KR20080005723A - 오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물 - Google Patents

오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드 및 불소계 상용화제를 포함하는 오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물 및 이를 적용한 코팅 필름에 관한 것으로서, 상기 조성물은 (a) 알콕시실란과 불소계 알콕시실란의 가수 축합물, (b) 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드 및 (c) 불소계 상용화제를 포함한다.
본 발명의 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물이 적용된 코팅 필름은 굴절율, 표면에너지, 막의 강도 등을 제어하여 반사 방지 특성이 우수하고, 지문 등의 액성 오염물질에 대한 지움성 및 내스크래치 특성이 우수하며, 특히 먼지 제거성이 우수하여 디스플레이 기재의 종류 및 추가 코팅층의 유무와 상관없이 디스플레이 전면 최외곽에 유용하게 적용될 수 있다.
반사 방지, 메탈 플로라이드, 알콕시실란

Description

오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물{ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITION WITH EXCELLENT STAIN RESISTANCE}
[산업상 이용 분야]
본 발명은 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 내스크래치성과 오염제거 특성이 우수한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물에 관한 것이다.
[종래 기술]
현대인은 모니터용 CRT, TV용 CPT와 같은 브라운관, TFT-LCD 편광판, PDP 필터, RPTS 필터, 및 휴대폰 액정으로부터 시계, 사진, 액자 등에 이르기까지 다양한 디스플레이들을 접하고 있다.  이러한 디스플레이가 자연광 등의 빛에 노출되는 경우 반사광에 의해 눈에 피로감을 느끼거나 두통을 유발하게 되며, 디스플레이 내부에서 만들어지는 이미지가 눈에 선명하게 맺히지 못하여 컨트라스트(contrast)의 저하가 발생한다.
이를 해결하기 위하여, 기재 상에 기재보다 굴절율이 낮은 피막을 형성하여 반사율이 저하되는 것을 이용하는 반사 방지피막 형성에 대한 연구가 이루어지고 있다.  이러한 저굴절 피막은 안정적인 저굴절율 물질인 MgF2를 진공 증착등의 수단으로 단층 또는 굴절율이 다른 막을 교대로 적층하여 다층막을 형성하는 것으로 형성되어 있으나, 이러한 진공 증착 등의 진공기술은 제조 비용이 고가인 문제가 있어 실용적이지 못하다.
이러한 문제를 해결하기 위하여 일본공개특허 평5-105424호에서는 MgF2 미립자를 함유하는 도포액을 스핀(spin), 딥(dip) 등의 습식코팅 방식으로 기재 상에 코팅하여 저굴절막을 형성하는 방법을 제안하였다.
그러나 상기 방법에 의해 얻어지는 피막은 기계적 강도 및 기재와의 밀착력이 크게 떨어지는 단점이 있어 사용하기가 어려우며, 또한 경화 온도가 100도 이상으로 PET, PC 및 TAC 등의 플라스틱 기재에는 사용할 수 없는 문제가 있다.
상기와 같은 MgF2 미립자를 함유하는 도포액의 문제점을 해결하기 위하여 일본공개특허 제1997-208898호, 및 일본공개특허 제1996-122501호는 불소계 실란과 불소계 알킬기를 갖는 화합물을 이용하여 저반사 기능 및 표면에너지 저하에 따른 내오염 기능을 갖는 코팅액의 제조에 관하여 개시하고 있다.
그러나 이러한 불소계 실란을 함유하는 저반사층은 막의 표면에 위치한 불소기에 의하여 마찰 등의 대전으로 인해 쉽게 전하를 띠게 되어 먼지가 잘 붙고, 한번 붙은 먼지는 쉽게 떨어지지 않는 단점을 가지고 있으며, 열경화 방식으로 경화 온도가 높거나 경화시간이 긴 문제점이 있다.
일본공개특허 제1994-65529호는 상기 불소계 실란을 함유하는 저굴절 피막의 문제점을 해결하기 위해, 주석이 도핑된 산화 인듐(Tin-doped indium oxide, ITO), 안티몬이 도핑된 산화 주석(Antimony-doped tin oxide, ATO), 및 안티몬이 도핑된 산화 아연(Antimony-doped zinc oxide, AZO) 등의 전도성 산화금속 필러를 이용하는 방법을 개시하고 있다.
그러나 이러한 전도성 산화금속을 이용할 경우 대체적으로 굴절율이 높기 때문에 우수한 반사 방지 효과를 기대할 수 없고, 지문 등의 액성 오염원에 대한 제거 능력이 구현되지 않는 문제점이 있다.
상기와 같은 문제점들은 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드 미립자를 함유한 도포액을 이용하여 기계적 강도 및 기재 부착성 그리고, 낮은 경화 온도를 구현할 수 있다면 해결 될 수 있다.
그러나, 일반적으로 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드 미립자는 단독 증착방식이 아닌 습식방식으로 코팅되어 저굴절막을 형성할 때 기계적 강도 및 기재 부착성이 떨어지며, 그 경화 온도도 높아야 하는 문제점이 있다.
또한, 실란 등의 다른 열경화 재료와 함께 사용할 때는 그 상용성이 문제가 되어 쉽게 가라앉거나 막 형성시 뿌옇게 되는 문제들이 있어 쉽게 사용하기가 어렵다.
상기와 같은 문제점을 해소하기 위하여, 본 발명의 목적은 기계적 강도가 우수하고, 기재와의 밀착력이 높을 뿐만 아니라, 경화온도가 100 ℃ 이하이고, 먼지 부착 방지효과를 갖는 저굴절율 반사 방지용 코팅 조성물을 제공하는 것이다.
또한 본 발명의 다른 목적은 상기 반사 방지용 코팅 조성물이 적용된 디스플레이 코팅 필름을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 (a) 알콕시실란과 불소계 알콕시실란의 가수 축합물; (b) 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드; 및 (c) 불소계 상용화제를 포함하는 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물을 제공한다.
바람직하게는, 상기 반사 방지용 코팅 조성물은 (a) 알콕시실란과 불소계 알콕시실란의 가수 축합물 100 중량부에 대하여, (b) 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드 0.5 내지 30 중량부, 및 (c) 불소계 상용화제 0.1 내지 30 중량부를 포함한다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명자들은 낮은 굴절율에 의한 반사 방지기능을 부여하면서 동시에 기존의 불소계 실란 등의 열경화 재료를 디스플레이 기재의 코팅 조성물에 사용할 때, 먼지가 쉽게 붙는 문제를 해결하기 위하여 기존의 굴절율이 낮은 불소계 실란을 또 다른 저굴절 재료인 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드 미립자로 대체하는 코팅 조성물을 연구하였다.
그 과정에서 기본적인 코팅 필름의 기계적 물성을 구현하기 위한 알콕시실란, 코팅 막의 표면에너지를 낮추기 위한 소량의 불소계 알콕시실란, 및 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드 미립자가 쉽게 뭉치는 것을 막아주기 위한 불소계 상용화제를 포함하는 코팅 조성물을 개발하여 본 발명을 완성하게 되었다.
본 발명에 따른 오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물은 (a) 알콕시실란과 불소계 알콕시실란의 가수 축합물; (b) 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드; 및 (c) 불소계 상용화제를 포함한다.
본 발명의 반사 방지용 코팅 조성물에 있어서, (a) 알콕시실란과 불소계 알콕시실란의 가수 축합물은 코팅 막의 강도 및 디스플레이 기재와의 부착성을 증진시는 성분으로 작용한다.
그 중, 상기 알콕시실란은 디스플레이에 사용되는 최외각 필름에 요구되는 수준의 강도를 제공하기 위한 성분으로서, 3관능 규소화합물 또는 4관능 규소화합물을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 글리시독시프로필 트리메톡시실란, 및 글리시독시프로필 트리에톡시실란으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 사용할 수 있다.
또한, 상기 불소계 알콕시실란은 코팅막의 굴절율을 낮게 하고 표면장력을 낮춰 액상 오염원의 제거를 용이하게 하는 성분으로서, 트리데카플루오로옥틸트리에톡시실란(상품명: DYNASYLAN F8261, Degussa-Huls사), 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란(상품명: TSL8233, Toshiba silicon사 / KBM-7803, Shinetsu사), 및 헵타데카플루오로데실트리이소프로폭시실란(상품명: XC95-A9715, Toshiba Silicone사)으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 사용한다.
상기 (a) 알콕시실란과 불소계 알콕시실란의 가수 축합물은 졸-겔(Sol-Gel) 반응을 통하여 제조하는 것이 바람직하며, 이때 디스플레이 코팅막의 적절한 경도 및 반사방지 효과를 유지하고, 코팅막에 고상의 먼지가 쉽게 붙는 것을 방지하기 위하여 상기 알콕시실란 : 불소계 알콕시실란의 중량비가 30:70 내지 99:1이 되도록 혼합하여 반응시키는 것이 바람직하다.
상기 졸-겔 반응은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적으로 이용되는 방법을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 알콕시실란, 불소계 알콕시실란, 촉매, 물 및 유기용매를 포함하는 조성으로, 반응온도 0 내지 150 ℃에서 1 내지 70 시간 동안의 반응시킬 수 있다.
상기 졸-겔 반응에 사용되는 촉매는 졸-겔 반응시간을 제어하기 위해 필요한 성분으로서, 질산, 염산, 및 초산과 같은 산을 사용하는 것이 바람직하며, 지르코늄, 인듐과 같은 염과 함께 염산염, 질산염, 황산염, 및 초산염의 형태인 것을 사용하는 것이 더욱 바람직하다. 이때, 상기 촉매의 함량은 상기 알콕시실란 및 불소계 알콕시실란 100 중량부에 대하여 0.01 내지 40 중량부로 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 졸-겔 반응에 사용되는 물은 가수분해 반응과 축합반응을 위해 필요한 성분으로서, 그 함량은 상기 알콕시실란 및 불소계 알콕시실란 100 중량부에 대하여 0.01 내지 100 중량부로 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 졸-겔 반응에 사용되는 유기용매는 가수 축합물의 분자량을 적절히 조절하기 위한 성분으로서, 알코올류, 셀로솔브류 또는 이들 중에서 선택되는 둘 이상의 혼합용매인 것이 바람직하다. 이때, 상기 유기용매의 함량은 상기 알콕시실란 및 불소계 알콕시실란 100 중량부에 대하여 0.01 내지 500 중량부로 사용하 는 것이 바람직하다.
본 발명의 반사 방지용 코팅 조성물에 있어서, (b) 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드는 평균 입자크기가 10 내지 100nm 인 것이 바람직하며, NaF, LiF, AlF3, Na5Al3F14, Na3AlF6, MgF2, 및 YF3로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 (b) 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드는 상기 (a) 알콕시실란과 불소계 알콕시실란의 가수 축합물 100 중량부에 대하여 0.5 내지 30 중량부 사용하는 것이 바람직하다. 즉, 상기  (b) 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드는 코팅막에 저반사 특성을 부여하기 위하여 그 함량이 0.5 중량부 이상인 것이 바람직하며, 코팅막의 강도 및 기재와의 부착성을 유지하기 위하여 그 함량이 30 중량부를 이하인 것이 바람직하다.
본 발명의 반사 방지용 코팅 조성물에 있어서, (c) 불소계 상용화제는 상기 (a) 알콕시실란과 불소계 알콕시실란의 가수 축합물 및 (b) 메탈 플로라이드의 상용성을 개선하여 코팅 막 형성시 뿌옇게 되는 문제를 해결하기 위한 것으로서, Mg(CF3COO)2, Na(CF3COO), K(CF3COO), Ca(CF3COO)2, Mg(CF2COCHCOCF3)2, Na(CF2COCHCOCF3), KF, 및 NH4F로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 (c) 불소계 상용화제는 상기 (a) 알콕시실란과 불소계 알콕시실란의 가수 축합물 100 중량부에 대하여 0.1내지 30 중량부로 사용하는 것이 바람직하다. 즉, 상기 (c) 불소계 상용화제는 상기 메탈 플로라이드 미립자가 막을 형성하면서 쉽게 뭉쳐 코팅막이 뿌옇게 되는 것을 방지하기 위하여 그 함량이 0.1 중량부 이상인 것이 바람직하며, 코팅막의 강도 및 기재와의 부착성을 유지하기 위하여 그 함량이 30 중량부를 이하인 것이 바람직하다.
본 발명의 반사 방지용 코팅 조성물은 필요에 따라 (d) 유기용매를 추가로 사용할 수 있다. 즉, 본 발명의 반사 방지용 코팅 조성물은 상기 (d) 유기용매를 고형분 함량이 0.1 내지 30 중량%가 되도록 희석하여 사용할 수 있다.
상기 (d) 유기용매는 건조 및 경화온도를 고려하여 선택적으로 사용할 수 있으며, 바람직하게는 유기 알코올류, 셀로솔브류, 케톤류, 또는 이들 중에서 선택되는 둘 이상의 혼합용매를 사용할 수 있다.  더욱 바람직하게는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 에틸 셀로솔브, 부틸 셀로솔브, 헥실 셀로솔브, 메틸 셀로솔브, 이소프로폭시 셀로솔브, 아세톤, 메틸에틸케톤, 디아세톤알코올, n-메틸피롤리디논, 메틸이소부틸케톤으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 것을 사용할 수 있다.
한편, 본 발명은 상기 반사 방지용 코팅 조성물이 적용된 디스플레이 코팅 필름을 제공한다.  즉, 본 발명의 반사 방지용 코팅 조성물은 디스플레이 반사 방지용 코팅층의 재료로 사용할 수 있으며, 기재와 코팅층 사이에 하드코팅층 또는 고굴절층 등의 추가층이 포함될 수 있다.
본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적으로 사용되는 디스플레이 기재는 유리, 플라스틱 기판, 플라스틱 필름 등이 있으며, 상기 조성물의 코팅방식은 기재의 종류에 따라 자유롭게 선택할 수 있다. 
또한 상기 하드코팅층은 자외선 경화형 수지를 사용하거나, 또는 내마모성의 개선을 위하여 무기 나노 미립자를 자외선 경화형 수지에 분산시켜 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 반사 방지용 코팅층의 두께는 사용되는 재료의 굴절율 및 입사광의 파장에 의하여 결정되므로 특별히 한정되지 않으나, 50 내지 200 nm인 것이 바람직하다.
예를 들어, 기재 위에 하드코팅층과 방사 방지 코팅층을 도포할 경우, 하드코팅층의 굴절율이 1.51이고, 반사 방지 코팅층의 굴절율이 1.38이고, 입사광의 설계파장을 550 nm라고 한다면, 광학 설계에 의해 반사 방지 코팅층의 두께는 100 nm인 것이 바람직하다.  또한, 일반적으로 반사 방지 코팅층의 굴절율은 낮을수록 바람직하고, 특히 하부층과의 굴절율 차이가 클수록 반사 방지효과가 커진다.
본 발명에 따른 디스플레이 반사 방지용 코팅 필름의 제조방법은
ⅰ) 본 발명의 코팅 조성물을 디스플레이 기재 위에 건조 두께 50 내지 200 nm가 되도록 도포하는 단계;
ⅱ) 상기 ⅰ)단계의 코팅된 기재를 25 내지 150 ℃에서 0.1 내지 30분 동안 건조시키는 단계; 및
ⅲ) 상기 ⅱ)단계의 코팅 건조된 기재를 상온에서 적어도 12 시간 동안 경화시키는 단계
를 포함한다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예들을 기재한다.  그러나 하기의 실시예들은 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 본 발명이 하기 실시예들에 한정되는 것은 아니다.
[ 실시예 ]
실시예 1
테트라에톡시실란 70 g, 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란 30 g, 물 10 g, 염산 10 g, 에탄올 200 g의 혼합물을 반응온도 78 ℃에서 3시간 동안 졸-겔 반응시켰다.  반응 종료 후, 상온으로 냉각시켜 10 % MgF2 분산액(Nissan, MFS-10P) 150 g과 마그네슘 트리플루오로아세테이트 15 g을 첨가하고, 에틸 셀루솔브 100 g 과 에탄올 100 g으로 희석하였다.
상기 방법으로 제조된 반사 방지용 코팅 조성물을 하드코팅 필름 위에 롤코팅 방식으로 건조 두께 100 nm로 도포하였다.  코팅된 필름은 90 ℃의 오븐에서 5분 동안 건조 후, 상온에서 24시간 동안 경화하였다.
실시예 2
테트라에톡시실란 85 g, 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란 15 g, 물 10 g, 염산 10 g, 에탄올 200 g의 혼합물을 78℃에서 3시간 동안 졸-겔 반응시켰다.  반응 종료 후, 상온으로 냉각시켜 10 % MgF2 분산액(Nissan, MFS-10P) 250 g과 마그네슘 트리플루오로아세테이트 25 g을 첨가하고, 에틸 셀루솔브 100 g 과 에탄올 100 g으로 희석하였다.
상기 방법으로 제조된 반사 방지용 코팅 조성물을 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅, 경화하였다.
[ 비교예 ]
비교예 1
10 % MgF2 분산액(Nissan, MFS-10P)을 100 g 사용하고, 불소계 상용화제인 마그네슘 트리플루오로아세테이트를 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 반사 방지용 코팅 조성물이 코팅된 필름을 제조하였다.
비교예 2
졸-겔 반응에서 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란을 첨가하지 않고, 테트라에톡시실란 100 g을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 반사 방지용 코팅 조성물이 코팅된 필름을 제조하였다.
비교예 3
굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드인 마그네슘 플로라이드와 불소계 상용화제인 마그네슘 트리플루오로아세테이트를 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 반사 방지용 코팅 조성물이 코팅된 필름을 제조하였다.
상기 실시예 및 비교예에 따른 반사 방지용 코팅 조성물의 조성을 하기 표 1에 나타내었다.
구    분 함  량 (g)
실시예 1 실시예 2 비교예 1 비교예 2 비교예 3
축 합 반 응 테트라에톡시실란 70 85 70 100 70
헵타데카플루오로 데실트리메톡시실란 30 15 30 - 30
10 10 10 10 10
염 산 10 10 10 10 10
에탄올 200 200 200 200 200
10% MgF2 분산액 (Nissan MFS-10P) 150 250 100 150 -
마그네슘 트리플루오로 아세테이트 15 25 - 15 -
에틸 셀루솔브 100 100 100 100 100
에탄올 100 100 100 100 100
[ 실험예 ]
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 코팅 필름의 내화학성, 펜 지움성, 먼지 제거성 및 반사율을 측정하여 오염 제거 용이성과 광 특성을 평가하였다.
실험예 1:  기재 밀착성
JIS K5400에 따라 코팅하고 경화하여 얻어진 코팅막에 1㎜의 간격으로 종횡 10 개의 바둑판 무늬의 절삭부를 넣고, 셀로판 테이프(니치반(주), 셀로테이프)를 강하게 부착한 후, 테이프의 한 끝을 잡고 표면에서 90˚ 방향으로 힘차게 잡아당겨 하드 코팅층이 박리되지 않는 것을 상, 박리되는 것을 하로 나타내었다.
실험예 2:  펜 지움성
유성펜으로 글씨를 쓴 후 면포로 문지르면서(rubbing) 지움성을 육안 관찰하여 상, 하로 판단하였다.
실험예 3:  먼지 제거성
가로와 세로 길이 각각 10cm 크기의 코팅 필름을 면포로 왕복 20회 문질러 준 다음, 30 cm 거리에서 스프레이 파우더를 1분 간격으로 5회 분사하였다.  파우더가 내려앉은 코팅면을 2기압의 에어로 10초간 블로잉한 후 남아 있는 파우더를 육안으로 관찰하여 파우더가 적은 순서대로 상, 하로 표기하였다.
실험예 4:  내스크래치성
강철솜(#0000)을 설치한 마모자에 250 g의 하중을 걸어 코팅필름에 문지른 후, 스크래치의 유무를 육안으로 관찰하여 상,중,하로 평가하였다.
실험예 5:  반사율
코팅 필름의 뒷면을 흑색으로 처리한 후, N&K사의 분광광도계(spectrophotometer)로 반사율을 측정하여 최소 반사율 값으로 반사 방지 특성을 평가하였다.
실험예 6:  Haze
코팅 필름을 Hazemeter로 haze 값을 측정하였다.
구 분 기재 밀착성 펜 지움성 내스크래치성 먼지 제거성 최소반사율 (%) 헤이즈 (%)
실시예 1 2.0 0.3
실시예 2 1.8 0.3
비교예 1 - 3.0
비교예 2 - 1.5
비교예 3 2.2 0.3
상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 실시예 1및2에 따른 코팅 필름은 메탈플로라이드와 불소계 상용화제를 동시에 포함하는 코팅 조성물을 적용한 것으로서, 기재 밀착성, 내스크래치성, 먼지 제거성 및 반사율이 비교예 1 내지 3의 코팅 필름에 비하여 우수함을 알 수 있다.
또한, 불소계 상용화제를 포함하지 않는 비교예 1의 경우 코팅 막이 뿌옇게 되며, 불소계 실란을 사용하지 않은 비교예 2는 펜지움성이 떨어지고 막이 뿌옇게 되는 현상이 있었다. 뿐만 아니라, 저굴절 필러를 사용하지 않은 비교예 3의 경우 불소계 알콕시 실란에 의한 정전기로 먼지 제거성이 취약함을 알 수 있다.
전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물은 반사 방지 특성이 우수하고, 지문 등의 액성 오염물질에 대한 지움성 및 내스크래치 특성이 우수하며, 특히 먼지 제거성이 우수하여 디스플레이 기재의 종류 및 추가 코팅층의 유무와 상관없이 디스플레이 전면의 최외곽에 유용하게 적용될 수 있다.

Claims (10)

  1. (a) 알콕시실란과 불소계 알콕시실란의 가수 축합물;
    (b) 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드; 및
    (c) 불소계 상용화제
    를 포함하는 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 (a) 알콕시실란과 불소계 알콕시실란의 가수 축합물 100 중량부에 대하여,
    상기 (b) 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드 0.5 내지 30 중량부; 및
    상기 (c) 불소계 상용화제 0.1 내지 30중량부
    를 포함하는 것인 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 (a) 알콕시실란과 불소계 알콕시실란의 가수 축합물은 알콕시실란 : 불소계 알콕시실란의 중량비를 30:70 내지 99:1 로 가수 축합한 것인 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 알콕시실란은 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 글리시독시프로필 트리메톡시실란, 및 글리시독시프로필 트리에톡시실란으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것이고,
    상기 불소계 알콕시실란은 트리데카플루오로옥틸트리에톡시실란, 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란, 및 헵타데카플루오로데실트리이소프로폭시실란으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것인
    디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 (b) 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드는 평균 입자크기가 10 내지 100 nm 인 것인 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 (b) 굴절율 1.40 이하의 메탈 플로라이드는 NaF, LiF, AlF3, Na5Al3F14, Na3AlF6, MgF2, 및 YF3로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것인 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 (c) 불소계 상용화제는 Mg(CF3COO)2, Na(CF3COO), K(CF3COO), Ca(CF3COO)2, Mg(CF2COCHCOCF3)2, Na(CF2COCHCOCF3), KF, 및 NH4F로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것인 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물.
  8. 제2항에 있어서, 상기 코팅 조성물은
    (d) 고형분 함량이 0.1 내지 30 중량%가 되도록 하는 유기용매
    를 더 포함하는 것인 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물이 적용된 디스플레이 코팅 필름.
  10. 디스플레이 반사 방지용 코팅 필름의 제조방법으로서,
    ⅰ) 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 코팅 조성물을 디스플레이 기재 위에 건조 두께 50 내지 200 nm가 되도록 도포하는 단계;
    ⅱ) 상기 ⅰ)단계의 코팅된 기재를 25 내지 150 ℃에서 0.1 내지 30분 동안 건조시키는 단계; 및
    ⅲ) 상기 ⅱ)단계의 코팅 건조된 기재를 상온에서 적어도 12 시간 동안 경화시키는 단계
    를 포함하는 디스플레이 반사 방지용 코팅 필름의 제조방법.
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