JP2012140534A - 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 - Google Patents
透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012140534A JP2012140534A JP2010294029A JP2010294029A JP2012140534A JP 2012140534 A JP2012140534 A JP 2012140534A JP 2010294029 A JP2010294029 A JP 2010294029A JP 2010294029 A JP2010294029 A JP 2010294029A JP 2012140534 A JP2012140534 A JP 2012140534A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- forming
- transparent film
- acrylic resin
- substrate
- transparent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
【課題】透明性が高く、着色および干渉縞が抑制された、帯電防止性能、ハードコート性に優れた透明被膜の形成用塗布液を提供する
【解決手段】五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス形成成分と分散媒とからなり、五酸化アンチモン微粒子が下記式(1)で表される有機珪素化合物で表面処理されてなり、全固形分の濃度が５〜６０重量％の範囲にあり、表面処理五酸化アンチモン微粒子の濃度が固形分としての濃度が０．１５〜１８重量％の範囲にあり、マトリックス形成成分の固形分としての濃度が０．７〜５９．４重量％の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成用塗布液。
Ｒn-ＳiＸ4-n （１）
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘ：炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎ：０〜３の整数）
【選択図】なし
【解決手段】五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス形成成分と分散媒とからなり、五酸化アンチモン微粒子が下記式(1)で表される有機珪素化合物で表面処理されてなり、全固形分の濃度が５〜６０重量％の範囲にあり、表面処理五酸化アンチモン微粒子の濃度が固形分としての濃度が０．１５〜１８重量％の範囲にあり、マトリックス形成成分の固形分としての濃度が０．７〜５９．４重量％の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成用塗布液。
Ｒn-ＳiＸ4-n （１）
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘ：炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎ：０〜３の整数）
【選択図】なし
Description
本発明は、特に高精細表示装置用の透明被膜の形成に好適な透明被膜形成用塗布液および該塗布液を用いて形成された透明被膜付基材に関する。
従来、ガラス、プラスチックシート、プラスチックレンズ等の基材表面の耐擦傷性を向上させるため、基材表面にハードコート機能を有する透明被膜を形成することが知られており、このような透明被膜として有機樹脂膜あるいは無機膜をガラスやプラスチック等の表面に形成することが行われている。さらに、有機樹脂膜あるいは無機膜中に樹脂粒子あるいはシリカ等の無機粒子を配合してさらに耐擦傷性を向上させることが行われている。
また、表示装置等に使用する場合、ハードコート性に加えてゴミ、埃等の静電付着を防止するために導電性を有する透明被膜を形成することも行われている。
このような導電性を付与するために導電性酸化物粒子を配合することが知られている。
このような導電性を付与するために導電性酸化物粒子を配合することが知られている。
導電性酸化物粒子としては、酸化錫、Ｓｂ、ＦまたはＰドープ酸化錫、酸化インジウム、ＳｎまたはＦドープ酸化インジウム、五酸化アンチモン、低次酸化チタン等が知られている。（特許文献１：特開２００２−７９６１６号公報）
また、本願出願人は、パイロクロア構造を有する五酸化アンチモン微粒子を含む透明帯電防止膜付基材（特許文献２：特開２００１−７２９２９号公報）、五酸化アンチモン微粒子を含むハードコート膜付基材（特許文献３：特開２００４−５０８１０号公報）、さらに鎖状五酸化アンチモン微粒子を含むハードコート膜付基材（特許文献４：特開２００５−１３９０２６号公報）、さらに、導電性微粒子を有機珪素化合物の加水分解物で連結させた鎖状導電性微粒子（ＡＴＯ他種々の）を含む透明導電性被膜付基材を開示している。（特許文献５：特開２００６−３３９１１３号公報）
また、酸化錫、酸化インジウムと同様に、導電性向上を目的として、本願出願人は、特許文献６：特開２００５−１３９０２６号公報に、鎖状酸化アンチモン微粒子にスズ、リン等のドーピング剤を含ませることで、さらに体積抵抗値の低い鎖状酸化アンチモン微粒子が得られることを開示している。
また、従来の導電性酸化物粒子を用いたハードコート膜、透明帯電防止膜では、まず、基材が設定され、基材との密着性、ハードコート性等を考慮してマトリックス成分が設定され、さらに基材との密着性、ハードコート性等を向上させ、帯電防止性能を付与するために導電性酸化物粒子、鎖状化した導電性酸化物粒子を配合することが行われている。
従来より導電性金属酸化物として公知のＰドープ酸化錫（ＰＴＯ）を用いた場合は、五酸化アンチモン微粒子を用いた場合に比較して帯電防止性能は向上するものの透明性が不充分となり、Ｓｂドープ酸化錫（ＡＴＯ）を用いると帯電防止性能はさらに向上するものの透明性が低下したり、着色して透過率が低下する場合があった。さらに、Ｓｎドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を用いると帯電防止性能はさらに向上するものの透明性が不十分であり、着色してしまうという問題点があった。
さらにこれらの導電性金属酸化物粒子では、基材、マトリックス成分の屈折率によっては干渉縞を生じる場合があり、着色を抑制するために含有量を減少させると帯電防止性能が不充分となる場合があった。五酸化アンチモン微粒子をハードコート膜、透明帯電防止膜に用いようとしても、透明性には優れるものの屈折率が高くなり、用いる基材の屈折率によっては干渉縞が発生する場合があった。また、五酸化アンチモン微粒子、鎖状酸化アンチモン微粒子にリンをドーピングすると体積抵抗値は若干低下するものの、黄色に変色する問題があった。
一方、五酸化アンチモン微粒子、鎖状五酸化アンチモン微粒子は着色の問題はないもののＡＴＯ等より導電性能が低く、このため五酸化アンチモン微粒子の含有量を多くすると干渉縞を生じたり、経済性が低下する問題があった。
本発明者らは、このような問題点に鑑み鋭意検討した結果、導電性微粒子として表面処理した五酸化アンチモン微粒子を用い、マトリックス形成成分としてエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂を用いると導電性が向上するとともに透明性が高く、着色および干渉縞が抑制された、帯電防止性能、ハードコート性に優れた透明被膜が得られることを見出して本発明を完成するに至った。
本発明の構成は以下のとおりである。
[1]五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス形成成分と分散媒とからなり、五酸化アンチモン微粒子が下記式(1)で表される有機珪素化合物で表面処理されてなり、全固形分の濃度が５〜６０重量％の範囲にあり、表面処理五酸化アンチモン微粒子の濃度が固形分としての濃度が０．１５〜１８重量％の範囲にあり、マトリックス形成成分の固形分としての濃度が０．７〜５９．４重量％の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成用塗布液。
[1]五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス形成成分と分散媒とからなり、五酸化アンチモン微粒子が下記式(1)で表される有機珪素化合物で表面処理されてなり、全固形分の濃度が５〜６０重量％の範囲にあり、表面処理五酸化アンチモン微粒子の濃度が固形分としての濃度が０．１５〜１８重量％の範囲にあり、マトリックス形成成分の固形分としての濃度が０．７〜５９．４重量％の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成用塗布液。
Ｒn-ＳiＸ4-n （１）
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘ：炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎ：０〜３の整数）
[2]前記五酸化アンチモン微粒子の平均粒子径が５〜５０ｎｍの範囲にある[1]の透明被膜形成用塗布液。
[3]前記アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)がエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂である[1]〜[2]の透明被膜形成用塗布液。
[4]前記マトリックス形成成分がさらに非変性アクリル系樹脂(B)を含み、マトリックス形成成分中の非変性アクリル系樹脂(B)の含有量が固形分として５〜８５重量％の範囲にある[1]〜[3]の透明被膜形成用塗布液。
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘ：炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎ：０〜３の整数）
[2]前記五酸化アンチモン微粒子の平均粒子径が５〜５０ｎｍの範囲にある[1]の透明被膜形成用塗布液。
[3]前記アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)がエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂である[1]〜[2]の透明被膜形成用塗布液。
[4]前記マトリックス形成成分がさらに非変性アクリル系樹脂(B)を含み、マトリックス形成成分中の非変性アクリル系樹脂(B)の含有量が固形分として５〜８５重量％の範囲にある[1]〜[3]の透明被膜形成用塗布液。
[5]前記分散媒がアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホロン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルから選ばれる１種または２種以上のケトン類である[1]〜[4]の透明被膜形成用塗布液。
[6]前記分散媒のケトン類が、アセトンおよび／またはメチルエチルケトンである[1]〜[5]の透明被膜形成用塗布液。
[7]五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス成分とからなり、五酸化アンチモン微粒子が下記式(2)で表される有機珪素化合物で表面処理されてなり、該表面処理五酸化アンチモン微粒子の含有量が３〜３０重量％の範囲にあり、表面抵抗値が１０8〜１０11Ω／□の範囲にあり、ヘーズが０．３％以下であり、全光線透過率が９０％以上であり、基材の屈折率（ＮS）と前記透明被膜の屈折率（ＮH）との差が０．０２以下であることを特徴とする透明被膜付基材。
Ｒn-ＳiＸ4-n （２）
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘ：炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎ：０〜３の整数）
[6]前記分散媒のケトン類が、アセトンおよび／またはメチルエチルケトンである[1]〜[5]の透明被膜形成用塗布液。
[7]五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス成分とからなり、五酸化アンチモン微粒子が下記式(2)で表される有機珪素化合物で表面処理されてなり、該表面処理五酸化アンチモン微粒子の含有量が３〜３０重量％の範囲にあり、表面抵抗値が１０8〜１０11Ω／□の範囲にあり、ヘーズが０．３％以下であり、全光線透過率が９０％以上であり、基材の屈折率（ＮS）と前記透明被膜の屈折率（ＮH）との差が０．０２以下であることを特徴とする透明被膜付基材。
Ｒn-ＳiＸ4-n （２）
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘ：炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎ：０〜３の整数）
[8]前記五酸化アンチモン微粒子の平均粒子径が５〜５０ｎｍの範囲にある[7]の透明被膜付基材。
[9]前記アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)がエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂である[7]または[8]の透明被膜付基材。
[10]前記マトリックス成分がさらに非変性アクリル系樹脂(B)を含み、マトリックス成分中の非変性アクリル系樹脂(B)の含有量が固形分として５〜８５重量％の範囲にある[7]〜[9]の透明被膜付基材。
[11]前記透明被膜の膜厚が１〜２０μｍの範囲にある[7]〜[10]の透明被膜付基材。
[12]前記基材がトリアセチルセルロースである[7]〜[11]の透明被膜付基材。
[9]前記アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)がエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂である[7]または[8]の透明被膜付基材。
[10]前記マトリックス成分がさらに非変性アクリル系樹脂(B)を含み、マトリックス成分中の非変性アクリル系樹脂(B)の含有量が固形分として５〜８５重量％の範囲にある[7]〜[9]の透明被膜付基材。
[11]前記透明被膜の膜厚が１〜２０μｍの範囲にある[7]〜[10]の透明被膜付基材。
[12]前記基材がトリアセチルセルロースである[7]〜[11]の透明被膜付基材。
本発明によれば、導電性無機酸化物微粒子の配合量が少なくても、帯電防止性能発現するに充分な導電性能を有し、特に、透明性に優れるとともに着色、干渉縞が無く、帯電防止性能に優れ、且つ、基材との密着性、耐擦傷性、スクラッチ強度、鉛筆硬度等に優れ、経済性にも優れた透明被膜付基材の形成に用いる透明被膜形成用塗布液と透明被膜付基材を提供することができる。
まず、本発明に係る透明被膜形成用塗布液について説明する。
[透明被膜形成用塗布液]
本発明に係る透明被膜形成用塗布液は、五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス形成成分と分散媒とからなる。
[透明被膜形成用塗布液]
本発明に係る透明被膜形成用塗布液は、五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス形成成分と分散媒とからなる。
五酸化アンチモン微粒子
本発明に用いる五酸化アンチモン微粒子の平均粒子径は５〜５０ｎｍ、さらには５〜３０ｎｍ、特に５〜２５ｎｍの範囲にあることが好ましい。この範囲の粒子径であれば導電性、透明性が高い。
本発明に用いる五酸化アンチモン微粒子の平均粒子径は５〜５０ｎｍ、さらには５〜３０ｎｍ、特に５〜２５ｎｍの範囲にあることが好ましい。この範囲の粒子径であれば導電性、透明性が高い。
五酸化アンチモン微粒子が小さいと、結晶構造が充分に発達してない場合があり、加えて凝集粒子を形成する傾向があり、導電性を向上させる効果が不充分となる場合がある。また、凝集すると透明性が低下したりヘーズが高くなる場合がある。五酸化アンチモン微粒子が大きすぎても、粒子径に起因した光の散乱が生じるようになり、透明被膜の透明性が低下したりヘーズが高くなる場合がある。
なお、五酸化アンチモン微粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ）を測定し、１００個の粒子について粒子径を測定し、その平均値として求める。
本発明で使用される五酸化アンチモン微粒子は、下記式(1)で表される有機珪素化合物で表面処理されていることが好ましい。
Ｒn-ＳiＸ4-n （１）
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘ：炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎ：０〜３の整数）
本発明で使用される五酸化アンチモン微粒子は、下記式(1)で表される有機珪素化合物で表面処理されていることが好ましい。
Ｒn-ＳiＸ4-n （１）
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘ：炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎ：０〜３の整数）
このような式（１）で表される有機珪素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−（3,4-エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシドキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン等およびこれらの混合物が挙げられる。
五酸化アンチモン微粒子の表面処理は、例えば、五酸化アンチモン微粒子のアルコール分散液に前記有機ケイ素化合物を所定量加え、これに水を加え、必要に応じて有機ケイ素化合物の加水分解用触媒として酸またはアルカリを加え、有機ケイ素化合物を加水分解する。この時の有機ケイ素化合物の使用量は五酸化アンチモン微粒子の大きさにもよるが、Ｒn-ＳiＯ(4-n)/2として五酸化アンチモン微粒子の概ね２〜３０重量％、さらには３〜１０重量％の範囲にあることが好ましい。
このように、有機ケイ素化合物で表面処理されていると透明被膜形成用塗布液中では均一に高分散するとともに安定性が向上し、透明被膜中でも凝集することがなく高分散し、導電性を有し、透明性、光透過率、硬度等に優れた透明被膜を得ることができる。
透明被膜形成用塗布液中の五酸化アンチモン微粒子の濃度は、固形分として０．１５〜１８重量％、さらには０．２〜１５重量％の範囲にあることが好ましい。
透明被膜形成用塗布液中の五酸化アンチモン微粒子の濃度が低すぎると、導電性能が不充分となり、得られる透明被膜付基材の帯電防止性能が不充分となる場合がある。また、五酸化アンチモン微粒子の濃度が高すぎても、透明被膜の屈折率が高くなるために基材の屈折率によっては干渉縞を生じる場合がある。
透明被膜形成用塗布液中の五酸化アンチモン微粒子の濃度が低すぎると、導電性能が不充分となり、得られる透明被膜付基材の帯電防止性能が不充分となる場合がある。また、五酸化アンチモン微粒子の濃度が高すぎても、透明被膜の屈折率が高くなるために基材の屈折率によっては干渉縞を生じる場合がある。
マトリックス形成成分
マトリックス形成成分としてはアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)が好適に用いられる。アルキレンオキサイド変性とは、エチレンオキサイド（−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−）、プロピレンオキサイド（−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−）などのアルキレンオキサイドのブロック構造を持たせることを意味する。
アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)としては、エチレンオキサイド変性アクリル樹脂、プロピレンオキサイド変性アクリル系樹脂、ブチレンオキサイド変性アクリル系樹脂等が挙げられる。
マトリックス形成成分としてはアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)が好適に用いられる。アルキレンオキサイド変性とは、エチレンオキサイド（−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−）、プロピレンオキサイド（−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−）などのアルキレンオキサイドのブロック構造を持たせることを意味する。
アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)としては、エチレンオキサイド変性アクリル樹脂、プロピレンオキサイド変性アクリル系樹脂、ブチレンオキサイド変性アクリル系樹脂等が挙げられる。
特に、エチレンオキサイド変性アクリル系樹脂、プロピレンオキサイド変性アクリル系樹脂は好適に用いることができる。アルキレンオキサイド変性させることによって、アクリル樹脂が親水性を有し、金属酸化物微粒子との親和性も向上し、五酸化アンチモン粒子のプロトン伝導性を促進することが考えられる。このようなアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を用いると、塗布液中で表面処理された五酸化アンチモン微粒子が凝集することなく高分散し、導電性を有するとともに透明性、光透過率、硬度等に優れた透明被膜を得ることができる。また、塗布液の分散媒に特にケトン系の分散媒を用いた場合、得られる透明被膜中で表面処理された五酸化アンチモン微粒子が鎖状化する傾向があり、導電性に優れた透明被膜を得ることができる。
本発明では前記アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)に加えて非変性アクリル系樹脂(B)を含むことが好ましい。
このような非変性アクリル系樹脂(B)を、アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)とともに含むことで、強度、硬度、耐擦傷性に優れた透明被膜を得ることができる。
このような非変性アクリル系樹脂(B)を、アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)とともに含むことで、強度、硬度、耐擦傷性に優れた透明被膜を得ることができる。
非変性アクリル系樹脂(B)としては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメテクリレート、イソデシルメテクリレート、n-ラウリルアクリレート、ｎ−ステアリルアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメテクリレート、ウレタンアクリレート等およびこれらの混合物が挙げられる。
マトリックス形成成分中の非変性アクリル系樹脂(B)の含有量が固形分として５〜８５重量％、さらには１０〜８０重量％の範囲にあることが好ましい。
マトリックス形成成分中の非変性アクリル系樹脂(B)の含有量が少ないと、非変性アクリル系樹脂(B)を用いる効果、すなわち得られる透明被膜の強度、硬度、耐擦傷性を向上させる効果が不充分となり、多すぎると、アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)が少なくなるので、少ない五酸化アンチモン微粒子の使用量で導電性を向上させる効果が充分得られない場合がある。
マトリックス形成成分中の非変性アクリル系樹脂(B)の含有量が少ないと、非変性アクリル系樹脂(B)を用いる効果、すなわち得られる透明被膜の強度、硬度、耐擦傷性を向上させる効果が不充分となり、多すぎると、アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)が少なくなるので、少ない五酸化アンチモン微粒子の使用量で導電性を向上させる効果が充分得られない場合がある。
透明被膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分の濃度は固形分として３．５〜５８．２重量％、さらには３．７５〜５７．０重量％の範囲にあることが好ましい。
透明被膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分の濃度（変性・非変性のアクリル樹脂の合計量）が少ないと、所望の膜厚の透明被膜が得られない場合があり、マトリックス形成成分が少なくなる場合は得られる透明被膜の耐擦傷性、基材との密着性が不充分となる場合がある。マトリックス形成成分の濃度が多すぎても、五酸化アンチモン微粒子が少なくなるために導電性が不充分となり、得られる透明被膜付基材の帯電防止性能が不充分となる場合があり、また、耐擦傷性、基材との密着性が不充分となる場合がある。
透明被膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分の濃度（変性・非変性のアクリル樹脂の合計量）が少ないと、所望の膜厚の透明被膜が得られない場合があり、マトリックス形成成分が少なくなる場合は得られる透明被膜の耐擦傷性、基材との密着性が不充分となる場合がある。マトリックス形成成分の濃度が多すぎても、五酸化アンチモン微粒子が少なくなるために導電性が不充分となり、得られる透明被膜付基材の帯電防止性能が不充分となる場合があり、また、耐擦傷性、基材との密着性が不充分となる場合がある。
分散媒
本発明に用いる分散媒としてはケトン類が好適に用いられる。
具体的にはアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホロン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル等のケトン類およびこれらの混合分散媒が挙げられる。
本発明に用いる分散媒としてはケトン類が好適に用いられる。
具体的にはアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホロン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル等のケトン類およびこれらの混合分散媒が挙げられる。
なかでも、特に、アセトン、メチルエチルケトンおよびこれらの混合物は、基材がＴＡＣの場合には、ＴＡＣ基材を一部溶解したり膨潤させ、透明被膜成分が相互進入し、境界における界面が不鮮明になるため、干渉縞を抑制できる点で好ましい。
分散媒にはケトン類以外の分散媒を含んでいてもよく、ケトン類以外の分散媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、イソプロピルグリコールなどのアルコール類；酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールイソプルピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類；トルエン、キシレン等およびこれらの混合物が挙げられる。
分散媒中のケトン類の割合は３０重量％以上、さらには４０重量％以上であることが好ましい。
なお、ケトン類以外の溶媒が多すぎると、基材がＴＡＣなどの場合、ＴＡＣの表面が膨潤あるいは溶解して透明被膜成分と相互進入し(水や低級アルコールではこのような膨潤効果はない)は、境界における光学界面が不鮮明になるためか、干渉縞を抑制できる場合があるが、ケトン類の割合が少ないとこのような干渉縞を抑制する効果が得られない場合がある。
なお、ケトン類以外の溶媒が多すぎると、基材がＴＡＣなどの場合、ＴＡＣの表面が膨潤あるいは溶解して透明被膜成分と相互進入し(水や低級アルコールではこのような膨潤効果はない)は、境界における光学界面が不鮮明になるためか、干渉縞を抑制できる場合があるが、ケトン類の割合が少ないとこのような干渉縞を抑制する効果が得られない場合がある。
これらの混合分散媒を前記アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)と併用して用いると、基材にＴＡＣフィルムを用いた場合、特に干渉縞の抑制された透明被膜を得ることができる。
透明膜形成用塗布液の濃度は、全固形分として５〜６０重量％、さらには１０〜５０重量％の範囲にあることが好ましい。
透明被膜形成用塗布液の全固形分濃度が低すぎると、１回の塗布で厚膜の透明導電性被膜を得ることが困難な場合があり、繰り返し塗布、乾燥を繰り返すと、膜の強度が低下したり、経済性が低下する問題がある。全固形分濃度が高すぎると、塗布液の粘度が高くなり、塗布性が低下し、透明被膜にクラックやカーリングが生じたり、ヘーズが高くなることがあり、また、耐擦傷性が不充分となる場合がある。
透明被膜形成用塗布液の全固形分濃度が低すぎると、１回の塗布で厚膜の透明導電性被膜を得ることが困難な場合があり、繰り返し塗布、乾燥を繰り返すと、膜の強度が低下したり、経済性が低下する問題がある。全固形分濃度が高すぎると、塗布液の粘度が高くなり、塗布性が低下し、透明被膜にクラックやカーリングが生じたり、ヘーズが高くなることがあり、また、耐擦傷性が不充分となる場合がある。
このような塗布液には、必要に応じて、硬化剤、硬化促進剤などが含まれていてもよい、たとえばビス（2、4、6−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（2、6−ジメトキシベンゾイル）2、4、4−トリメチル-ペンチルフォスフィンオキサイド、2−ヒドロキシ-メチル-2-メチル-フェニル-プロパン-1-ケトン、2、2-ジメトキシ-1、2-ジフェニルエタン-１-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-メチル-1-［4-(メチルチオ)フェニル］-2-モルフォリノプロパン-1-オン等が挙げられる。
このような塗布液をディップ法、スプレー法、スピナー法、グラビアコート法、ロールコート法等の周知の方法で前記した基材に塗布し、乾燥し、加熱処理、紫外線照射等によって硬化させることによって透明被膜を形成することができる。
つぎに、本発明に係る透明被膜付基材について説明する。
つぎに、本発明に係る透明被膜付基材について説明する。
透明被膜付基材
本発明に係る透明被膜付基材は、前記五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス成分とからなる透明被膜が形成されてなる。
本発明に係る透明被膜付基材は、前記五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス成分とからなる透明被膜が形成されてなる。
基材
本発明に用いる基材としては、従来公知のガラス、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等の材質からなるシート、フィルム、パネル等を用いることができる。
本発明に用いる基材としては、従来公知のガラス、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等の材質からなるシート、フィルム、パネル等を用いることができる。
なかでもＴＡＣ、ポリカーボネート、アクリル樹脂基材等が好適に用いられる。特にＴＡＣは、前記五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス成分とからなる透明被膜を形成したときに干渉縞を抑制できるので好適である。
本発明に用いる基材の屈折率（ＮS）は１．４９〜１．５９、さらには１．４９〜１．５６、特に１．４９〜１．５２の範囲にあることが好ましい。
基材の屈折率（ＮS）が前記範囲にない場合は、透明被膜の屈折率の調整が困難で、干渉縞を抑制できない場合がある。
基材の屈折率（ＮS）が前記範囲にない場合は、透明被膜の屈折率の調整が困難で、干渉縞を抑制できない場合がある。
五酸化アンチモン微粒子
五酸化アンチモン微粒子としては、前記した表面処理された五酸化アンチモン微粒子を用いる。
五酸化アンチモン微粒子としては、前記した表面処理された五酸化アンチモン微粒子を用いる。
透明被膜中の表面処理された五酸化アンチモン微粒子の含有量は、固形分として３〜３０重量％、好ましくは５〜２５重量％の範囲にある。当該五酸化アンチモン微粒子が少ないと、導電性が不充分となる場合がある。透明被膜中の当該五酸化アンチモン微粒子が多すぎても、導電性は向上するものの、屈折率が高くなり、基材によっては干渉縞が生じる場合がある。
マトリックス成分
本発明に用いるマトリックス成分としては前記したアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)が硬化した樹脂が好適に用いられる。
本発明に用いるマトリックス成分としては前記したアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)が硬化した樹脂が好適に用いられる。
アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)としては、エチレンオキサイド変性アクリル樹脂、プロピレンオキサイド変性アクリル系樹脂等が挙げられる。
本発明では前記アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)に加えて非変性アクリル系樹脂(B)を含むことが好ましい。
本発明では前記アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)に加えて非変性アクリル系樹脂(B)を含むことが好ましい。
マトリックス成分中の非変性アクリル系樹脂(B)の含有量が固形分として５〜８５重量％、さらには１０〜８０重量％の範囲にあることが好ましい。
透明被膜中のマトリックス成分の含有量は、固形分として７０〜９７重量％、さらには７５〜９９重量％の範囲にあることが好ましい。透明被膜中のマトリックス成分が少ないと、五酸化アンチモン微粒子が多くなり、導電性は向上するものの、屈折率が高くなり、基材によっては干渉縞が生じる場合がある。
透明被膜中のマトリックス成分の含有量は、固形分として７０〜９７重量％、さらには７５〜９９重量％の範囲にあることが好ましい。透明被膜中のマトリックス成分が少ないと、五酸化アンチモン微粒子が多くなり、導電性は向上するものの、屈折率が高くなり、基材によっては干渉縞が生じる場合がある。
透明被膜中のマトリックス成分が多すぎても、五酸化アンチモン微粒子が少なくなるために導電性が不充分となり、帯電防止性能が不充分となる場合がある。
本発明では、透明被膜の屈折率（ＮＨ）が１．４９〜１．５９、さらには１．４９〜１．５６、特に１．４９〜１．５２の範囲にあることが好ましい。
本発明では、透明被膜の屈折率（ＮＨ）が１．４９〜１．５９、さらには１．４９〜１．５６、特に１．４９〜１．５２の範囲にあることが好ましい。
透明被膜の屈折率（ＮＨ）が前記範囲にあると、使用する基材の屈折率（ＮＳ）にもよるが、屈折率差小さくすることができ、干渉縞を生じることもない。
透明被膜の表面抵抗値は、用途に応じて適宜選択され、通常１０8〜１０11Ω／□、好ましくは１０8〜１０10Ω／□の範囲にある。かかる表面抵抗は、目的に応じて、マトリックス成分の割合を調整することで、調整可能である。ただし、前記下限を超えて表面抵抗値を小さくすることは五酸化アンチモン微粒子の含有量を多くしてしまうので、屈折率が高くなり干渉縞が生じる場合がある。透明被膜の表面抵抗値を大きくしても、目的によっては、帯電防止性能が不充分となる場合がある。
透明被膜の表面抵抗値は、用途に応じて適宜選択され、通常１０8〜１０11Ω／□、好ましくは１０8〜１０10Ω／□の範囲にある。かかる表面抵抗は、目的に応じて、マトリックス成分の割合を調整することで、調整可能である。ただし、前記下限を超えて表面抵抗値を小さくすることは五酸化アンチモン微粒子の含有量を多くしてしまうので、屈折率が高くなり干渉縞が生じる場合がある。透明被膜の表面抵抗値を大きくしても、目的によっては、帯電防止性能が不充分となる場合がある。
通常、透明被膜のヘーズは０．３％以下、好ましくは０．２％以下である。ヘーズが０．３％を越えると、透明性が不充分となり、所望の光学特性、例えば、コントラスト、視認性が得られない場合がある。また、透明被膜の全光線透過率は９０％以上、好ましくは９２％以上である。全光線透過率が低ければ、前記所望の光学特性が得られないばかりか、着色して全光線透過率が低い場合には光学部材の設計や意匠性に悪影響を与える場合がある。
本発明では、基材の屈折率（ＮＳ）と前記透明被膜の屈折率（ＮＨ）との差が０．０２以下、好ましくは０．０１以下とすることが望ましい。
前記屈折率差が大きくなると鮮明な干渉縞を生じ、外観上の問題となったり、表示装置に用いる場合は画像の視認性が低下する場合がある。
前記屈折率差が大きくなると鮮明な干渉縞を生じ、外観上の問題となったり、表示装置に用いる場合は画像の視認性が低下する場合がある。
透明被膜の膜厚は１〜２０μｍ、さらには４〜１５μｍの範囲で、目的に応じて、適宜選択される。
透明被膜の膜厚が１μｍ未満の場合は、充分な硬度、耐擦傷性が得られない場合があり、 透明被膜の膜厚が２０μｍを越えると、膜が厚いために着色が助長されたり、透過率が不充分となる場合がある。
透明被膜の膜厚が１μｍ未満の場合は、充分な硬度、耐擦傷性が得られない場合があり、 透明被膜の膜厚が２０μｍを越えると、膜が厚いために着色が助長されたり、透過率が不充分となる場合がある。
本発明では、前記透明被膜の上に、該透明被膜の屈折率よりも低い屈折率を有する透明被膜を反射防止膜として形成することができる。反射防止膜としては従来公知の反射防止膜を形成することができ、例えば、本願出願人の出願による特開２００６−３３９１３３号公報に開示した反射防止膜形成用塗布液、反射防止膜は好適に用いることができる。
[実施例]
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
[実施例1]
五酸化アンチモン微粒子分散液(1)の調製
純水１８００ｇに苛性カリ（旭硝子(株)製：純度８５重量％）５６．２ｇを溶解した溶液中に三酸化アンチモン（日本精鉱(株)製：PATOX-K 純度９８.５重量％）１１１ｇを懸濁させた。この懸濁液を９５℃に加熱し、次いで、過酸化水素水（林純薬(株)製：特級、純度３５重量％）５７.６ｇを純水１９４.９ｇで希釈した水溶液を６時間で添加し、三酸化アンチモンを溶解し、その後１４時間熟成した。冷却後、得られた溶液から１０００ｇを取り、この溶液を純水６０００ｇで希釈した後、陽イオン交換樹脂層（三菱化学(株)製：pk-216）に通して脱イオン処理を行った。このときのｐＨは２.１、電導度は３.０ｍＳ/ｃｍであった。
五酸化アンチモン微粒子分散液(1)の調製
純水１８００ｇに苛性カリ（旭硝子(株)製：純度８５重量％）５６．２ｇを溶解した溶液中に三酸化アンチモン（日本精鉱(株)製：PATOX-K 純度９８.５重量％）１１１ｇを懸濁させた。この懸濁液を９５℃に加熱し、次いで、過酸化水素水（林純薬(株)製：特級、純度３５重量％）５７.６ｇを純水１９４.９ｇで希釈した水溶液を６時間で添加し、三酸化アンチモンを溶解し、その後１４時間熟成した。冷却後、得られた溶液から１０００ｇを取り、この溶液を純水６０００ｇで希釈した後、陽イオン交換樹脂層（三菱化学(株)製：pk-216）に通して脱イオン処理を行った。このときのｐＨは２.１、電導度は３.０ｍＳ/ｃｍであった。
ついで、温度７０℃で１０時間熟成した後、限外膜で濃縮して固形分濃度１４重量％の五酸化アンチモン微粒子分散液(1)を調製した。得られた酸化アンチモン微粒子分散液(1)のｐＨは２.０、電導度は１.２ｍＳ/ｃｍであった。
また、電子顕微鏡写真を撮影し、１００個の粒子について測定した結果、五酸化アンチモン微粒子(1)の平均粒子径は２０ｎｍであった。
次に五酸化アンチモン微粒子分散液(1)２００ｇを２５℃に調整し、テトラエトキシシラン（多摩化学(株)製：正珪酸エチル、ＳｉＯ2濃度２８．８％）５ｇを３分で添加した後、３０分攪拌を行った。その後メタノ−ル２００ｇを１分かけて添加し、５０℃に３０分間で昇温、１９時間過熱処理を行った。このときの固形分濃度は７重量％であった。
次に五酸化アンチモン微粒子分散液(1)２００ｇを２５℃に調整し、テトラエトキシシラン（多摩化学(株)製：正珪酸エチル、ＳｉＯ2濃度２８．８％）５ｇを３分で添加した後、３０分攪拌を行った。その後メタノ−ル２００ｇを１分かけて添加し、５０℃に３０分間で昇温、１９時間過熱処理を行った。このときの固形分濃度は７重量％であった。
次いで限外濾過膜にて分散媒の水、メタノ−ルをメタノ−ルに置換し、固形分濃度３０重量％の表面処理した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(1)の調製
固形分濃度３０重量％の表面処理した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）４１．６ｇに光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇ、メチルエチルケトン４．０８ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(1)を調製した。
固形分濃度３０重量％の表面処理した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）４１．６ｇに光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇ、メチルエチルケトン４．０８ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(1)を調製した。
透明被膜付基材(1)の調製
透明被膜形成用塗布液(1)を、ＴＡＣフィルム（パナック（株）製：ＦＴ−ＰＢ８０ＵＬ−Ｍ、厚さ：８０μｍ、屈折率：１．５）にバーコーター法（バー＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(1)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
透明被膜形成用塗布液(1)を、ＴＡＣフィルム（パナック（株）製：ＦＴ−ＰＢ８０ＵＬ−Ｍ、厚さ：８０μｍ、屈折率：１．５）にバーコーター法（バー＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(1)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
この透明被膜付基材(1)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞、鎖状粒子の分散状態および耐擦傷性を表１に示す。全光線透過率およびヘーズは、ヘーズメーター（スガ試験機（株）製）により、反射率は分光光度計（日本分光社、Ubest-55）により夫々測定した。表面抵抗値は、表面抵抗計（三菱化学（株）製：ハイレスタ）にて測定した。
なお、未塗布のＴＡＣフィルムは全光線透過率が９３．２％、ヘーズが０．２％、波長５５０ｎｍの光線の反射率が６. ０％であった。また、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性は以下の方法および評価基準で評価し、結果を表１に示した。
屈折率
透明被膜形成用塗布液(1)をシリコンウェハー上に塗布し、乾燥し、硬化して透明被膜を形成し、透明被膜の屈折率をエリプソメーター（ＵＬＶＡＣ社製、ＥＭＳ−１）で測定した。
透明被膜形成用塗布液(1)をシリコンウェハー上に塗布し、乾燥し、硬化して透明被膜を形成し、透明被膜の屈折率をエリプソメーター（ＵＬＶＡＣ社製、ＥＭＳ−１）で測定した。
着色
透明被膜付基材(1)に蛍光灯の光をあて、目視で透過での着色の有無を観察した。結果を表１に示す。
評価基準：
無色透明で着色が全く認められない ：◎
ごく薄く着色が僅かに認められる ：○
薄く着色が認められる ：△
濃く着色が認められる ：×
透明被膜付基材(1)に蛍光灯の光をあて、目視で透過での着色の有無を観察した。結果を表１に示す。
評価基準：
無色透明で着色が全く認められない ：◎
ごく薄く着色が僅かに認められる ：○
薄く着色が認められる ：△
濃く着色が認められる ：×
密着性
透明被膜付基材(1)の表面にナイフで縦横１ｍｍの間隔で１１本の平行な傷を付け１００個の升目を作り、これにセロハンテ−プを接着し、ついで、セロハンテ−プを剥離したときに被膜が剥離せず残存している升目の数を、以下の４段階に分類することにより密着性を評価した。結果を表1に示す。
残存升目の数１００個 ：◎
残存升目の数９０〜９９個 ：○
残存升目の数８５〜８９個 ：△
残存升目の数８４個以下 ：×
透明被膜付基材(1)の表面にナイフで縦横１ｍｍの間隔で１１本の平行な傷を付け１００個の升目を作り、これにセロハンテ−プを接着し、ついで、セロハンテ−プを剥離したときに被膜が剥離せず残存している升目の数を、以下の４段階に分類することにより密着性を評価した。結果を表1に示す。
残存升目の数１００個 ：◎
残存升目の数９０〜９９個 ：○
残存升目の数８５〜８９個 ：△
残存升目の数８４個以下 ：×
耐擦傷性
＃００００スチールウールを用い、荷重５００ｇ／ｃｍ2で１０回摺動し、膜の表面を目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表1に示した。
評価基準：
筋条の傷が認められない ：◎
筋条に傷が僅かに認められる ：○
筋条に傷が多数認められる ：△
面が全体的に削られている ：×
＃００００スチールウールを用い、荷重５００ｇ／ｃｍ2で１０回摺動し、膜の表面を目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表1に示した。
評価基準：
筋条の傷が認められない ：◎
筋条に傷が僅かに認められる ：○
筋条に傷が多数認められる ：△
面が全体的に削られている ：×
干渉縞
透明被膜付基材(1)の背景を黒にした状態で蛍光灯の光を透明被膜表面で反射させ、光の干渉による虹模様の発生を目視観察し、以下の基準で評価した。
虹模様が全く認められない ：◎
虹模様がわずかに認められる ：○
虹模様が明らかに認められる ：△
虹模様が鮮明に認められる ：×
透明被膜付基材(1)の背景を黒にした状態で蛍光灯の光を透明被膜表面で反射させ、光の干渉による虹模様の発生を目視観察し、以下の基準で評価した。
虹模様が全く認められない ：◎
虹模様がわずかに認められる ：○
虹模様が明らかに認められる ：△
虹模様が鮮明に認められる ：×
[実施例2]
透明被膜形成用塗布液(2)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２４．９６ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇ、メチルエチルケトン４．０８ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(2)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(2)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２４．９６ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇ、メチルエチルケトン４．０８ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(2)を調製した。
透明被膜付基材(2)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(2)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(2)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(2)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(2)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(2)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(2)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
[実施例3]
透明被膜形成用塗布液(3)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)１７．３３ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１８．７２ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２８．０８ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．７４ｇ、メタノール１１．７３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇ、メチルエチルケトン４．０８ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(3)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(3)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)１７．３３ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１８．７２ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２８．０８ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．７４ｇ、メタノール１１．７３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇ、メチルエチルケトン４．０８ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(3)を調製した。
透明被膜付基材(3)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(3)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(3)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(3)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(3)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
[実施例4]
透明被膜形成用塗布液(4)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)４３．３３ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１５．６０ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２３．４０ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．１２ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１１．５５ｇ、メチルエチルケトン２．９９ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(4)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(4)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)４３．３３ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１５．６０ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２３．４０ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．１２ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１１．５５ｇ、メチルエチルケトン２．９９ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(4)を調製した。
透明被膜付基材(4)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(4)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(4)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(4)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(4)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(4)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(4)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
[実施例5]
透明被膜形成用塗布液(5)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）８．３２ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）３３．２８ｇに光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇ、メチルエチルケトン４．０８ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(5)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(5)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）８．３２ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）３３．２８ｇに光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇ、メチルエチルケトン４．０８ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(5)を調製した。
透明被膜付基材(5)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(5)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(5)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(5)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(5)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(5)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(5)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
[実施例6]
透明被膜形成用塗布液(6)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）２４．９６ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇ、メチルエチルケトン４．０８ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(6)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(6)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）２４．９６ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇ、メチルエチルケトン４．０８ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(6)を調製した。
透明被膜付基材(6)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(6)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(6)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(6)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(6)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(6)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(6)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
[実施例7]
五酸化アンチモン微粒子分散液(2)の調製
純水１８００ｇに苛性カリ（旭硝子(株)製：純度８５重量％）５６．２ｇを溶解した溶液中に三酸化アンチモン（日本精鉱(株)製：PATOX-K 純度９８.５重量％）１１１ｇを懸濁させた。この懸濁液を９５℃に加熱し、次いで、過酸化水素水（林純薬(株)製：特級、純度３５重量％）４０.１ｇを純水１９４.９ｇで希釈した水溶液を６時間で添加し、三酸化アンチモンを溶解し、その後１４時間熟成した。冷却後、得られた溶液から１０００ｇを取り、この溶液を純水６０００ｇで希釈した後、陽イオン交換樹脂層（三菱化学(株)製：pk-216）に通して脱イオン処理を行った。このときのｐＨは２.０、電導度は３.２ｍＳ/ｃｍであった。
五酸化アンチモン微粒子分散液(2)の調製
純水１８００ｇに苛性カリ（旭硝子(株)製：純度８５重量％）５６．２ｇを溶解した溶液中に三酸化アンチモン（日本精鉱(株)製：PATOX-K 純度９８.５重量％）１１１ｇを懸濁させた。この懸濁液を９５℃に加熱し、次いで、過酸化水素水（林純薬(株)製：特級、純度３５重量％）４０.１ｇを純水１９４.９ｇで希釈した水溶液を６時間で添加し、三酸化アンチモンを溶解し、その後１４時間熟成した。冷却後、得られた溶液から１０００ｇを取り、この溶液を純水６０００ｇで希釈した後、陽イオン交換樹脂層（三菱化学(株)製：pk-216）に通して脱イオン処理を行った。このときのｐＨは２.０、電導度は３.２ｍＳ/ｃｍであった。
ついで、温度７０℃で１０時間熟成した後、限外膜で濃縮して固形分濃度１４重量％の五酸化アンチモン微粒子分散液(2)を調製した。得られた五酸化アンチモン微粒子分散液(2)のｐＨは２.１、電導度は１.３ｍＳ/ｃｍであった。
また、電子顕微鏡写真を撮影し、１００個の粒子について測定した結果、五酸化アンチモン微粒子の平均粒子径は１５ｎｍであった。
次に五酸化アンチモン微粒子分散液(2)２００ｇを２５℃に調整し、テトラエトキシシラン（多摩化学(株)製：正珪酸エチル、ＳｉＯ2濃度２８．８％）５ｇを３分で添加した後、３０分攪拌を行った。その後メタノ−ル２００ｇを１分かけて添加し、５０℃に３０分間で昇温、１９時間過熱処理を行った。このときの固形分濃度は７重量％であった。
次いで限外濾過膜にて分散媒の水、メタノ−ルをメタノ−ルに置換し、固形分濃度３０重量％の表面処理した５五酸化アンチモン微粒子分散液(2)を調製した。
次に五酸化アンチモン微粒子分散液(2)２００ｇを２５℃に調整し、テトラエトキシシラン（多摩化学(株)製：正珪酸エチル、ＳｉＯ2濃度２８．８％）５ｇを３分で添加した後、３０分攪拌を行った。その後メタノ−ル２００ｇを１分かけて添加し、５０℃に３０分間で昇温、１９時間過熱処理を行った。このときの固形分濃度は７重量％であった。
次いで限外濾過膜にて分散媒の水、メタノ−ルをメタノ−ルに置換し、固形分濃度３０重量％の表面処理した５五酸化アンチモン微粒子分散液(2)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(7)の調製
固形分濃度３０重量％の表面処理した五酸化アンチモン微粒子分散液(2)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２４．９６ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇとメチルエチルケトン４．０８ｇとを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(7)を調製した。
固形分濃度３０重量％の表面処理した五酸化アンチモン微粒子分散液(2)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２４．９６ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇとメチルエチルケトン４．０８ｇとを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(7)を調製した。
透明被膜付基材(7)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(7)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(7)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(7)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(7)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(7)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(7)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
[実施例8]
五酸化アンチモン微粒子分散液(3)の調製
純水１８００ｇに苛性カリ（旭硝子(株)製：純度８５重量％）５６．２ｇを溶解した溶液中に三酸化アンチモン（日本精鉱(株)製：PATOX-K 純度９８.５重量％）１１１ｇを懸濁させた。この懸濁液を９５℃に加熱し、次いで、過酸化水素水（林純薬(株)製：特級、純度３５重量％）７２.９ｇを純水１９４.９ｇで希釈した水溶液を６時間で添加し、三酸化アンチモンを溶解し、その後１４時間熟成した。冷却後、得られた溶液から１０００ｇを取り、この溶液を純水６０００ｇで希釈した後、陽イオン交換樹脂層（三菱化学(株)製：pk-216）に通して脱イオン処理を行った。このときのｐＨは２.２、電導度は３.０ｍＳ/ｃｍであった。
五酸化アンチモン微粒子分散液(3)の調製
純水１８００ｇに苛性カリ（旭硝子(株)製：純度８５重量％）５６．２ｇを溶解した溶液中に三酸化アンチモン（日本精鉱(株)製：PATOX-K 純度９８.５重量％）１１１ｇを懸濁させた。この懸濁液を９５℃に加熱し、次いで、過酸化水素水（林純薬(株)製：特級、純度３５重量％）７２.９ｇを純水１９４.９ｇで希釈した水溶液を６時間で添加し、三酸化アンチモンを溶解し、その後１４時間熟成した。冷却後、得られた溶液から１０００ｇを取り、この溶液を純水６０００ｇで希釈した後、陽イオン交換樹脂層（三菱化学(株)製：pk-216）に通して脱イオン処理を行った。このときのｐＨは２.２、電導度は３.０ｍＳ/ｃｍであった。
ついで、温度７０℃で１０時間熟成した後、限外膜で濃縮して固形分濃度１４重量％の五酸化アンチモン微粒子分散液(3)を調製した。得られた五酸化アンチモン微粒子分散液(3)のｐＨは２.２、電導度は１.１ｍＳ/ｃｍであった。
また、電子顕微鏡写真を撮影し、１００個の粒子について測定した結果、五酸化アンチモン微粒子の平均粒子径は４０ｎｍであった。
次に五酸化アンチモン微粒子分散液(3)２００ｇを２５℃に調整し、テトラエトキシシラン（多摩化学(株)製：正珪酸エチル、ＳｉＯ2濃度２８．８％）５ｇを３分で添加した後、３０分攪拌を行った。その後メタノ−ル２００ｇを１分かけて添加し、５０℃に３０分間で昇温、１９時間過熱処理を行った。このときの固形分濃度は７重量％であった。
次いで限外濾過膜にて分散媒の水、メタノ−ルをメタノ−ルに置換し、固形分濃度３０重量％の表面処理した五酸化アンチモン微粒子分散液(3)を調製した。
次に五酸化アンチモン微粒子分散液(3)２００ｇを２５℃に調整し、テトラエトキシシラン（多摩化学(株)製：正珪酸エチル、ＳｉＯ2濃度２８．８％）５ｇを３分で添加した後、３０分攪拌を行った。その後メタノ−ル２００ｇを１分かけて添加し、５０℃に３０分間で昇温、１９時間過熱処理を行った。このときの固形分濃度は７重量％であった。
次いで限外濾過膜にて分散媒の水、メタノ−ルをメタノ−ルに置換し、固形分濃度３０重量％の表面処理した五酸化アンチモン微粒子分散液(3)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(8)の調製
固形分濃度３０重量％の表面処理した五酸化アンチモン微粒子分散液(3)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２４．９６ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびアセトン１６．３２ｇとメチルエチルケトン４．０８ｇとを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(8)を調製した。
固形分濃度３０重量％の表面処理した五酸化アンチモン微粒子分散液(3)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２４．９６ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびアセトン１６．３２ｇとメチルエチルケトン４．０８ｇとを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(8)を調製した。
透明被膜付基材(8)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(8)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(8)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。得られた透明被膜付基材(8)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(8)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(8)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。得られた透明被膜付基材(8)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
[実施例9]
透明被膜形成用塗布液(9)の調製
実施例２において、エチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇの代わりにプロピレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｐ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(9)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(9)の調製
実施例２において、エチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇの代わりにプロピレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｐ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(9)を調製した。
透明被膜付基材(9)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(9)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(9)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(9)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(9)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(9)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(9)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
[実施例10]
反射防止用透明被膜形成用塗布液(1)の調製
シリカ系微粒子分散液（日揮触媒化成（株）製：スルーリア４３２０、粒子屈折率＝１．３０、固形分濃度２０重量％、分散媒＝メチルイソブチルケトン）６．５ｇにメチルイソブチルケトン５．９ｇを加えて稀釈し、ついで、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学（株）製：ＤＰＥ-６Ａ、固形分濃度１００重量％）１．０３ｇと１．６−ヘキサンジオールジアクリレート（共栄社化学（株）製；ライトアクリレート１．６ＨＸ−Ａ）０．０９ｇと光重合開始剤（チバジャパン（株））製：イルガキュア１８４：ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．７６ｇとイソプロピルアルコール７０．６６ｇ、イソプロピルグリコール１５．００ｇを混合して、固形分濃度２．５重量％の反射防止用透明被膜形成用塗布液(1)を調製した。
反射防止用透明被膜形成用塗布液(1)の調製
シリカ系微粒子分散液（日揮触媒化成（株）製：スルーリア４３２０、粒子屈折率＝１．３０、固形分濃度２０重量％、分散媒＝メチルイソブチルケトン）６．５ｇにメチルイソブチルケトン５．９ｇを加えて稀釈し、ついで、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学（株）製：ＤＰＥ-６Ａ、固形分濃度１００重量％）１．０３ｇと１．６−ヘキサンジオールジアクリレート（共栄社化学（株）製；ライトアクリレート１．６ＨＸ−Ａ）０．０９ｇと光重合開始剤（チバジャパン（株））製：イルガキュア１８４：ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．７６ｇとイソプロピルアルコール７０．６６ｇ、イソプロピルグリコール１５．００ｇを混合して、固形分濃度２．５重量％の反射防止用透明被膜形成用塗布液(1)を調製した。
透明被膜付基材(10)の調製
実施例２と同様にして透明被膜付基材(2)を調製し、ついで、反射防止用透明被膜形成用塗布液(1)をバーコーター法（バー＃３）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、Ｎ2雰囲気下で６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて反射防止膜を設けた透明被膜付基材(10)を調製した。このときの反射防止用透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
得られた透明被膜付基材(10)の全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞、耐擦傷性を表１に示す。
実施例２と同様にして透明被膜付基材(2)を調製し、ついで、反射防止用透明被膜形成用塗布液(1)をバーコーター法（バー＃３）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、Ｎ2雰囲気下で６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて反射防止膜を設けた透明被膜付基材(10)を調製した。このときの反射防止用透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
得られた透明被膜付基材(10)の全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞、耐擦傷性を表１に示す。
[比較例1]
透明被膜形成用塗布液(R1)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)３４．６７ｇと非変性アクリル系樹脂として紫外線硬化樹脂（共栄社化学（株）製：ＤＰＥ−６Ａ、固形分濃度１００重量％）４１．６ｇに光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇとメチルエチルケトン４．０８ｇとを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(R1)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(R1)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)３４．６７ｇと非変性アクリル系樹脂として紫外線硬化樹脂（共栄社化学（株）製：ＤＰＥ−６Ａ、固形分濃度１００重量％）４１．６ｇに光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇとメチルエチルケトン４．０８ｇとを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(R1)を調製した。
透明被膜付基材(R1)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R1)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R1)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(R1)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R1)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R1)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(R1)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
[比較例2]
透明被膜形成用塗布液(R2)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)０．１８ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）２０．７８ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）３１．１７ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４） ４．１６ｇ、メタノール２３．３１ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇ、メチルエチルケトン４．０８ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(R2)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(R2)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)０．１８ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）２０．７８ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）３１．１７ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４） ４．１６ｇ、メタノール２３．３１ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン１６．３２ｇ、メチルエチルケトン４．０８ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(R2)を調製した。
透明被膜付基材(R2)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R2)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R2)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(R2)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R2)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R2)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(R2)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
[比較例3]
透明被膜形成用塗布液(R3)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)６０．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１３．５２ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２０．２８ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）２．７０ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン２．８３ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(R3)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(R3)の調製
実施例１と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子分散液(1)６０．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１３．５２ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２０．２８ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）２．７０ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン２．８３ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(R3)を調製した。
透明被膜付基材(R3)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R3)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。得られた透明被膜付基材(R3)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R3)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。得られた透明被膜付基材(R3)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
[比較例4]
アンチモンドープ酸化錫微粒子分散液(4)の調製
錫酸カリウム１３０ｇと酒石酸アンチモニルカリウム３０ｇを純水４００ｇに溶解した混合溶液を調製した。この調製した溶液を１２時間かけて、６０℃、攪拌下の硝酸アンモニウム１．０ｇと１５％アンモニア水１２ｇを溶解した純水１０００ｇ中に添加して加水分解を行った。このとき１０％硝酸溶液をＰＨ８．８に保つよう同時に添加した。生成した沈殿物を濾別洗浄した後、再び水に分散させて固形分濃度２０重量％の金属酸化物前駆体水酸化物分散液を調製した。
アンチモンドープ酸化錫微粒子分散液(4)の調製
錫酸カリウム１３０ｇと酒石酸アンチモニルカリウム３０ｇを純水４００ｇに溶解した混合溶液を調製した。この調製した溶液を１２時間かけて、６０℃、攪拌下の硝酸アンモニウム１．０ｇと１５％アンモニア水１２ｇを溶解した純水１０００ｇ中に添加して加水分解を行った。このとき１０％硝酸溶液をＰＨ８．８に保つよう同時に添加した。生成した沈殿物を濾別洗浄した後、再び水に分散させて固形分濃度２０重量％の金属酸化物前駆体水酸化物分散液を調製した。
この分散液を温度１００℃で噴霧乾燥して金属酸化物前駆体水酸化物粉体を調製した。この粉体を空気雰囲気下、５５０℃で２時間加熱処理することによりＳｂド−プ酸化錫（ＡＴＯ）粉末を得た。
この粉末６０ｇを濃度４．３重量％の水酸化カリウム水溶液１４０ｇに分散させ、分散液を３０℃に保持しながらサンドミルで３時間粉砕してゾルを調製した。
次に、このゾルをイオン交換樹脂でＰＨが３．０になるまで脱アルカリの処理を行い、固形分濃度１４重量％のＳｂド−プ酸化錫微粒子分散液を調製した。この分散液のＰＨは３．２であった。また粒子の平均粒子径は２０ｎｍであった。
次に、このゾルをイオン交換樹脂でＰＨが３．０になるまで脱アルカリの処理を行い、固形分濃度１４重量％のＳｂド−プ酸化錫微粒子分散液を調製した。この分散液のＰＨは３．２であった。また粒子の平均粒子径は２０ｎｍであった。
次にＡＴＯ微粒子分散液(4)２００ｇを２５℃に調整し、テトラエトキシシラン（多摩化学(株)製：正珪酸エチル、ＳｉＯ2濃度２８．８％）５ｇを３分で添加した後、３０分攪拌を行った。その後メタノ−ル２００ｇを１分かけて添加し、５０℃に３０分間で昇温、１９時間過熱処理を行った。このときの固形分濃度は７重量％であった。
次いで限外濾過膜にて分散媒の水、メタノ−ルをメタノ−ルに置換し、固形分濃度３０重量％の表面処理したＡＴＯ微粒子分散液(4)を調製した。
次いで限外濾過膜にて分散媒の水、メタノ−ルをメタノ−ルに置換し、固形分濃度３０重量％の表面処理したＡＴＯ微粒子分散液(4)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(R4)の調製
固形分濃度３０重量％の表面処理したＡＴＯ微粒子分散液(4)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２４．９６ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４） ３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン２０．４０ｇｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(R-4)を調製した。
固形分濃度３０重量％の表面処理したＡＴＯ微粒子分散液(4)３４．６７ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１６．６４ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２４．９６ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４） ３．３３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン２０．４０ｇｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(R-4)を調製した。
透明被膜付基材(R4)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R4)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R4)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(R4)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R4)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R4)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(R4)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
[比較例5]
透明被膜形成用塗布液(R5)の調製
比較例４と同様にして調製したＡＴＯ微粒子分散液(4)１７．３３ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１８．７２ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２８．０８ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．７４ｇ、メタノール１１．７３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン２０．４０ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(R5)を調製した。
透明被膜形成用塗布液(R5)の調製
比較例４と同様にして調製したＡＴＯ微粒子分散液(4)１７．３３ｇとエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、樹脂濃度１００重量％）１８．７２ｇ、非変性アクリル系樹脂（共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、樹脂濃度１００重量％）２８．０８ｇ、に光開始剤（チバスペシャリティ(株)製：イルガキュア１８４）３．７４ｇ、メタノール１１．７３ｇおよびケトン系溶媒としてアセトン２０．４０ｇを充分に混合して固形分濃度５２重量％の透明被膜形成用塗布液(R5)を調製した。
透明被膜付基材(R5)の調製
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R5)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R5)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R5)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R5)を調製した。透明被膜の膜厚は５μｍであった。
得られた透明被膜付基材(R5)の全光線透過率、ヘーズ、被膜の屈折率、表面抵抗値、密着性、鉛筆硬度、着色、干渉縞および耐擦傷性を表１に示す。
Claims (12)
- 五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス形成成分と分散媒とからなり、五酸化アンチモン微粒子が下記式(1)で表される有機珪素化合物で表面処理されてなり、全固形分の濃度が５〜６０重量％の範囲にあり、表面処理五酸化アンチモン微粒子の濃度が固形分としての濃度が０．１５〜１８重量％の範囲にあり、マトリックス形成成分の固形分としての濃度が０．７〜５９．４重量％の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成用塗布液。
Ｒn-ＳiＸ4-n （１）
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘ：炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎ：０〜３の整数） - 前記五酸化アンチモン微粒子の平均粒子径が５〜５０ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の透明被膜形成用塗布液。
- 前記アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)がエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液。
- 前記マトリックス形成成分がさらに非変性アクリル系樹脂(B)を含み、マトリックス形成成分中の非変性アクリル系樹脂(B)の含有量が固形分として５〜８５重量％の範囲にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液。
- 前記分散媒がアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホロン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルから選ばれる１種または２種以上のケトン類であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液。
- 前記分散媒のケトン類が、アセトンおよび／またはメチルエチルケトンであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の透明被膜形成用塗布液。
- 五酸化アンチモン微粒子とアルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)を含むマトリックス成分とからなり、五酸化アンチモン微粒子が下記式(2)で表される有機珪素化合物で表面処理されてなり、該表面処理五酸化アンチモン微粒子の含有量が３〜３０重量％の範囲にあり、表面抵抗値が１０8〜１０11Ω／□の範囲にあり、ヘーズが０．３％以下であり、全光線透過率が９０％以上であり、基材の屈折率（ＮS）と前記透明被膜の屈折率（ＮH）との差が０．０２以下であることを特徴とする透明被膜付基材。
Ｒn-ＳiＸ4-n （２）
（但し、式中、Ｒは炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘ：炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、ｎ：０〜３の整数） - 前記五酸化アンチモン微粒子の平均粒子径が５〜５０ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項７に記載の透明被膜付基材。
- 前記アルキレンオキサイド変性アクリル系樹脂(A)がエチレンオキサイド変性アクリル系樹脂であることを特徴とする請求項７または８に記載の透明被膜付基材。
- 前記マトリックス成分がさらに非変性アクリル系樹脂(B)を含み、マトリックス成分中の非変性アクリル系樹脂(B)の含有量が固形分として５〜８５重量％の範囲にあることを特徴とする請求項７〜９のいずれかに記載の透明被膜付基材。
- 前記透明被膜の膜厚が１〜２０μｍの範囲にあることを特徴とする請求項７〜１０のいずれかに記載の透明被膜付基材。
- 前記基材がトリアセチルセルロースであることを特徴とする請求項７〜１１のいずれかに記載の透明被膜付基材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010294029A JP2012140534A (ja) | 2010-12-28 | 2010-12-28 | 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010294029A JP2012140534A (ja) | 2010-12-28 | 2010-12-28 | 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012140534A true JP2012140534A (ja) | 2012-07-26 |
Family
ID=46677147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010294029A Pending JP2012140534A (ja) | 2010-12-28 | 2010-12-28 | 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2012140534A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018172527A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 日揮触媒化成株式会社 | 透明被膜形成用塗布液及び透明被膜付基材 |
| JP2020514464A (ja) * | 2016-12-29 | 2020-05-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 可撓性ナノ粒子光学コーティング組成物 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004122611A (ja) * | 2002-10-03 | 2004-04-22 | Toppan Printing Co Ltd | 帯電防止ハードコートフィルム及びそれを用いた表示部材 |
| JP2006051781A (ja) * | 2004-07-12 | 2006-02-23 | Toppan Printing Co Ltd | ハードコートフィルム及びそのフィルムを備えた表示装置 |
| JP2007137057A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-06-07 | Jsr Corp | 光学物品の表面コート用積層体 |
| JP2008276944A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | Ohara Inc | 透明導電性材料、透明導電膜及び透明導電膜の形成方法 |
| JP2009059506A (ja) * | 2007-08-30 | 2009-03-19 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 透明導電性被膜付基材および透明導電性被膜形成用塗布液 |
| JP2010001396A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材 |
| JP2010072039A (ja) * | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Nof Corp | 反射防止性フィルム及びそれを用いた電子画像表示装置 |
| JP2010077409A (ja) * | 2008-08-26 | 2010-04-08 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法および該樹脂被覆金属酸化物粒子を含む透明被膜形成用塗布液ならびに透明被膜付基材 |
-
2010
- 2010-12-28 JP JP2010294029A patent/JP2012140534A/ja active Pending
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004122611A (ja) * | 2002-10-03 | 2004-04-22 | Toppan Printing Co Ltd | 帯電防止ハードコートフィルム及びそれを用いた表示部材 |
| JP2006051781A (ja) * | 2004-07-12 | 2006-02-23 | Toppan Printing Co Ltd | ハードコートフィルム及びそのフィルムを備えた表示装置 |
| JP2007137057A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-06-07 | Jsr Corp | 光学物品の表面コート用積層体 |
| JP2008276944A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | Ohara Inc | 透明導電性材料、透明導電膜及び透明導電膜の形成方法 |
| JP2009059506A (ja) * | 2007-08-30 | 2009-03-19 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 透明導電性被膜付基材および透明導電性被膜形成用塗布液 |
| JP2010001396A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材 |
| JP2010077409A (ja) * | 2008-08-26 | 2010-04-08 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法および該樹脂被覆金属酸化物粒子を含む透明被膜形成用塗布液ならびに透明被膜付基材 |
| JP2010072039A (ja) * | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Nof Corp | 反射防止性フィルム及びそれを用いた電子画像表示装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020514464A (ja) * | 2016-12-29 | 2020-05-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 可撓性ナノ粒子光学コーティング組成物 |
| JP7076888B2 (ja) | 2016-12-29 | 2022-05-30 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 可撓性ナノ粒子光学コーティング組成物 |
| JP2018172527A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 日揮触媒化成株式会社 | 透明被膜形成用塗布液及び透明被膜付基材 |
| JP6990521B2 (ja) | 2017-03-31 | 2022-01-12 | 日揮触媒化成株式会社 | 透明被膜形成用塗布液及び透明被膜付基材 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5555082B2 (ja) | 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 | |
| KR101416610B1 (ko) | 투명 피막 형성용 도료 및 투명 피막부 기재 | |
| JP5078620B2 (ja) | 中空シリカ微粒子、それを含む透明被膜形成用組成物、および透明被膜付基材 | |
| JP5142617B2 (ja) | 金属酸化物粒子の表面処理方法、該表面処理金属酸化物粒子を含む分散液、透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 | |
| JP6016548B2 (ja) | 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 | |
| JP5546239B2 (ja) | ハードコート膜付基材およびハードコート膜形成用塗布液 | |
| JP5378771B2 (ja) | 反射防止膜付基材および反射防止膜形成用塗布液 | |
| JP5221084B2 (ja) | ハードコート膜付基材およびハードコート膜形成用塗布液 | |
| JP2008291174A (ja) | 透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材 | |
| JP5148846B2 (ja) | 透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材 | |
| JP6112753B2 (ja) | 透明被膜形成用塗布液ならびに透明被膜付基材、および疎水性金属酸化物粒子の製造方法 | |
| JP2015049319A (ja) | 透明基材と防汚性反射防止膜とを備える物品およびその製造方法 | |
| JP2018123043A (ja) | シリカ系粒子分散液の製造方法、シリカ系粒子分散液、透明被膜形成用塗布液及び透明被膜付基材 | |
| JP5554904B2 (ja) | 透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材 | |
| JP5877708B2 (ja) | ハードコート膜付基材および該ハードコート膜形成用塗布液 | |
| JP5696581B2 (ja) | 帯電防止ハードコート塗材及び光学部材 | |
| JP2004204175A (ja) | 着色顔料粒子を含む塗料、可視光遮蔽膜付基材 | |
| JP2013136710A (ja) | 透明性着色膜付基材および透明着色膜形成用塗布液 | |
| JP2011132343A (ja) | 帯電防止ハードコート塗材及び光学部材 | |
| JP5534758B2 (ja) | リン含有五酸化アンチモン微粒子および該微粒子を含む透明導電性被膜形成用塗布液ならびに透明導電性被膜付基材 | |
| JP2009108123A (ja) | 表面処理金属酸化物粒子の製造方法、該微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 | |
| JP2012140534A (ja) | 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 | |
| JP2009059506A (ja) | 透明導電性被膜付基材および透明導電性被膜形成用塗布液 | |
| JP5931009B2 (ja) | 表面処理金属酸化物粒子の製造方法、該粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 | |
| JP5686942B2 (ja) | ハードコート膜形成用塗料およびハードコート膜付基材 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130902 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140611 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140617 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140815 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140902 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20141030 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20141105 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141201 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20141201 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150609 |