TWI308901B - A cover lay film lamination device - Google Patents

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1308901 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 薄版於形成可撓性基板用之基底薄膜而用 本發明係有關供貼合覆蓋居 的覆蓋層薄膜貼合裝置。 【先前技術】 岸的/⑽叙於形成可繞性基板之步驟中存在有：使具有_性羝著 亞職脂、料笨二甲酸乙二s旨⑽）樹脂# = 貼合於由形成麵fl之轉頂4賴， (PEm細 竭案的“亞胺樹脂、聚對苯二甲酸乙二醋 iWS旨輯，觀_繼軸社的步驟。 此雜絲__合健係_予直錢置_作臺上的多數 疋·用人手插通基底薄膜及覆蓋層薄膜並予定位後進行的。 而L於覆盍層_上通常財與基底細之導體_對應的多數孔， 進仃覆朗叙貼合健，_蓋層細峨軸或脫模紙（以 於本綱書稱作「脫模薄膜」）時，則覆蓋層薄膜會癱軟，實際上極難 操作。 、 、 “因此’概Μ蓋層_之貼合傾的生產效率極低，乃期待採用覆蓋 層薄膜貼合裝置，以使舰合健實現自動化。 苐10圖係„兒明省用覆蓋層薄膜貼合裝置而用的示意圖。習用的覆蓋層 4膜貼合裝置_，如第1Q _示，係具有基底賴輸送她隱、覆蓋 層薄膜輸送輥輪802A、脫模薄膜輸送輥輪803A、804A、二對輥輪8〇5，8〇5， 807 ’ 807、層合薄膜捲取輥輪801B、脫模薄膜捲取輥輪803B、804B及熱壓 1308901 機806、806 (例如，參考專利文獻1)。 而且’於習用的覆蓋層薄膜貼合裝置_方面，由基底薄膜輸送轉輪 801A送出的基底薄臈W11與由覆蓋層薄膜輪送輕輪送出的覆蓋層薄膜 W12經予疊合成-體’再於已夾持於由脫模薄膜輸送報輪顧、_送出 的脫模薄膜W13、W14的狀態下，利用熱壓機8〇6、議經予貼合成—體， 形成層合薄膜W15，'紐予以捲取於層合薄膜捲取輥輪麵上。 * □此妹用白用的覆盖層薄膜貼合裝置_時，則可使基底薄膜則 與覆蓋層薄_間的貼合作業實現自動化，結果可提高基底薄膜wu與 覆盍層薄膜W12間的貼合作業之生產效率。 專利文獻1 :日本特開平2—226793號公報（第）圖） 【發明内容】 螢明欲解決的諉镅 然而，於上述覆蓋層薄膜貼合裝置㈣，係於使基底薄膜wn及覆蓋層 薄臟間的貼合均以長尺度_相互疊合成—體的狀態下進行的。因此， 若愈進行鱗_之輸送時，騎難麵基底_於長度方向之對位射 度。另外’由於進行輸送此等薄膜而發生的曲折蜿蜒現象，會發生基底薄 膜於寬度抑之雜誤差，雜以確雜簡聽寬度方向之對位精確度 。因此，不易提高基底薄膜相對於覆蓋層_之貼合位置精確度，於是存 在難以提高可撓性基板之品質的問題。 因此’本發明之目的係為解決上述問題而予完成的，提供—種可容易 的提高覆蓋層薄膜對基底薄膜之貼合位置精確度，從而可容易提高可援性 6 1308901 基板之品質的覆蓋層薄膜貼合裝置。 題而採的手段 ⑴本發明之覆蓋層薄賴合裝置，其特徵在於具有由供使捲筒狀基底 溥膜展成板片狀、並歐送出而用的基底_供給裝置，相對於由献底 薄膜供給裝置經予送出雜片狀基底薄膜暫時壓接薄長方形的覆蓋層$-腰、供形成覆蓋層薄膜辭暫時壓接於基底_上之板片狀層合薄ς而用 裝置’供捲取由此暫時壓接裝置所形成的板片狀層合薄膜成捲 j而用的層合薄膜回《置而成之覆蓋層_貼合裝置，前述暫時難 2⑽連接暫時壓接覆蓋層薄膜於基底_上的區域（以下稱為“暫時 幻 =域’）與输述暫時壓接區域供給基底薄膜的位置（以下稱為“覆 =層=膜供給位置”）的覆蓋層_供給通路供給覆蓋層_，且可調整 覆皿層雜補於基底_之位置及姿勢的暫龍接工作臺。 “因此’若本發日狀覆蓋賴親合裝料，黯於薄長方形的覆 曰/專膜相對於間歇达出的板片狀基底薄膜係予暫時祕著，故即使使用 長尺度的基絲断’林致累積基底_於長度方向之對位誤差，不致 降低基底薄膜於長度方向之對位精確度。 >糾’若翻本發明之«層_齡裝終卿藉由驗層薄膜可 周玉伋盍層顧相對於基底細之位置及姿勢的暫時壓接工作臺可予供給 至暫《接ϋ域’故可容㈣提高f蓋層_相對於基底細之貼合位置 精確度。吟村糊謝梅㈣f，彳㈣成本發明之目 的。 且對基底薄膜貼合覆蓋層薄膜時，至少需要供給覆蓋層薄膜至基底薄 膜供給通路上_合區域之覆 P 一 哥肤10步驟，及對基底薄膜貼合覆蓋 層溥膜之貼合步驟。但於對基 -、h底柄以-個步驟即可完全貼合覆蓋層薄膜 1308901 時’此貼合步驟變成冗長，難以提高整體的生產效率。 因此’於本發明之覆蓋層薄舰合裝置，係對基底_暫龍接覆蓋層 薄膜並形成層合Μ ’以取代對基底_完全貼合覆蓋層薄膜並形成層^ 薄膜。如此，可大幅度雜上述貼合步驟，謀求整體生產效率之提高。此 時，對基底_完全貼合f蓋層薄料，可贿準餘壓接（正規壓接） 覆蓋層薄膜經讀時壓接的層合薄膜_之專關正式壓接裝置（如真空 熱壓機），此正式壓接裝置並使對基底_可完全貼合覆蓋層薄膜即工 可 在此，本說明書中所謂的「薄長方形」，並不一定意指由平面觀看僅係 細長的形狀，意指亦包含正方形的略呈矩形的形狀。 、⑵於上述⑴所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，前述覆蓋層薄 通路係以對連接前述基絲膜供給裝置及前述層 美底ς 膜供給通路成垂直相交為宜。 ㈣衣置的基底涛 藉由如此構成’可以縮小覆蓋層薄膜供給通路與基底薄膜供給通路交又 部分的面積，故可雜基底_供給通路之長度且使裝置成緊密化。 ^⑶於上述⑴所述的覆蓋層薄賴合裝置，雖係、採祕筒狀基底 翻作為基底_，但本發非受限於麟者。即使採㈣長方形基底 薄膜作為基簡断，樹㈣⑴嶋物貼合裝置i情 形同樣的效果。 區域::薄==:薄膜貼合裝置’其特徵在於具有由朝暫時壓接 薄長方形:==底薄膜暫時觸長方形覆蓋層薄膜並形成 方域口雜而用的暫_接裝置、供回收由此 1308901 ==薄膜而用之層合薄膜回收裝置的覆蓋層薄膜貼合裝置，前 ==::ί層薄膜，且可對基底薄膜調整覆蓋層薄膜之 ，因此’若採用本發明之輕層_貼合裝置時，由於使㈣長方形基 底薄膜’並無累積生成基底薄膜於長度方向之對位誤差的顧慮，故亦不致 降低基底薄膜值長度方向之對位精確度。 另外，若《本發明之覆蓋層_貼合裝置時，Τ上述⑴所述的覆 蓋層薄膜貼合裝置之情形同樣的，由於藉由可調整覆蓋層薄膜對基底薄膜 之位置及姿勢㈣時顯讀臺成為可予供給騎日細接區域，故成為可 7的提繼細纖_找合_妨。絲，亦成為可容 易的提高可撓性基板之品f，從而達成本㈣之目的。 (4)於上述（1)〜（3)之任_ 暫時難工作臺係可於相互垂直相交_^^專膜貼合裝置’前述 平面内的假想點為旋轉中心之圓周方向上進行移動，且可於以水 ^此構成’因成為對基底薄膜可以位置（及姿精確度良好的配 確^ 故成為可容易的提高《層_對基底_之貼合位置精 此時’至於相互垂直相交的2個水平方向，係以選擇沿著基底薄齡 ^路的嶽沿繼糊舰蝴蝴m錄水平面内 ^假想點，卿侧㈣㈣朗_彻較中心點為 工 ⑸於上述⑷她嫩物辦ή爾暫時壓接 1308901 作臺上至少設有2個相互隔離配置的攝像用孔，對應於此等各攝像用孔之 各個設有攝像元件為宜。 藉由如此構成，成為藉由至少2個攝像元件可精確度良好的測定覆蓋層 專膜對基底溥膜之位置及姿勢。因此，成為可精確度良好的測定覆蓋層薄 膜對基底薄膜之位置（及姿勢），即成可容易的提高覆蓋層薄膜對基底薄膜 之貼合位置精確度。 此時，至少2個攝像用孔以經予配置於暫時壓接工作臺之兩端部為宜。

胃(6)於上述（1)〜（5)之任一項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，前述 暫時壓接工作臺係以於前述暫時壓接區域的上方移動進行暫時壓接動作為 宜。 ’ 藉由如此構成，對基底薄膜於以精確度良好的配置覆蓋層薄膜之位置 (及姿勢）的狀態下，藉由使暫時壓接卫作臺_原狀的向上方移動，在 對基底細保持崎確度良好的配置覆蓋層細之位置（及姿勢）的狀態 下’成為可進行暫時壓接。因此’即成可容㈣提高覆蓋層薄膜對基底薄 膜之貼合位置精確度。 前述上述⑻所述的覆蓋層_貼合裝置，前述暫時壓接裝置係 作臺於前述暫時壓接區域進行暫時壓接動作時，再具有承 又則述暫時壓接工作臺之缓衝機構為宜。 覆蓋層薄膜 整體 藉由如此構成’成為對基底薄膜可以均勻的壓力和寺壓接 (8)於上述（7)所述的覆蓋層薄 設有佴叨3 ^ μ 寻犋貼Q裝置，於刖述緩衝機構上以 七、及附基底_而用的多個基底_吸附孔為宜。 “藉由如此構成，可使基底_吸附於多娜簡膜吸·上，可於暫 時壓接區域固定基底薄膜。 10 1308901 (9)、於上述（8)所述的覆蓋層薄臈貼合裝置，前述暫時壓接裝置以 ，具有於進订暫時壓接動作之前對述緩衝機構可予壓緊的愿緊機構為 藉由如此構成，由於«機構係對緩衝機·緊基底薄膜，即成可使基 底薄膜較確實的吸附於多個基底薄膜吸附孔上。 另外’由於暫時壓接動作進行之前藉由I緊機構進行的塵緊動作，故對 由暫時C接作；起的暫g购聽作可在無妨礙下平制進行愿緊動

作。進行暫_接動作之前’暫時壓接動作結束後的树聽工作臺由暫 日«接區域城蓋層_供給健雜，裝賴的錢層薄職再回至暫 義接區域為止的間隔，由於彻鱗間進行㈣機構之㈣動作，因此 進行麼緊動作不需花費特別的時間，亦不致使整體的生產效率降低。 二此時絲經傾成域若前述暫賴接卫作臺由前述料壓接區域向 «覆蓋層薄臈供給位置移動時，雌述聽機構由前述暫時顯區域外 向前述暫時壓接區域内鶴，若前述縣機構由前述暫時壓接區域内向前

述暫«接區域外軸，顺述暫時壓接玉作臺由前述覆蓋層薄膜供給位 置向上述暫時壓接區域移動。 士此即可順暢的進仃由暫時壓接工作臺引起的暫時壓接動作及由壓緊 機構引起的壓緊動作之二者動作。 作至以具有供加熱覆蓋層薄膜的而用加熱器為宜。 藉由如此構成，於暫時壓接之前，對基底薄麟給紐層_之過程 中’由於成為可預先提高覆蓋層薄膜之溫度，故可於較短的時間内順暢的 進行覆蓋層薄麟基底_之暫時壓接。 11 1308901 (11)於上述（1)〜（ίο)中任—項 為=有f間歇的送出捲筒狀覆蓋層薄膜成板^而日用‘ίίί膜; 达衣置、裁切由此《層_輸送裝置送出 广g相輸 長方形覆蓋層薄膜而用的覆蓋層薄膜裁切裝置、轉^成薄 裁切裝置所軸的方形覆蓋層_於前述暫日樣接 = 盖層薄膜《裝置喊之覆蓋層_裁切.載好置。 而用的设 藉由如此構成，成為可由捲筒狀覆蓋層薄膜形賴長方形覆蓋層薄膜，

且可供給此薄義轉時顯巧臺，故可使麟筒狀覆蓋 層薄膜。因此，可更提高整體生產效率。 (12)於上述（Η)所義輕層薄無 裁:嫩覆蓋層薄糊^ 以刀刀金屬模具之金屬模座，前述覆蓋層薄膜裁切. 裝=模細較刀麵繼、與_贿片的受刀板片： 、藉由如此構成，於將板片狀覆蓋層薄膜裁切成薄長方形時，由受刀板片

<裝置送出的又刀板片因成為可時常接受壓切刀，故可良好的裁切覆蓋 層薄膜。另外’可防止壓切刀刀尖受損。 於社述⑴〜（12)中任—項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，以 暫時壓接工作臺上設有供吸賴長方形 層溥膜吸附孔為：!> ^ —藉由如此構成’即成為可以順暢的由暫時壓接工作臺輸送經予供給至覆 jm層薄膜供給位置的覆蓋層細至暫時壓接區域。 切· ^14)於上4 (13)所述的覆蓋層薄舰合裝置，前述覆蓋層薄膜裁 ^戟置《再具有綠料吸附於上衫個覆蓋層賴吸附孔上的覆蓋 曰·膜之肋>#朗端部之脫模薄驗持裝置，㈣此賴細失持裝置 12 1308901 述脫模薄膜的端部之狀態下，藉由由前述覆蓋層薄膜俾 ^薄=祕工作臺向前述暫時壓接區域移動，由前朗薄關離脫 藉由如此構成，於搬送覆蓋層薄膜至暫時壓接區域的步驟中，因成為可 由脫模薄膜剝離覆蓋層薄膜，故不必特意’ μ + 顿剝離脫 的制麵。因此，可縮《蓋層薄麟基底__合作業。· 另外，於暫_接工作臺上至載置覆蓋層薄膜之前，因成為可於附有脫 〜專臈的狀態下對覆蓋層薄膜進行操作，故操作極為方便。 (15)於上述（14)所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，前述覆芸厗望 切•載置裝置於裁切覆蓋層薄膜之前，以再 St，義裁 脱拉賴並域部分剝離部而用的脫模薄翻離刀為宜。 藉由如此構成，由於經予載置於暫時壓接工作臺上的覆蓋層薄膜藉由脫 模薄膜剝離刀預先形成部分剝離部，故脫模薄膜央持裝置可容易的爽持脫 模薄膜之端部。 罢壯^16)於上述（15)所述的覆朗薄賴合裝置，前述覆蓋層薄膜® 述ίίίί^ΐ由前述覆蓋層薄臈裁切裝置經予裁切的__讀 覆蓋声_ 的吸瞻，此吸_以於上述暫時顯卫作臺上載置 内=二脫模薄膜夾持裝置夾持脫模薄膜之端部為止的時間 及附者則述部分剝離部為宜。 “藉由如此構成，於經予載置於暫時屋接工作臺上的覆蓋層薄膜，因成為 藉由吸附塾使脫模賴之部分娜較吸附而傾拉的狀態，故脫模薄膜 夹持裝置可更容易的夹持脫模薄膜之端部。 及目於上述⑴〜（16)中任—項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，以 ”、經予配設於基底薄膜供給通路内的前述暫時麵裝置之前述層合 、口收裝置側’供對基底制更相的進行暫時顯藉由前述暫時麼接裝 13 1308901 置經予暫時壓接於基底薄膜 宜0 上之覆蓋層薄膜而用的辅助暫時壓接裝 置為

於上述（17)所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，於覆蓋層薄膜對基底薄膜進 行暫時壓接·繼輪靖，他娜：爾合薄膜至 進行辅痛細_，__時_梅_綱膜之步驟 ，及進行暫日Μ接工作臺的移軸作，向基㈣膜供給通路上的暫_接 區域供麵編_w。㈣，觸健瓣驟所 需的時間長’故藉由此f步驟之間的咖差進行輔助暫時壓接處理， 可不必特意花費進行輔助暫時壓接步驟之時間即可進行辅助暫時壓接。因 此’可縮短最初的暫時壓接時間，可更提高整_生產效率。 (W於上述（17)所述的覆蓋層薄膜貝占合裝置，以於基底薄膜供仏 通路内的前誠助暫時勸錄置及前·合_时輕之間至少_ 2個相互隔離的攝像元件為宜。 又男 藉由如此構成，以攝像元件對層合薄蘭行攝影，層合細回收裝置 於回收層合義之前《為可確認其暫時壓接狀態。設若由上述攝像元件 攝得的結果’覆蓋賴賴基底_之貼合位置偏移，或暫日綠接不完整 時，以使裝置停止運轉，即成可防止錄使該㈣壓接形成不完整的層合 薄膜於未然。 (19)於上述（17)或（18)所述的覆蓋層薄舰合裝置中，宜為再 具有供使«基底細供給裝置及前述層合薄_收裝置、前述暫時壓接 裝置與前述輔助暫時壓接裝置同步動作而用的控制器。 藉由如此構成，成為使可配合生產節拍時間並進行暫時壓接步驟及輔助 暫時壓接步驟’故可雜覆蓋層_雌賴歉齡位置精顧的狀態 14 1308901 下’進行整體高生產效率的暫時壓接 【實施方式】 以下 装置 ，根據圖示的實施例說明本發明之覆蓋層薄膜貼合 Q貫施例1) α 首先，採用第1圖〜第7圖說明眘始&， 笛】 __ 之覆蓋層薄膜貼合裝置。 第^絲賴實關丨有_賤層軸貼錢置 弟2圖係簡化表讀實麵丨有_«㈣難合裝置之I圖 第3圖係表示與實施例1有關的覆蓋層薄臈貼合裝置之正簡。 第4圖係供說明暫時壓接裝置而用的主要部分放大圖。 第5圖係表示供說明暫時壓接裝 側視圖。 •触裝置而用的 第6圖係表示覆蓋層薄職切·載置裝置的後視圖。 第7圖係表示覆蓋層薄膜裁切•《裝置的側面圖。

於以下的說明，以相互垂直相交的3個方向分別為χ轴方向⑷于於第 1圖紙面的紅⑽、卩㈣（平w丨歸直相交的 方向）及ζ軸方向（垂直於第！圖紙面的方向）。 马貫_有關的覆蓋層薄膜貼合裝置！，如第i圖〜第3 _示，係 具有露載•固定各難置（如後文所述）而用的裝置主體刚、供間歇送 出捲同狀基底薄膜Wb使成板片狀而用的基底薄膜供給裝置2GG、對由基底 _供給裝置2〇〇經予送出的板片狀基底薄膜奶暫時壓接薄長方形覆蓋層 _ Wc並供形成覆蓋層薄膜阶經予暫時塵接於基底薄膜奶上之板片狀層 15 1308901 合薄膜ws而用的暫時壓接裝置侧、供捲取由暫時壓接裝置棚所形成的 板片狀層合薄膜Ws成捲筒狀而關層合薄咖—置聊、介於基底薄膜 供給裝置20G及層合薄臈回收裝置咖之間的1拉伸裝置25〇、35〇、供 由暫時壓接裝置侧對基底薄膜Wb進—步牢_暫時壓接經讀時壓接於 基底薄膜Wb上之覆蓋層薄雜而用的輔助醫壓接裝置·及供給經予 設置於裝置主體100之後方的薄長方形覆蓋層薄膜wc至暫時壓接裝置獅 之覆蓋層薄膜裁切•供給裝置6〇〇。

且’層合輔Ws係具有於基底_ Wb之__圖細彡成_上經予暫 時壓接有薄長方形覆蓋層薄膜Wc之構造。 裝置主體⑽係由平視略細彡的絲所構成。於裝置缩⑽之右側 部’如第3圖所示’係配設有控制器箱刖，該箱中内藏有使基底薄膜供給 裝置200及層合薄膜回收裝置綱、暫時壓接裝置棚及辅助暫時壓接裝置 500同步動作的控制器。 如第2圖所示，裝置主體100上形成有連接基底薄膜供給裝置200及屏 合薄膜爾謂繼_供給通仙、連接__供給位置朽 及暫時壓峨P2繼細縣軌2、纖細細薄膜輸 运裝置610及覆蓋層薄膜供給位置ρι之覆蓋層薄酸送通路L3。 基底薄膜供給裝置200，係如第3圖所示，具有輸送報輪21 輪 220。 此， 輸送輥輪2Π)係傾轉自由的支秘支持台⑽之上方端部。因 係予構成至可藉由觀電動機212之驅動引起的旋轉使關狀基底薄 16 1308901 膜Wb呈板片狀的送出。 引導輥輪220係予旋轉自由的支承於敦置主體1〇〇上，予以構成至可引 導板片狀基底薄膜Wb至層合薄膜回收裝置3〇〇侧。 層合薄膜回收裝置300 ’係如第3圖所示，具有捲取輥輪310及引導輥 輪 320。 捲取輥輪3HH系予旋轉自由的支承於報輪支持台152之上方端部。因 此’係予構成至可藉由轉矩電動機312之驅動引起的旋轉使板片狀層合薄 膜Ws捲取成板片狀。 引導輕輪320係予旋轉自由的支承於|置主體議上，予以構成至可引 導板片狀基底薄膜WS至捲取輥輪31〇側。 基底薄膜供給裝置200側之拉伸裝置25〇 ,係如第3圖所示，具有昇降 幸比輪252 ’亚予設置於基底薄膜供給裝置2〇〇之下方。昇降親輪252係以輕 輪軸254為轴予以支持至可自由的旋轉•昇降於昇降導執256上。因此， • 係予構歧使藉由汽缸（未傾示）之驅動引起的上昇可使基底_Wb鬆 他’而且由自重引起的下降至使基底薄膜Wb拉緊。 層合缚膜回收裝置300侧之拉伸裝置35〇，如第3圖所示，係具有昇降 輥輪352，並予設置於層合薄膜回收裝置·之下方。昇降輥輪啦係以轉 1 54為轴予以支持至可自由的旋轉•昇降於昇降導執咖上。因此， 係予構成至使错由汽缸（未予圖示）之驅動引起的上昇可使層合薄膜如輕 他而且由自重引起的下降至使層合薄膜Ws拉緊。 暫時壓接褒置棚，如第i圖〜第5圖所示，具有可沿覆蓋層薄膜供給 17 I3〇89〇i 通路L2供給_薄職、且可調整_ _讀基底薄祕之位置 及姿勢的暫賴似作臺、於暫時壓接區域p2的暫時壓接工作臺仙 進行暫時難動作時接受暫«接工作臺41Q之緩衝機構柳、於進行暫時 壓接動作前對緩衝機構·壓緊基底薄膜Wb之壓緊機構柳。 圖所不，係具有第1移動裝置420、第2 、第4移動裝置450及可使覆蓋層薄膜恥 暫時壓接工作臺410，如第4 移動裝置430、第3移動裝置440 載置的覆蓋層薄膜載置部460。

第1移動裝置，如第4圖及第5圖所示，係具有舰電動機似、 以伺服電動機422為軸支承的螺旋軸似、第i工作臺伽及沿y轴方向延 伸的導軌428 ’並予設置於裝置主體！⑽上。第）移動裝置係予構成至 由伺服電動機422之驅動引起的螺旋轴物之旋轉，至使第丨工作臺概 沿y軸方向移動導執428。 第2移動裝置43〇，係具有伺服電動機、以伺服電動機概為轴支 承_'旋㈣4、第2工作臺436及沿χ軸方向延伸的導軌概，並予設置 於第1工作臺426上。第2移動裝置 /罝430係予構成至由伺服電動機4汜之 驅動引起的螺旋軸434之旋轉，至使當9 兒弟2工作:μ： 436 Άχ轴方向移動導執 438 上。 第3移動裝置440 ’係具有伺服畲知Α 书動機442、以伺服電動機442為軸支 承的螺旋軸444、第3工作臺446及給予篦q s 予第3工作$ 446 %轉力的移動元件 447 ’並予設置於第2工作臺436上。 ^ y 弟3工作$ 446係以第2工作臺436 上的栖轴448為框轴支承著，# ;丨、工工作臺座449予以搖動自如的配設著。 18 1308901 弟3移動裝置440係予構成至藉由伺服電動機桃之驅動而引起的螺旋輪 .444，旋轉’使以樞軸權為旋轉中心的圓周方向（z軸周圍）上轉動。 — 4 4移動裝置伽’係具有飼服電動機侃、以做電動機侃為轴支 :的累旋袖454、第4工作臺及沿著χ軸方向延伸的導執,並予設置於 弟3工作臺446上。第4移動裝置450係予構成至藉由伺服電動機侃之 驅動而引起的螺旋軸454之旋轉，使第4工作臺彻於導軌伽上沿χ輛 方向移動。 籲 W層軸則6G，細4 ®聯，她㈣域向右侧部 的梯度之傾斜部462及親輪464，經予設置於第4工作臺棚上。另外’於 ^工作臺456及覆蓋層薄膜載置部棚上固定有彈簧備。由而，若第* =作臺伽朝第4圖之左方向移動時，則覆蓋層薄膜載置部棚上昇；若 第4工作臺456朝第4圖之右方向移動時，則覆蓋層薄膜載置部棚下降。 於與實施例i有關的覆蓋層薄膜貼合裝置】，暫時壓接工作臺41〇係可 • 於相互垂直相交的2個水平方向（x軸方向及y轴方向）上移動，且可以水 平面内的假想點為旋轉中心之圓周方向（z軸周圍）轉動。 由而’因成為可對基底薄膜Wb使覆蓋層薄膜此精確度良好的配置位置 (及姿勢），故成為可容易的提高覆蓋層薄驗對基底薄膜此之貼合位置 精確度。 與實施例1有關的覆蓋層薄膜貼合裝置！，至於相互垂直相交的2個水 平方向（χ轴方向及y轴方向），係沿基底薄膜供給通路^的方向及沿覆蓋 層薄膜供給通路L2的方向（參考第2圖）。另外，至於水平面内的假想點 19 1308901 係暫時壓接工作臺41Q之覆蓋層薄膜載置部460的中心點。 於與實施例1有關的覆蓋層薄膜貼合裝置！，如第2圖及第4圖所示， 分別對應於暫時壓接工作4 410 _L設有相互隔離配置的2個攝像用孔德 與各攝像用孔470a，設有攝像元件470。 由而’藉由2個攝像元件470可以高精確度測定覆蓋層薄mWc對基底 薄膜wb之位置及姿勢。因此，可對基底薄膜奶使覆蓋層薄膜Wc财度良 • 好的配置位置（及姿勢）’故成為可容易的提高覆蓋層薄膜Wc對基底薄膜

Wb之貼合位置精確度。 且’ 2個攝像用孔470a係予配置於暫時壓接工作臺41〇之兩端部（參 考第2圖）。 於與實施例1有關的覆蓋層薄膜貼合裝置】，暫時壓接工作臺係予 構成至藉由移動於暫時壓接區域P2之上方以進行暫時壓接動作。 由而，以對基底薄膜Wb使覆蓋層薄膜wc進行位置（及姿勢）精確度良 > 好配置的狀態下，藉由暫時壓接工作臺41(H呆持原狀的移動於上方，即成 在保持對基底薄膜Wb使覆蓋層薄膜Wc進行位置（及錄）精確度良好配 置的狀態下可進行暫時壓接。因此，欲提紐蓋層_We對基底薄膜恥 之貼合位置精確度即成容易。 於與實施例1有關的覆蓋層薄膜貼合裝置丨，如第4圖及第5圖所示， 暫時壓接裝置4〇〇再具有於暫時壓接區域p2中暫時壓接工作臺41〇進行暫 日守壓接動作時接受暫時壓接工作臺410之緩衝機構480。 由而’成為可對基底薄膜Wb使覆蓋層薄膜Wc整體以均勻的力量進行暫 20 ^08901 骐供給位置P1向暫時壓接區域？2移動。 由而’ ™暢的進行由暫日細工作臺41”_暫_接動作及由 壓緊機構490引起的壓緊動作之二者動作。 於與實施例1有關的覆蓋層薄膜貼合裝置卜暫日«接工作臺410係具 有供加熱覆蓋層薄膜Wc而用的加熱器（未予圖示）。 由而，暫_接之前，於對基底_此供給覆朗錄之過程，因 覆 •莫材預先提高覆蓋層薄膜WC之溫度，故可於較短的時間内順暢的進行 盍層薄膜Wc對基底薄膜Wb之暫時壓接。 於與實施例1有關的覆蓋層薄膜壯人继 層4舰合裝置卜於暫時壓接工作臺410上 ^供吸_長方形覆蓋層料個覆顧__孔（未予圖 示）。 由而’成為可由暫時壓接工作臺·順暢的輪送經予供給於覆蓋層薄膜 供給位置P1之覆蓋層薄膜Wc至暫時壓接區域P2。 • 如第1圖〜第3圖所示’於基底薄膜供給通路U之暫時壓接裝置400 的上游側⑽薄膜供給裝置側）及下游側（層合薄膜回收裝請 側ί上配置有固定挾持器120、130，於後述的輔助暫時壓接裝置及層 合薄膜回收裝置300之間配置有移動挾持器14〇。 輔助暫時壓接裝置_係如第i圖〜第3圖所示，經予配置於基底薄膜 供給通路U内的暫時壓接裝置侧之層合薄膜回收裝置綱側，予以構成 至由暫時壓接裝置侧對基底薄膜％可再暫時牢_時壓接經予暫時壓 接於基底薄膜Wb上的覆蓋層薄膜Wc。 22 1308901 —輔助暫時難裝置酬而得的輔助暫時壓接時間，係由控制器no經 予设定成所期待的時間。 ^蓋層_裁切·載置裝置_係如第1圖及第2 _示，具有供間歇 •出捲筒狀覆蓋層薄膜M成板片狀而用的覆蓋層薄膜輸送裝置⑽、裁 切經由_薄膜輸送裝置⑽所送出的板片狀覆蓋層薄_並形成薄 長卿蓋層薄膜Wc而用的覆蓋層薄膜裁切裝置63〇、及供載置由覆蓋層 _ 麵裁切裝置63G所形成的薄長方形覆蓋層薄膜Wc於暫時壓接工作臺41〇 上而用的覆蓋層薄膜載置裝置65〇。 、、， Q成為可由捲㊆狀覆蓋層薄膜WcQ形成薄長方形覆蓋層薄膜此， 長方形的覆蓋層薄膜Wc供給至暫時壓接工作臺剔，故可採用捲 同狀覆盖層薄膜Wc0。故可進一步提高整體的生產效率。 覆盘層薄膜輸送裝置610係如第6圖及第7圖所示，具有輸送報輪612、 驅動親輪616及引導親輪620。 • :仏輪612係可予旋轉自如的支承於輥輪支座160之上方端部。因 此係予構成至藉由轉矩電動機之驅動引起的旋轉使捲筒狀覆蓋層薄 膜WcO呈板片狀送出。 驅動轆輪616係予旋轉自如的支承於輥輪支座162上。因此，係予構成 轉矩電動機618之驅動引起的旋轉使板片狀覆蓋層薄膜Wc〇輸送至引 導幸昆輪62〇側。 引‘幸&輪620係予旋轉自如的支承於襄置主體議上，予以構成至板片 狀覆蓋層薄膜Wc〇可引導覆蓋層薄膜裁切裝置63〇側。 23 I3〇89〇i 於覆蓋層軸輸送裝置61G之下方，配置有供鬆驶•拉緊覆蓋層薄膜 Wc〇而用的昇降輥輪622。 而用的引出輥輪624及移動挾 於賴昆輪咖之覆蓋層薄膜裁切裝置_處，配置有由覆蓋層薄膜 輪送裝置610供牽引板片狀覆蓋層薄犋如〇 持器626。 覆蓋層薄膜裁切裝置_係如第6圖所示，具有供裁切板片狀覆蓋層薄 侧輪娜㈣_ ___微、碰伽金屬模 ^、鳥座634。另外’覆蓋層薄膜裁切.載置裝置_係再具有將承 讀切刀的受刀帶Wh送出至壓切刀金屬模632及金屬模謂之間的受刀 板片輪送裝置_、及捲取受刀板片他之受糊捲取裝·。 由而’於裁切《狀龍層_ w _長方形之際，因成為由受刀板 =置64G所送出的受刀板片呢可經常接受壓切刀，故可良好的裁切 覆盖層_。另外，可防讀切刀刀狀携傷。 切裝Π杨載置裝置65G係如第2圖所示，具有供收付由覆蓋層薄膜裁 用的移船所裁切的薄長方形覆蓋層薄膜知至覆蓋層薄膜收付位置⑸而 妓層薄膜t至、、紐㈣盍相難付位ϊ P3而用的 654。此如 層缚膜供給位置P1之暫時壓接工作臺4U)的吸附墊 此吸附塾654係可移動於心方“ θ Ρ1及覆^ & 、車方向上，可歼降於覆蓋層薄膜供給位置 是幾層薄膜收付位置Ρ3處。 於與實施例1有關的覆¥ 圖所示，覆蓋層薄膜裁切·; 乂 再具有由覆盍層薄膜載置裝置650 24 1308901 夾持經予«於暫時壓接工作㈣0上的覆M _ We之賴薄膜的端部 之脫模薄膜夾持裝置66G。因此，於脫模薄膜夾持裝置_已夾持脫模薄膜 端部之狀H下，係予構敍藉由暫日樣接工作臺41G自覆蓋層細供給位 置P1向暫時壓接區域P2移動’由覆蓋層薄膜Wc剝離脫模薄膜。 因而’於搬送覆蓋層薄膜Wc至暫時壓接區域p2之步驟中，因成為可由 覆蓋層薄膜剝離脫模薄膜，故成為不必另外由覆蓋層薄則特意設置c剝 離脫模薄膜之步驟。因此，可縮減覆蓋層薄膜Wc對基底_ Wb之貼合作 業。 另外，載置覆蓋層薄膜Wc至暫時壓接工作臺41〇上時，因成為可於覆 蓋層薄膜阶_脫㈣_狀§下進行操作，故操作極為容易。 670。 於與實施例1有關的覆蓋層薄膜貼合裝置卜覆蓋層薄膜裁切•載雜 置_係如第7輸’於裁切覆蓋層薄㈣之前，再具有供由覆蓋層 賴Wd)上』刀的剝離脫模薄膜並形成部分剝離部而用的脫模薄膜剝離刀 A予載置於暫畴接卫作臺41{)上的覆蓋層薄則e，因成為藉 由脫模薄翻離刀67G可予預先形成部分讎部，故成為使脫模薄膜麟 裝置66G可容易的夾持脫模_之端部。 、 於與實施例1有關的覆¥芦壤胺日4 _晉η… ，觸贴合裝置卜上述吸附塾654係予構成 至載置覆盍層溥膜於暫時壓接 乍$ 410上至藉由脫模薄膜夹持裝詈 660夾持賴薄膜端部為止 、 予間亦可吸附著部分剝離部。 由而，於經予載置於暫時麼 才&接工作臺410的覆蓋層薄膜Wc，因成為於 1308901 • #由吸· 654使脫模_之部分_部吸附並捲起的狀態，故脫模薄膜 失持裝置66G成為可更容易的夾持脫模薄膜之端部。 於復盍層薄臈供給通路L2之覆蓋層薄膜供給位置ρι與暫時塵接區域 2之中間位置上，如第5圖所示配置有2個照額的發光元件17〇。 如上所述’於與實施例丨有關的覆蓋層薄膜貼合裝置1係、具有供間歇送 捲筒狀基底薄膜Wb成板片狀而用的基底薄膜供給裝置·、對由基底薄 鲁 ：仏、、’°裝置200所达出的板片狀基底薄膜Wb暫時壓接薄長方形覆蓋層薄膜

Wc供形成覆盖層薄膜Wc經予暫時塵接的板片狀層合薄臈於基底薄膜 Wb上而用的暫物妾裝置侧、供捲取由暫時難裝置伽所形成的板片 狀層合_Ws成鋪狀而用的層合_敵健·。另外，暫雜接裝 置侧係具有沿覆蓋層薄膜供給通路L2可供給覆蓋層薄膜&、且可調整覆 蓋層薄膜WG雌絲則b的位置及詩之暫雜拉作臺·。 口此右才木用與貝施例i有關的覆蓋層薄膜貼合裝置【時，因對經予間 • ^出的板片狀基底薄膜Wb係成為薄長方形的覆蓋層薄膜Wc被暫時壓接 著’故即使採用長尺度基底薄膜時，亦不致累積基底薄膜於長度方向之對 位誤差，亦不致使基底薄膜於長度方向之對位精確度降低。 “另外’若採用與實施例1有關的覆蓋層薄膜貼合裝置i時，因覆蓋層薄 馭Wc猎由可调整覆蓋層薄膜如對基底薄膜奶之位置及姿勢的暫時壓接工 物10可他至暫鳴區域p2，故成為可提繼層編c對基底 她Wb之貼合位置精確度。於是，亦可容易的提高可挽性基板之品質。 於與實施例1有關的覆蓋層薄膜貼合裝置】係如第）圖及第3圖所示， 26 1308901 ^輪給通路u嶋助树晴㈣及層合_回收裝置 B互相隔離的配置有2個攝像元件18〇。 由而，需以攝像元件18〇對層合薄 你肝罢· 賴Ws進仃攝影，即可於層合薄膜回 收衣置300回收層合薄膜ff U暫嚷接狀態。假設由攝像元件180 而得的攝影結果，覆蓋層薄膜w 了絲顧％之齡健有偏移或暫時 壓接不完整的情況，需使裝置停止 防止其後使該暫時壓接形成 不完整的層合薄膜於未然。 池 於與只施例1有關的覆蓋層薄膜貼合妒詈彳Λ u & + ^ 置1，如上所述，係再具有供使 基底薄膜供給裝置2〇〇、声人昼门丨> 壯班0 S 〇相回收裝置300、暫時壓接裝置400及輔助 暫時塵接裝置500同步動作而用的控制器咄。 由而’因成為可邊配合生產節拍時間可進行暫時壓接步驟及輔助暫時壓 接^驟故可於確保提南覆蓋層薄膜Wc對基底薄膜耶之貼合位置精確度 的狀態下，可進行整體高生產效率的暫時壓接。 又 、下/考第2圖及第8圖’說明顧與實施例丨有關的覆蓋層薄膜貼 合裝置1時之覆蓋層薄膜此對基底薄膜Wb的暫時壓接方法。第8圖俜供 說明覆蓋—麟基底_之暫龍接方細關流程圖。 如用與實％例1有關的覆蓋層薄膜貼合裝置i時之覆蓋層薄膜此對式 底薄膜㈣暫時壓接方法，係具有如下步驟：向暫_絲置棚供料 底溥膜Wb之[基簡酿給步驟]、供給薄長方職蓋層薄職至暫時壓 接工作置410之[覆蓋層相供給步驟]、對基底薄膜肋暫時壓接覆蓋層薄 膜Wc之[暫a樣接•輔助暫時壓接步驟卜回收覆蓋層薄膜^經予暫時壓 27 1308901 接的層合薄錢之[層合薄翻收步驟]。町，依魏明料各 且辅於實施覆蓋層薄膜貼合之際，如第2_示，__14〇传予 持=助暫時壓《置咖之附近，覆蓋層薄膜载置裝置咖之移動挟 夺⑽2係予配置於覆蓋層薄膜裁切裝置咖之附近’覆蓋 置咖之吸附墊654係予配置於覆蓋 :1置衣 接工作⑽㈣她編卿p^P3處。另外，暫時壓 1.基底薄膜供給步驟 收祕辆麟給裝置2GG、移動挾翻i4G及層合薄膜回 收衣置300，使基底薄膜Wb沿基底薄膜供 8圖之步_)。 路L1進订間歇性的輪送（第 於基底薄則b之覆蓋層薄膜貼合位置到達暫時難區域P2時，暫時停 止祕_之_作，藉由_持請' 13__膜奶。 此㈣由細構_ 嶋48__跡細 P2内的基底薄膜Wb係藉由辆早钟认經& — ’、'二叹衝機構48〇上的多個基底薄膜吸附孔 予以真空吸附·固定(第8圖之步驟⑹。 2·覆盖層薄膜供給步驟 首先，驅動覆蓋層薄膜輸送裝置⑽’沿覆蓋層薄膜輸送糊間歇 的迗出捲植覆蓋層薄膜ffc0成板片狀，（第謂之步驟r小此時，覆蓋 層舰嶋___糊树綱錄㈣模薄膜部 分剝離’形成部分剝離部。 、 由覆蓋層薄膜輸送裝置610纟<τ<早、、， 二适出的板片狀覆蓋層薄膜WcO係藉由移 28 1308901 動挾持器626予以供給至覆蓋層薄膜裁切裝置63G上的壓切刀金屬模632 及金屬模座634之間。因此，於藉由移動挾持器脱使經予夹持於板片狀 覆蓋層薄膜W之覆蓋層_收付位置P3側端緣的狀態下，使藉由覆蓋層 薄膜裁切裝置63◦予以裁切（第8圖之步驟R2)。此時，於板片狀覆蓋層薄 膜WcO及金輕座咖之間使受刀板片Wh經常被送出的狀態下，成為覆蓋 層薄膜WcO可予裁切。 藉由覆蓋層薄膜裁切裝置630經傾切成薄長方形的覆蓋層薄膜阶係 利用移動挾持器652經予配置於覆蓋層薄膜收付位置p3處。經予配置於覆 蓋層薄膜收付位置P3處的覆蓋層薄膜此由吸附墊枕654所吸附著，由覆 蓋層薄膜收付位置P3經予搬送•載置向覆蓋層薄膜供給位置ρι之暫時壓 接工作臺410上（第8圖之步驟R3)。 於經予載置於暫時壓接工作臺上的覆蓋層薄膜Wc方面，於覆蓋層 薄膜Wc之下面係藉由經予設於暫時壓接工作臺41〇上的多個覆蓋層薄膜吸 附孔所吸附著。另外，於覆蓋層薄膜Wc之上面，亦即脫模薄膜面，正吸附 著部分剝離部以外部分的吸附墊654之吸附係予以解除。又，於此狀態下 若使暫時壓接工作臺410下降時，則於經予載置於暫時壓接工作臺41〇上 的覆蓋層薄膜Wc即成為藉由吸附墊654使脫模薄膜之部分剝離部受吸附而 予提拉的狀態。因此，藉由脫模薄膜夾持裝置660夾持著該提拉的部分剝 離部，同時藉由使暫時壓接工作臺410向暫時壓接區域P2移動，則脫模薄 膜成為可予容易的由覆蓋層薄膜Wc剝離（第8圖之步驟R4)。 且’此經予剝離的脫模薄膜係予回收入經予配置於覆蓋層薄膜供給位置 29 1308901 P1附近的脫模薄膜回收箱内（未予圖示）。 3·暫時賴•輔助暫時壓接步驟 首先’使於覆蓋層薄膜供給位置P1經予供給覆蓋層薄膜Wc的暫時壓 接工作3：· ’移動至覆朗薄膜供給通路L2、針配置發光元件wo之位 置。於此位置處藉由經予配置於暫時壓接工作臺的2個攝像元件謂 對覆蓋層薄膜Wc進行攝影，並根據該攝影結果，測定_ 於暫 時塵接工作臺410之位置（第8圖之步·i)。 、

其-人’使暫時壓接工作臺41〇移動至暫時壓接區域p2處。此時，壓緊 機構49G係予配置於暫時壓顧域外。於暫義接區域p2處’藉由2個攝 像元件470對基底薄膜Wb進行攝影，並根據該攝影結果，測定以暫物妾 工作臺410之位置為準的基底薄膜Wb的位置（第8圖之步驟從）。因此， 由此等覆蓋層薄膜Wc及基底薄膜Wb之測定值計算出相對偏移量，再根據 該計算結果，驅動暫時壓接工作臺41〇，進行水平方向（X軸方向及軸方 向）之移動調整及/或關方向（z軸顯）之轉動調整，進行覆蓋層薄膜 Wc對基底薄膜奶之對位（第8圖之步驟％)。 覆蓋層薄膜Wc對基底薄膜Wb之對位結束後，驅動暫時壓接工作臺_ 之第4移動裝置450 ’使暫時顯工作臺4卿向上方，使覆蓋層薄至膜如 暫時顧於基底薄膜Wb上（第8圖之步驟S4)。由而，使覆蓋層薄膜奶缓 予暫時_的層合_⑽職於基底_ Wb上。暫畴接騎結束後，二 固定挾持器120、130之央持可予解除。 若此暫時壓接動作結束後，則為接受來自覆蓋層薄膜裁切•載置裝置 30 1308901 咖的新覆蓋層薄膜Wc，暫時壓接工作臺·移向覆蓋層薄膜供給位置n。 由暫時壓接裝置棚所形成的板片狀層*薄膜Ws，係藉由基底薄膜供 給裂置、魏挾持器⑽及層合_回钱置_之驅動而被送往辅助 暫時壓接裝置。因此，藉由獅暫時壓賊置咖使進行輔助暫時壓接， 使覆蓋層薄膜Wc縣底薄膜Wb更牢固的暫時壓接的層合薄膜⑽可予形成 (第8圖之步驟S5)。 4.層合薄膜回收步驟

輔助暫時壓接料進行的層合_Ws，係藉由移動挾抑i4Q而被送 向層合薄膜回收裝置。此時’藉由經予配置於移動挾持器⑽之寬度方 向兩端部上的攝像元件⑽對層合薄膜如之暫時壓接狀態進行確認作又業 (第8圖之步驟SQ1)。因此，藉由驅動基底_供給裝置、移動挟持 器140及層合薄膜回收裝謂，捲取板片狀層合薄膜ws於捲取輕 上（第8圖之步驟SQ2)。由而’板綱合薄膜Ws係予捲取成捲筒狀，即 成可以捲筒狀層合薄膜此的形式予以回收。 藉由以上的步驟，即可形成覆蓋層薄膜此經予暫時壓接於基底薄則匕 上的層合薄膜Ws。 且’使覆蓋層薄膜ffc貼合於基底薄膜Wb時，至少需要下列兩步驟：供 給覆綱㈣观輪峨地她繼細供給步驟 、及使覆盍層_ Wc貼合於基底_b _合步驟。但糾—個牛 驟）使覆蓋層薄錢完全貼合纖輸b的情況，聽合步卿鱗 為冗長，而難以提高整體的生產效率。 31 1308901 因此，於與實施例1有關的覆蓋層薄膜貼合裝置1，係以對基底薄膜％ 暫時壓接覆蓋層_ 形柄合義Ws，以取代完全貼合覆蓋層薄膜如 於基底細Wb並職層合_。“，可大幅驗上賴合步驟，謀求整 體生產效率之提高。 於與實施例1有關的覆蓋層薄膜貼合裝置i，為使完全貼合覆蓋層薄膜 Wc於基底細师，可另行準備供壓接（正式驗）覆蓋層薄則c經予暫 帽妾的層合輸s而用的真娜機，制此真空鍵機使完全貼合覆 盍層薄膜Wc於基底薄膜恥。 於上述覆蓋層薄膜對基底薄膜之暫時塵接方法，進行覆蓋層薄膜此對 基底薄賴之暫時，形成層合薄膜％的步驟後，進行下列兩步驟： 供給層合薄膜Ws至進行輔助暫時塵接的區域，同時供給新的基底薄膜恥 至暫喃接區域P2之步驟、及進行暫時顧工作臺41〇之移動動作，供給 …覆H職至基底薄膜供給通路u上之暫時顯區域四的步驟。 此時’由於後者之麵㈣者之麵職料㈣，城 =日跑進行_™接處理，咖《繼行辅助暫= 薄膜貼二暫時壓接步驟°若採用與實施例1有關的覆蓋層 印、、由於具備上述構造的輔助暫時壓接裳置500，故可縮短 取初的暫喃接日_，可進-步提高整體的生產效率。 、 (實施例2) 化表^5卿侧2 #賴朗舰恤2。第9圖係簡 貫施例2有關的覆蓋層薄膜貼合裝置之平面圖。且，對第9圖與 32 1308901 第2圖中姻的構件係註加相同的圖號，並省略其詳細說明。 與實施例_晴蓋層_貼合裝置2，基本上具有與實施例【有關 的復蓋層_貼合裝置丨相_構造，但其不同點係在於基底薄膜採用非 為捲筒狀的薄長方形基底薄膜Wb。

亦即’與實施例2有關的覆蓋層薄膜貼合裝置2係具有向暫時壓接區域 m共給薄長方形基底細Wb而_基底薄膜供給裝置·、對由基底薄 膜供給裝置_所供給的薄長方形基底_奶暫時壓㈣長方形覆蓋層 薄膜Wc A成薄長方形層合薄膜Ws而用的暫時壓接裝置棚、供回收由暫 _接裝置_所形成的薄長方形層合薄膜如而用的層合薄膜回收裝置 1300。其中’暫時壓接裝置彻係具有沿連接暫時壓接區域P2及覆蓋層薄 膜供給位置P1之覆蓋層薄難給通路L2可供給覆蓋層薄綠，且可調整 覆蓋層薄膜Wc對基底_ Wb之位置及姿勢而用的暫時壓接工作臺仙。正 因此，若採用與實施例2有關的覆蓋層薄膜貼合裝置時，由於採用薄長 方形基底薄膜Wb ’故不致累積生成基底薄膜於長度方向之對位誤差的顧 慮，因此基底薄膜於長度方向之對位精確度亦不致降低。 另外，細與實施例2有關的覆蓋層薄膜貼合裝置時，則與實施例i I勺復疏層細貼Q衣置丨之情況相同，由魏蓋層雜^係藉由可調 整覆蓋層薄錄對細膜Wb之位置及姿勢的暫嶋工作臺则可予 供給至暫義接區域P2,故成為可容易提高覆蓋層《W讀基底薄膜Wb 之貼合位爾度。枚，崎狗提帳瞻之品[ 如此，與實施例2有關的覆蓋層薄膜貼合裝置，於採用非為捲筒狀基底 33 1308901 薄膜之薄長方形基底薄膜社1作為基底薄膜的方面，雖與實施例1有關的覆 盎層薄膜貼合裝置1之情況不同，但其他方面係具有與實施例丨有關的覆 蓋層薄膜貼合裝置1相同的構造，故仍轉原狀的具有與實施例丨有關的 覆蓋層薄膜貼合裝置1所有的功效。 另外’至於供沿基底薄膜供給通路L1搬送薄長方形基底薄膜Wb及薄長 方形層合薄則S而關搬送手段，可採収_或軸工作臺等公知的搬 送手段。

【圖式簡單說明】 約圖係表示與實施例1有關的覆蓋層薄膜貼合裝置之平面圖。 弟2圖係簡化表示與實_1有義«層薄難合裝置之平面圖。 第3圖係絲與實補1有_«層薄鶴合裝置之正視圖。 弟4圖係贱賴軸細社㈣分放大圖。 側視圖。St供㈣暫賴接裝置及錢層_裁切.載置裝置而用的

的後視圖。 的側面圖。 膜的暫時壓接方法而用的流 第6圖係表示覆蓋層薄膜裁切•載置襄置 第7圖係表補蓋層_裁切•載置裝置 第8圖係表示供說明覆蓋層_對基底薄 程圖。 第9圖係簡化表示與實施 第10圖係表示習卜&盖層_貼合裝置之平面圖 “的覆盖層薄膜貼合褒置之正視圖。 L主要7L件符號說明】 34 1308901 裝置主體 控制器箱 、130固定挾持器 移動挾持器 輥輪支持台 輥輪支持台 輥輪支座 輥輪支座 發光元件 攝像元件 基底薄膜供給裝置 輸送輥輪 轉矩電動機 引導親輪 拉伸裝置 昇降輥輪 輥輪轴 昇降導轨 層合薄膜回收裝置 捲取輥輪 轉矩電動機 35 1308901 引導棍輪 拉伸裝置 昇降輥輪 幸昆輪軸 昇降導軌 暫時壓接裝置 暫時壓接工作臺 第1移動裝置 伺服電動機 螺旋軸 第1工作臺 導執 第2移動裝置 伺服電動機 螺旋軸 第2工作臺 導軌 第3移動裝置 伺服電動機 螺旋轴 第3工作臺 36 1308901

447移動元件 448枢轴 449 工作臺座 450第4移動裝置 452伺服電動機 454螺旋軸 456第4工作臺 458導軌

460覆蓋層薄膜載置部 462傾斜部 464輥輪 466彈簧 470攝像元件 470a攝像用孔 480緩衝機構 490壓緊機構 500輔助暫時壓接裝置 600覆蓋層薄膜裁切•供給裝置 610 覆蓋層薄膜輸送裝置 612輸送親輪 614轉矩電動機 37 1308901 616 驅動輥輪 620引導輥輪 622昇降輥輪 624引出輥輪 626移動挾持器 630覆蓋層薄膜裁切裝置 632壓切刀金屬模 9 634金屬模座 640受刀板片輸送裝置 642受刀板片捲取裝置 - 650覆蓋層薄膜載置裝置 - 652移動挾持器 654吸附墊 660脫模薄膜夾持裝置 ® 670脫模薄膜剝離刀 800 /習用的覆蓋層薄膜貼合裝置 801A基底薄膜輸送輥輪 801B層合薄膜捲取輥輪 802A覆蓋層薄膜輸送輥輪 803A、804A脫模薄膜輸送輥輪 - 803B、804B脫模薄膜捲取輥輪 38 1308901 805，807 輥輪 806 熱壓機 1200 基底薄膜供給裝置 1300層合薄膜回收裝置 L1基底薄膜供給通路 L2覆蓋層薄膜供給通路 L3覆蓋層薄膜搬送通路 • P1覆蓋層薄膜供給位置 P2暫時壓接區域 P3覆蓋層薄膜收付位置 - Wb捲筒狀基底薄膜 - WcO捲筒狀覆蓋層薄膜 Wc覆蓋層薄膜

Ws板片狀層合薄膜 • W11基底細 W12覆蓋層薄膜 W13、W14脫模薄膜 W15層合薄膜 39

Claims (1)

1308901 4 i L技卜… 十、申請專利範圍： 1. 一種覆蓋層薄膜貼合裝置，其特徵在於具有 由供使捲筒狀基底薄膜展成板片狀、並間歇送出而用的基底薄膜供給 裝置， 對由此基底薄膜供給裝置經予送出的板片狀基底薄膜暫時壓接薄長方 形的覆蓋層薄膜、供形成覆蓋層薄膜經予暫時壓接於基底薄膜上之板片狀 層合薄膜而用的暫時壓接裝置， 供捲取由此暫時壓接裝置所形成的板片狀層合薄膜成捲筒狀而用的層 合薄膜回收裝置而成之覆蓋層薄膜貼合裝置， 前述暫時壓接裝置可沿連接暫時麗接覆蓋層薄媒於基底薄膜上的區域 (以下稱“暫時壓接區域”）與朝前述暫時壓接區域供给基底薄膜的位置 (以下稱為“覆蓋層薄膜供給位置”）的覆蓋層薄膜供給通路供給覆蓋層 薄膜’且可調整覆蓋層薄膜相對於基底薄媒之位置及姿勢的暫時壓接工作 臺。 ’今2.如申請專利範圍第丨項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其中前述覆蓋層薄 膜供給通職靖連接前述基鋪麟給裝置及前麟合帛膜回收裝置的 基底薄膜供給通路成垂直相交。 3.—種覆蓋層薄膜貼合裝置，其特徵在於具有 由朝暫時壓接區域供給薄長方形基底薄膜而用的基底薄膜供給裝置、 對由此基底薄膜供給裝置經予供給的薄長方形基底薄膜暫時壓接薄長 方形覆蓋層薄膜並形成薄長方形層合薄膜而用的暫時壓接裝置、 供回收由此暫時壓接裝置所形成的薄長方形層合薄膜而用之層合薄膜 40 1308901 回收裝置的覆蓋層薄膜貼合裝置， 剛述暫時壓接裝置係具有可沿著連接暫時壓接區域及覆蓋層薄膜供給 位置之覆蓋層薄臈供給通路供給覆蓋層薄膜，且可對基底薄膜調整覆蓋層 缚膜之位置及姿勢的暫時壓接工作臺。 4. 如申明專利範圍第1項至第3項之任一項所述的覆蓋層薄膜貼合鞔置， 其中前述暫時壓接工作臺係可於相互垂直相交的2個水平方向上移動，且 φ 可於以水平面内的假想點為旋轉中心之圓周方向上進行轉動。 5. 如申請專利範圍第4項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其中前述暫時壓接 工作臺上至少設有2個相互隔離配置的攝像用孔，對應於此等各攝像用孔 之各個設有攝像元件暫時壓接工作臺上，至少設有2個相互隔離配置的攝 像用孔’與上述各攝像用孔對應地設有攝像元件。 6. 如申請專利範圍第1項至第3項之任一項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置， 其中前述暫時壓接工作臺係於前述暫時壓接區域的上方移動進行暫時壓接 動作。 7. 如申請專利範圍第6項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其中前述暫時壓接 裝置係前述暫時壓接工作臺於前述暫時壓接區域進行暫時壓接動作時，再 具有承受前述暫時壓接工作臺之緩衝機構。 8·如申請專利範圍第7項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其中前述緩衝機構 上係設有供吸附基底薄膜而用的多個基底薄膜吸附孔。 9.如申請專利範圍第8項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其中前述暫時壓接 裝置係再具有於進行暫時壓接動作之前對前述緩衝機構可予壓緊的壓緊機 1308901 構0 10. 如申請專利範圍第1項至第3項之任一項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置， 其中前述暫時愿接工作臺係具有供加熱覆蓋層薄膜的而用加熱器。 11. 如申請專利範圍第1項至第3項之任-項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置 ，係再具有由供間歇送·筒狀覆蓋層薄膜成板片狀而用的覆蓋層薄膜輸 送裝置、裁切由此覆蓋層薄膜輸送裝置送出的板片狀覆蓋層薄膜並形成薄 長方形覆蓋層薄膜而用的覆蓋層薄職切裝置、與供载置由此覆蓋層薄膜 裁切裝置所形成的薄長方形覆蓋層薄膜於前述暫時壓接工作臺上而用的覆 蓋層薄膜載置裝置而成之覆蓋層薄膜裁切.載置裝置。 12. 如申請專利範圍第11項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其中前述覆蓋層 薄膜裁切裝置係具有供裁切板片狀覆蓋層薄膜成薄長方形而用的壓切刀之 壓切刀金屬模具、及承受此壓切刀金屬模具之金屬模座；前述覆蓋層薄膜 裁切•载置裝置係再具有將承受上舰切刀之受刀板片送出至前述壓切刀 金屬模具及金屬模座之間的受刀板片輸送裝置、與捲取受刀板片的受刀板 片捲取裝置。 13. 如申請專利範圍第1項至第3項之任-項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置， 於前述暫af壓接工作臺上係設有供吸附薄長方形覆蓋層薄媒而用的多個覆 蓋層薄膜吸附孔。 14. 如申請專利範圍第12項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其中前述覆蓋層 薄膜裁切•載置裝置係再具有錄齡吸騎上辭傾蓋層薄膜吸附孔 上的覆蓋層薄膜之脫模薄臈的端部之脫模薄膜夾持裝置， 42 1308901 於此雌賴夾持裝置已崎前述脫模薄膜的端部之狀態下，藉由由 前述覆蓋層_供給位置使前述暫時壓接卫作臺向前述暫時壓接區域移 動，由前述覆蓋層薄膜剝離脫模薄膜。 .' 15. 如申請專利範圍第η項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其中前述覆蓋層 薄膜裁切•«裝置於裁切覆蓋層薄膜之前，係再具有供由覆蓋層薄膜部 分的剝離雌薄職形成部㈣卿卩㈣的雌賴剝離刀。 16. 如申請專利範圍第15項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，其中前述覆蓋層 薄膜載置裝置係具有供搬送由前述覆蓋層薄膜裁切裝置經予裁切的覆蓋層 薄膜至前述暫時壓接作臺上的韻塾，此韻塾枕係於上述暫時壓接工 作臺上載置覆蓋層細’至由前述職薄驗躲置鱗雌薄膜之端部 為止的時間内，吸附著前述部分剝離部。 17. 如申請專利顧第丨項至第3項之任—項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置， 係再具有时Si設於基底細供給通軸的前述暫時壓魏置之前述廣合 薄膜回收裝置側’供對基底薄臈更牢_進行暫時壓接藉由前述暫時壓接 裝置經予暫時壓接於基底薄膜上之覆蓋層顏而用的輔助暫時壓接裝置。 18. 如申請專利第1?項所述的覆蓋層薄膜齡裝置’係於基底薄膜供 給路_前箱騎龍接裝置及前述層合薄膜回收裝置之間至少配設 有2個相互隔離的攝像元件。 19. 如申請專利範圍第17項所述的覆蓋層賴貼合裝置，係再具有供使前 述基底細供給裝置及前述層合_时裝置、前述暫喃接裝置與前述 輔助暫時壓接裝置同步動作而賴控制器。 43 1308901 20_ -種覆蓋層細貼合裝置’祕徵在於使覆蓋層義韻於暫時壓接工 作臺上的狀態下，調整覆蓋層薄膜與基底薄膜間之相對位置及姿勢後，進 行覆蓋層薄膜與基底薄膜間之暫時壓接。 * 21.如申請專利範圍第20項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置，係於使基底薄膜 吸附於緩衝機構的狀態下’進行覆蓋層薄膜與基底薄膜間之暫時壓接。 22·如申請專利圍第1項或第2G項所述的覆蓋;|薄膜貼合裝置，係再具 有由供間歇送出捲筒狀覆蓋層細成板片狀而㈣覆蓋層賴輸送裝置、 裁切由此覆蓋層賴輸送裝置勒的板#狀覆蓋層細並職薄長方形覆 蓋層薄膜而用的覆蓋層薄膜裁切裝置、與供載置由此覆蓋層薄膜裁切裝置 所形成的薄長方形覆蓋層薄膜於前述暫時壓接卫作臺上而用的覆蓋層薄膜 載置裝置而成之覆蓋層薄膜裁切•載置裝置。 23. 如申請專利範圍第22項所述的覆蓋層賴貼合裝置，其中前述覆蓋層 薄膜裁切·載置裝置係、具有供裁切板片狀覆蓋層薄膜成薄長方形而用的壓 切刀之壓切刀金屬模及承受壓切刀金賴之金顧座，前述覆蓋層薄膜裁 切·載置裝置再具有將承受壓切刀的受刀帶送出至壓㈣金屬模及金屬模 座之間的受77板片輸送裝置、及捲取受刀板片之受刀板片捲取裝置。 24. 如申請專利範圍第22項所述的覆蓋層薄麻合裝置，其中前述覆蓋層 薄膜裁切·載置裝置係、於前述暫時壓接工作臺上設有供吸附薄長方形板片 狀覆蓋層薄膜而用的多數覆蓋層薄膜吸附孔。 25·如申請翻顧第24補賴£蓋層細齡裝置，其巾前述覆蓋層 薄膜裁切•載置裝置係再具核持經予吸附於上述多個覆蓋層薄膜吸附孔 44 1308901 上的覆蓋層4棋之脫模薄膜的端部之脫模薄膜夾持裝置， 、於此脫棋’專膜夾持裝置已失持前述脫模薄膜的端部之狀態下，藉由由前 述覆蓋層薄膜供給位置使前述暫時壓接工作臺向邊述暫時愿接區域移動， 由前述覆蓋層薄臈剝離脫模薄膜。 26.如申請專利範圍第25項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置 ，其中前述覆蓋層 薄膜裁切•載置裝置於裁切覆蓋層賴之前，係再具有供由覆蓋層薄膜部 春〃的剝離脫模薄膜並形成部分剝離部而用的脫模薄膜剝離機構。 27·如申請專利範圍第26項所述的覆蓋層薄膜貼合裝置 ，其中前述覆蓋層 薄膜載置裝置係具有供搬送由前述覆蓋層薄麟切裝置經予裁_覆蓋層 4膜至魏暫時壓接卫作臺上的韻整，此韻塾枕係於上述暫時壓接工 作臺上栽置覆蓋層薄媒’至由前述雌薄膜夾持裝置炎持脫模薄膜之端部 為止的時間内，吸附著前述部分剝離部。 28.-種可撓性基板，係採用申請專利範圍第j項或第2〇項所述的覆蓋層 〇 馳貼合裝置抑貼合的層合薄膜而製得者。 45 1308901 十一、圖式：

第一圖 1308901

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48 1308901

400 480

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第四圖 49 1308901

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第五圖 50 1308901

第六圖 51 1308901 xt^y

第七圖 52 1308901

53 1308901 k X ai^n k一 I I_II 0 1 009 0S9

G§ 圖 九第 54 1308901

第十圖 55