JP5221084B2 - ハードコート膜付基材およびハードコート膜形成用塗布液 - Google Patents
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Description
[1]基材と、基材の少なくとも一方の表面上に形成された複合酸化物粒子とマトリックス
成分からなるハードコート膜とからなり、
該複合酸化物粒子が酸化ジルコニムをコアとし、五酸化アンチモンおよび/またはシリカをシェルとするコアシェル構造を有する複合酸化物粒子であり、
ハードコート膜の屈折率(HCn)と基材の屈折率(Sn)との屈折率差が0.3以下であることを特徴とするハードコート膜付基材。
[2]前記複合酸化物粒子の平均粒子径が5〜120nmの範囲にあり、複合酸化物粒子の
屈折率(Pn)が1.50〜2.10の範囲にある[1]のハードコート膜付基材。
[3]前記複合酸化物粒子の最外層が五酸化アンチモンである[1]または[2]のハードコート
膜付基材。
[4]前記複合酸化物粒子が有機ケイ素化合物で表面処理されており、該有機ケイ素化合物
が下記式(1)で表される有機ケイ素化合物、または下記式(2)で表される有機ケイ素化合物および下記式(1)で表される有機ケイ素化合物である[1]〜[3]のハードコート膜付基材。
(式中、Rは、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基を表す。Xは(メタ)アクロイル基、エポキシ基(グリシド基)、ウレタン基、アミノ基、フルオロ基から選ばれる1種または2種以上の官能基。
(式中、Rは、水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基を表す。)
[5]前記マトリックス成分が、シリコーン系樹脂および/または有機系樹脂からなる[1]〜[4]のハードコート膜付基材。
[6]前記ハードコート膜の表面抵抗値が108〜1014Ω/□の範囲にある[1]〜[5]のハードコート膜付基材。
[7]複合酸化物粒子とマトリックス形成成分とからなるハードコート膜形成用塗布液であ
って、該複合酸化物粒子が酸化ジルコニムをコアとし、五酸化アンチモンおよび/またはシリカをシェルとするコアシェル構造を有する複合酸化物粒子であることを特徴とするハードコート膜形成用塗布液。
[8]前記複合酸化物粒子の平均粒子径が5〜120nmの範囲にあり、複合酸化物粒子の
屈折率(Pn)が1.50〜2.10の範囲にある[7]のハードコート膜形成用塗布液。
[9]前記複合酸化物粒子の最外層が五酸化アンチモンである[7]または[8]のハードコート
膜形成用塗布液。
[10]前記複合酸化物粒子が有機ケイ素化合物で表面処理されており、該有機ケイ素化合物が下記式(1)で表される有機ケイ素化合物、または下記式(2)で表される有機ケイ素化合物および下記式(1)で表される有機ケイ素化合物である[7]〜[9]のハードコート膜形成用塗
布液。
(式中、Rは、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基を表す。X-は(メタ)アクロイル基、エポキシ基(グリシド基)、ウレタン基、アミノ基、フルオロ基から選ばれる1種または2種以上の官能基。
(式中、Rは、水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基を表す。)
[11]前記マトリックス形成成分が、シリコーン系樹脂および/または有機系樹脂からなる[7]〜[10]のハードコート膜形成用塗布液。
ハードコート膜付基材
本発明のハードコート膜付基材は、基材と、基材上に形成されたハードコート膜とからなる。
本発明に用いる基材としては、従来公知のガラス、シクロポレオレフィンフィルム、トリアセチルセルロースフィルム(TAC)、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム等のセルロース系基材、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系基材、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、環状ポリオレフィンフィルム等のポリオレフィン系基材、ナイロン−6、ナイロン−66等のポリアミド系基材、ポリアクリル系フィルム、ポリウレタン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、アクリロニトリルフィルム等の基材が挙げられる。また、特開平8−48940号公報に開示した、メルカプト化合物の1種以上と、ポリイソシアネートの1種以上とを反応させて得られる含硫ウレタン樹脂基材、硫黄原子と芳香族管を構成要素とする(メタ)アクリルモノマーおよび/またはビニルモノマーと、他の重合性モノマーとから得られる共重合体である合成樹脂性基材等、従来、眼鏡レンズ基材として用いられる合成樹脂レンズ基材も好適に用いることができる。
基材の屈折率が1.45未満の場合は、本発明の複合酸化物粒子の屈折率が1.50以上であり、得られる透明被膜の屈折率と基材の屈折率との差が0.3以上となり、干渉縞が発生したり、塗布ムラが見えやすくなる場合がある。
ハードコート膜
ハードコート膜は、マトリックス成分と、酸化ジルコニムをコアとし、五酸化アンチモンおよび/またはシリカをシェルとするコアシェル構造を有する複合酸化物粒子とを含んでいる。このような複合酸化物粒子は、分散性のよい五酸化アンチモンやシリカで表面を覆われているので分散性、分散安定性が高くできる。さらに、酸化ジルコニウムは屈折率が高いが、このシェルを形成することで、屈折率を任意に制御できるだけではなく、ヘーズや光の散乱も抑制できる。
(i)複合酸化物粒子
本発明に用いるコアシェル構造を有する複合酸化物粒子は、ジルコニアコア粒子(以下、単にコア粒子ということがある)とシェル層とからなる。
ン第1層-シリカ第2層-五酸化アンチモン最外層、さらには、ジルコニアコア-五酸化ア
ンチモン・シリカ複合酸化物中間層-五酸化アンチモン最外層などが挙げられる。
10-1〜103Ω・cmの範囲にあることが好ましい。体積抵抗値が前記範囲にあると耐
擦傷性に加え帯電防止性能を有するハードコート膜が得られるので好適に用いることができる。なお、粒子の体積抵抗値は、以下にして測定される。
る。
B’、A’は9.8MPa加圧時に、試料を充填していない状態での端子間距離および抵抗値である。また定数0.5(cm2)はセルの面積である。
例えば、(1)五酸化アンチモンを被覆した複合酸化物粒子の場合、
平均粒子径が概ね3〜100nmの酸化ジルコニウム粒子分散液に、アンチモン酸ナトリウム、アンチモン酸カリウム等の水溶液と混合し、熟成し、ついでイオン交換樹脂等によりイオン除去することにより得ることができる。この時得られる複合酸化物粒子の屈折率(Pn)は概ね1.80〜2.10の範囲にある。
平均粒子径が概ね3〜100nmの酸化ジルコニウム粒子分散液に、珪酸アルカリ水溶液を添加し、必要に応じて加熱し、熟成し、イオン交換樹脂等によりイオン除去することにより得ることができる。また、別の方法として、平均粒子径が概ね3〜100nmの酸化ジルコニウム粒子分散液に、シリコンアルコキサイドのアルコール溶液を添加し、必要に応じて加水分解触媒として塩酸や硝酸等の酸もしくはアンモニア等の塩基を添加し、熟成することにより得ることができる。この時得られる複合酸化物粒子の屈折率(Pn)は概ね1.50〜2.00の範囲にある。
前記(2)と同様にしてシリカで被覆した複合酸化物粒子分散液を調製した後、前記(1)と同様にして五酸化アンチモンを被覆することによって得ることができる。
上記に於いて、五酸化アンチモンおよび/またはシリカの使用量はシェルの含有量が前記範囲となるように用いる。また、屈折率(Pn)が後述するように1.50〜2.10の範囲となるように用いる。
複合酸化物粒子の屈折率が前記範囲外のものは得ることが困難であり、得られたとしても分散安定性が不充分であり、ハードコート膜を形成しても基材との密着性、膜強度、等が不充分となり、さらに場合によっては干渉縞を生じる場合がある。
複合酸化物粒子の平均粒子径は5〜120nm、さらには10〜100nmの範囲にあることが好ましい。平均粒子径が小さいものは得ることが困難であり、得られたとしても分散性等が不充分となることがある。平均粒子径が大きすぎてもハードコート膜のヘーズが悪化する傾向にある。
素化合物(1)ともいう)、または下記式(2)で表される有機ケイ素化合物(有機ケイ素化合物(2)ともいう)および下記式(1)で表される有機ケイ素化合物が好適である。
(式中、Rは、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基を表す。Xは(メタ)アクロイル基、エポキシ基(グリシド基)、ウレタン基、アミノ基、フ
ルオロ基から選ばれる1種または2種以上の官能基。
(式中、Rは、水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基を表す。)
有機ケイ素化合物(1)として具体的には、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、
γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエト
キシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシ
ラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシ
シラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
が向上し、表面が平滑で、耐擦傷性や鉛筆硬度に優れたハードコート膜を形成することができる。有機ケイ素化合物(1)の処理量は、複合酸化物粒子の屈折率によっても異なるが
、得られる表面処理複合酸化物粒子中の有機ケイ素化合物(1)をX-R-SiO3/2として、
1〜50重量%、さらには3〜30重量%の範囲にあることが好ましい。有機ケイ素化合物(1)の処理量が少ないと、表面処理が不充分で、前記分散安定性向上効果が充分得られ
ないことがある。有機ケイ素化合物の処理量多すぎると、表面処理複合酸化物粒子の屈折率が低すぎて基材との屈折率差が0.3以上になる場合があり、光学干渉(干渉縞)が発生する場合がある。
ラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。有機ケイ素化合物(2)は
、有機ケイ素化合物(1)と混合して使用してもよく、また、複合酸化物粒子を予め有機ケ
イ素化合物(2)で表面処理しておき、ついで有機ケイ素化合物(1)で表面処理すると、有機ケイ素化合物(1)(有機ケイ素化合物の加水分解物)との結合が促進されるためか得られ
る表面処理複合酸化物粒子の分散安定性が向上する傾向にあり、場合によっては前記式(1)で表される有機ケイ素化合物の使用量を低減することもできるので望ましい。
ケイ素化合物がSiO2として70重量%以下、さらには60重量%以下であることが好
ましい。また有機ケイ素化合物(2)の処理量の下限としては、含まれていれば良いものの
、望ましくは、1重量%以上、さらには3重量%以上であることが望ましい。有機ケイ素化合物(2)の処理量が多すぎると、得られる表面処理複合酸化物微粒子の屈折率が前記範
囲を外れて低くなる場合がある。有機ケイ素化合物の処理量が少なすぎると、有機ケイ素化合物(1)の結合が不充分となり、充分な表面処理効果が得られないことがある。
マトリックス成分としては、シリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス成分、有機樹脂系マトリックス成分が用いられる。
解物、加水分解重縮合物が好適に用いられる。
Rq-SiX4-q (3)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、q:0〜3の整数。)
このような有機ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、3,3,3−ト
リフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシ
ドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)ア
クリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシ
シラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラ
ン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチ
ルシラノール、メチルトリクロロシラン等、およびこれらの混合物が挙げられる。
熱可塑性樹脂、電子線硬化性樹脂等が挙げられる。
このような樹脂として、たとえば、従来から用いられているポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、酢酸ビニル樹脂、シリコーンゴムなどの熱可塑性樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、ブチラール樹脂、反応性シリコーン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、紫外線硬化型アクリル樹脂などの熱硬化性樹脂、紫外線硬化型アクリル樹脂などが挙げられる。熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂の場合、ハードコート膜中では硬化物(すなわち重合物、反応物)となっている。
顔料微粒子としては、亜鉛華、チタン白、リトポン、鉛白、バライト、ベンガラ、黄鉛、コバルトブルー、カーボングラック、黄土、エメラルドグリーン、コバルトグリーン、ウルトラマリン、プルシアンブルー、マンガンバイオレット、コバルトバイオレット、金、銀等の無機顔料、ベンジンイエロー、カーミンFB、等のアゾ系黄色、ペリレン、ペリノン、ジオキサジン、チオイソジゴ、イソインドリノン、キノフタロン、キナクリドン、フタロシアニン系顔料、レーキレッド、メチルバイオレットレーキ、エオシンレーキ、グリーンゴールド、ピロメテン顔料、テトラアザポルフィリン系、スクワリリウム等の有機顔料が挙げられる。このような顔料微粒子を含んでいると、特定波長の吸収が得られ選択吸収フィルターとしての機能が付与できる。
ハードコート膜の厚さが前記範囲の下限未満の場合は、ハードコート膜が薄いためにハードコート膜表面に加わる応力を充分吸収することがでないために、ハードコート機能が不充分となる。ハードコート膜の厚さが前記範囲の上限を越えると、膜の厚さが均一になるように塗布したり、均一に乾燥することが困難となり、このためクラックやボイドの発生により得られるハードコート膜の強度が不充分となり、さらに透明性が不充分となることがある。
本発明のハードコート膜は、最外層が五酸化アンチモンの場合に、表面抵抗値が108〜1014Ω/□、さらには108〜1013Ω/□の範囲にあることが好ましい。ハードコート膜の表面抵抗値が低いものは、本発明の複合酸化物粒子からは得ることが困難であり、導電性を向上させるために金属微粒子、金属酸化物微粒子を多用すると耐擦傷性、透過性、が不充分となることがある。ハードコート膜の表面抵抗値が高すぎると、帯電防止効果が得られず、例えば、基材表面へのほこりの付着が多くなる場合がある。
本発明のハードコート膜付基材は、前記したハードコート膜が基材の一方の表面上のみならず両面に設けてもよく、さらに、必要に応じてハードコート膜の他に従来公知のプライマー膜、高屈折率膜、導電性膜、反射防止膜が形成されていてもよい。
本発明に係るハードコート膜形成用塗布液は、マトリックス形成成分と、酸化ジルコニムをコアとし、五酸化アンチモンおよび/またはシリカをシェルとするコアシェル構造を有する複合酸化物粒子と分散媒とを含んでいる。
複合酸化物粒子
複合酸化物粒子としては前記した複合酸化物粒子が用いられる。
ハードコート膜形成用塗布液中の複合酸化物粒子の濃度は、得られるハードコート膜中の複合酸化物粒子の含有量が前記したように5〜90重量%、好ましくは10〜80重量%となるように用いるが、塗布液中に固形分として0.1〜40重量%、さらには0.2〜30重量%の範囲にあることが好ましい。
マトリックス形成成分
マトリックス形成成分としては、シリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス形成成分、有機樹脂系マトリックス形成成分等が用いられる。
れらの加水分解物、加水分解重縮合物が好適に用いられる。
また、有機樹脂系マトリックス形成成分としては、塗料用樹脂として公知の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電子線硬化性樹脂等が挙げられる。マトリックス形成成分は、熱可塑性樹脂の場合、マトリックス形成成分とマトリックス成分が同じものであり、熱硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂の場合、これらの樹脂の前駆体(すなわちモノマーやオリゴマー)である。
ハードコート膜形成用塗布液中の複合酸化物粒子の固形分濃度(CP)とマトリックス
形成成分の固形分濃度(CM)との合計濃度は2〜50重量%、さらには3〜40重量%
の範囲にあることが好ましい。
重量%、さらには0.2〜30重量%の範囲にあることが好ましい。
固形分濃度(CP)が少ないと、得られる透明被膜中の金属酸化物粒子の含有量が少な
くなるために複合酸化物粒子の特性、例えば、導電性、屈折率等が充分発現されない場合がある。固形分濃度(CP)が多すぎると、粒子間の相互作用が高く塗料の粘度が上昇し
経時安定性が不充分となる場合がある。
として1.9〜49.9重量%、さらには2.8〜40重量%の範囲にあることが好ましい。マトリックス形成成分の濃度(CM)が少ないと、得られるハードコート膜の膜厚が薄過ぎたり、ハードコート膜の性能、例えば、ハードコート性能や透明性が不充分となったり、粒子の割合が多すぎて密着性等が不充分となることがある。マトリックス形成成分の濃度(CM)が多すぎると、得られるハードコート膜のマトリックスの含有量が多く、逆に複合酸化物粒子の含有量が少なくなるために複合酸化物微粒子の特性、例えば導電性、屈折率等が充分発現されない場合がある。
分散媒
本発明に用いる分散媒としてはマトリックス形成成分、必要に応じて用いる重合開始剤を溶解あるいは分散することができれば特に制限はなく、従来公知の分散媒を用いることができる。
類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、トルエン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。
[実施例]
以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、本発明はかかる実施例に何ら限定されるものではない。
[実施例1]
複合酸化物粒子(1)の調製
酸化ジルコニウム微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:CC-1001ZRV、固形分濃度10重量%、分散媒:水、平均粒子径:20nm)90gにSb2O5としての濃度1重
量%のアンチモン酸カリウム水溶液100gを添加し、ついで陽イオン交換樹脂(三菱化学 SK1BH)を10g添加し脱イオン後80℃で6時間熟成し、ロータリーエバポレーターを用
いて濃縮しコアを酸化ジルコニウム、シェルを五酸化アンチモンとした複合酸化微粒子(1)(固形分濃度10重量%、平均粒子径20nm)の水分散液を得た。得られた粒子の
屈折率を標準屈折率法で測定したところ2.05であった。
ル100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水1gを添加し、さらに60℃で5時
間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理複合酸化物粒子(1)の 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理複合酸化物粒子(1)の平均粒子径を表に示した。
ハードコート膜形成用塗布液(1)の調製
アクリル系樹脂(大日本インキ(株)製:17-824-9、樹脂濃度:79.8重量%、溶媒
:酢酸ブチル)をイソプロピルアルコール/メチルイソブチルケトン=1:1で希釈して樹
脂濃度30重量%のハードコート膜形成用樹脂成分(1)を調製した。
ハードコート膜付基材(1)の製造
ハードコート膜形成用塗布液(1)を、PETフィルム(東洋紡製コスモシャイン A4100、厚さ:188μm、屈折率:1.67、基材ヘーズ0.8%)にバーコーター法(#10)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート膜付基材(1)を製造した。このときのハードコート膜の厚さは3
μmであった。
びヘーズをヘーズメーター(スガ試験機(株)製)により測定し、反射率を反射率計(大塚電子製MCPD-3000)で測定し、ハードコート膜の屈折率を分光エリプソメーター(
ソプラ社製)で測定し結果を表2に示した。さらに、耐擦傷性、鉛筆硬度および耐アルカリ性、を次のように測定し、結果を表に示した。
耐擦傷性の測定
#0000スチールウールを用い、荷重1000g/cm2で20回摺動し、膜の表面を目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表2に示した。
筋条に傷が僅かに認められる:○
筋条に傷が多数認められる :△
面が全体的に削られている :×
鉛筆硬度の測定
JIS−K−5400に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。
アルカリ性の評価
透明被膜付基材(1)の透明被膜上に、0.01NのNaOH水溶液を滴下し、3分間放
置した後拭き取り、膜の表面を目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表に示した。
息をかけると滴下後が認められる:○
滴下跡が認められる :△
膜面が全体的に剥れている :×
[実施例2]
複合酸化物粒子(2)の調製
酸化ジルコニウム微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:CC-1002ZRV、固形分濃度10重量%、分散媒:水、平均粒子径:10nm)90gにSb2O5としての濃度1重量
%のアンチモン酸カリウム水溶液100gを添加し、ついで陽イオン交換樹脂(三菱化学
SK1BH)を10g添加し脱イオン後80℃で6時間熟成し、ロータリーエバポレーターを用い
て濃縮しコアを酸化ジルコニウム、シェルを五酸化アンチモンとした複合酸化微粒子(2
)(固形分濃度10重量%、平均粒子径13nmの水分散液を得た。得られた粒子の屈折率は2.05であった。
ル100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水1gを添加し、さらに60℃で5時
間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理複合酸化物粒子(2)の 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理複合酸化物粒子(2)の平均粒子径を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗布液(2)の調製
実施例1と同様にして調製したハードコート膜形成用樹脂成分(1)10gに、表面処理複合酸化物粒子(2)分散液10gを混合してハードコート膜形成用塗布液(2)を調製した。ハードコート膜付基材(2)の製造
ハードコート膜形成用塗布液(2)を、PETフィルム(東洋紡製コスモシャイン A4100、厚さ:188μm、屈折率:1.67、基材ヘーズ0.8%)にバーコーター法(#10)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート膜付基材(2)を製造した。このときのハードコート膜の厚さは3
μmであった。
射率、耐擦傷性、鉛筆硬度および耐アルカリ性を測定し、結果を表2に示した。
[実施例3]
複合酸化物粒子(3)の調製
酸化ジルコニウム微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:CC-1003ZRV、固形分濃度10重量%、分散媒:水、平均粒子径:50nm)80gにSb2O5としての濃度1重量
%のアンチモン酸カリウム水溶液200gを添加し、ついで陽イオン交換樹脂(三菱化学
SK1BH)を10g添加し脱イオン後80℃で6時間熟成し、ロータリーエバポレーターを用い
て濃縮しコアを酸化ジルコニウム、シェルを五酸化アンチモンとした複合酸化微粒子(3
)(固形分濃度10重量%、平均粒子径52nm)の水分散液を得た。得られた粒子の屈折率は2.05であった。
ル100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水1gを添加し、さらに60℃で5時
間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理複合酸化物粒子(3)の 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理複合酸化物粒子(3)の平均粒子径を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗布液(3)の調製
実施例1と同様にして調製したハードコート膜形成用樹脂成分(1)10gに、表面処理複合酸化物粒子(3)分散液10gを混合してハードコート膜形成用塗布液(3)を調製した。ハードコート膜付基材(3)の製造
ハードコート膜形成用塗布液(3)を、PETフィルム(東洋紡製コスモシャイン A4100、厚さ:188μm、屈折率:1.67、基材ヘーズ0.8%)にバーコーター法(#10)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート膜付基材(3)を製造した。このときのハードコート膜の厚さは3
μmであった。
射率、耐擦傷性、鉛筆硬度および耐アルカリ性を測定し、結果を表2に示した。
[実施例4]
複合酸化物粒子(4)の調製
酸化ジルコニウム微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:CC-1001ZRV、固形分濃度10重量%、分散媒:水、平均粒子径:20nm)95gにSb2O5としての濃度1重
量%のアンチモン酸カリウム水溶液50gを添加し、ついで陽イオン交換樹脂(三菱化学
SK1BH)を10g添加し脱イオン後80℃で6時間熟成し、ロータリーエバポレーターを用い
て濃縮しコアを酸化ジルコニウム、シェルを五酸化アンチモンとした複合酸化微粒子(4
)(固形分濃度10重量%、平均粒子径21nm)の水分散液を得た。得られた粒子の屈折率は2.06であった。
ル100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水1gを添加し、さらに60℃で5時
間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理複合酸化物粒子(4)の2-プロパノール分散液を調製した。表面
処理複合酸化物粒子(4)の平均粒子径を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗布液(4)の調製
実施例1と同様にして調製したハードコート膜形成用樹脂成分(1)10gに、表面処理複合酸化物粒子(4)分散液10gを混合してハードコート膜形成用塗布液(4)を調製した。ハードコート膜付基材(4)の製造
ハードコート膜形成用塗布液(4)を、PETフィルム(東洋紡製コスモシャイン A4100、厚さ:188μm、屈折率:1.67、基材ヘーズ0.8%)にバーコーター法(#1
0)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート膜付基材(4)を製造した。このときのハードコート膜の厚さは3
μmであった。
射率、耐擦傷性、鉛筆硬度および耐アルカリ性を測定し、結果を表2に示した。
[実施例5]
複合酸化物粒子(5)の調製
酸化ジルコニウム微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:CC-1001ZRV、固形分濃度10重量%、分散媒:水、平均粒子径:20nm)60gにSb2O5としての濃度1重
量%のアンチモン酸カリウム水溶液400gを添加し、ついで陽イオン交換樹脂(三菱化学 SK1BH)を10g添加し脱イオン後80℃で6時間熟成し、ロータリーエバポレーターを用
いて濃縮しコアを酸化ジルコニウム、シェルを五酸化アンチモンとした複合酸化微粒子(5)(固形分濃度10重量%、平均粒子径25nm)の水分散液を得た。得られた粒子の
屈折率は2.03であった。
ル100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水1gを添加し、さらに60℃で5時
間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理複合酸化物粒子(5)の 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理複合酸化物粒子(5)の平均粒子径を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗布液(5)の調製
実施例1と同様にして調製したハードコート膜形成用樹脂成分(1)8gに、表面処理複合酸化物粒子(5)分散液12gを混合してハードコート膜形成用塗布液(5)を調製した。
ハードコート膜付基材(5)の製造
ハードコート膜形成用塗布液(5)を、PETフィルム(東洋紡製コスモシャイン A4100、厚さ:188μm、屈折率:1.67、基材ヘーズ0.8%)にバーコーター法(#10)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート膜付基材(5)を製造した。このときのハードコート膜の厚さは3
μmであった。
射率、耐擦傷性、鉛筆硬度および耐アルカリ性を測定し、結果を表に示した。
[実施例6]
複合酸化物粒子(6)の調製
酸化ジルコニウム微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:CC-1001ZRV、固形分濃度10重量%、分散媒:水、平均粒子径:20nm)90gにSiO2としての濃度1重量%の3号水ガラス110gを添加し、ついで陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:SK1BH)
を10g添加して脱イオンした後、90℃で6時間熟成し、ついで、ロータリーエバポレータ
ーを用いて濃縮し、コアを酸化ジルコニウム、シェルをシリカとした複合酸化粒子(6)(
固形分濃度10重量%、平均粒子径:20nm)の水分散液を得た。得られた粒子の屈折率は1.95であった。
100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水1gを添加し、さらに60℃で5時間
熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理複合酸化物粒子(6)の 2-プロパノール分散液を調製した。表面処理複合酸化物粒子(2)の平均粒子径を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗布液(6)の調製
実施例1と同様にして調製したハードコート膜形成用樹脂成分(1)8gに、表面処理複合酸化物粒子(6)分散液12gを混合してハードコート膜形成用塗布液(6)を調製した。
ハードコート膜付基材(6)の製造
ハードコート膜形成用塗布液(6)を、PETフィルム(東洋紡製コスモシャイン A4100、厚さ:188μm、屈折率:1.67、基材ヘーズ0.8%)にバーコーター法(#10)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート膜付基材(6)を製造した。このときのハードコート膜の厚さは3
μmであった。
射率、耐擦傷性、鉛筆硬度および耐アルカリ性を測定し、結果を表2に示した。
[実施例7]
表面処理複合酸化物粒子(7)の調製
実施例1と同様にして調製した複合酸化物粒子(1)の水分散液100gに、テトラエトキシシラン(多摩化学(株)製:SiO2換算濃度28.8重量%)10gを添加し、つい
で、γ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製:KBM-503、濃度81.2重量%)5g、メタノール100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水1gを添加し、さらに60℃で5時間熟成した。得られた粒子の屈折率は1.85であ
った。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理複合酸化物粒子(7)の2-プロパノール分散液を調製した。表面処理複
合酸化物粒子(7)の平均粒子径を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗布液(7)の調製
実施例1と同様にして調製したハードコート膜形成用樹脂成分(1)6gに、表面処理複合酸化物粒子(7)分散液14gを混合してハードコート膜形成用塗布液(7)を調製した。
ハードコート膜付基材(7)の製造
ハードコート膜形成用塗布液(7)を、PETフィルム(東洋紡製コスモシャイン A4100、厚さ:188μm、屈折率:1.67、基材ヘーズ0.8%)にバーコーター法(#10)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート膜付基材(7)を製造した。このときの透明被膜の厚さは3μmで
あった。
射率、耐擦傷性、鉛筆硬度および耐アルカリ性を測定し、結果を表2に示した。
[実施例8]
ハードコート膜形成用塗布液(8)の調製
実施例1と同様に調製したハードコート膜形成用樹脂成分(1)6gに、実施例7と同様にして調製した表面処理複合酸化物粒子(7)分散液10gおよび五酸化アンチモン微粒子
の2-プロパノール分散液(触媒化成工業(株)製:ELCOM V-4521、固形分濃度30重量%、平均粒子径20nm)4gを混合してハードコート膜形成用塗布液(8)を調製した。
ハードコート膜付基材(8)の製造
ハードコート被膜形成用塗布液(8)を、PETフィルム(東洋紡製コスモシャイン A4100、厚さ:188μm、屈折率:1.67、基材ヘーズ0.8%)にバーコーター法(#10)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート膜付基材(8)を製造した。このときのハードコート膜の厚さは
3μmであった。
射率、耐擦傷性、鉛筆硬度および耐アルカリ性を測定し、結果を表2に示した。
[実施例9]
ハードコート膜形成用塗布液(9)の調製
実施例1と同様にして調製したハードコート膜形成用樹脂成分(1)6gに、実施例7と同様にして調製した表面処理複合酸化物粒子(7)分散液10gおよびアンチモンドープ酸化
スズ微粒子のエタノール分散液(触媒化成工業(株)製:ELCOM V-3501、固形分濃度20重量%、平均粒子径8nm)4gを混合してハードコート膜形成用塗布液(9)を調製した
。
ハードコート膜付基材(9)の製造
ハードコート膜形成用塗布液(9)を、PETフィルム(東洋紡製コスモシャイン A4100、厚さ:188μm、屈折率:1.67、基材ヘーズ0.8%)にバーコーター法(#10)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート被膜付基材(9)を製造した。このときのハードコート膜の厚さは
3μmであった。
射率、耐擦傷性、鉛筆硬度および耐アルカリ性を測定し、結果を表2に示した。
[実施例10]
反射防止膜・ハードコート膜付基材(10)の製造
実施例9と同様にして製造したハードコート膜付基材(9)上に、反射防止膜形成用塗料
(触媒化成工業(株)製:ELCOM P-5013、アクリル系樹脂:固形分濃度1重量%、中空シリカ微粒子:平均粒子径50nm、固形分濃度1.5重量%、分散媒:2-プロパノール、メチルイソブチルケトン、イソプロピルグリコール、ブチルセロソルブ))をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させて反射防止膜・ハードコート膜付基材(10)を製造した。このときの反射防止膜膜の厚さは0.1μmであった。
[比較例1]
表面処理酸化ジルコニウム粒子(R1)の調製
酸化ジルコニウム微粒子の水分散液(触媒化成工業(株)製:CC-1001ZRV、固形分濃度10重量%、分散媒:水、平均粒子径20nm)100gにγ-メタアクリロオキシプロ
ピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製:KBM-503、濃度81.2重量%)5g、メ
タノール100gおよび濃度29.8重量%のアンモニア水1gを添加し、さらに60℃
で5時間熟成した。その後、セラミック製限外膜を用いて2-プロパノールに溶剤置換し、固形分濃度30重量%の表面処理酸化ジルコニウム粒子(R1)の 2-プロパノール分散液を
調製した。得られた粒子の屈折率は2.06であった。
ハードコート膜形成用塗布液(R1)の調製
実施例1と同様にして調製したハードコート膜形成用樹脂成分(1)10gに、表面処理酸化ジルコニウム粒子(R1)分散液10gを混合してハードコート膜形成用塗布液(R1)を調製した。
ハードコート膜付基材(R1)の製造
ハードコート膜形成用塗布液(R1)を、PETフィルム(東洋紡製コスモシャイン A4
100、厚さ:188μm、屈折率:1.67、基材ヘーズ0.8%)にバーコーター法(#10)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート膜付基材(R1)を製造した。このときのハードコート膜の厚さは3μmであった。
[比較例2]
ハードコート膜形成用塗布液(R2)の調製
実施例1と同様にして調製したハードコート膜形成用樹脂成分(1)10gに、比較例1と
同様にして調製した表面処理酸化ジルコニウム粒子(R1)の2-プロパノール分散液8gおよび五酸化アンチモン微粒子の2-プロパノール分散液(触媒化成工業(株)製:ELCOM V-4521、固形分濃度30重量%、平均粒子径20nm)2gを混合してハードコート膜形成用塗布液(R2)を調製した。
ハードコート膜付基材(R2)の製造
ハードコート膜形成用塗布液(R2)を、PETフィルム(東洋紡製コスモシャイン A4
100、厚さ:188μm、屈折率:1.67、基材ヘーズ0.8%)にバーコーター法(#10)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート被膜付基材(R2)を製造した。このときのハードコート膜の厚さは3μmであった。
Claims (9)
- 基材と、
基材の少なくとも一方の表面上に形成された複合酸化物粒子とマトリックス成分からなるハードコート膜とからなり、
該複合酸化物粒子が酸化ジルコニムをコアとし、五酸化アンチモンおよび/またはシリカをシェルとするコアシェル構造を有する複合酸化物粒子であり、
ハードコート膜の屈折率(HCn)と基材の屈折率(Sn)との屈折率差が0.3以下であり、
前記複合酸化物粒子が有機ケイ素化合物で表面処理されており、式(2)で表される有機ケイ素化合物で表面されたのち、式(1)で表される有機ケイ素化合物で表面処理されてなり、
式(1)で表される有機ケイ素化合物の処理量がX-R-SiO 3/2 として、1〜50重量%の範囲にあり、式(2)で表される有機ケイ素化合物の処理量がSiO 2 として、70重量%以下であり、下限が1重量%以上であることを特徴とするハードコート膜付基材;
X-R-Si(OR)3 (1)
(式中、Rは、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基を表す。Xは(メタ)アクロイル基、エポキシ基(グリシド基)、ウレタン基、アミノ基、フルオロ基から選ばれる1種または2種以上の官能基)
Si(OR)4 (2)
(式中、Rは、水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基を表す)。 - 前記複合酸化物粒子の平均粒子径が5〜120nmの範囲にあり、複合酸化物粒子の屈折率(Pn)が1.50〜2.10の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載のハードコート膜付基材。
- 前記複合酸化物粒子の最外層が五酸化アンチモンであることを特徴とする請求項1または2に記載のハードコート膜付基材。
- 前記マトリックス成分が、シリコーン系樹脂および/または有機系樹脂からなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のハードコート膜付基材。
- 前記ハードコート膜の表面抵抗値が108〜1014Ω/□の範囲にあることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のハードコート膜付基材。
- 複合酸化物粒子とマトリックス形成成分とからなるハードコート膜形成用塗布液であって、該複合酸化物粒子が酸化ジルコニムをコアとし、五酸化アンチモンおよび/またはシリカをシェルとするコアシェル構造を有する複合酸化物粒子であり、
前記複合酸化物粒子が有機ケイ素化合物で表面処理されており、式(2)で表される有機ケイ素化合物で表面されたのち、式(1)で表される有機ケイ素化合物で表面処理されてなり、
式(1)で表される有機ケイ素化合物の処理量がX-R-SiO 3/2 として、1〜50重量%の範囲にあり、式(2)で表される有機ケイ素化合物の処理量がSiO 2 として、70重量%以下であり、下限が1重量%以上であることを特徴とするハードコート膜形成用塗布液;
X-R-Si(OR)3 (1)
(式中、Rは、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基を表す。X-は(メタ)アクロイル基、エポキシ基(グリシド基)、ウレタン基、アミノ基、フルオロ基から選ばれる1種または2種以上の官能基)
Si(OR)4 (2)
(式中、Rは、水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基を表す)。 - 前記複合酸化物粒子の平均粒子径が5〜120nmの範囲にあり、複合酸化物粒子の屈折率(Pn)が1.50〜2.10の範囲にあることを特徴とする請求項6に記載のハードコート膜形成用塗布液。
- 前記複合酸化物粒子の最外層が五酸化アンチモンであることを特徴とする請求項6または7に記載のハードコート膜形成用塗布液。
- 前記マトリックス形成成分が、シリコーン系樹脂および/または有機系樹脂からなることを特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載のハードコート膜形成用塗布液。
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