TWI305780B - Photosensitive resin composition using photopolymer - Google Patents

Photosensitive resin composition using photopolymer Download PDF

Info

Publication number
TWI305780B
TWI305780B TW092127353A TW92127353A TWI305780B TW I305780 B TWI305780 B TW I305780B TW 092127353 A TW092127353 A TW 092127353A TW 92127353 A TW92127353 A TW 92127353A TW I305780 B TWI305780 B TW I305780B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
weight
pigment
photosensitive resin
diacrylate
chemical formula
Prior art date
Application number
TW092127353A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200424219A (en
Inventor
Chan-Seok Park
Gil-Lae Kim
Bong-Gi Kim
Original Assignee
Dongjin Semichem Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dongjin Semichem Co Ltd filed Critical Dongjin Semichem Co Ltd
Publication of TW200424219A publication Critical patent/TW200424219A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI305780B publication Critical patent/TWI305780B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/26Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/30Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F214/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/04Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C08F220/06Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/26Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/28Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/26Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/28Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
    • C08F220/282Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing two or more oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/26Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/30Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
    • C08F220/301Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety and one oxygen in the alcohol moiety
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F228/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a bond to sulfur or by a heterocyclic ring containing sulfur
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators

Description

1305780 怒、發明說明 簡單說明) (發明說明應敘明:發明所屬之技術領域、先前技術、內容、 、 - ta乃式及圖式 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關一種感光度高的顯像邊緣突出的浐射 反射、半投射型液晶顯示器的濾色鏡用的感光性樹脂1成'。 5【先前技術】
以往形成液晶顯示器的濾色鏡的方法有染色方法、印 刷方法、附著方式、噴墨(Ink-jet)法、顏料分散法等但是 近來採用分辨力測試圖及製作方法簡單的顏料分散法 種方式應用於手機、筆記型電腦、指示器、電視等的液s 10 顯示器的製造。 日日 但是隨著指示器、電視等的色彩再現率(NTSC對比 色濃度)比筆記型電腦的液晶顯示器高,顏料的含量越來 越多,這在實際生產過程中需要很高的曝光量,以致顯像 時對於顯像邊緣(margin)及態樣(pattern)的直線性將造成不 15 好的影響。
以往使用的感光樹脂合成物一般由1 )溶解於驗性水 溶液的黏合劑;2)至少包括2個以上烯烴雙鍵的交聯性單 體,3 )顏料;4 )光聚合引發劑;以及5 )溶劑等所組成, 而根據需要,更可包含增強與基板的黏附力的增強劑、為 20穩定保管而使用的穩定劑、提高顏料分散性的分散劑等添 加劑。這些感光樹脂合成物一般因光而產生的光聚合引發 劑的基,而與交聯性單體形成雙鍵結合,在顯像過程中阻 止對懸浮液的溶解能力。但是這種結構隨著顏料的增加和 濾色鏡厚度的薄膜化,作為矩陣的黏結劑及單體的含量隨 續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) -6- 1305780 _ 發明說明β胃 著減少,這在形成態樣中與懸浮液的反應性及形成邊緣等 方面被認為係不可忽略的問題。
為解決上述問題,日本特開平8-278630號、6-1938 號及5-339356號和韓國發明專利公開第1995-702313號中 5 提出了利用感光性聚合物的製造方法。但是使用這種利用 聚合物的方法,會降低保管穩定性,且因顯像後形成殘影 的情形比較多,需要對其進行改善,此外對溶劑的溶解性 能不如以往的丙烯酸黏結劑。 10 【發明内容】 為解決上述以往技術中存在的問題,本發明提供一種 光(UV )硬化能力突出、與丙烯酸黏結劑的相溶性突出的 感光性聚合物及其共聚物。 本發明的另一個目的是提供一種以少量的曝光量即能 15 夠達到顯像性能高、保管穩定性突出的利用上述感光性聚 合物的樹脂組成。
為達到上述目的,本發明提供如下以化學式la或化學 式lb所表示的宏聚體。 [化學式la]
7- I3〇578〇 [化學式lb]
上式中R1纟示各個獨立的氫或者碳的數量為卜2的煙 基; R2表示被經基取代或未被取代的碳的數量為卜2的煙 基, 其中 a+b+c=卜 〇.i<a<0.4, 0<b<〇 5,〇 1<c<〇 5。 並且,本發明所提供之在濾色鏡用之感光型樹脂組 成,係為包含有: 1) 以如下化學式13或化學式113表示的宏聚體佔丨〜3〇 重量百分比; 2) 至少包括2個以上烯烴雙鍵的交聯性單體佔5〜3〇 重量百分比; 3) 顏料佔10〜60重量百分比; 4) 光聚合引發劑〇.5~5重量百分比; 5) 溶劑佔20〜80重量百分比的一種濾色鏡用感光性樹 脂組成。 [化學式la] -8- 1305780
發明說明;續胃
上式中R1表示各個獨立的氫或者碳的數量為1〜2的烴 基; R2表示被羥基取代或未被取代的碳的數量為1~2的烴
其中 a+b+c=l,0.1<a<0.4’0<b<0.5,0.1<c<0.5。
10 【實施方式】 以下對本發明進行更為詳細的說明。 本發明的特徵是,利用包含在光照下自行硬化的感光 性樹脂的上述化學式la或者化學式lb的宏聚體,提供一 種感光性高、顯像邊緣突出的投射、反射、半投射型液晶 15 顯示器的濾色鏡用的感光性樹脂組成(合成物)。 -9- 1305780 發明說明,續胃 在本發明的感光性樹脂合成物,1)上述化學式la或 化學式lb的宏聚體是溶於鹼性水溶液的樹脂,在溶劑中把 以下化學式2a或者2b所表示的感光性樹脂和酸基的稀烴 單體或不具有烯烴單體共聚而成。 [化學式2a]
[化學式2b]
上式中,R1表示各個獨立的氫或者碳的數量為1〜2的 10 烴基; R2表示被羥基取代或未被取代的碳的數量為1〜2的烴 基; 上述化學式2a或化學式2b的感光性樹脂官能團的具 體例為,查耳酮(Chalcone)或肉桂酸(Cinnamate)樹脂。上述 15 化學式2a或化學式2b的含量最好是10〜50重量百分比。 上述具有烯烴酸基的單體有丙烯酸、甲基丙烯酸、衣 康酸、馬來酸、富馬酸、乙酸乙烯酯或者他們的酸酐形態, 或者2-乙氧基丙稀酸鄰苯二甲酸氫(2-acrylooxyethyl -10- 1305780 _ 發明說明_胃 hydrogenphthalate)、2-丙氧基丙烯酸鄰苯二曱酸氫 (2-acrylooxypropyl hydrogenphthalate)、2-丙氧基己基丙烯 酸鄰笨二曱酸氫(2-acrylooxypropylhexa hydrogenphthalate) 等。上述烯烴酸基單體的含量可望在10〜40重量百分比, 5 最好是在20〜30重量百分比。上述具有酸基的單體含量若 小於10重量百分比,存在降低感光性樹脂對鹼性懸浮液溶 液的溶解能力的傾向,若超過40重量百分比,會在鹼性懸 浮液顯像時發生態樣的脫落及剝落現象。 上述不具有酸性基的單體有異-丙烯酸丁酯、三級-丙烯 10 酸丁酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸烷基酯、十八烷基丙烯酸 酯、丙稀酸環己酯、丙烯酸異冰片酯(isobornyl acrylate)、 丙稀酸苯酯、2-羥基丙烯酸酯、三甲氧基丙烯酸丁酯、卡 比醇丙烯酸乙酯(ethylcarbitol acrylate)、苯氧基丙稀酸乙 酯、4-羥基丙烯酸丁酯、苯氧基聚乙二醇丙烯酸酯、2_經基 15 丙婦乙S旨、2-經基丙烯丙酯、2-乙氧基丙烯酸2-經基鄰苯 二甲酸丙酯(2-acryloxyethyl 2-hydroxypropylphthalate)、2- 輕基-3-苯氧基丙稀酸丙g旨及其曱基丙稀酸醋類;3·氣丙; 酸乙S旨、4-氟丙烯酸丙酯等的鹵系列化合物及其他們的甲 基丙稀酸酯類;像三乙矽氧烷丙烯酸乙酯包括石夕氧燒基的 20 丙烯酸鹽及其異丁烯酸鹽;苯乙烯、4-甲氧基苯乙稀等的 具有芳香烴的烯族等,或可以把上述單體單獨或者二種以 上混合使用。上述不具有單體的含量佔高分子組成中1〇〜8〇 重量百分比,最好是佔20〜70重量百分比。這些單體的含 量若不到10重量百分比,顯像工程中會降低與破璃面的緊 -11- 1305780 _ 發明說明;_胃 密結合性而增加態樣的剝落,降低形成態樣的直進性,若 超過80重量百分比會增加顯像時間。 溶解於本發明的驗性水溶液的宏聚體的重量平均分子 量在10000〜80000,最好是在15000〜50000。上述宏聚體的 5 重量平均分子量超過80000會降低顯像時間、產生殘影, 重量平均分子量不到10000,會使顯影邊緣(development margin)消失。 上述化學式la或者化學式lb的宏聚體含量佔整個感 光性樹脂組成的5〜30重量百分比,且根據含量顯示感光度 10 和硬化程度的增加。上述宏聚體的含量不到1重量百分 比,形成的態樣的耐熱性及耐化學性會存在問題,超過30 重量百分比,會出現隨著固形粉增加黏度上升的問題。 在本發明的感光性樹脂合成物中至少具有2個以上的 烯烴雙鍵的交聯性單體有M-丁二醇二丙烯酸酯' 1,3-丁二 15 醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、 三乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、雙季戊四醇 二丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、雙酚A二丙烯酸酯衍 生物、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、雙季戊四醇聚丙烯酸酯 及他們的甲基丙稀酸甲酯類。上述至少包括2個以上的烯 20 烴雙鍵的交聯性單體佔整個感光性樹脂合成物的5〜30重 量百分比,最好是5〜20重量百分比。上述交聯性單體的含 量不到5重量百分比,與感光性樹脂的低硬化度很難實現 態樣,超過30重量百分比會因高硬化度,顯像時會出現態 樣的剝落現象,態樣的直進性降低。 -12- 1305780 發明說明 在本發明的感光性樹脂合成物中的顏料可以使用有機 顏料或者無機顏料,這種有機顏料的具體例子有C.I.顏料 更83、C.I.顏料黃150、c丄顏料黃138、cx顏料黃128、 C.I.顏料橙43、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅202、C.I.顏 5料紅209、C.I.顏料紅254、C.I.顏料紅255、C.I.顏料綠 7、C.I.顏料綠 36、C.I.顏料藍 15、C.I.顏料藍 15:3、C.I. 顏料藍15:4、C.I.顏料藍15:6、C.I.顏料紫23、C.I.顏料 黑1、C.I.顏料黑7等。無機顏料可以用氧化鈦、黑鈦、 碳黑等。為了讓各種顏色組合,可以使用1種或2種以上 10 混合使用。上述顏料的含量佔整個感光性樹脂合成物含量 的10〜60重量百分比。 在本發明的光聚合引發劑可以採用三嗪系列化合物、 乙醯苯系列化合物、氧雜蒽酮系列化合物、笨偶姻系列化 合物、咪唑系列化合物所組成的族群中選擇1種或以上。 15 上述光聚合引發劑的具體例子有,2,4-雙-三氣甲基-6-p-甲 氧基苯乙晞基-s-三°条、2-p-甲氧基苯乙埽基-雙-三氣甲基_s_ 三嗪、2,4-三氯甲基-6-三嗪、2,4-三氣甲基-4-甲基萘基-6-三嗪、笨曱酮、p-(二乙氨基)苯甲酮、2,2-二氯-4-笨氧基 苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二丁氧基苯乙酮、2-經 20 基-2-甲基笨乙酮(2-hydroxy-2-methylpropiophenone)、p-t- 丁基二氯苯乙酮、2-甲基硫代二苯並η比喃綱 (2-methylthioxanthone)、2-異丁基硫代二笨並吡喃酮 (2-isobutylthioxanthone)、2-十二炫基硫代二苯並。比喃酮 (2-dodecylthioxanthone)、2,4-二甲基硫代二苯並吡 α南明 -13- 1305780 _ 發明說明$賣胃 (2,4-dimethylthioxanthone)、2,4-二乙基硫代二苯並°比喃酮 (2,4-(1丨61:11711;11!1〇\&1^11〇116)、2,2-雙-2-氯苯-4,5,4,5-四苯基-2-1, 2-二0米0坐(2,2-bis-2-cholorophenyl-4,5,4,5-tetraphenyl-2-l, 2-biimidazole)化合物等。 5 上述光聚合引發劑的含量佔感光性樹脂合成物的
0.5〜5重量百分比,最好是1〜2重量百分比。上述光聚合引 發劑的含量不到0.5重量百分比,因低感光度很難顯示正 常的態樣對態樣的直進性也不利,超過5重量百分比,會 導致保管穩定性發生問題,因高硬化度,在顯像時會加深 10 態樣的剝落現象,形成的態樣之外的部分容易產生殘影。
本發明的感光性樹脂合成物中,溶劑是按照溶解性、 顏料分散性、塗層性所選定,具體之例子有乙二醇一甲醚 醋酸鹽、丙二醇甲醚醋酸鹽、丙二醇甲醚醋酸鹽、丙二醇 一乙醚醋酸鹽、二乙二醇二甲醚、二乙二醇亞曱基二乙醚、 15 環己酮、3-甲氧基丙酸、3-乙氧基丙酸、3-乙氧基丙酸乙酯 等,可以把上述溶劑單獨或2種以上混合使用。上述溶劑 的含量佔整個感光性樹脂合成物含量的20〜80重量百分 比。 並且,本發明的感光性樹脂合成物可以包含為提高與 20 顏料的分散性的分散劑或為提高塗層性能提高的添加劑, 例如,聚酯基分散劑、聚乙烯基分散劑、矽樹脂基表面活 性劑及氟基表面活性劑,其佔整個感光性樹脂合成物的 0.01〜1重量百分比。 -14- 1305780 _ 發明說明續頁 以下結合實施例對本發明進行更為詳細的說明,但不 表示本發明僅限於下述實施例。在下述實施例中,如沒有 另行說明,百分比及混合比表示重量百分比。 實施例1 5 丨)溶解於鹼性水溶液的宏聚體,是由曱基丙稀酸苯酯 /曱基丙烯酸/羥基乙基丙烯酸肉桂酯的共聚物(在丙二醇甲 醚醋酸鹽溶液的溶解下共聚物比例為60/20/20,固形粉的 含量佔35重量百分比,重量平均分子量為30000的共聚物) 佔15重量百分比,2)至少包括2個以上烯烴雙鍵的宏聚 10 體’二異戊四醇丙烯酸己醋(dipentaerythritol hexaacrylate) 佔5重量百分比,3)顏料使用C丄顏料紅254,佔40重 量百分比,4 )光聚合引發劑使用Irgacure369 ( Ciba Speciality Chemicals Ltd.製造)佔 1 重量百分比及 4, 4,-雙-一乙氨基笨甲佔1重量百分比,5)溶劑使用丙二醇甲醚醋 15 酸鹽佔28重量百分比及環己酮佔1〇重量百分比,把上述 原料混合製成液體狀態的感光性樹脂合成物。 實施例2 1 )溶解於鹼性水溶液的宏聚體,是由笨乙烯/甲基丙烯 酸/經基丁基丙烯酸肉桂酯的共聚物(在丙二醇甲醚醋酸鹽 20 溶液的溶解下共聚物比例為60/20/20,固形粉的含量佔35 重里百分比,重量平均分子量為30000的共聚物)佔15重 量百分比’ 2)至少包括2個以上烯烴雙鍵的宏聚體,二異 戊四醇丙烯酸己酯佔5重量百分比,3)顏料使用C.I.顏料 w 138佔20重量百分比,4)光聚合引發劑使用irgacure369 -15- 1305780 __ 發明說明_胃 (Ciba Speciality Chemicals Ltd_製造)佔1 重量百分比及 4, 4,-雙-二乙氨基苯甲酮佔1重量百分比,5)溶劑使用丙 二醇甲醚醋酸鹽佔18重量百分比及環己酮佔10重量百分 比,把上述原料混合製成液體狀態的感光性樹脂合成物。 5 實施例3 1)溶解於鹼性水溶液的宏聚體,是由苯乙烯/甲基丙稀 酸/羥基丁基丙烯酸肉桂酯的共聚物(在丙二醇甲醚醋酸鹽 溶液的溶解下共聚物比例為50/25/25,固形粉的含量佔35 重量百分比,重量平均分子量為30000的共聚物)佔15重 10 量百分比,2)至少包括2個以上烯烴雙鍵的宏聚體,二異 戊四醇丙烯酸己酯佔5重量百分比,3)顏料使用C.I.顏料 藍15:6佔35重量百分比及C.I.顏料紫23佔5重量百分 比 ’ 4)光聚合引發劑使用 Irgacure369 ( Ciba Speciality Chemicals Ltd.製造)佔1重量百分比及4,4'-雙-二乙氨基苯 15曱酮佔1重量百分比,5)溶劑使用丙二醇甲醚醋酸鹽佔 28重量百分比及環己酮佔1〇重量百分比,把上述原料混 合製成液體狀態的感光性樹脂合成物。 實施例4 1)溶解於鹼性水溶液的宏聚體,是由甲基丙稀酸笨酯 20 /甲基丙烯酸/經基笨基丙烯酸查耳酮酯的共聚物(在丙二醇 甲鍵醋酸鹽溶液的溶解下共聚物比例為5〇/25/25,固形粉 的含量佔35重量百分比,重量平均分子量為3〇〇〇〇的共聚 物)佔15重量百分比’ 2)至少包括2個以上烯烴雙鍵的 宏聚體’二異戊四醇丙烯酸己酯佔5重量百分比,3 )顏料 -16- 1305780 發明說明 使用碳黑(20%溶液)佔40重量百分比,4)光聚合引發劑 使用 Irgacure369(Ciba Speciality Chemicals Ltd.製造)佔 1 重量百分比及4,4’-雙-二乙氨基苯甲酮佔1重量百分比,5) 溶劑使用丙二酵曱醚醋酸鹽佔28重量百分比及環己酮佔 5 10重量百分比’把上述原料混合製成液體狀態的感光性樹 脂合成物》 比較例1
與上述實施例2相同的組成和含量,但1 )溶解於水溶 液黏結劑採用笨乙烯/曱基丙烯酸的共聚物(在丙二醇甲醚 10醋酸鹽溶液的溶解下共聚物比例為70/30,固形粉的含量佔 35重量百分比’重量平均分子量為3〇〇〇〇的共聚物)15重 量百分比,製造感光性樹脂合成物。 比較例2
與上述實施例4相同的組成和含量,但1 )溶解於水溶 15液黏結劑採用t-丙稀酸丁酯/甲基丙烯酸/水凝膠(2-羧基乙 基甲基丙烯酸鹽(2-hydroxyethylmethacrylate,HEMA))的 共聚物(在丙二醇甲醚醋酸鹽溶液的溶解下共聚物比例為 60/20/20 ’固形粉的含量佔35重量百分比,重量平均分子 量為30000的共聚物)μ重量百分比,製造感光性樹脂合 20 成物。 特性比較 對上述實施例1至4的包含有感光性樹脂的合成物和 沒有包含感光性樹脂的比較例1至2的合成物進行顯像特 性及態樣的直進性的評價。 -17- 1305780 發明說明I賣Μ 1)顯像特性評價 把上述通過實施例和比較例所得到的感光性合成物放 到玻璃面上旋塗方式塗層,塗層厚度為2μιη,80°C的溫度 條件下在加熱板上乾燥2分鐘獲得塗層膜。 5 然後把遮光模設置在上述膜上之後,利用放出200nm 至400nm波長的超高壓水銀燈,以365nm為基準下曝光一 定時間使其成為200mj/cm2,利用KOH顯像液(東進 SemiChem株式會社製造,DCD-260CF)通過空心光錐進行 顯像。通過顯像的微態樣的程度和態樣末端部分的直進性 10 評價了顯像性能,實驗結果如下表1所述,下表1中〇表 示態樣末端部分的直進性的優秀、△表示直進性的不佳、 X表示態樣被顯像液所清除掉。 表1
實施例 實施例 實施例 實施例 比較例 比較例 1 2 3 4 1 2 態樣幅 100 〇 〇 〇 〇 Δ Δ 度(μηι) 50 〇 〇 〇 〇 X X 20 〇 〇 〇 〇 X X 察看上表,本發明的實施例1至4在低曝光量顯示出 15 優秀的顯像效果,但比較例1至2中顯像性極其不佳。 2)保管穩定性的評價 通過上述實施例所製造的感光性樹脂,80°C的溫度條 件下在密閉的加熱爐裏10天内以2曰為間隔拿出後測試塗 層後的厚度及顯像評價ΙΟΟμηι圖形成型後態樣的直進性, -18- 1305780 發明說明,續頁 畀驗結果如下表2所示。下表2中〇矣千心#。 r衣z 衣不初期沒有狀態變 化的情況,△表示塗層後厚度有變化,但顯像後態樣的直 進性良好的情況,X表示塗層後其厚度有變化,態樣的直 進性變壞的情況。 實施例 貪施例2 實施例3 實施例4 2 a 〇 〇 δ ~~~ 〇 態樣幅 4曰 〇 〇 δ 〇 度(μιη) 6曰 〇 〇 δ~~1 〇 8曰 〇 〇 〇 〇 致4 10日 1- μ * 〇 0 , 士欲脱 △ 〇 Δ 察看上表2 ’本發明的實施例1至4顯示其保管穩定性 優秀。 如上所述,本發明的感光性樹脂合成物使用了可以通 過光照自行進行交鍵的感光性樹脂基的樹脂,可以在包含 10高濃度顏料或者使用黑顏料等的顯像性能不佳的情況下, 可以在低曝光量下顯示出優秀的顯像性能,其保管穩定性 優秀’可以在包括濾色鏡的LCD製造工程中有效運用。 -19-

Claims (1)

  1. L-種如下化學式 [化學式la] la或化學式lb所表示的宏聚體:
    10 15 R1表不各個獨立的氫或者碳的數量為^的烴基; R2表不被取代成羥基或者未被取代的碳的數量為1〜2 的烴基; a+b+c=l,其中 〇_1<a<〇 4,〇<b<〇 5,〇 1<c<〇 5。 2_依據申請專利範圍第丨項所述之宏聚體,其中該宏 聚體的重量平均分子量為10000〜4〇〇〇(^ 3. —種濾色鏡用之感光樹脂合成物,包含有: 1)以下述化學式la或化學式lb表示的宏聚體佔丨〜3〇 重量百分比; 2)包括至少2個烯烴雙鍵的交聯性單體佔5〜3〇重量 百分比; 續次頁(輔翻範酿顿醜日#,_記雖用麵) -20- 1305780
    3 )顏料佔10〜60重量百分比; 4)光聚合引發劑〇.5〜5重量百分比; 5 )溶劑佔20~80重量百分比; [化學式la]
    R1表示各個獨立的氫或者碳的數量為1〜2的烴基;
    R2表示被取代成羥基或者未被取代的碳的數量為1〜2 10 的烴基;a+b+c=l,其中 0.1 < a< 0.4,0<b< 0.5,0.1 < c < 0.5。 4.依據申請專利範圍第3項所述之濾色鏡用之感光樹 脂合成物,其中該宏聚體之重量平均分子量是 10000-40000。 15 5.依據申請專利範圍第3項所述之濾色鏡用之感光樹 脂合成物,其中該包括至少2個烯烴雙鍵的交聯性單體, -21- 1305780 是從1,4-丁二醇二丙烯酸酯、丨,3-丁二醇二丙烯酸酯、乙二 醇二丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸 酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、雙季戊四醇二丙烯酸酯、山梨 糖醇二丙烯酸酯、雙酚A二丙烯酸酯衍生物、三羥曱基丙 5烷二丙烯酸酯、雙季戍四醇聚丙烯酸酯及他們的甲基丙稀 酸甲酯類所組成的族群中所選擇出來的1種單體。
    6.依據申請專利範圍第3項所述之濾色鏡用之感光樹 脂合成物’其中該顏料是為有機顏料或者無機顏料。 7_依據申請專利範圍第3項所述之濾色鏡用之感光樹 10脂合成物,其中該溶劑是從乙二醇一甲醚醋酸鹽、丙二醇 曱醚醋酸鹽、丙二醇甲鍵醋酸鹽、丙二醇一乙醚醋酸鹽、 一乙一醇一甲_、二乙二醇亞甲基二乙醚、環己酮、3_甲 氧基丙酸、3-乙氧基丙酸、3_乙氧基丙酸乙酯所構成的族群 中所選出來的一種溶劑。 15 8.依據申請專利範圍第3項所述之濾色鏡用之感光樹
    脂合成物’進一步包含有〇〇〖〜;!重量百分比、從聚酯基分 散劑、Ικ乙烯基分散劑、;5夕樹脂基表面活性劑及氟基表面 活性劑所組成的族群中所選擇出來的一種為提高與顏料之 間的分散性的分散劑或者提高塗層性能的添加劑。 20 9·依據申請專利範圍第7項所述之渡色鏡用之感光樹 月θ合成物’其中該溶劑是從乙二醇一甲謎醋酸鹽、丙二醇 曱醚醋酸鹽、丙二醇曱醚醋酸鹽、丙二醇一乙醚酷酸鹽、 —乙一酵·一曱鍵、-—乙二醇亞曱基二乙鱗 ' 環己網、3 -甲 氧基丙酸、3-乙氧基丙酸、3-乙氧基丙酸乙酯所構成的族群 -22- 1305780 %年3月丨3日修(之ni,替換頁.---- —~~!~ -----------—:—一"3 專举(1範圍糸寶:胃 中所選出來的二種溶劑。
    «· -23-
TW092127353A 2002-10-04 2003-10-02 Photosensitive resin composition using photopolymer TWI305780B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2002-0060604A KR100481014B1 (ko) 2002-10-04 2002-10-04 포토폴리머를 이용한 감광성 수지 조성물

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200424219A TW200424219A (en) 2004-11-16
TWI305780B true TWI305780B (en) 2009-02-01

Family

ID=32291692

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW092127353A TWI305780B (en) 2002-10-04 2003-10-02 Photosensitive resin composition using photopolymer

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2004124096A (zh)
KR (1) KR100481014B1 (zh)
CN (1) CN100334506C (zh)
TW (1) TWI305780B (zh)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100468398B1 (ko) * 2002-10-22 2005-01-27 엘지전선 주식회사 공중합에 의한 폴리아크릴계 감광성 고분자 액정 배향제조성물, 이를 이용한 감광성 고분자 액정 배향막의제조방법 및 상기 액정 배향막을 이용하는 액정 소자
JP4601267B2 (ja) * 2003-06-20 2010-12-22 東洋インキ製造株式会社 感光性黒色組成物、それを用いたブラックマトリックス基板およびカラーフィルタ
JP4864375B2 (ja) * 2004-08-09 2012-02-01 ドンジン セミケム カンパニー リミテッド スペーサ用感光性樹脂組成物、スペーサ及び液晶表示素子
JP4677262B2 (ja) * 2005-03-24 2011-04-27 東洋インキ製造株式会社 光硬化性着色組成物およびそれを用いて形成されるカラーフィルタ
JP4887486B2 (ja) * 2005-11-08 2012-02-29 国立大学法人東京工業大学 カルコン類縁体
KR101306153B1 (ko) * 2006-08-25 2013-09-10 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물
JP5487368B2 (ja) * 2008-11-17 2014-05-07 地方独立行政法人大阪府立産業技術総合研究所 フォトレジスト組成物
JP2010271729A (ja) * 2010-07-05 2010-12-02 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光硬化性着色組成物およびそれを用いて形成されるカラーフィルタ
KR101443757B1 (ko) 2010-11-08 2014-09-25 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
CN103782237B (zh) * 2011-08-30 2017-02-15 旭硝子株式会社 负型感光性树脂组合物、分隔壁、黑色矩阵以及光学元件
KR101674990B1 (ko) 2012-12-07 2016-11-10 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20150029921A (ko) * 2013-09-11 2015-03-19 동우 화인켐 주식회사 디스플레이 장치의 전면 차광층 형성용 착색 감광성 수지 조성물
KR20200092131A (ko) 2019-01-24 2020-08-03 전백원 프라이팬 손잡이 자동 조립장치
CN112920295B (zh) * 2019-12-05 2024-05-03 固安鼎材科技有限公司 一种大分子光引发剂及其应用
CN114516962B (zh) * 2020-11-19 2024-04-26 北京鼎材科技有限公司 一种高透光敏树脂及使用其的彩色光敏树脂组合物
CN112812347B (zh) * 2021-02-23 2022-08-30 新纶新材料股份有限公司 一种光学薄膜材料及其制备方法、偏光片

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55118911A (en) * 1979-03-06 1980-09-12 Agency Of Ind Science & Technol Photosensitive resin composition
JPS6036503A (ja) * 1983-08-10 1985-02-25 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂
JPH0745533B2 (ja) * 1986-02-19 1995-05-17 新技術事業団 感光性樹脂とその製造方法
JPS63254443A (ja) * 1987-04-13 1988-10-21 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH06194515A (ja) * 1992-12-25 1994-07-15 Hitachi Ltd カラ−フィルタ形成用感光性樹脂
EP0686877A4 (en) * 1993-12-27 1996-06-05 Hoechst Japan PHOTOSENSITIVE COLORED RESIN COMPOSITION
JPH08278630A (ja) * 1995-04-07 1996-10-22 Nippon Steel Chem Co Ltd 保存安定性に優れたカラーフィルター用インク及びこれを用いて形成したカラーフィルター
JP3730318B2 (ja) * 1996-05-31 2006-01-05 日本合成化学工業株式会社 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体
JPH1010315A (ja) * 1996-06-27 1998-01-16 Hitachi Chem Co Ltd カラーフィルタ用感光性フィルム及びこれを用いたカラーフィルタの製造法
US6433118B1 (en) * 1998-10-15 2002-08-13 Mitsui Chemicals, Inc. Copolymer, a manufacturing process therefor and a solution containing thereof
US6410206B1 (en) * 1999-02-25 2002-06-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Photosensitive resin composition, color filter, and copolymer resin useful for them

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040031227A (ko) 2004-04-13
TW200424219A (en) 2004-11-16
CN100334506C (zh) 2007-08-29
JP2004124096A (ja) 2004-04-22
KR100481014B1 (ko) 2005-04-07
CN1497343A (zh) 2004-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI305780B (en) Photosensitive resin composition using photopolymer
KR102047079B1 (ko) 청색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 포함하는 액정표시장치
TWI397772B (zh) 濾色器用感光性樹脂組成物及利用該組成物之液晶顯示器濾色器之製造方法
TWI534161B (zh) 共聚物、含有該共聚物的樹脂組成物、感光性樹脂組成物、及彩色濾光片
TWI585527B (zh) A photosensitive composition for black matrix and a method for producing the same
CN108388080A (zh) 自发光型感光性树脂组合物、包含使用其的色变换层的滤色器和图像显示装置
TWI454846B (zh) 綠色像素形成用感放射線性組成物、彩色濾光片及彩色液晶顯示元件
TW200831618A (en) Pigment dispersed composition for black matrix and photoresist including the same
TW201015220A (en) Colored radiation sensitive composition, color filter and color liquid crystal display element
JP2011158687A (ja) 着色組成物、カラーフィルタ及びカラー液晶表示素子
JP2006525407A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを利用したドライフィルムレジスト
JP2014134813A (ja) 着色感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ
CN103913949A (zh) 着色感光性树脂组合物
JP5058039B2 (ja) 着色層形成用感光性樹脂組成物
CN101038437A (zh) 黑色感光性组合物以及由其制备的遮光膜和el元件
TWI478996B (zh) 抗蝕劑油墨用黏合劑樹脂及使用其之抗蝕劑油墨
TW201300464A (zh) 著色劑、著色組成物、彩色濾光片及顯示元件
KR101642844B1 (ko) 컬러필터용 감광성 착색 조성물 및 컬러필터
JP5363844B2 (ja) アルカリ可溶型感光性着色組成物およびカラーフィルタ
KR100903767B1 (ko) Lcd 흑색 컬러 레지스트용 감광성 수지 조성물
JPWO2016203905A1 (ja) カラーフィルター用着色組成物、カラーフィルターおよび画像表示素子
KR101831296B1 (ko) 녹색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치
KR20160071994A (ko) 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치
JP7470155B2 (ja) 着色感光性組成物およびそれから形成される着色パターン
WO2021090762A1 (ja) 色材分散液、分散剤、感光性着色樹脂組成物、硬化物、カラーフィルタ、表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees