TWI300308B - Lithography system - Google Patents

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TWI300308B
TWI300308B TW092129694A TW92129694A TWI300308B TW I300308 B TWI300308 B TW I300308B TW 092129694 A TW092129694 A TW 092129694A TW 92129694 A TW92129694 A TW 92129694A TW I300308 B TWI300308 B TW I300308B
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Jan-Jaco Wieland Marco
Jager Remco
Christiaan Van T Spijker Johannes
Kruit Pieter
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Mapper Lithography Ip Bv
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Description

1300308 玖、發明說明 (翻p溯麟煳.發日蕭屬；^技_臟、鋪獅^、喃、訪式及眠簡單說明) 【發明所屬之技術領域] 本發明係與平版印刷系統有關，特別是指一種無光罩 式平版印刷糸統。 5【先前技術】 包括離子、雷射、EUV與電子光束系統等類的平版印 刷系統，均要求設有能處理並能將一個模式(pattern)傳送至 某種寫人裝置之裝置。完成此功能的—種最佳已知方式就 是使用一個光罩（mask)，並將此光罩投射於一個基板 10 (substrate)上。由於解析度逐漸變小，因此變得較難製造這 些光罩，此外，用以投射這些光罩之（光學）裝置已變成極為 複雜。 克服此問題的一種方法就是使用Μ罩式（maskless) 平版印刷法。 15 &光罩式平版印刷系統可分成兩種，在第—種中，模 式資料(pattern data)被傳送至個別的發光源獲多數個發光 源。如適時微調光源強度時，可在基板上產生一個模式， 該基板通常為-片晶圓（wafer)或光罩(刪k)。如因光源處 理時間太長而導致轉換速度增加時，則光源之轉換可能會 20 斧生問題。 第一種無光罩式平版印刷系統包括連續光源或以恒定 頻率操作之光源，此時模式資料被傳送至調變裝置，該調 變裝置如必要時可完全或部份阻止放射光束抵達目標曝光 表面。同時’藉著控制這些調變裝置並在目標曝光表面上 續次頁_類不難用時，請註記删顚） -7- 1300308 -
發明說明MM 移動方式可寫入一個模式。調變裝置對處理時間較不重 要，因此許多設計用來達到高產量之無光罩式平版印刷系 統都採用調變裝置。 在 5,834,783、5,905,267 與 5,981，954 號美國專利中， 5 揭示設有電子源之一種無光罩式電子光束平版印刷系統， 放射電子光束被一個光孔列擴張、調節並附帶地分裂成許 多小光束。當給予控制信號時，被饋入模式資料之一個消 隱器列（blanker array)可阻擔個別的小光束，故所獲得的影 像會被一個縮小電子光學系統縮小並投射於一片晶圓上。 10 在 US-A1-20010028042 、 US-A1-20010028043 、 . US-A1-20010028044、WO-A1-02/054465、WO-A1-02/058118 與WO-A1-02/058119號等早期公開專利公報中，揭示利用 許多電子源之一種無光罩式電子光束平版印刷系統。放射 之電子小光束通過一個消隱器列，當給予適當的控制信號 15 時，該消隱器列會偏轉個別的電子小光束，電子光束是被 一個定形列所定形並被集中於一片晶圓上。 在WO-01/18606與美國6,285,488號專利中，揭示利 用一種空間光調變器（spatial light modulator，SLM)以調變 一光束之一種光學平版印刷系統。一個光源將所脈衝光直 20 接放射至SLM，該SLM包括一列可變形鏡子，其可依據 傳送至相關鏡子之一控制信號而將射入的光束反射至一個 基板上或至一個光束阻擋結構上。 本發明係根據以下對平版印刷基本原理之認知與了解 所提出。 -8- 1300308 - 發明說明®Η 光罩為儲存一個模式之最有效的方式，乃因闡述一個 模式的原始資料量是龐大的。此外，考量商業可接受之產 量，資料須以極高的資料輸出率被傳輸至寫入裝置，此外 須在有限的空間内獲得高資料輸出率。但在目前還未發現 5 無光罩式平版印刷系統之資料路徑改善對這些系統之產量 產生深遠的效果。 在一片光罩上之資訊通常是被用來將一個模式從光罩 傳送至目標曝光表面上某一部位上，此部位被稱為印模 (die)。為了了解必須被傳送之資料量，假設一印模的大小 10 為32 mm乘以26 mm，現在請考慮某人打算以一個45 nm 的臨界尺寸（critical dimension，CD)來寫入一個模式，貝1J， 在一個印模上會產生4.1X1011 CD-元件。若每個CD元件 包括至少30X30畫素以符合要求，且若僅需以一個位元來 顯示前述晝素強度時，則光罩上所呈現之資訊是由約 15 3.7X1014位元顯示之。假設一個無光罩式平版印刷系統之 商業可接受產量為每小時10片晶圓，若一片晶圓上有60 個印模時，則每片晶圓必須有60乘以3.7X1014位元被輸 送至調變裝置上，因此600乘以3.7X1014位元須在3600 秒内被輸送至調變裝置，以獲得所欲之產量，此相當於約 20 60 Tbit/s之資料傳輸率。 在前述所有系統中，控制信號均以電子方式被傳送至 調變裝置，惟金屬線之頻帶寬度受到限制。一個電子連接 器的頻帶寬度之限制，係與如以下所表示之一個電子連接 器的最高總負載量與電子連接器的總橫截面」以及電 -9- 1300308 - 發明說明胃胃 子連接器之長度z之關係式有關：
Bmax =B〇 X (A/L2) 比例常數私和銅連接器之電阻係數有關，如係標準多 晶片模組(MCM)技術時，約為1015 bit/s，如係晶片上線 5 路時(on-chip line)，其最低約為1016bit/s，該數值幾乎和特 別的製造技術無關。 電子連接器所需之總負載量為100X1012= l〇14bit/s， 如係MCM時，該值相當於總截面對10_1電子連接器長度 平方之比；如係晶片上連接時，則為1〇_2，因此如Z為1 10 公尺(m)時，所需之銅總截面為0.01至0.1平方公尺(m2)， 比較這數字與尺寸為0.0008平方公尺的被寫入之一印模後 發現，在模式資訊被加入光束後，如未縮小至少10倍，則 很顯然地無法進行資料傳送。 察覺問題的另一種方法就是使用連接器之標準速度， 15 即1 Gbit/s，故欲傳送100 Tbit/s時需要100,000條銅線， 此舉不但需佔大量的空間且難以處理 【發明内容】 本發明本發明的目的在改善前述的系統。 20 本發明的另一目的在增進一種無光罩式平版印刷系統 之產量。 本發明的又一目的在減少平版印刷系統對所有（電磁） 干擾之敏感度。 本發明的其他目的在減少將模式資料傳輸至該平版印 -10- 1300308 - 發明說明續頁 刷系統所需的空間。 本發明的其他目的在增加該系統之設計彈性度。 本發明提供一種用以將一模式傳送至一目標平面上之 無光罩式平版印刷系統，包括： 5 至少一個用以產生許多小光束之光束產生器； 一個包括許多調變器用以調變一個小光束量之調變裝 置；與 一個用以控制各調變器之控制裝置； 其中該控制裝置產生並傳送模式資料給用以控制各小 10 光束量之前述調變裝置，該控制裝置包括： 至少一個用以儲存該模式資料之資料儲存器； 至少一個用以從該資料儲存器讀出該模式資料之讀取 單元； 至少一個用以將從該資料儲存器所讀出之該模式資料 15 轉換為至少一個調變光束之資料轉換器； 至少一個用以將前述至少一個調變光束傳送至前述調 變裝置之光學傳送器。 在一平版印刷系統中使用光學資料傳輸，能創造出一 建構於習知技藝但能增進產量的無光罩式平版印刷系統， 20 此外，能減低所需要的空間，同時光學傳輸使在設計平版 印刷系統結構時更具彈性。 能使用於光束產生器之發射源能放射任何種類的作用 物，如電子、正電子、X光、光子或離子等，此種發射源 可為一種連續源或具有連續頻率之脈衝式發射源，故此種 -11- 1300308 - 發明說明_胃 源不會產生任何資料。然而，平版印刷系統的目的是在一 特定的目標曝光表面形成模式，由於此種源不提供任何模 式資料或模式資訊，故模式資訊須沿著調變裝置之執跡在 某處被加入小光束。同時，在本發明中是利用光學系統來 5 輸送該模式資訊。該模式資訊是被用來控制調變小光束之 調變裝置，該小光束實際上將該模式寫入一個保護層或以 其他方式將該模式傳送至一個樣品上，如一半導體晶圓。 在本系統中，模式寫入小光束的性質端依發射源性質而 定，事實上，該調變光束是一種帶有光束之模式資訊，而 10 該等小光束係為模式寫入小光束。 在一實施例中，該光束產生器只有一種來源，同時該 平版印刷系統也只有一個光束產生器，因此較容易控制系 統内小光束之同質性。 該調變裝置能以不同方式並根據各種物理原理操作， 15 端依所使用用來寫入模式之小光束性質而定，它可產生一 種能啟動某些閉鎖裝置之信號，而該裝置能阻止小光束， 例如一種機械式關閉器或因電聲刺激所產生的一種水晶形 成不透明體。另一種可能性就是使調變裝置選擇性地產生 一個信號，其能啟動某些偏轉元件，如一個靜電偏轉器或 20 一個鏡子，此元件可導致選擇的照射小光束偏轉，然後偏 轉的光束被投射於一個消隱元件上，例如設有光孔和鏡子 偏轉器對齊之光束吸板。在這兩個案例中，當以極快速方 式進行小光束調變，最好以100 MHz或以上頻率，始能獲 得商業滿意的產量。 -12- 1300308 - 發明說明®Μ 在無光罩式平版印刷系統中，該模式資訊或模式資料 以電腦資料顯示之，通常為數位式電腦資料。部份或全部 之該模式資料係被儲存於該控制裝置之該資料儲存器内， 因此該控制裝置包括一個資料儲存媒體，如RAM、硬碟或 5 光碟等。此資料是以一種能用來控制該調變裝置的格式加 以儲存之，如此可不斷地產生一種預定的模式。此外，該 控制裝置也包括以一種高資料輸出率讀出該資料之裝置。 為產生該高資料輸出率，該控制裝置包括一個元件，其能 將該資料轉換成至少一個帶有光束之模式資料。在一個實 10 施例中，該資料轉換器為一種垂直中空表面發射雷射 (vertical cavity surface emitting laser，VCSEL)二極體，如 位元數值為一時，一個光信號會被發射；如位元數值為0 時，則無任何信號被傳送。藉由讀出一連串位元來產生一 個帶有光束之模式資訊，然後，該帶有光束之模式資訊隨 15 後被傳輸至該調變裝置，有若干可能載體能執行資料傳送 之功能。在一個實施例中採用平行資料儲存裝置，其幾乎 以同步方式被讀出以獲得所要求的資料輸出率。 在一個實施例中，利用資料傳輸光纖，可達成從該控 制裝置之轉換元件傳送至一個接近該調變裝置之區域的傳 20 送動作，此舉能以具有最低的電磁場及其他裝置的干擾來 達成彈性的資料輸出。此外，此狀況可使控制裝置設置於 遠離平版印刷系統之其他部件，例如距離系統其他部件2 至200公尺。 目前使用於電信與乙太網路(Ethernet)用途之光纖已被 -13- 1300308 - 發明說明續頁 最佳化至特定的波長，通常為850、1300與1500 nm。由 於標準InGaAs/GaAs雷射二極體之良好提供性，因此850 nm最佳化被設立；由於低光纖傳輸損失，通常小於0.4 dB/km，因此採用紅外線波長，660與780 nm波長為將來 5 發展的目標。由於在較低之波長狀況下繞射相關限制較 少，因此本發明較宜採用較低的波長，但在某些結構下可 採用較大的波長。本發明能使用的波長範圍從200至1700 nm。根據目前的發展情況，經由一個頻道傳送多重信號是 可能的，因此已開發出多波長或多模態光纖並採用多工/解 10 多工技術。調變光束之波長最好能從對小光束與系統其他 部件干擾盡量小的區域選出，此舉可使待設計的該光傳送 裝器幾乎和平版印刷系統其他部件無關。 在本發明的一個實施例中，該調變裝置之各調變器包 括一個感光元件，其用以將來自前述控制裝置之前述至少 15 —個調變光束轉換成用來啟動前述調變器之一個信號。在 此案例中，可保持小的光傳送裝器，輸出率可能很高並可 利用平版印刷技術來製造調變器。在其他實施例中，前述 光傳送裝器包括至少一個具有一調變裝置端部及一個控制 裝置端部之光纖，用以將前述至少一個調變的光束從前述 20 控制裝置傳送至前述調變裝置。 在一個實施例中，該平版印刷系統包括至少一個用以 將至少一個調變光束投射至前述調變裝置之投射裝置，以 提供一種較大的設計自由度，此外也能減少干擾。 在設有光纖的一個實施例中，在調變裝置端部之前述 -14- 1300308 - 發明說明續頁 至少一個光纖係被連結於一個以上光纖列。在另一個實施 例中，基本上其來自前述一個以上光纖列之各光纖係分別 被連結於前述感光轉換器元件之一。 在其他實施例中，在調變裝置端部之前述至少一個光 5 纖係被連結於一個或以上的光導波器，同時該光導波器是 和該感光元件連結。 在前述無光罩式平版印刷系統一個實施例中，前述光 傳送器在其控制裝置端部包括至少一個多工器，並在其調 變裝置端部包括至少一個解多工器。 10 在前述無光罩式平版印刷系統另一實施例中，該系統 具有一個平行該多數小光束移動方向之光徑，其中該光傳 送器還進一步設有一個用以將前述至少一個調變光束銜接 至該光徑之光連結器。 在前述實施例中，該資料轉換器與光學傳送器適合用 15 來產生至少一個調變光束，其至少有一個200至1700 nm 間之波長。此波長被發現干擾其他系統之以幅度為較小， 此外，它可使用許多在光電信用途中所使用現成組件。 在本發明發明另一實施例中，每一個感光元件具有一 選擇濾波器，其在一預定波長範圍内係為透明；或者一個 20 用以傳送具有一預定極化方向之光的選則濾波器；或者一 個用以限定前述感光元件對從一預定方向進入稜鏡之光的 敏感性的稜鏡；或者一個用以限定前述感光元件對從一預 定方向進入光柵之光的感光性的光柵；藉此以減少串音。 在前述包括有光纖之無光罩式平版印刷系統另一實施 15- 1300308 !- 發明說明續頁 例中，前述感光元件包括一個光電二極體。在一個實施例 中為一個MSM-光電二極體、一個PIN-光電二極體或者一 個突崩光電二極體（avalanche photodiode)。 在前述設有光纖列之無光罩式平版印刷系統一個實施 5 例中，調變器包括靜電偏轉器。尤其是當光束為一帶電粒 子光束時，以其他技藝方面習知之零件即可易於進行調變 動作。 在本發明無光罩式平版印刷系統一個實施例中，該資 料轉換器包括一個雷射二極體。 10 在一個實施例中，該光學傳送器包括至少一個具有一 調變裝置端部與一控制裝置端部並用以將前述至少一個調 變光束從前述控制裝置傳送至前述調變裝置之光纖；以及 至少一個用以投射前述光纖或多數光纖之前述調變裝置端 部至該調變裝置上之投射器。在此狀況下，系統之彈性設 15 計是可能的，包括零件之排列與選擇。 在一個實施例中，該調變裝置之各個調變器包括一個 用以將來自前述控制裝置的前述至少一個調變光束轉換為 一用以啟動該調變器之信號的感光元件，同時該調變裝置 具有一個光束生產器面及一個目標面。 20 在一個實施例中，各該調變器包括至少一個靜電偏轉 器，以及一位於該至少一個靜電偏轉器與該目標面之間的 光孔。各該調變器之各該靜電偏轉器界定出一個靜電偏轉 器列，而各該調變器之各該光孔界定出一個光孔列。 在另一實施例中，各該靜電偏器是以可操作之方式和 -16- 1300308 · - 發明說明續頁 一個感光元件連結。 在此實施例中，該光學傳送器包括至少一個用以將前 述至少一個調變光束分裂成許多調變光束之光束分裂器。 在另一實施例中，該光學傳送器包括用以將前述許多 5 調變光束投射於該感光元件之投射器。 在此實施例中，該投射器可以以相對於一垂直該靜電 偏轉器列之平面〇至88度之間的角度投射。在另一實施例 中，該投射器包括至少一個用以將該多數調變光束投射於 該靜電偏轉器光孔列上之鏡片。 10 在一個實施例中，該投射器包括一第一縮小裝置，其 具有一用以縮小該多數調變光束之縮小光學系統，以及一 用以將該縮小之多數調變光束投射於該靜電偏轉器光孔列 之投射光學系統。在一實施例中，該縮小光學系統包括一 個微透鏡列，該微透鏡列之各該微透鏡和該多數調變光束 15 之一對齊，並可縮小該對齊之調變光束的尺寸。在另一實 施例中，該投射光學系統還包括一個鏡子，在該投射光學 系統之該透鏡方向用以反射來自該縮小光學系統的該等調 變縮小光束 在前述電子束無光罩式平版印刷系統一個實施例中， 20 在該調變裝置上，未被各該感光元件所覆蓋之部位具有一 個反射層。 在前述電子束無光罩式平版印刷系統一個實施例中， 在面對該等進入的調變光束之調變裝置的一表面上設有一 個擴散層。 -17- !3〇〇3〇8 發明說明_頁 在一個實施例中，該光學傳送器還包括一個光學導波 器，係用以連結實質上平行於該靜電偏轉器光孔列平面之 該多數調變光束之每個光束朝向其對應的感光元件。在另 一實施例中，該光學傳送器還包括一個具有許多微透鏡之 5 光學微透鏡列，各該微透鏡和該多數之調變光束之一對 齊，用以連結其調變光束至一對應的光學導波器。 在一個實施例中，該光學傳送器包括許多光纖；該資 料轉換器包含有用以連結在該多數光纖上至少一個調變光 束之裝置，該多數之光纖被聚集以形成至少一個光纖帶， 10 該至少一個光纖帶固定於該靜電偏轉列之一個侧面；而且 該等感光元件係用以經由電子連接器以電子方式啟動其對 應的靜電偏轉器。 在另一實施例中，該無光罩式平版印刷系統之該產生 裝置包括光束產生裝置。在其實施例中，該光產生裝置可 15 用來產生一波長小於300 nm之光束。在其他實施例中，該 調變裝置包括至少一個空間光調變器。在另一實施例中， 前述空間光調變器包括一個可變形鏡子，其包含一列微鏡 子。在其他實施例中，各個微鏡子包括一個固定在其背面 連結於前述光學傳送器用以接收一個調變光束之感光器。 20 本發明更與一方法有關，其中使用有前述之一種無光 罩式平版印刷系統。 本發明更與一種使用一平版印刷系統而用以將一模式 傳送至一目標表面之方法有關，該系統包含有一用以產生 多數小光束之光束產生器，以及一用以個別地、可控制地 -18- 1300308 - 發明說明續頁 且實質上調變每一小光束之調變裝置；該方法包含有下列 步驟： 從資料儲存器讀取模式資料； 將該模式資料轉換成至少一個調變光束；以及 5 以光學方式連結該至少一個調變光束至該調變裝置。 在此方法之一實施例中，該調變裝置包含有一列調變 器，各該調變器具有多數感光元件，而該方法進一步包含 有下列步驟： 將該至少一個調變光束引導至該等調變器；以及 10 使各該調變光束連結於一感光元件。 【圖式說明】 本發明將參考以下圖示，將本發明之無光罩式平版印 刷系統以以下實施例詳細說明之，其中： 15 圖ΙΑ、1B係本發明系統某部份之操作示意圖。 圖2A、2B、2C係自由空間光連結圖。 圖3A、3B係一調變裝置之照射示意圖。 圖4係調變列上光纖列之投射圖。 圖5A、5B係用以將一個帶有光束之模式資訊投射於 20 調變裝置之投射系統。 圖6A_6D係感光元件之示意圖。 圖7係帶有光束之模式資訊和感光元件之連結圖。 圖8係圖7之俯視圖。 圖9係利用光纖帶之光連結圖。 1300308 !-
發明說明#賣;E 圖10係一個電子光束平版印刷系統之調變裝置圖。 圖11係帶有光束之模式資訊和調變裝置之自由空間連 結圖。 圖12係一個調變裝置之照射示意圖。 5 圖13係無光罩式平版印刷系統圖。 圖14係調變裝置上光纖端部投射圖。 【實施方式】 由於調變裝置被饋入一個光信號，其各包括有一個感 10 光元件，最好是一個光電二極體。調變裝置之基本操作以 示意方式顯示於圖1A，圖1A以示意方式顯示由調變裝置 所執行之基本操作步驟，同時每個調變裝置設有一個能接 收光信號之感光元件，最好是一個光電二極體。 若該感光元件接收光時，將會產生一個信號被傳送至 15 該調變器，因此通過的小光束將被調變而不會抵達目標曝 光表面，如無光時，則無被傳送至該調變器之信號。小光 束不受干擾地順利地通過並最後抵達目標曝光表面。在傳 送模式資訊至該調變裝置時移動預定曝光表面及平版印刷 系統相互有關之其他部份，即可寫入一個模式。 20 也可依圖1B所示之相反方式來操作整個系統，此時， 落在感光元件之光會導致被傳送至調變裝置之信號被取 消，同時通過的小光束在無需任何調變狀況下將抵達目標 曝光表面。然而，當感光元件不接收光時，一個信號會被 傳送至該調變裝置，故可防止通過的小光束抵達目標曝光 -20- 1300308 _ 發明說明續頁 表面。 光纖和調變裝置之連結相當錯綜複雜，在本發明發明 的一個實施例中，資料執跡的最後部份將使用不同的傳送 媒體。在後者的案例中，該等光纖尾端緊密地被包裹而形 5 成一個光纖列，然後帶有光束之發射的模式資訊被傳送至 其他光載體。當調變裝置位於一個真空中時，可能最好將 該等光纖保持於真空之外，故發射的光束能經由真空邊界 之透明部份而和平版印刷系統結合。 在大部份狀況下，將帶有光束之模式資訊經由光纖完 10 全帶到感光元件是不可行的，故可使用其他光載體繼續進 行資料傳送。光纖最好是結合在一起以形成一個光纖列， 然後，帶有光束之模式資訊將以不同的方法移向感光元 件，資料傳送的一種可能方式是經由相同的環境，將發射 光從光纖傳送至調變裝置之感光元件，而照射小光束在此 15 環境中是正在移動中。此時形成自由空間光學連接（裝置）， 另一種可能的傳輸媒體就是被設置於該調變裝置結構内之 一種光學導波器。 如係一種光學導波器或一種光纖，多波長能經由頻道 傳輸，就如同電信用途中通常所做的一樣，如此，因為一 20 些帶有光束之模式資訊共用相同的頻道，傳送媒體所佔的 空間將可大幅地減少。可被調變器使用朝向一個信號之轉 換功能可由一個光電子接收器執行，如一個DWDM多波長 接收器。 感光元件得為在習知技術中能將進入光信號轉換為任 -21· 1300308 _ 發明說明$賣胃 何其他信號（如電信號或音響信號）之任何元件。該等轉換器 係可為光電陰極、光電晶體、光電阻與光電二極體等。為 了符合高資料傳輸率要求，感光元件應有一個低電容，使 其能在一個高頻率狀態下操作，此外，該元件最好易於和 5 調變裝置結合。有符合前述需求之光電二極體存在，本發 明發明最佳實施例是採用一種MSM-光電二極體，此光電 二極體之主要優點為其低電容特性，因此它能在一個高頻 率狀態下操作。此外，MSM-光電二極體之製造較為容易。 另外，使用PIN_光電二極體亦是一種良好的選擇，此元件 10 亦有一個低電容，但是它將此組件結合成一個陣列稍微比 較困難。另一種選擇就是使用一種突崩光電二極體 (avalanche photodiode) 〇 如前所述，資料傳輸率及因而要求的調變頻率是很大 的，為了能在此傳輸率調變，合適的開關電路是重要的。 15 除了將於下文中討論的三個光載體外，本發明也將具體說 明用以傳送調變光束之其他光裝置。 【傳送選擇】 自由空間光學連接 20 當帶有光束之模式資訊經由相同且内有照射小光束正 在移動之媒體被投射於對應之感光元件上時，會發生一些 問題，通常不可能將帶有光束之模式資訊垂直投射於感光 元件所處之平面上。假設照射小光束已被垂直投射於前述 平面，小光束與帶有光束之模式資訊間的干擾對模式圖型 -22- 1300308 發明說明續頁 可能有影響，因而從控制裝置至目標曝光表面產生一種不 正確的資料傳送。為了避免此問題’帶有光束之模式資訊 將以某一角度抵達感光元件（如光電二極體）之感光表面，然 而’當此入射角α增大時’照射在光電二極體感光表面上之 5 帶有光束之模式資訊光點尺寸亦隨之增大。為了個別處理 各光電二極體，帶有光束之模式資訊光點尺寸應小於光電 二極體之感光表面區，因此入射角α也應盡量小，然而，由 於如圖2Α所示之障礙物存在’這不是通常皆可行的。 藉由光纖列2與障礙物1位置之高明選擇，可避免某 10些問題，然而，這不是通常皆可行的。本發明包括不移動 或更換障礙物1位置可縮小入射角oc之方法。第一種選擇就 是使該障礙物1能對帶有光束的模式資訊變成透明，如障 礙物是-種靜電透鏡列時，它可用某種導電玻璃或聚合物 做成。此外，可選定帶有光束之模式資訊之波長，使這些 15障礙物1對於該等光束變成透明，如石夕對於波長大於議 nm時光束會變成透明，因此在使用15〇〇nm之一種標準光 纖波長時，發射光束將會穿過矽障礙而不會察覺它的否存。 在不移動P早礙物1狀況下縮小入射角α的另一種可能 性就是使用較多的光纖列2，在圖2Α中說明一種情況，其 20離開光纖列2之帶有光束之模式資訊被投射於由調變器所 覆蓋的一個板3上，發射光束可覆蓋整個板3。如在此結 構下，被投射的光點尺寸太大時，可朝垂直該設有光電二 極體之平面之方向將光纖列2以遠離該調變裝置板3之方 式移開，如圖2Β所示，因此臨界入射角％被縮小，現在 -23- 1300308 _ 發明說明# 光點尺寸可被限制於要求範圍内，但只有板3的一半被照 亮。在如圖2C所示調變板3對面以相同的高度使用一個第 二光纖列2時，整個板3會被照亮，且光點尺寸是足夠小。 和原光纖列相比，兩個光纖列2包括一半的光纖量，在選 5 擇光纖列2之正確光纖量後，設有一列感光元件之一個板 能由一個所欲的入射角…所照亮。 圖3 A與3B顯示一個正方形與一個長方形調變板3之 俯視圖，虛線限定由一個光纖列所照亮的區域。如前之陳 述，一個光纖列可能不夠，因此在此情況，舉例而言，可 10 使用2、4或6個光纖列2，以達到需求。 此外，可經由某些反射作用使帶有光束之模式資訊和 系統結合，障礙物1可被塗抹一層反光材質，此外可在系 統之重要位置設置其他鏡子以創造所欲之入射角。 當使用一種多模式光纖時，帶有光束之模式資訊有一 15 50至150 μιη左右之直徑；此外，使用一種單模式光纖時， 其直徑只有1至10 μπι左右。一個光電二極體可以是感光 表面得以10至30微米平方之尺度。 在一個實施例中採用多模式光纖，因此離開光纖列之 帶有光束之模式資訊直徑須被縮減，此外須安排某種聚 20 焦，俾以正確的解析度進行投射動作。 可使用一個光學組合物對帶有光束之模式資訊執行縮 小與聚焦作業，有許多光束之特性可被容易地改變：離開 光纖列2之光束直徑能被縮小，且/或兩個相鄰光束間之距 離（亦即所謂的間距(pitch))可被感光裝置縮小。 -24- 1300308 發明說明續頁 當光纖列2與調變列3相互平行排列時，離開光纖列 2至該調變板3上之光束之聚焦大都易於完成。若兩個平 面未平行時，在調變板3上各個別光束之光點尺寸將有變 化。光纖列2至調變板3上之投射是以一個透鏡5執行， 5通常是以一個不等於零的入射角使光束被投射於調變板3 上。然後，如圖4所示，在光纖列2上之光纖4，可以以 離開該光纖之光束直接朝向該透鏡之方式設置在該光纖列 2上，如此可確保透鏡5之足夠照度。 當透鏡5被設置於光纖列2與調變板3間正中央時， 會產生1:1投射狀態’將透鏡5移向調變板3時，可縮小 帶有光束之模式^訊之直徑與間距，但如使透鏡5向另一 方向，即往光纖列2之方向移動時，將導致兩個參數增大。 如欲達到縮小與投射之最理想情況時，可能需要較多 的透鏡，一種設有兩個透鏡6與7之可能結構顯示於圖 15 5A。整個影像以及離開光纖列2之各個帶有光束之模式資 訊8直徑均被縮小。在有障礙物的實施例中，可利用鏡子 將光束投射於感光元件上。 在某些狀況下’光束直徑可能比鄰接光束間之間距還 需要被縮小。圖5B所示者為另一實施例，在此實施例中， 20 設於光纖列2與投射透視鏡7間之一個微透鏡列9可達成 此實施例，微透鏡列之各透鏡對應於在光纖列2上之—個 單一光纖4。離開光纖列2之各個帶有光束之模式資訊8 直徑在圖5B所示的結構中分別被縮小，一個投射透鏡7 將所有被縮小的光束集中於對應的感光元件上。如因有某 25- 1300308 _ 發明說明_胃 些障礙物導致無法直接投射時，可利用鏡子以所欲之入射 角α將帶有光束之模式資訊投射於感光元件上。 和光點尺寸有關的另一個可能問題就是，由光纖2發 射的、相鄰的帶有光束之模式資訊之間的串音，其可利用 5 某些手段加以減少。請再考慮光束被投射於一調變裝置列 上，其光電二極體之感光表面均位於調變裝置列一邊之一 個平面上。 圖6Α所示者為此串音問題之一種解決方法，鄰接感光 元件間區域被塗抹一層反光層10，進入光束之主要部份是 10 落在感光轉換器元件11上，未落在元件11之光束部份則 被反射回進入系統内，而不會影響任何鄰接的元件，同時 在感光元件11上塗抹一層抗反光層可進一步提升光感測效 率。 串音亦可以如圖6Β所示之全部列3上部之一個擴散層 15 12減少之，現在進入光朝所有方向被散射。由於散射作用 之故，反射光束之光強度會急劇地降低。 減少串音的另一種方法就是使用設於感光轉換器元件 11頂部之一種濾波器，其例證為如圖6C所示之一個波長 濾波器；13或一個極化濾波器。波長濾波器13可增加某些 20 波長之選擇性，因此帶有稍微不同波長來自鄰近模式光束 之光波被加以過濾；以預定方向僅傳送極化光之一種濾波 器具有相同的效果。 另一種可能的方法就是使感光元件11僅對來自預定方 向的光進行感光動作，例如以結合如圖6D所示調變列3 -26- 1300308 !_ 發明說明_胃 上之小稜鏡14或光柵15方式來完成感光動作。同時在調 變過程中僅使用以正確角度落在感光元件11及來自正確方 向之光，排除使用來自所有其他方向之光。 光學導波器 5 朝向設於該調變裝置之該感光元件11傳送離開該光纖 列2並帶有光束之模式資訊的第二種可能性，就是使用平 面光學導波器，平面光學導波器可被視為埋設於一個基板 之内或之上的多數光纖。請再考慮調變裝置列3，當平面 光學導波器和此列結合時，可形成如圖7所示之一個系 10 統，離開光纖列2之各帶有光束之模式資訊8須直接或經 由如圖7所示之一個透鏡列17連結於對應的光學導波器 16上，各透鏡使各帶有光束之模式資訊8連結於定應的平 面光學導波器16之進入點。該光學導波器16會經由調變 列3將帶有光束之模式資訊8輸送至正確的感光元件11， 15 該感光元件11可將帶有光束之模式資訊8轉換成啟動或關 閉該等調變器18之一連串信號，故進入的小光束將根據模 式資訊加以控制。在本實施例中一連串信號經由設於調變 列3之電線19而被輸送至調變器18。 圖8所示者為如圖7所示相同結構之一個俯視圖，在 20 此案例中，採用兩個光纖列2來控制所有調變器18，但任 何數目之光纖列2均可適用。感光元件11是以正方形顯示 之，而調變器18則為圓形，為了方便說明之故，僅顯示帶 有光束之模式資訊8之兩條執跡。 光鐵 -27- 1300308 _ 發明說明_胃 將資料從控制裝置傳送至感光元件11之第三種可能性 就是整個執跡使用光纖，此方式的主要問題為個別光纖4 和設有調變裝置之結構的連接問題。請再假定一個調變列 3是被使用的，當此列3因掃瞄目的正在移動時，個別光 5 纖4和列3的連接可能產生問題。在接合區產生機械應力 與摩擦時，最終將導致連接斷裂。將一組光纖4結合以形 成一個光纖帶20即可避免此問題發生，然後，如圖9所示， 該光纖帶20被連接於該調變列3之一侧，在此僅顯示兩條 光纖帶20，但亦可採用其他數目之光纖帶20。在光纖帶内 10 兩個代表性的光纖執跡以虛線顯示之，在圖示中以正方形 顯示之感光元件11可被設置接近有調變列3之光纖帶20 接點，但亦可被設置更接近進入的小光束。光信號最好被 轉換成電信號，這些信號經由晶片上電路19被輸送至以圓 形顯示且設置於對應進入照射小光束附近之調變器18，在 15 圖中僅顯示若干設在調變列3之調變器。 【實施例】 在以下兩段中將說明本發明所揭示無光罩式平版印刷 系統之兩個實例。 20 實例1 :無光罩式電子光束平版印刷系統（圖10) 在本實例所使用之無光罩式電子光束平版印刷系統 中，該系統包括一個光孔板，其包括將通過該等光孔23之 進入多數電子小光束22偏轉之多數靜電偏轉器21，此板 將稱為小光束消隱器列24。當電子小光束22已通過小光 -28- 1300308 !_ 發明說明續頁 束消隱器列24時，它們將抵達一個第二光孔列（光束阻擋 列）25，當它們被偏轉時，其執跡將終止。 此平版印刷系統之調變概念顯示於圖10中，進入電子 小光束22被投射於小光束消隱器列24上，電子小光束22 5 的位置對應於在板24上光孔23的位置。該小光束消隱器 列24包括一個偏轉元件作為調變裝置。在此實例中，前述 偏轉元件包括一個靜電偏轉器21，依所接收到的資訊而 定，設於小光束消隱器列24上偏轉器21將被啟開或關閉。 當偏轉器21被啟開時，將形成一個越過光孔23之電場， 10 其將使通過此光孔23之小光束22產生偏轉，然後偏轉的 電子小光束27將被小光束阻擋列25所阻擋，在本案例中， 將無任何資訊抵達目標曝光表面。當偏轉器21被關閉時， 小光束將被傳送，同時各被傳送的小光束28將被集中於目 標曝光表面上。藉由目標曝光表面與列組合相互移動並以 15 一個附加的小光束偏轉器列來掃瞄該小光束時，能寫入一 個模式。 圖11所示者為在此無光罩式平版印刷系統使用自由空 間連接裝置的一種可能的結構，離開該光學傳送器光纖列 2之帶有光束之模式資訊8被兩個透鏡29縮小。當然，亦 20 可採用如圖5所示之另一種結構。隨後，以一個鏡子30與 一個聚焦鏡7將帶有光束之模式資訊8投射於小光束消隱 器列板24上。入射角α的角度在0與80度之間，如因其他 因素導致α大於80度或希望一個較小角度時，可用如圖12 所示一個以上光纖列2來照射小光束消隱器列板24。在如 -29- 1300308 _ 發明說明頁 圖12所示狀況中，4個光纖列2可照射小光束消隱器列板 24。圖12所示者為利用4個對應的聚焦透鏡7，將帶有光 束之模式資訊8集中於小光束消隱器列板24之相關部位。 實例2 :無光罩式感光平版印刷系、統（圖 5 本實例所示之無光罩式平版印刷系統包括一個空間光 調變器（SLM)40，採用一個SLM之無光罩式平版印刷系統 為W00118606所揭示的一種普通方法。SLM包括用來反 射進入光束之一列鏡子，使光束最後被消隱或傳送。該SLM 的一個實例就是一種變形鏡裝置（deformable mirr〇r 10 device，DMD)，DMD是以如實例1所示靜電偏轉器列相同 的方式加以控制，可從背後或側邊將調變信號結合於系統 内。 其中一種結構就是調變背面控制法，藉由在各個鏡子 之背面分別提供一個感光元件，即可以如前所述之相同光 15載體加以控制。自由空間光學連接裝置或許是一種最方便 的選擇。 圖13所示者為一操作示意圖，一個雷射裝置41可發 射一個光束42，其由一個光束分裂器43分裂成許多小光 束44，這許多小光束44被投射於SLM 40上。從控制裝置 20 45被傳送至SLM 40之帶有光束之模式資訊46可控制來自 光束分裂器43之小光束44傳送機率，並以透鏡48(其亦可 成為一個透鏡系統)將被傳送的小光束47集中於目標曝光 表面49上。 目標曝光表面49和系統其他部份相互移動時，可寫入 -30- 1300308 !_ 發明說明續頁 一個模式。 圖14所示者為一個平版印刷系統之完整側視圖，其中 該光纖的調變裝置端部2，藉由以多數透鏡54為代表之感 光系統54，而被投射於一調變器列24上。來自各光纖端 5 部之調變光束8被投射於一調變器之一感光元件上，尤其 是光纖端部被投射於該調變器列上，同時各光束8保有用 以控制一個或以上之調變器的部份模式資料。 圖14亦顯示產生一個光束51之一個光束產生器50， 可用一種光學系統52將此光束塑造成一種平行光束，此平 10 行光束射在光束分裂器53上後，產生朝向調變列24之許 多大致平行小光束22。 以調變列24之調變器使小光束27偏轉離開系統之光 軸Ο，並使未經偏轉的小光束28通過調變器。 以·一個光束阻擋列25阻擋偏轉的小光束27。 15 通過的阻擋列25之小光束28在偏轉器列56以一個首 次寫入方向被偏轉，並以投射透鏡55縮小各小光束之橫截 面。此外，在寫入當中，目標表面49將以一個第二寫入方 向隨著系統其他部位而移動。 平版印刷系統還包括一個控制裝置60，其包括一個資 20 料儲存器61、一個讀取單元62與一資料轉換器63等，而 控制裝置被設置於遠離系統其他部位處，如潔淨室内部之 外。利用光纖使保有模式資料之調變光束被傳送至一個投 射器54處，其能將光纖端部投射至調變列24上。 在此必須說明的是，前述說明旨在闡述最佳實施例之 -31- 1300308 _ 發明說明_胃 操作，並非用來侷限本發明之範圍，本發明之範圍僅將以 下面請求專利部份限定之。在不脫離本發明之精神與範疇 狀況下，精於此技藝者顯然可發展出許多不同變化。 -32- 1300308 - 發明說明續頁 【圖式簡單說明】 圖ΙΑ、1B係本發明系統某部份之操作示意圖。 圖2A、2B、2C係自由空間光連結圖。 圖3 A、3B係一調變裝置之照射示意圖。 5 圖4係調變列上光纖列之投射圖。 圖5A、5B係用以將一個帶有光束之模式資訊投射於 調變裝置之投射系統。 圖6A-6D係感光元件之示意圖。 圖7係帶有光束之模式資訊和感光元件之連結圖。 10 圖8係圖7之俯視圖。 圖9係利用光纖帶之光連結圖。 圖10係一個電子光束平版印刷系統之調變裝置圖。 圖11係帶有光束之模式資訊和調變裝置之自由空間連 結圖。 15 圖12係一個調變裝置之照射示意圖。 圖13係無光罩式平版印刷系統圖。 圖14係調變裝置上光纖端部投射圖。 【圖式符號說明】 20 臨界入射角αι 光纖列2 光纖4 透鏡6 入射角〇c 障礙物1 長方形調變板3 透鏡5 33- 1300308 10 發明說明續頁 透鏡7 光束之模式資訊8 微透鏡9 反光層10 感光轉換器元件11 擴散層12 波長濾波器13 小稜鏡14 光栅15 平面光學導波器16 透鏡列17 啟動或關閉調變器18 電線19 光纖帶20 靜電偏轉器21 電子小光束22 光孔23 小光束消隱器列24 第二光孔列（光束阻擋列）2 5 電子小光束27 小光束28 透鏡29 鏡子30 15 20 SLM 40 光束42 許多小光束44 許多小光束46 透鏡48 光束產生器50 光束分裂器53 投射透鏡55 控制裝置60 讀取單元62 雷射裝置41 光束分裂器43 控制裝置45 許多小光束47 目標曝光表面49 感光系統52 感光系統54 偏轉器列56 資料儲存器61 資料轉換器63 34- 25

Claims (1)

  1. 1300308 拾、申請專利範圍 1 · 種無光罩式平版印刷系統，係用以將一模式傳送 至一目標平面上，該系統包含有： 至少一個用以產生多數小光束之光束產生器； 一調變裝置，其包含有多數個用以調變一小光束量之 5 調變器； 一個用以控制各該調變器之控制裝置； 其中該控制裝置產生並傳送模式資料給用以控制每一 個小光束量之該調變裝置，該控制裝置包含有： 至少一個用以儲存該模式資料之資料儲存器； 10 至少一個用以從該資料儲存器讀出該模式資料之讀取 單元； 至少一個用以將從該資料儲存器所讀出之該模式資料 轉換為至少一個調變光束之資料轉換器； 至少一個用以將前述至少一個調變光束傳送至該調變 15 裝置之光學傳送器。 2·如申請專利範圍第1項所述之無光罩式平版印刷系 統，其中該調變裝置之各該調變器包含有一感光元件，用 以將來自該控制裝置之該至少一個調變光束轉換成啟動該 調變器之一信號。 20 3·如申請專利範圍第1項所述之無光罩式平版印刷系 統，其中該光學傳送器包含有至少一個光纖，其具有用以 將來自該控制裝置之該至少一個調變光束傳送至該調變裝 置之一調變裝置端部與一控制裝置端部。 4·如申請專利範圍第1、2或3項所述之無光罩式平 -35- 版印刷系統，更包含有至少一個用以將該至少一個調變光 束投射至該調變裝置之投射器。 5·如申請專利範圍第3項所述之無光罩式平版印刷系 統’其中在該至少一個光纖之調變裝置端部係被連結於一 5 個或以上的光纖列。 6·如申請專利範圍第5項所述之無光罩式平版印刷系 統’其中該調變裝置之各該調變器包含有一感光元件，用 以將來自該控制裝置之該至少一個調變光束轉換成啟動該 調變器之一信號；其中來自該一個或以上的光纖列之各個 10光纖實質上係被連結於該感光元件之一。 7·如申請專利範圍第3項所述之無光罩式平版印刷系 統’其中前述之至少一個光纖在其調變裝置端部係連結於 一個或以上的光學導波器上，且該光學導波器是和該感光 元件連結。 15 8·如申請專利範圍第1項所述之無光罩式平版印刷系 統，其中該光學傳送器在其控制裝置端部上具有至少一個 夕工器，且在其調變裝置端部上具有至少一個解多工器。 9·如申請專利範圍第1項所述之無光罩式平版印刷系 統，具有一平行該多數小光束移動之光徑，其中該光學傳 2〇送Is更具有至少一個用以將該至少一個調變光束連接至該 光徑之光學連接器。 1〇·如申請專利範圍第1項所述之無光罩式平版印刷 ，其中該資料轉換器與該光學傳送器適合用來產生至 、 ’、有至夕一個波長介於200至1700 nm之間的調變 -36- 1300308 U-β日修正替換頁 光束。 5 11·如申請專利範圍第2項所述之無光罩式平版印刷 系冼，其中该感光元件具有一個濾波器，該濾波器係從一 個對特疋波長透明的選擇濾波器、一個用以傳送具有特定 方向及極性的光的選擇濾波器、一個稜鏡以及一光栅所構 成之族群中所選出者，其中該稜鏡係用 以限定該感光元件 對於從特疋方向進入該稜鏡的光的敏感度，而該光栅係 用以限定該感光元件對於從一特定方向進入該光柵的光的 敏感度。 · 10 12·如申請專利範圍第2項所述之無光罩式平版印刷 系統，其該感光元件包括至少一個光電二極體。 13·如申請專利範圍第12項所述之無光罩式平版印刷 系統，其該光電二極體包括一 MSM_光電二極體、一 PIN_ 光電二極體或一突崩光電二極體。 15 14. 如申請專利範圍第丨項所述之無光罩式平版印刷 系統’其中該調變器包含有多數靜電偏轉器。 15. 如申請專利範圍第丨項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中該資料轉換器包含有一個雷射二極體。 馨 16. 如申請專利範圍第丨項所述之無光罩式平版印刷 20 系統，其中該光學傳送器包括至少一個具有一調變裝置端 部與控制裝置端部並用以將前述之至少一個調變光束從 前述之控制裝置傳送至前述之調變裝置之光纖；以及至少 一個用以投射前述光纖之該調變裝置端部至該調變裝置上 之投射器。 -37- 1300308
    .攀替換頁 糸站17甘如申請專利範圍第1項所述之無光罩式平版印刷 …、〃中δ亥光束產生器包含有一個離子光束產生裝置。 / 18·如中請專利㈣第丨項所述之無鮮式平版印刷 系統，其中該光束產生器包含有一個χ光光束產生裝置。 5 / 19·如申請專利範圍帛j項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中該光束產生器包含有一個電子光束產生裝置。 ^ 20·如申請專利範圍第丨項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中該調變裝置之各該調變器包含有一個用以將來 自前述之控制裝置的該至少一個調變光束轉換為一用以啟 « 1〇動該調變器之信號的感光元件，同時該調變裝置具有一個 光束生產器側面及一個目標側面。 21 ·如申請專利範圍第2〇項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中各該調變器包含有至少一個靜電偏轉器，以及 位於該至少一個靜電偏轉器與該目標側面之間的一光孔， 15前述之調變器之前述靜電偏轉器形成一個靜電偏轉器列， 而前述之調變器之該光孔形成一個光孔列。 22.如申請專利範圍第21項所述之無光罩式平版印刷 系統’其中各該靜電偏轉器是以可操作之方式和一個感光 · 元件連結。 20 23·如申請專利範圍第20項所述之無光罩式平版印刷 系統’其中該光學傳送器包含有至少一個用以將該至少一 個調變光束分裂成多述調變光束之光束分裂器。 24·如申請專利範圍第20項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中該光學傳送器包含有用以將前述多數調變光束 -38- 1300308·
    投射於該等感光元件之多數個投射器。 25.如申請專利範圍第24項所述之無光罩式平版印刷 系統，其前述投射器可以以相對於一垂直該靜電偏轉器列 之平面0至88度之間的角度投射。 5 26.如申請專利範圍第24項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中該投射器包含有至少一個用以將該多數調變光 束投射於該靜電偏轉器光孔列之透鏡。
    27. 如申請專利範圍第26項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中該投射器包括一個具有一個縮小光學系統並用 10 以縮小該等多數調變光束之第一縮小裝置，以及一個用以 將該縮小之多數調變光束投射於前述之靜電偏轉器光孔列 之投射光學系統。 28. 如申請專利範圍第27項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中前述之縮小光學系統包括一個微透鏡列，該微 15 透鏡列之各個微透鏡和該等調變光束之一對齊並用以縮小 該等調變光束之一之尺寸。
    29·如申請專利範圍第27項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中該投射光學系統更包含有一個在該投射光學系 統的該透鏡方向用以反射來自縮小光學系統的調變縮小光 20 束之鏡子。 30. 如申請專利範圍第20項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中在該調變裝置上，未被各該感光元件所覆蓋之 部位具有一個反射層。 31. 如申請專利範圍第20項所述之無光罩式平版印刷 -39- 1300308.
    」 系統，其中在面對該等進入的調變光束之調變裝置的一表 面上設有一個擴散層。 32. 如申請專利範圍第1項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中該光學傳送器還包括一個光學導波器，係用以 5 連結實質上平行於該靜電偏轉器光孔列平面之該多數調變 光束之每個光束朝向其對應的感光元件。
    33. 如申請專利範圍第32項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中前述之光學傳送器更包括一個具有許多微透鏡 之光學微透鏡列，各該微透鏡和該多數之調變光束之一對 10 齊，用以連結其調變光束至一對應的光學導波器。 34. 如申請專利範圍第1項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中該光學傳送器包括許多光纖；該資料轉換器包 含有用以連結在該多數光纖上至少一個調變光束之裝置， 該多數之光纖被聚集以形成至少一個光纖帶，該至少一個 15 光纖帶固定於該靜電偏轉列之一個侧面；而且該等感光元 件係用以經由電子連接器以電子方式啟動其對應的靜電偏 轉器。 35. 如申請專利範圍第1項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中前述之光束產生器包括光束產生裝置，最好是 20 一種波長小於300 nm之電磁光束。 36. 如申請專利範圍第1項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中該調變裝置包括至少一個空間光調變器。 37. 如申請專利範圍第36項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中該空間光調變器包括一個可變形鏡子裝置，其 -40- 1300308
    曰修(更)正替換頁 申請專利範圍續頁 包—列微鏡子。 38.如申請專利範圍第37項所述之無光罩式平版印刷 系統，其中各微鏡子包括一個以可操作方式和前述之光學 傳送器連結之感光元件以接收一個調變光束。 5 39. —種使用無光罩式平版印刷系統將一預定模式傳 送至一基板之方法，包含有以下步驟： 產生多數小光束；
    使用多數個調變器調變一小光束量； 控制各該調變器，其中一控制裝置產生並傳送用 10 以控制每一個小光束量的模式資料； 儲存該模式資料； 讀出該儲存之模式資料； 將該讀出之模式資料轉換為至少一個調變光束； 以及 15 傳送該至少一個調變光束。
    40. —種使用一平版印刷系統而將一模式傳送至一目 標表面之方法，該系統包括至少一個用以產生許多小光束 之光束產生器，以及一用以個別地、可控制地且實質上調 變每一小光束之調變裝置，該方法包含有下列步驟： 20 從一資料儲存器讀取模式資料； 將該模式資料轉換成至少一個調變光束；以及 以光學方式連結該至少一個調變光束至該調變裝置。 41. 如申請專利範圍第40項所述之方法，其中該調變 裝置包含有一列調變器，各該調變器具有多數感光元件， -41- J300308.
    曰修(更)正替換頁 ^ λ-1 6 f申請專利範圍續頁 而該方法進一步包含有下列步驟： 將該至少一個調變光束引導至該等調變器；以及 使各該調變光束連結於一感光元件。
    -42-
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