JPH0312542A - マスク表面検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔（既　　要〕 マスク表面検査装置の照明機構の改良に関し、照射光が
ペリクル膜に対して垂直に照射されず、長時間の照射に
よってもマスクのパターン領域の上のペリクル膜が熱せ
られないようにすることが可能なマスク表面検査装置の
提供を目的とし、光源から発せられた光線を、集光レン
ズにより集光し、ペリクル膜を垂直に透過させてマスク
の表面に照射し、該マスクの表面で反射した光線により
、マスクの表面の異物の有無を検査するマスク表面検査
装置において、前記光源から発せられた光線を平行光線
にするレンズと、該レンズを透過した光線を伝送する光
ファイバと、該光ファイバにより伝送された前記光線を
集光する集光レンズと、前記光ファイバ及び前記集光レ
ンズを取り付ける取付板と、該取付板の傾斜角を所定の
角度にする該取付板の移動機構とを具備し、前記光線を
斜め方向から照射して前記ペリクル膜の周辺部を透過さ
せる照明機構を備えるよう構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、マスク表面検査装置の照明機構の改良に関す
るものである。

近年の超大集積回路装置の素子パターンの微細化に伴い
、非常に微細な異物であってもマスクに異物が付着する
と、この異物が半導体基板上に転写されるので、マスク
の両面にペリクル膜をペリクルフレームに貼付した゛ペ
リクルを貼付けてマスク表面への異物の付着を防止して
いる。

万一このペリクル貼付済のマスクの表面に異物が存在す
ると、障害の原因になるのでペリクル貼付後にマスク表
面の検査を行っている。

このマスク表面の検査を行う場合に、非常に微細な異物
を発見し得るように紫外線を用いた蛍光法による照明を
行い検査を行っているが、長時間の検査を行うと種々の
障害が発生している。

以上のような状況から、紫外線を用いた蛍光法による照
明で長時間の検査を行う場合に発生する障害を防止する
ことが可能なマスク表面検査装置が要望されている。

〔従来の技術〕

従来のマスク表面検査装置を第２図により詳細に説明す
る。

第２図は従来のマスク表面検査装置の概略構造を示す側
面図である。

図において、光源２１から発せられた光線２１　ａは、
レンズ２２を透過し、ハーフミラ−２３によって方向が
９０″変換され、集光レンズ２４により集光されて直下
のペリクル膜１３ａを透過し、ペリクル膜１３ａがフレ
ーム１３ｂを介して貼付けられているマスク１４の表面
に照射される。

このマスク１４の表面に照射された光線２１ａはマスク
１４の表面で反射され、この反射した光線２１　ｂは元
の光路を通ってハーフミラ−２３の上に設けた対物レン
ズ１２に入射する。

万一、このマスク１４の表面に異物１５が存在すると、
この反射光に変化が認められるので、異物１５を発見す
ることが可能となる。

〔発明が解決しようとする課題〕

以上説明した従来のマスク表面検査装置においては、観
測軸と同軸の紫外線を照射してその反射光を観測してい
るために、マスク表面に貼付したペリクルのペリクル膜
が蛍光を発するようになり、長時間の照射によってペリ
クル膜が熱せられるという障害が発生している。

このようにペリクル膜が蛍光を発すると、異物を観測す
る感度が低下し、ペリクル膜が加熱されると、ペリクル
膜の部分的な光透過率の差異が生じるために、このペリ
クル付のマスクを用いて半導体基板にパターンを転写し
た場合に、パターンが正常に転写されなくなるという問
題点があった。

本発明は以上のような状況から、照射光がペリクル膜に
対して垂直に照射されず、長時間の照射によってもマス
クのパターン領域の上のペリクル膜が熱せられないよう
にすることが可能なマスク表面検査装置の提供を目的と
したものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明のマスク表面検査装置は、光源から発せられた光
線を、集光レンズにより集光し、ペリクル膜を垂直に透
過させてマスクの表面に照射し、このマスクの表面で反
射した光線により、マスクの表面の異物の有無を検査す
るマスク表面検査装置において、光源から発せられた光
線を平行光線にするレンズと、このレンズを透過した光
線を伝送する光ファイバと、この光ファイバにより伝送
された光線を集光する集光レンズと、この光ファイバ及
び集光レンズを取り付ける取付板と、この取付板の傾斜
角を所定の角度にするこの取付板の移動機構とを具備し
、この光線を斜め方向から照射してこのペリクル膜の周
辺部を透過させる照明機構を備えるよう構成する。

〔作用］ 即ち本発明においては、光源から発せられた光線をレン
ズを通して平行光線にし、このレンズを透過した光線を
光ファイバで伝送した後に集光レンズで集光する。

この光ファイバ及び集光レンズを取付仮に取り付け、こ
の取付板の傾斜角を移動機構により所定の角度に変更し
、この光線を斜め方向から照射してこのペリクル膜の周
辺部を透過させてマスクの表面の検査領域を照明するこ
とが可能となるから、マスクの検査領域の上のペリクル
膜には光線が入射しないので、この部分のペリクル膜が
螢光を発したり、長時間の照射によって熱せられるとい
う障害の発注を防止することが可能となる。

〔実施例〕

以下第１図により本発明による一実施例を詳細に説明す
る。

第１図（ａ）はマスク１４の中央部を検査するために光
＆’５１１ａを照射する状態を示し、第１図（ｂ）はマ
スク１４の周辺部を検査するために光線１ａを照射する
状態を示している。

第１図（ａｌは検査領域とペリクル膜１３ａを貼付した
フレーム１３ｂの内壁との距離が最も大きな場合であり
、入射する光線１ａの入射角は最小となる。

第１図（ｂｌは検査領域とペリクル膜１３ａを貼付した
フレーム１３ｂの内壁との距離が最も小さな場合であり
、入射角は最大になる。

この光線１ａの入射角の変更を本実施例においてはパル
スモータによって駆動されるビニオンとセクタギヤを用
いて行っている。

光Ｂ１、例えばクセノンランプ（以下、Ｘｅランプと略
称する）から発せられた光線１ａは、レンズ２で平行に
され、クランパ３ａにて光線の入射端を保持されている
光ファイバ３に入射される。

光ファイバ３によって伝送された光線１ａは光ファイバ
３の出射端からでて集光レンズ４により集光されてペリ
クル膜１３ａの周辺部を透過してマスク１４の表面に照
射される。

種々の変化する入射角にて光線１ａを照射するごとが可
能なように光ファイバ３を用いており、この光ファイバ
３の長さは種々の入射角の場合の最大値が必要であり、
それ以外の場合には光ファイバ３には図示のようにたる
みが与えられている。

光ファイバ３の出射側の部分と集光レンズ４とは取付板
５に固定されており、この取付板５の下部にはビニオン
Ａ６とビニオンＢ７とが、セクタギヤＡ８とセクタギヤ
Ｂ９の間隔で設けられており、ビニオンＡ６とセクタギ
ヤΔ８、ビニオンＢ７とセクタギヤＢ９とはそれぞれ噛
み合わされている。

ビニオンＡ６及びビニオンＢ７の軸にはそれぞれパルス
モータＡＩＯ及びパルスモータＢｌｌが取り付けられて
おり、光線１ａがペリクル膜１３ａの周辺部を透過して
所定の位置に照射されるようにそれぞれのパルスモータ
には所定のパルスが与えられるようになっている。

このような光線１ａの入射角を変更する機構を有するマ
スク表面検査装置においては、常に光線１ａがペリクル
膜１３ａの周辺部を通過してマスク１４の表面の検査領
域に照射されるから、入射する光線１ａによって加熱等
のダメージを受けていない中央部のペリクル膜１３ａを
ｉ３ｉＭＨ，たマスク１４からの反射光が対物レンズ１
２に入射するので正値なマスク１４の検査を行うことが
可能となる。

なお、本実施例では光源１としてＸｅランプを用いたが
、アルゴンレーザの第２高調波を用いることも可能であ
る。

また、取付仮５の傾斜角を変更する手段は、本実施例に
おいて用いたビニオンとセクタギヤの組み合わせ機構に
限定されるものでない。

〔発明の効果］ 以上の説明から明らかなように本発明によれば、入射角
を変更できる照明機構を設けることにより、マスク表面
検査装置の照明光によりダメージをうけるペリクル膜の
部分を限定することが可能となり、半導体装置の製造工
程において必要なペリクル膜の中央部分の障害を確実に
防止することが可能となる等の利点があり、著しい経済
的及び、信頓性向上の効果が期待できるマスク表面検査
装置の提供が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による一実施例のマスク表面検査装置を
示す側面図、 第２図は従来のマスク表面検査装置の概略構造を示す側
面図、である。 図において、 １は光源、　　　　　　１ａは光線、 ２はレンズ、　　　　　　３は光ファイバ、３ａはクラ
ンパ、　　　　４は集光レンズ、５は取付板、　　　　
　６はビニオンＡ、７はピニオンＢ、　　　　８はセク
タギヤＡ１９はセクタギヤＢ１　１０はパルスモータＡ
１１１はパルスモータＢ、１２は対物レンズ、１３ａは
べりタル膜、　　１３ｂはフレーム、１４はマスク、　
　　　　１５は異物、を示す。 従来のマスク表面検査装置の概略構造を示す側面図第２
図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 光源から発せられた光線を、集光レンズにより集光し、
   ペリクル膜を垂直に透過させてマスクの表面に照射し、
   該マスクの表面で反射した光線により、マスクの表面の
   異物の有無を検査するマスク表面検査装置において、 前記光源（１）から発せられた光線（１ａ）を平行光線
   にするレンズ（２）と、 該レンズ（２）を透過した光線（１ａ）を伝送する光フ
   ァイバ（３）と、 該光ファイバ（３）により伝送された前記光線（１ａ）
   を集光する集光レンズ（４）と、 前記光ファイバ（３）及び前記集光レンズ（４）を取り
   付ける取付板（５）と、 該取付板（５）の傾斜角を所定の角度にする該取付板（
   ５）の移動機構（６、７、８、９、１０、１１）と、を
   具備し、前記光線（１ａ）を斜め方向から照射して前記
   ペリクル膜（１３ａ）の周辺部を透過させる照明機構を
   備えたことを特徴とするマスク表面検査装置。