TWI316712B - Non-volatile memory, repair circuit, and repair method thereof - Google Patents

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TWI316712B TW095123218A TW95123218A TWI316712B TW I316712 B TWI316712 B TW I316712B TW 095123218 A TW095123218 A TW 095123218A TW 95123218 A TW95123218 A TW 95123218A TW I316712 B TWI316712 B TW I316712B
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Description

316712 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於-種非揮發性記憶體陣列,且 有關於-種無熱溶絲之非揮發性記憶體陣列。 疋 【先前技術】 非揮發性記憶70件,例如快閃記憶體,包含以 存電荷的懸浮閘極以及電荷出抑 制卓兀。快閃記憶體可 以應用在電腦中的基本輸出入系統(則s),高密度非揮發 ,記憶體陣列的應用範_包含可攜式終端設備中的大^ 置記憶裝置、固態相機以及個人電腦的界面卡等。非揮發 ,記憶體陣列具有許多優點,例如快速存取時間、低功率 知耗且強©耐用。非揮發性記憶料列在製造完成後需經 過測試,對於有瑕㈣記憶單元,必須加以修復或隔離, 以避免影響到整個非揮發性記憶體陣列。 習知的非揮發性記憶體陣列如第1圖所示。如第i圖 所示,非揮發性記憶體陣列100包含感測放大器10卜金屬 熔絲103、位元線105、第一字元線ιη以及記憶胞113。 其中,每一位元線1〇5均經由一金屬熔絲1〇3而和感測放 大器101電性連接。字元線ηι和位元線1〇5交錯排列並 經由位元線105和字元線丨丨丨來控制記憶胞丨丨3。由於每一 條位元線的架構均相同,現以位元線1〇53及其相應的電路 為範例作說明。 由第1圖可知,位元線105a、經由金屬熔絲103a和感 1316712 測放大器U7電性連接,Μ條字元線⑴與位元線以 控制m個記憶胞113a。記憶胞U3a的功能為儲存資料, 並且將儲存之資料放置純元線咖±,金屬㈣職 將位元,線105a上的信號傳達至感測放大$ ιΐ7,以利感測 放大器117放大位元線上的信號。 當非揮發性記憶體陣列製作完成時,通常會有一晶圓 測試程序以測試位元線! G 5 a,若是晶圓測試機台彳貞測到位 元線l〇5a功能錯誤,會以雷射锻燒的手段將金屬熔絲職 燒斷,將位元線105a與感測放大器117之間開路,使位元 線i〇5a無法被使用,以避免位元線1G5a的功能錯誤干擾 到非揮發性記憶體陣列100的整體運作。 然而,採用雷射鍛燒的手法進行非揮發性記憶體陣列 100的修復需增加了許多測試上的料,例b,首先需要第 -次晶圓測試步驟(circuitprobing)以測試位元線⑻好 壞,接著,則是將功能錯誤的位元線1G5a以雷射 鎔絲103a部份。最後,必須再谁杆笛_ A认 、屬 、進订第一-人的晶圓測試步驟 以確認該雷射鍛燒是否成功在位元線1Q5a及感測放大写 117之間形成開路。這些步驟使得晶圓測試變得較為複雜。
所以需要-個新的非揮發性記憶體陣列架構,能將功 能異常之位元線與感測放大器形成開路,並簡化非生 記憶體陣列的測試》 X 【發明内容】 因此本發明的目的就是在提供一種非揮發性記憶體陣 列架構’能夠在第—次晶圓測試階段將功能錯誤的位元線 1316712 與感測放大器之間形成開路,以省略雷射鍛燒以及二次晶 圓測試的步驟。 根據本發明之目的,提出一非揮發性記憶體陣列結 構,此非揮發性記憶體陣列結構包括:N條位元線及皿條 第一字元線成交錯排列以控制MxN個第一記憶胞,其中M 及N為自然數;N個修復電路;以及一感測放大器。修復 電路一端連接感測放大器,另一端連接點分別連接一位元 線及第二字元線。
每一修復電路包括一第二字元線;一第二記憶胞;一 第-電晶體;-第二電晶體。其中,第—電晶體的源/汲極 /刀別電性連接一相應位元線以及感測放大器,閘極則電性 連接-第二記憶胞之一端’第二記憶胞另一端則電性連接 於跨過位元線之第二字元線;第二電晶體之源级極分別電 性連接相應之第二記憶胞以及感測放大器。而。此外,更 可包括一致能線電性連接每一第二電晶體之閘極。 個非揮發性記憶體陣列中 r > 饥几猓通常用來 實現特定的布林函數運算,這些布林函數的輸入為字元線 =特定組合,輸出則為位元線上的電位。所以對於特定的 字元線輸入值,每一位元線會有特定的輸出。在第一> 曰 圓利減時,自動測試設備會量測_位元線上的每—個 記憶胞’進而瞭解位元線上是否具有功能異常之記憶胞: 卜因^依照本發明—較佳實施例,在第—次晶圓剛試階 又自動測5式设備會測試每一位元線上的所有第一 胞,若位元線上的第-記憶胞的功能均正f1憶 —電位至第二記憶胞以開啟第-電晶體,將功能 1316712 ,-上的電位傳達至感測放大器,若位元線上具有功能異 之第-記憶胞’則寫入一第二電位以關閉第一電晶體, /、有力月t·異常之第—記憶胞的位元線與感測放大器之間 形成開路。將第-電位及第二電位寫入第二記憶胞的方式 係藉由致能線來同時開啟第二電晶體,再將第—電位及第 一電位分別寫入不同的第二記憶胞内。 X上所述本發明係於第一次晶圓測試階段就已將 功能錯誤的位元線與感測放大器間形成開路,故不再需要 雷射鍛燒以及第二次晶圓測試的步驟,使得晶圓測試程序 簡單化。 【實施方式】 本發明之非揮發性記憶體陣列,能夠在第一次晶圓測 試實就將功能錯誤的位元線與感測放大器間形成開路◊以 下將以圖示及詳細說明清楚說明本創作之精神,如熟悉此 技術之人員在瞭解本創作之較佳實施例後,當可由本創作 所教示之技術,加以改變及修飾,其並不脫離本創作之精 神與範圍。 參閱第2圖,其係繪示依照本發明之較佳實施例的一 種具有開路功能的非揮發性記憶體陣列結構圖。其中非揮 發性記憶體陣列包含Μ條第一字元線201、N條位元線 203、ΜχΝ個第一記憶胞205、Ν個修復電路206以及感測 放大器215。每一修復電路206包括一第二字元線2〇7、一 弟一 s己憶胞209、一第一電晶體211及一第二電晶體213。 其中第一電晶體211的源/j:及極223以及221分別電性連接 1316712 相應位元線203以及感測放大器215,第一電晶體211 的閘極219則電性連接一相應第二記憶胞2〇9。第二電晶體 213之源/汲極219電性連接一相應第二記憶胞,源/汲極221 貝J電f生連接感測放大器215,而第二記憶胞2〇9亦電性連接 於跨過位το線203之第二字元線2〇7。另外,更包括致能線 2Π電性連接第二電晶體213之閘極。 由於每一條位元線203的架構均相同,現以位元線 2〇3a及其相應的電路為範例作說明。每一修復電路206a包 括第二字元線2〇7、一第二記憶胞2〇9a、一第一電晶體2Ua 及一第二電晶體213a。其中,第二記憶胞2〇9a電性連接至 第一子元線207、第一電晶體211 a的閘極以及第二電晶體 213a源/汲極219a ;第一電晶體2Ua的源/汲極223a連接 至位元線203a’源/汲極221a則電性連接至第二電晶體213a 源/没極以及單一感測放大器215 a。 在非揮發性記憶體陣列内,每一位元線會實現特定邏 輯運算,也就是實現特定布林函數。在非揮發性記憶體陣 列製作完成之時,為了確認每一位元線是否正確地執行此 一邏輯運算功能,自動測試設備會量測每一位元線上的每 一個第一記憶胞,進而瞭解位元線上是否具有功能異常之 記憶胞’分為幾個步驟: 1. 打開第一電晶體211a,關閉第二電晶體213a由 自動測試設備測試位元線203a上是否具有功能 異常之記憶胞。第二字元線207會寫入第一電位 至第一 s己憶胞209a將第一電晶體211a打開並且 由致月b線217寫入第·一電位關閉第二電晶體 1316712 213a’使得自動測試設備能夠測試位元線2〇3&。 2. 寫入第一或第二電位至第二記憶胞209a以紀錄 相應位元線的功能是否正確。當本實施例之非揮 發性記憶體陣列測試完成,首先由致能線217 寫入第一電位以打開第二電晶體213a,使得自 動測試設備能夠寫入第一或第二電位至第二記 憶胞209,若是位元線203a功能正確則寫入第 一電位以開啟第一電晶體21 la,反之則寫入第 二電位以關閉第一電晶體2Ua。 3. 關閉第二電晶體213a。由致能線217寫入第二 電位關閉第二電晶體213a,使位元線2〇3a與單 一感測放大器215a間的連接完全由第二記憶胞 209a與第一電晶體211a控制。 當本實施例之非揮發性記憶體陣列第一次晶圓測試完 成,即可開始讀取或寫人本實施例之非揮發性記憶體陣 列。若是位兀線203a的功能正確,第二記憶胞2〇如會將 第-電晶體211a打開使得位元線2〇3a内的資料能夠傳送 至早一感測放大器215a,反之則關閉第一電晶體2Ua,使 位元線2G3a與單-感測放大器215a間呈現開路的狀離, 結果與使用雷射鍛燒金屬熔絲相同,所以不用再以雷射修 復锻燒金屬炫絲。 參閱第3圖’其係、%示_種第二記憶胞内部電路 圖。第二記憶胞内部電路尚有多種形式,在此僅列舉其中 一種作為職非揮發性記憶體陣列之說明。第二記憶胞 内4則包含一第二電晶體3〇3a以及儲存電容 1316712 第三電晶體303a之源/汲極311a電性連接電源端3〇5a,儲 存電容301a的一端309a則電性連接至第三電晶體3〇3&之 源/汲極以及第二電晶體源/汲極219a,而儲存電容3〇丨a的 另一端接地。電晶體303a的閘極端307a電性連接第二字 元線207,源/汲極309則電性連接第一電晶體2Ua之閘極 219a。 當自動測試設備量測位元線2〇3a上的每一個第一記憶 胞,進而瞭解位元線203a上是否具有功能異常之第一記憶 胞205a時需要打開第一電晶體2〇9a,因此會先由第二字元 線207(也就是第三電晶體閘極3〇7a)寫入第一電位以打開 第三電晶體303a,使得電源端305a能夠對儲存電容3〇1& 充電至第一電位以打開第一電晶體2〇9a。 當位元線203a測試完畢,第二記憶胞2〇9a會被用來 紀錄位元線203a上是否具有功能異常之第一記憶胞2〇5a, 因此第二字元線207(也就是閘極端點3〇7a)會先寫入第二 電位以關閉電晶體303a,自動測試設備則將第一或第二電 位寫入儲存電容3〇la,用以控制往後第一電晶體2山的開 啟與關閉。若位元線203a功能正確,自動測試設備會寫入 第一電位至儲存電容301a以打開第一電晶體21u,反之則 寫入第二電位以關閉第一電晶體。 當本實施例之非揮性記憶體陣列第一次晶圓測試結 束,位7L線203a與單一感測放大器215a之間已呈現應有 的電性連接或開路狀態,這個狀態是依據位元線2〇3a上之 所有第一記憶胞205a的功能是否正常而決定。 由上述本發明較佳實施例可知,應用本發明具有下列 11 1316712 優點: (1) 在第一次的晶圓測試時,可以直接決定位元線的資 料是否可以傳送至感測放大器,也就是說在第一次晶圓測 試時,若是位元線的功能正確,會寫入第一電位至第二記 憶胞以打開第一電晶體,反之則寫入第二電位至第二記憶 胞以關閉第一電晶體。 (2) 不再需要雷射鍛燒金屬熔絲以及第二次的晶圓測試 步驟。 (3) 可減少非揮發性記憶體陣列測試成本,縮短生產時 間。 雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上,然其並非用 以限疋本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精 神和範圍内,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保 護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 【圖式簡單說明】 為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例 月<=·更明顯易懂’所附圖式之詳細說明如下: 第1圖係為習之技術之非揮發性記憶體陣列。 第2圖係為本發明一較佳實施例之具自動開路功能非 揮發性記憶體陣列。 第3圖係為本發明較佳實施例之第二記憶胞内部結構 圖0 【主要元件符號說明】 12 1316712 101 :感測放大器 103 :金屬熔絲 105 :位元線 111 :字元線 113 :第一記憶胞 1Π :單一感測放大器 103a :金屬熔絲 105a :位元線 113a :第一記憶胞 117a :單一感測放大器 203 :位元線 205 :第一記憶胞 206 :修復電路 207 :第二字元線 209 :第二記憶胞 211 :第一電晶體 213 :第二電晶體 215 :感測放大器 217 :致能線 219 :第一電晶體211閘極 221 :第一電晶體211、第二 電晶體213源/汲極 203a :位元線 205a :第一記憶胞 206a :修復電路 209a :第二記憶胞 211a.第一電晶體 213a·第二電晶體 215a :單一感測放大器 219a :第一電晶體211a閘極 221a:第一電晶體211a、第二 電晶體213a源/汲極 223a :第一電晶體源/汲極 3 01 a .健存電容 303a :第三電晶體 305a :電源端 307a:閘極端點 309a :儲存電容一端 13

Claims (1)

  1. I316712 98· 3· 1 Ο 十、申請專利範圍: 1 · 一種非揮發性記憶體陣列,至少包含: Ν條位元線及Μ條第一字元線成交錯排列以控制ΜχΝ 個第一記憶胞,其中Μ及Ν為自然數; 一第二字元線跨過該些位元線; Ν個修復電路;以及 一感測放大器,其中每一該些修復電路電性連接一位 元線、該第二字元線及該感測放大器, 其中每一該修復電路至少包含: 一第二記憶胞; 一第一電晶體,該第一電晶體之源/汲極分別電性 連接該位元線以及該感測放大器’該第一電晶體之間極則 直接連接該第二記憶胞;以及 一第二電晶體,該第二電晶體之第一源/汲極分別 電性連接該第二記憶胞、該第一電晶體閘極,該第二電曰 體之第二源/汲極電性連接該感測放大器。 2. 如申請專利範圍第1項所述之非揮發性記憶體陣 列,其中該第二記憶胞為儲存元件。 3. 如申請專利範圍第2項所述之非揮發性記憶體陣 列,其中該儲存元件至少包含一第三電晶體以及—儲存電 容’該第二字元線係連接至每一該些第三電晶體間極。 14 1316712 厂______ Q|; |( I如中Μ專利範圍第1項所述之非揮發性記憶體陣 列,更包含至少-條致能線,連接於該些第二電晶體間極, 用以控制該非揮發性記憶體陣列測試結果之寫入。 5. —種如申請專利範圍第4項之非揮發性記憶體陣列 之除錯方法,包括: 關閉該些第一電晶體及該些第二電晶體; 自該第二字元線寫入一第一電位於該些第二記憶胞以 馨開啟該些第一電晶體; 藉由自動測試裝置量測由該感測放大器所放大之該些 位元線信號;以及 連接至少一該致能線於該些第二電晶體閘極,寫入第 電位至至少一該致能線以開啟該第二電晶體,使得該自 動測試裝置得以分別寫入第一電位或第二電位至該些第二 記憶胞以分別控制該些第一電晶體之開啟與關閉,進而分 別控制該些位元線與感測放大器之間的導通與否。 6. —種修復電路,適用於非揮發性記憶體陣列,非揮 發性§己憶體陣列包括字元線、位元線及由字元線及位元線 控制之第一記憶胞,該修復電路至少包含: 一第二字元線,該第二字元線跨過該位元線; 一第二記憶胞’電性連接該第二字元線; 一第一電晶體,該第一電晶體之源/沒極分別電性連接 一位元線以及一感測放大器’該第—電晶體之閘極則直接 連接該第二記憶胞;以及 15 1316712 ;t! j 08,. .3,. ,1...0............_J 一第二電晶體,該第二電晶體之第一源/汲極分別電性 連接該第一記憶胞、該第一電晶體閘極,該第二電晶體之 第二源/>及極電性連接該感測放大器。 7. 如申請專利範圍第6項所述之修復電路,其中該第 '一 δ己憶胞為儲存元件。 8. 如申請專利範圍第7項所述之修復電路,其中該儲 © 存元件至少包含一第三電晶體以及一儲存電容,該第二字 元線係連接至每一該些第三電晶體閘極。 9. 如申請專利範圍第7項所述之修復電路,更包含一 致能線’連接於該第二電晶體之閘極。 10. —種非揮發性記憶體陣列之除錯方法,該非揮發 性記憶體陣列包括至少一位元線、至少第一記憶胞、一感 • 測放大器,以及至少一修復電路,其中該第一記憶胞電性 連接至該位元線,該修復電路耦接於該位元線以及該感測 放大器之間,該修復電路包括一第二記憶胞以及一第一電 晶體,該一第一電晶體之閘極直接連接該第二記憶胞,該 除錯方法包括: 使用一自動測試設備測試該位元線之功能是否正確; 以及 當該位元線之功能正確,則寫入一第一電位至該第二 記憶胞以開啟該第一電晶體,使該位元線之資料傳送至該 1316712 98. 3. 1.^.............— .’J 感測放大器。 11.如申請專利範圍第10項所述之除錯方法,更包含 當該位元線之功能不正確,則寫入一第二電位至該第二記 憶胞以關閉該第一電晶體,使該位元線以及該感測放大器 之間開路。
    17
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