JP2003077413A5 - - Google Patents

Claims (4)

1. 写像投影型の電子線装置において、
   試料を載置して移動させるステージと、
   複数の一次電子ビームを走査しつつ試料に照射する電子照射部と、
   一次電子ビームの照射により試料から放出された二次電子ビームを光学的に処理する二次光学系と、
   二次光学系の出力を受け取るシンチレータと、
   シンチレータの出力を受け取るリレー光学系と、
   リレー光学系からの光信号を電気信号に変換するＴＤＩ−ＣＣＤと、
   ＴＤＩ−ＣＣＤからの電気信号を処理して画像を表示する画像表示部と
   を含み、
   二次光学系は、シンチレータへ向かう電子ビームを回転させることにより、ステージの移動方向とＴＤＩ−ＣＣＤ受光面配列の積算方向とを一致させるための磁気レンズを含んでいる
   ことを特徴とする電子線装置。
2. 請求項１記載の電子線装置において、磁気レンズは、二次光学系に含まれるウイーンフィルタとシンチレータとの間に配置されていることを特徴とする電子線装置。
3. 請求項２記載の電子線装置において、磁気レンズは、シンチレータに最も近いクロスオーバー位置、もしくは、二次光学系に含まれる静電レンズ系の最終段に最も近い結像位置に配置されていることを特徴とする電子線装置。
4. 半導体デバイスを製造する方法において、請求項１〜３いずれかに記載の電子線装置を用いて、プロセス途中又は完了後の半導体デバイスを検査する工程を含んでいる半導体デバイス製造方法。