,NichibanCo.,Ltd·)強力附著於其上,並緊抓該 附著帶一端且沿其表面的垂直方向強拉。在此之後,肉眼 可觀察到該硬式塗覆層的剝落,當該硬式塗覆層未落時評 10 估為’,好,,,而剝落時則為,,差”。 f驗你12:筆清去除六 筆潰去除力乃是當用油性筆在該塗覆薄膜上寫字,再 以棉料擦栻時以肉眼觀察之,當字可以容易擦去時評估為” 好”’而不容易擦去時則評估為,,差”。 15 UtM3_:灰鹿栽吟六 在以棉料交替地磨擦尺寸長寬為10x10公分的塗覆薄 > 膜2〇_人之後,粉末以1分鐘間隔、30公分距離灑佈5次。以2 大氣壓的空氣吹向上面堆積有粉末的塗覆表面10秒,而且 隨之以肉眼觀察殘餘粉末,當殘餘粉末小時分類為,,好”, 20而殘餘粉末大時則為,,差”。 該塗覆溥臈以具有250克鋼絲絨(#〇〇〇〇)的磨石磨擦, 並且隨之觀察以確定是否造成刮傷。結果若抗刮性強則分 16 1357432 類為”好 差’,。 若抗到性普通則為,,普通”,而若㈣性弱㈣ 實驗例5 : JS _率 該塗覆薄膜的背侧經處理成黑色,而隨後其反射率以 分光光譜儀(N&K製)測量,所得之最小反射率如後表2所示 以評估反射性質。 實驗例6:来滏(蒋疮} 使用測霾計(hazemeter)測量該塗覆薄膜的霧度而其 其結果如後表2所示。 ' 10 表2 對載板的 附著力 筆潰去 除力 抗刮性 灰塵移 除力 最小反射 率(%) 霧度 (%) 眚称1你_1 1 好 好 好 好 2.0 0.3 ^ 17 4 2 好 好 好 好 1.8 0.3 1 好 好 差 好 婦 3.0 比較例 2 好 差 好 好 1.5 3 好 好 好 差 2.2 ] 0.3 如自表2所見,應了解依實施例製備的塗覆薄膜使 用同時含有金屬氟化物及促進分散螯合劑的組成物,而且 與比較例1至3相比’他們的對載板的附著力、抗刮性、灰 15 塵移除力和反射率極佳。亦應了解比較例1之不含促進分散 螯合劑之組成物會變霧;而比較例2之不含氟矽烷之塗覆薄 膜會變霧’並且顯示劣化的筆潰去除力。而且應了解比較 17 1357432 例3之未使用低折射率填充料之塗覆薄膜,會因氟矽氧烷導 致的靜電力而展現弱的灰塵移除力。 本發明已被詳細陳述。然而,惟應了解本發明之實施 方案其為用以閣明目的之用,已熟習技術之士可在不違背 5 本發明專利權之原領域範圍及其精神之形況下進行進行各 種不同修飾、增加以及取代。 產業利用性 ® 如上所述’依本發明之抗反射塗枓組成物具有優異的 10 抗反射性質’而且也具有優異的抗刮性以及對液體髒污材 料如指紋的去除力。尤其是,根據本發明之抗反射塗料組 成物’不論顯示器载板的種類或含有額外的塗覆層時,皆 可以很有用的被應用在顯示器表面的最外層。 15 【圖式簡單說明】 無 【主要元件符號說明】 無 18
Claims (1)
1357432 |〇啤|〇月千曰修正本第96125031號’ 100年丨〇月修正頁 十、申請專利範圍: 1. 一種抗反射塗料組成物,包括: 一烷氧基矽烷(C11)及氟化烷氧基矽烷(C12)之水解縮 合物(Cl) (hydrolytic condensate); 5 一具有折射率小於或等於1.40粒子型態之金屬氟化物 (C2);以及 一增進分散之液態螯合劑(C3)。 2. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射塗料組成物, 其中’該組成物包括,以1〇〇重量份之該水解縮合物(C1) 10 為基準: 0.5至30重量份之該金屬氟化物(C2);以及 0.1至30重量份之該促進分散之螯合劑(C3)。 3. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射塗料組成物, 其中,於該水解縮合物(C1)中,該烷氧基矽烷(C11)及該氟 15 化烷氧基矽烷(C12)水解縮合之重量比例為30:70至99:1。 4. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射塗料組成物, 其中,該烷氧基矽烷(C11)為至少一者選自由:四乙氧基 妙烧 (tetraethoxy silane)、 四甲氧基碎烧 (tetramethoxysilane)、 曱基三曱氧基石夕烧 2〇 (methyltrimethoxysilane) '甲基三乙氧基石夕烧 (methyltriethoxysilane)、環氧乙基甲氧丙基三曱 氧基石夕烧(glycydoxy propyl trimethoxysilane)、及 環氧乙基曱氧丙基三乙氧基矽烷(giycydoxy propyl triethoxysilane)所組成之群組’以及 S 19 1357432 其中,該氟化烷氧基矽烷(C12)為至少一者係選自由: 十三 氟辛基 三乙氧 基矽烷 (tridecafluorooctyltriethoxysilane)、十七氟癸基三 甲氧 基矽烷 5 (heptadecafluorodecyltrimethoxysilane)、及十七氟 癸 基三異 丙氧基 石夕烧 (heptadecafluorodecyltriisopropoxysilane)所組成之 群組。 5,如申請專利範圍第1項所述之抗反射塗料組成物, 10 其中,該金屬氟化物(C2)之平均粒徑為10至l〇〇nm。 6. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射塗料組成物, 其中,該金屬氟化物(C2)為至少一者選自由:氟化鈉(NaF)、 氟化鋰(LiF)、氟化鋁(A1F3)、錐冰晶石(Na5Al3Fi4)、六 氟鋁酸鈉(Na3AlF6)、氟化鎂(MgF2)及氟化釔(YF3) 15 所組成之群組。 7. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射塗料組成物, 其中,該促進分散的螯合劑(C3)為至少一者選自由: Mg(CF3COO)2、Na(CF3COO)、K(CF3COO)、Ca(CF3COO)2、 Mg(CF3COCHCOCF3)2及 Na(CF3COCHCOCF3)所組成之群組。 20 8.如申請專利範圍第2項所述之抗反射塗料組成物, 更包括: 一有機溶劑(C4),用來使該抗反射塗料組成物之固體 含量為0.1至30重量百分比。 9.如申請專利範圍第8項所述之抗反射塗料組成物, 1357432 其中’财機溶劑(C4)為一單一溶劑,&含有單一種或至 少兩種混合溶劑係選自由:醇頸、赛路素㈣及綱 類所組成之群組》 10. 如申請專利範圍第9項所述之抗反射塗料組成物, 5 其中,該醇類選為該有機溶劑(C4)時,該醇類為至少 一者選自由:曱醇、乙醇、丙醇、及丁醇所組成之群組, 其中,該赛路素選為該有機溶劑(C4)時,該赛游素為 至少一者選自由:乙基溶纖維(ethyl ceU〇s〇We)、丁基溶 纖維(butyl eellosoive)、己基溶纖維(hexyl 10 cellosolve)、甲基溶纖維(methyl ceU〇s〇ive)及異丙基 心纖維(isopropoxy cellosolve)所組成之群組,以及 其中,該酮類選為該有機溶劑(C4)時,該酮類為至少 一者選自由:丙酮、甲乙酮、二丙酮醇、N_甲基吡咯酮 (n-methylpyrrolidinon)及甲基異 丁基酮(methyl 15 isobutylketone)所組成之群組。 11. 一種抗反射塗覆層薄膜,該薄膜係使用一種由申請 專利範圍第1項至第10項中任何一項所定義之抗反射塗料 組成物所製造而成。 12. —種製造抗反射塗覆層薄膜之方法,包括: 2〇 (S1)塗覆一種由申請專利範圍第1項至第10項中任何 一項所定義之抗反射塗料組成物於顯示器載板上,並得到 50至200nm之乾燥後之厚度; (S2)乾燥由步驟(S1)所製備已塗覆組成物後之載板,於 5至150°C溫度條件下反應0.1至30分鐘;以及 S 21 1357432 (S3)固化由步驟(S2)所製備之已乾燥塗覆之顯示器載 板,在常溫下反應至少12小時。 S 22
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060064409A KR100981575B1 (ko) | 2006-07-10 | 2006-07-10 | 오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200811257A TW200811257A (en) | 2008-03-01 |
TWI357432B true TWI357432B (en) | 2012-02-01 |
Family
ID=38923405
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW096125031A TWI357432B (en) | 2006-07-10 | 2007-07-10 | Antireflective coating composition with stain resi |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8293000B2 (zh) |
EP (1) | EP2038355B1 (zh) |
JP (1) | JP5123299B2 (zh) |
KR (1) | KR100981575B1 (zh) |
CN (1) | CN101484543B (zh) |
PL (1) | PL2038355T3 (zh) |
TW (1) | TWI357432B (zh) |
WO (1) | WO2008007875A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102016208586A1 (de) | 2015-05-19 | 2016-11-24 | Eternal Materials Co., Ltd. | Beschichtungszusammensetzung zur Erhöhung der Lichtdurchlässigkeit und daraus hergestellte Beschichtung |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100981018B1 (ko) * | 2006-07-10 | 2010-09-07 | 주식회사 엘지화학 | Uv 경화형의 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물 |
KR100959518B1 (ko) * | 2008-02-12 | 2010-05-27 | 주식회사 하이코 | 반사방지용 코팅 조성물 및 이의 제조방법, 그 반사방지용코팅 조성물로 이루어진 반사방지막 |
KR101041240B1 (ko) * | 2009-02-27 | 2011-06-14 | 주식회사 엘지화학 | 내마모성 및 내오염성이 우수한 코팅 조성물 및 코팅 필름 |
US9353268B2 (en) | 2009-04-30 | 2016-05-31 | Enki Technology, Inc. | Anti-reflective and anti-soiling coatings for self-cleaning properties |
US9376593B2 (en) | 2009-04-30 | 2016-06-28 | Enki Technology, Inc. | Multi-layer coatings |
US8864897B2 (en) * | 2009-04-30 | 2014-10-21 | Enki Technology, Inc. | Anti-reflective and anti-soiling coatings with self-cleaning properties |
US20110212564A1 (en) | 2010-02-05 | 2011-09-01 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for producing photovoltaic cell |
WO2015166863A1 (ja) * | 2014-04-28 | 2015-11-05 | 旭硝子株式会社 | 液状組成物およびガラス物品 |
US9376589B2 (en) | 2014-07-14 | 2016-06-28 | Enki Technology, Inc. | High gain durable anti-reflective coating with oblate voids |
US9598586B2 (en) | 2014-07-14 | 2017-03-21 | Enki Technology, Inc. | Coating materials and methods for enhanced reliability |
US9382449B2 (en) | 2014-09-19 | 2016-07-05 | Enki Technology, Inc. | Optical enhancing durable anti-reflective coating |
WO2016052495A1 (ja) * | 2014-10-03 | 2016-04-07 | 住友化学株式会社 | シリコーン樹脂、uv-led用封止材組成物、硬化物及びuv-led用封止材 |
CN104448999A (zh) * | 2014-11-18 | 2015-03-25 | 厦门建霖工业有限公司 | 一种耐指纹表面处理剂及其使用方法 |
TWI580739B (zh) * | 2015-12-29 | 2017-05-01 | 奇美實業股份有限公司 | 抗反射塗料組成物及抗反射膜 |
CN111033319B (zh) * | 2017-09-29 | 2022-03-04 | 日本电产株式会社 | 透镜、透镜单元和摄像装置 |
CN108016101A (zh) * | 2017-12-15 | 2018-05-11 | 东莞市达瑞电子股份有限公司 | 一种多层复合高透光率保护膜及其制作方法 |
KR20200090586A (ko) * | 2019-01-21 | 2020-07-29 | 삼성전자주식회사 | 코팅액, 필름, 박막 트랜지스터 및 전자 장치 |
KR20240013768A (ko) * | 2021-05-26 | 2024-01-30 | 스텔라 케미파 코포레이션 | 불화물 입자의 분산액, 광학막 형성용 조성물 및 광학막 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2751478B2 (ja) * | 1989-10-30 | 1998-05-18 | 東レ株式会社 | 低屈折率ハードコート膜 |
JPH04198379A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-17 | Sumitomo Cement Co Ltd | 塗料とその製造方法 |
JPH04202366A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-23 | Sumitomo Cement Co Ltd | 低屈折率膜 |
JPH04279675A (ja) * | 1990-12-28 | 1992-10-05 | Sumitomo Cement Co Ltd | 反射防止塗料 |
JPH05105424A (ja) | 1991-10-14 | 1993-04-27 | Toshiba Corp | 反射防止膜の製造方法 |
JPH0625599A (ja) * | 1992-07-10 | 1994-02-01 | Asahi Optical Co Ltd | スピンコート可能な反射防止組成物 |
JPH0665529A (ja) | 1992-08-21 | 1994-03-08 | Sekisui Chem Co Ltd | 導電性塗料組成物 |
JP3694900B2 (ja) * | 1993-05-31 | 2005-09-14 | 東ソー株式会社 | シリカ系被膜の製造方法 |
JP3635692B2 (ja) | 1994-10-20 | 2005-04-06 | 日産化学工業株式会社 | 低屈折率反射防止膜 |
TW376408B (en) | 1995-12-01 | 1999-12-11 | Nissan Chemical Ind Ltd | Coating film having water repellency and low refractive index |
JP4032185B2 (ja) * | 1995-12-01 | 2008-01-16 | 日産化学工業株式会社 | 低屈折率及び撥水性を有する被膜 |
US20050109238A1 (en) | 2001-10-25 | 2005-05-26 | Takeyuki Yamaki | Coating material composition and article having coating film formed therewith |
AU2003231551A1 (en) | 2002-05-01 | 2003-11-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | High refraction film, its coating composition, and an anti-reflection film, a polarizing plate and an image display device including said film |
US8021758B2 (en) * | 2002-12-23 | 2011-09-20 | Applied Thin Films, Inc. | Aluminum phosphate compounds, coatings, related composites and applications |
KR100522832B1 (ko) * | 2003-03-31 | 2005-10-19 | 주식회사 엘지화학 | 내오염성과 저반사성을 갖는 코팅액 조성물 및 그의제조방법 |
WO2005059050A1 (ja) * | 2003-12-18 | 2005-06-30 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 低屈折率及び撥水性を有する被膜 |
TWI404776B (zh) * | 2003-12-19 | 2013-08-11 | Nissan Chemical Ind Ltd | A film having a low refractive index and a large contact angle with respect to water |
WO2005101063A1 (en) | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Lg Chem, Ltd. | Anti-reflective coating composition and coating film with excellent stain resistance |
JP4484612B2 (ja) * | 2004-07-20 | 2010-06-16 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、コーティング組成物、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置 |
JP5029818B2 (ja) * | 2007-04-24 | 2012-09-19 | 日産化学工業株式会社 | コーティング組成物及び光学部材 |
-
2006
- 2006-07-10 KR KR1020060064409A patent/KR100981575B1/ko active IP Right Grant
-
2007
- 2007-07-06 JP JP2009519370A patent/JP5123299B2/ja active Active
- 2007-07-06 CN CN2007800257216A patent/CN101484543B/zh active Active
- 2007-07-06 US US12/309,188 patent/US8293000B2/en active Active
- 2007-07-06 EP EP07768632A patent/EP2038355B1/en active Active
- 2007-07-06 PL PL07768632T patent/PL2038355T3/pl unknown
- 2007-07-06 WO PCT/KR2007/003287 patent/WO2008007875A1/en active Application Filing
- 2007-07-10 TW TW096125031A patent/TWI357432B/zh active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102016208586A1 (de) | 2015-05-19 | 2016-11-24 | Eternal Materials Co., Ltd. | Beschichtungszusammensetzung zur Erhöhung der Lichtdurchlässigkeit und daraus hergestellte Beschichtung |
US11046867B2 (en) | 2015-05-19 | 2021-06-29 | Eternal Materials Co., Ltd. | Coating composition for enhancing light transmittance and coating layer formed therefrom |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090285993A1 (en) | 2009-11-19 |
CN101484543B (zh) | 2012-04-04 |
WO2008007875A1 (en) | 2008-01-17 |
PL2038355T3 (pl) | 2013-02-28 |
KR100981575B1 (ko) | 2010-09-10 |
CN101484543A (zh) | 2009-07-15 |
EP2038355A1 (en) | 2009-03-25 |
EP2038355A4 (en) | 2011-09-14 |
JP2009542891A (ja) | 2009-12-03 |
EP2038355B1 (en) | 2012-09-19 |
TW200811257A (en) | 2008-03-01 |
JP5123299B2 (ja) | 2013-01-23 |
US8293000B2 (en) | 2012-10-23 |
KR20080005723A (ko) | 2008-01-15 |
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