JPH11283548A - 電子顕微鏡装置及びそれを用いた試料観察方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 凹凸のある試料でも陰影が生じず、またＳＮ
比の高い試料像を得ることができる電子顕微鏡装置を提
供する。 【解決手段】 電子顕微鏡装置は、各々電子ビーム
（３、６）を発生する電子銃部（１、４）および該電子
銃部で発生した前記電子ビームを集束して試料（７）上
に照射する照射レンズ（２、５）を有する複数の電子照
射鏡筒と、前記電子ビームが照射された試料からの電子
（８）を結像する対物レンズ（９）および該対物レンズ
の結像位置に配置されかつ前記試料からの電子を検出す
る検出器（１０）を有する電子結像鏡筒とを具備する。
複数の電子照射鏡筒から各々電子ビームを試料上の実質
的に同じ領域に同時に照射すれば、凹凸のある試料でも
電子ビームが照射されない領域が生じず、陰影がなくか
つＳＮ比の高い試料像を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子顕微鏡装置に
関し、特に複数の電子ビームを試料上に照射する電子顕
微鏡装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、反射型電子顕微鏡装置は、電子ビ
ームを試料表面上に集束して照射し、試料からの反射電
子を結像し検出することによって試料表面形状に対応す
る像を得ている。

【０００３】図７は、従来の反射型電子顕微鏡装置の概
念的な説明図である。図７に示される従来の反射型電子
顕微鏡装置においては、電子銃１から発生された電子ビ
ーム３は、照射レンズ２により集束されて試料７の表面
上に照射される。電子ビーム３が照射された試料７から
の反射電子８は、対物レンズ９により検出器１０上に結
像される。この検出器１０は、例えば電子が当たると光
を発する蛍光板などの電子を光に変換する素子である。
このため、試料７からの反射電子像は、検出器１０で光
に変換され、光学像を形成する。この光学像が撮像カメ
ラ１１によって撮影され、対応する画像信号に変換され
て出力され、モニタ１２などに入力して表示される。こ
れにより、試料の表面形状、例えば図７のようにＴ字型
パターン７Ａが形成されている試料７の表面形状を観察
することができる。なお、前記１〜１０の要素は、図示
はしないが真空系に配置されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
反射型電子顕微鏡装置においては、１つの電子照射系に
より単一の電子ビームを試料表面上に照射する。このた
め、凹凸のある試料などでは、電子ビームが十分には照
射されない部分が電子ビーム照射系と反対側などにでき
てしまい、得られる試料像には陰影が生じてしまう。

【０００５】また、電子ビーム照射系から試料に照射さ
れる電子ビームの量が十分でなく、撮像カメラで撮像し
て得られる画像信号のＳＮ比が悪い場合もあった。

【０００６】本発明の目的は、上述の従来技術における
問題点に鑑み、試料に凹凸などがあっても陰影のない試
料像を得ることができる電子顕微鏡装置を提供すること
である。

【０００７】本発明の他の目的は、試料に対して十分な
量の電子ビームを照射でき、ＳＮ比の高い試料像を得る
ことができる電子顕微鏡装置を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に記載の発明では、電子顕微鏡装置は、各
々電子ビームを発生する電子銃部および該電子銃部で発
生した前記電子ビームを集束して試料上に照射する照射
レンズを有する複数の電子照射鏡筒と、前記電子ビーム
が照射された試料からの電子を結像する対物レンズおよ
び該対物レンズの結像位置に配置されかつ前記試料から
の電子を検出する検出器を有する電子結像鏡筒とを具備
するよう構成される。これにより、凹凸のある試料でも
陰影が生じずかつＳＮ比の高い試料像を得ることができ
る。

【０００９】また、請求項２に記載の発明では、請求項
１に係る電子顕微鏡装置において、前記複数の電子照射
鏡筒のうち少なくとも２つ以上の電子照射鏡筒から電子
ビームを前記試料上に同時に照射するよう構成される。
これにより、凹凸のある試料でも陰影が生じずかつＳＮ
比の高い試料像を的確に得ることができる。

【００１０】また、請求項３に記載の発明では、請求項
１に係る電子顕微鏡装置において、前記複数の電子照射
鏡筒のうち少なくとも２つ以上の電子照射鏡筒から電子
ビームを前記試料上の実質的に同じ領域に同時に照射す
るよう構成される。これにより、凹凸のある試料でも陰
影が生じずかつＳＮ比の高い試料像をより的確に得るこ
とができる。

【００１１】また、請求項４に記載の発明では、請求項
１に係る電子顕微鏡装置において、前記複数の電子照射
鏡筒のうち少なくとも２つ以上の電子照射鏡筒から電子
ビームを前記試料上の実質的に同じ領域に同時に照射す
ることと、前記複数の電子照射鏡筒のうちの任意の１つ
の電子照射鏡筒から電子ビームを前記試料上に照射する
こととを切り換える切り換え手段をさらに具備するよう
構成される。これにより、試料に応じて照射する電子ビ
ームの数を適宜調整することが可能となる。このため、
例えば、試料に凹凸がある場合やＳＮ比の高い試料像を
得たい場合は少なくとも２つ以上の電子ビームを照射
し、凹凸のない試料や電子ビームにより損傷を受けやす
い試料の場合は単一の電子ビームを照射するなどすれ
ば、的確かつ効率よく試料を観察することが可能とな
る。

【００１２】また、請求項５に記載の発明では、請求項
１〜４に記載の電子顕微鏡装置において、前記複数の電
子照射鏡筒のうち少なくとも１つの電子照射鏡筒を移動
して前記複数の電子照射鏡筒の相対的な位置を調節する
制御手段をさらに具備するよう構成される。これによ
り、試料の凹凸形状などに合わせて電子ビームの照射方
向を適宜調整できるので、試料の凹凸などにより電子ビ
ームが照射されずに陰となる領域をほぼなくすことが可
能となる。

【００１３】また、請求項６に記載の発明では、電子ビ
ームを用いた試料観察方法は、複数の電子銃から発生し
た複数の電子ビームをそれぞれ集束して試料上の実質的
に同じ領域に同時に照射し、前記複数の電子ビームが照
射された試料面からの電子を検出することによって前記
複数の電子ビームが照射された試料面に対応する像を得
るよう構成される。これにより、凹凸のある試料でも陰
影を生じずかつＳＮ比の高い試料像を得ることができる
ので、試料表面形状を的確に観察することが可能とな
る。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１は、本発明の第１の実
施形態に係る反射型電子顕微鏡装置の概念的な説明図で
ある。本実施形態の反射型電子顕微鏡装置は、電子照射
系を２つ設けかつ該２つの電子照射系の電子ビームの発
生を制御する機構を設けた以外は、図７に示される従来
の反射型電子顕微鏡装置とほぼ同様の構成を有する。ま
た、図２は、図１の反射型電子顕微鏡装置を上から見た
ときの電子照射系の位置関係などを示す概略的な説明図
であり、電子結像系は省略して描いてある。

【００１５】本実施形態の反射型電子顕微鏡装置は、図
１に示されるように、電子銃１および照射レンズ２から
なる電子照射鏡筒または電子照射系と、電子銃４および
照射レンズ５からなる電子照射系と、すなわち２つの電
子照射系と、該２つの電子照射系の電子ビームの発生を
制御する電子ビーム制御部１３と、対物レンズ９および
検出器１０からなる１つの電子結像鏡筒または電子結像
系とを備えている。

【００１６】２つの電子照射系は、図１および図２に示
されているように、観察する試料７と電子結像系とを結
ぶ線を挟んでほぼ対称の位置に配置され、両側の斜め上
方から試料７に各々電子ビーム３、６を照射するよう構
成されている。

【００１７】照射レンズ２、５と対物レンズ９とは、例
えば静電レンズまたは電磁レンズで構成される。また、
照射レンズ２、５と対物レンズ９とは、図１のようにそ
れぞれ１段のレンズにより構成してもよいが、必要に応
じて複数段のレンズにより、あるいは複数種類のレンズ
により構成することもできる。

【００１８】検出器１０は、例えば電子が当たると光を
発する蛍光板などの電子を光に変換する素子であるが、
ＭＣＰ（マイクロチャンネルプレート）で電子を増幅し
た後、蛍光板で電子を光に変換するよう構成することも
できる。なお、前記１〜１０の要素は、図示はしないが
真空系に配置されている。

【００１９】電子ビーム制御部１３は、電子銃１、４の
電子ビームの発生を制御し、電子銃１が単独で電子ビー
ムを発生することと、電子銃４が単独で電子ビームを発
生することと、電子銃１および電子銃４が同時に電子ビ
ームを発生することとを、図示しない操作スイッチの指
示などに基づいて任意に切り換えることができるよう構
成されている。

【００２０】このような構成の反射型電子顕微鏡装置に
おいては、２つの電子銃１、４から同時に電子ビームを
発生することを選択した場合、電子ビーム制御部１３の
制御のもとに２つの電子銃１、４からそれぞれ発生され
た電子ビーム３、６は、それぞれ照射レンズ２、５によ
り集束されて試料７の表面上の実質的に同じ領域に同時
に照射される。説明を簡単にするために、表面に微小な
Ｔ字型のパターン７Ａが形成されている試料７を用いた
が、試料７の形状はこれに限定されるものではなく、様
々な表面形状を有する試料を用いることができる。

【００２１】電子ビーム３、６が照射された試料７から
の反射電子８は、対物レンズ９により検出器１０上に結
像される。この検出器１０は蛍光板などの電子を光に変
換する素子であるため、試料７からの反射電子像は、検
出器１０で光に変換され、光学像を形成する。例えば図
１のように試料７の表面にＴ字型パターン７Ａが形成さ
れている場合は、検出器１０では試料７の表面形状を反
映し、Ｔ字型パターン１０Ａを有する光学像が形成され
る。検出器１０に形成された光学像は、撮像カメラ１１
によって撮影され、対応する画像信号に変換されて出力
され、モニタ１２などに入力して表示される。これによ
り、試料の表面形状を観察しあるいは検査することがで
きる。

【００２２】本実施形態の反射型電子顕微鏡装置におい
ては、電子照射系を２つ設け、試料の両側の斜め上方か
ら電子ビーム３、６をそれぞれ実質的に同じ領域に同時
に照射できるので、凹凸のある試料などにおいて、電子
ビームが照射されずに陰となる領域が生じるのを防ぐこ
とができる。このため、得られる試料像に陰影が生じる
ことはない。また、照射される電子ビームは従来の２倍
となるので、ＳＮ比の高い試料像を容易に得ることがで
きる。一方、複数の照射鏡筒を有するので、電子銃１ケ
当りの加速電圧を低くすることができる。その結果、銃
の寿命を長くすることができ、又照射鏡筒の小型化を図
ることができる。

【００２３】また、２つの電子照射系は試料と電子結像
系とを結ぶ線を基準に対称な方向から試料を照射するよ
うに配置されているので、様々な凹凸形状を有する試料
において電子ビームが全く照射されない部分を効率よく
なくすことができる。

【００２４】また、試料の凹凸などにより１つの電子ビ
ームしか照射されない領域では、２つの電子ビームが照
射される領域よりも反射電子の量は少なく、それに対応
して検出器１０に形成される光学像には若干濃淡がつく
ので、凹凸などに対応した立体感のある試料表面像を得
ることができる。

【００２５】また、電子ビーム制御部１３により、１つ
の電子照射系から試料上に電子ビームを照射すること
と、２つの電子照射系から試料上の実質的に同じ領域に
同時に電子ビームを照射することとを必要に応じて任意
に切り換えることができるので、例えば、試料に凹凸が
ある場合やＳＮ比の高い試料像を得たい場合は２つの電
子ビームを照射し、凹凸のない試料や電子ビームにより
損傷を受けやすい試料の場合は単一の電子ビームを照射
するなどすれば、的確かつ効率よく試料を観察すること
が可能となる。

【００２６】図３は、本発明の第２の実施形態に係る反
射型電子顕微鏡装置を上から見たときの電子照射系の位
置関係などを示す概略的な説明図であり、図２に対応
し、電子結像系は省略して描いてある。本実施形態の反
射型電子顕微鏡装置は、２つの電子照射系の相対的な位
置関係以外は、図１および図２に示される第１の実施形
態に係る反射型電子顕微鏡装置とほぼ同様の構成を有す
る。

【００２７】本実施形態の反射型電子顕微鏡装置におい
ては、斜め上方から試料７にそれぞれ電子ビーム３、６
を照射する２つの電子照射系、すなわち電子銃１および
照射レンズ２からなる電子照射系と電子銃４および照射
レンズ５からなる電子照射系とは、図１および図２に示
される反射型電子顕微鏡装置とは異なり、観察する試料
７と図示しない電子結像系とを結ぶ線を基準に異なる方
向から試料を照射するように配置されている。

【００２８】本実施形態の反射型電子顕微鏡装置におい
ても、電子照射系を２つ設けており、電子ビーム３、６
を試料の実質的に同じ領域に同時に照射できるので、照
射される電子ビームは従来の２倍となり、ＳＮ比の高い
試料像を容易に得ることができる。また、試料に凹凸が
ある場合でも、電子ビームが照射されずに陰となる領域
は、電子照射系が１つしか設けられていない従来の反射
型電子顕微鏡装置よりも生じにくい。

【００２９】また、第１の実施形態に係る反射型電子顕
微鏡装置と同様、電子ビーム制御部１３により、１つの
電子照射系から試料上に電子ビームを照射することと、
２つの電子照射系から試料上の実質的に同じ領域に同時
に電子ビームを照射することとを必要に応じて任意に切
り換えることができるので、例えば、ＳＮ比の高い試料
像を得たい場合は２つの電子ビームを照射し、試料が電
子ビームにより損傷を受けやすい場合は単一の電子ビー
ムを照射するなどすれば、的確かつ効率よく試料を観察
することが可能となる。

【００３０】図４は、本発明の第３の実施形態に係る反
射型電子顕微鏡装置を上から見たときの電子照射系の位
置関係などを示す概略的な説明図であり、図２に対応
し、電子結像系は省略して描いてある。本実施形態の反
射型電子顕微鏡装置は、電子照射系が３つ設けられてい
る以外は、図１および図２に示される第１の実施形態に
係る反射型電子顕微鏡装置とほぼ同様の構成を有する。

【００３１】本実施形態の反射型電子顕微鏡装置は、電
子銃１および照射レンズ２からなる電子照射系と、電子
銃４および照射レンズ５からなる電子照射系と、電子銃
４ａおよび照射レンズ５ａからなる電子照射系の３つの
電子照射系と、電子ビーム制御部１４とを備えている。
更に、図４では省略されているが、第１の実施形態の反
射型電子顕微鏡装置とほぼ同様に構成されている電子結
像系なども備えている。

【００３２】電子ビーム制御部１４は、電子銃１、４お
よび４ａの電子ビームの発生を制御し、電子銃１、４お
よび４ａのうちのいずれかが単独で電子ビームを発生す
ることと、いずれか２つが同時に電子ビームを発生する
ことと、３つ全てが同時に電子ビームを発生することと
を、図示しない操作スイッチの指示などに基づいて任意
に切り換えることができるよう構成されている。

【００３３】本実施形態の反射型電子顕微鏡装置におい
ては、電子照射系を３つ設け、試料の３方向の斜め上方
から電子ビーム３、６および６ａをそれぞれ実質的に同
じ領域に同時に照射できるので、凹凸のある試料などに
おいて、電子ビームが照射されずに陰となる領域が生じ
るのを的確に防ぐことができる。このため、得られる試
料像に陰影が生じることはない。また、照射される電子
ビームは従来の３倍となるので、ＳＮ比の極めて高い試
料像を容易に得ることができる。本実施例では、３方向
の場合を示したが、それ以上の場合でも例えば４方向、
８方向の場合でも、試料を囲むように配置することによ
り、陰影が生じにくいＳＮ比の高い試料像を得ることが
できる。

【００３４】また、電子ビーム制御部１４により、試料
上に電子ビームを照射する電子照射系の数を必要に応じ
て任意に切り換えることができるので、例えば、試料に
凹凸がある場合やＳＮ比の高い試料像を得たい場合は少
なくとも２つ（より好ましくは３つ）の電子ビームを照
射し、凹凸のない試料や電子ビームにより損傷を受けや
すい試料の場合は単一の電子ビームを照射するなどすれ
ば、的確かつ効率よく試料を観察することが可能とな
る。

【００３５】図５は、本発明の第４の実施形態に係る反
射型電子顕微鏡装置を上から見たときの電子照射系の位
置関係などを示す概略的な説明図であり、図２に対応
し、電子結像系は省略して描いてある。本実施形態の反
射型電子顕微鏡装置は、電子照射系を水平方向に回転移
動する機構が設けられている以外は、図１および図２に
示される第１の実施形態に係る反射型電子顕微鏡装置と
ほぼ同様の構成を有する。

【００３６】本実施形態の反射型電子顕微鏡装置は、電
子銃４および照射レンズ５からなる電子照射系を位置制
御部１５の制御に基づいて実質的に水平方向に（矢印Ａ
の方向に）回転移動する駆動部１６を備えている。回転
中心は、試料表面とビームとの交点である。この駆動部
１６により電子照射系を移動しても、電子ビーム６が照
射される位置は実質的には変化せず、電子ビーム６の照
射角度の水平方向の成分だけが変化する。

【００３７】このため、本実施形態の反射型電子顕微鏡
装置においては、電子ビーム制御部１３の制御のもとに
２つの電子照射系から電子ビーム３、６をそれぞれ試料
の実質的に同じ領域に同時に照射する場合に、電子銃４
および照射レンズ５からなる電子照射系を位置制御部１
５の制御に基づいて駆動部１６により必要に応じて水平
方向に回転移動し、電子ビーム６の試料に対する照射方
向を適宜調整することができる。試料の凹凸形状などに
合わせて電子ビームの照射方向を調整できるので、試料
における電子ビームが照射されずに陰となる領域を確実
になくすことが可能となる。

【００３８】図６は、本発明の第５の実施形態に係る反
射型電子顕微鏡装置を前から見たときの電子照射系の位
置関係などを示す概略的な説明図であり、電子結像系は
省略して描いてある。本実施形態の反射型電子顕微鏡装
置は、電子照射系を回転移動する方向が異なる以外は、
図５に示される第４の実施形態に係る反射型電子顕微鏡
装置とほぼ同様の構成を有する。

【００３９】本実施形態の反射型電子顕微鏡装置は、電
子銃４および照射レンズ５からなる電子照射系を位置制
御部１７の制御に基づいて実質的に上下方向に（矢印Ｂ
の方向に）回転移動する駆動部１８を備えている。回転
中心は、試料表面とビームとの交点である。この駆動部
１８により電子照射系を移動しても、電子ビーム６の照
射位置は実質的には変化せず、電子ビーム６の照射角度
の上下方向の成分だけが変化する。

【００４０】このため、本実施形態の反射型電子顕微鏡
装置においては、電子ビーム制御部１３の制御のもとに
２つの電子照射系から電子ビーム３、６をそれぞれ試料
の実質的に同じ領域に同時に照射する場合に、電子銃４
および照射レンズ５からなる電子照射系を位置制御部１
７の制御に基づいて駆動部１８により必要に応じて上下
方向に回転移動し、電子ビーム６の試料に対する照射方
向を適宜調整することができる。試料の凹凸形状などに
合わせて電子ビームの照射方向を調整できるので、試料
における電子ビームが照射されずに陰となる領域を確実
になくすことが可能となる。

【００４１】なお、第４および第５の実施形態の反射型
電子顕微鏡装置は、一方の電子照射系だけを回転移動す
るように構成されていたが、２つの電子照射系のそれぞ
れに駆動部を設け、それぞれ任意に回転移動できるよう
構成することもできる。

【００４２】また、第４および第５の実施形態を組み合
わせ、電子照射系を水平および上下方向に回転移動でき
るように構成することもできる。

【００４３】また、第３の実施形態の反射型電子顕微鏡
装置において、電子照射系を水平または上下方向に回転
移動する機構を設けることもできる。

【００４４】具体的な実施形態をあげたが、本発明は、
複数の電子ビームを試料上に照射し、この試料からの電
子を検出するような構成であればよく、前述の実施形態
には限定されない。

【００４５】特に、電子照射系を設ける数は前述の実施
形態のように２つまたは３つに限定されるものではな
く、４つ以上設けることもできる。この場合、全ての電
子照射系から試料上の実質的に同じ領域に同時に電子ビ
ームを照射するよう構成してもよいし、あるいは前述の
実施形態のように、試料上に電子ビームを照射する電子
照射系の数を必要に応じて任意に切り換えることができ
るよう構成してもよい。

【００４６】また、電子ビームが照射された試料７から
の反射電子８以外にも、試料７からの２次電子を検出器
１０上に結像し、光学像に変換して撮像カメラ１１で撮
像するよう構成することもできる。

【００４７】また、本発明は、反射型の電子顕微鏡装置
以外にも、透過型の電子顕微鏡装置に適用することも可
能である。

【００４８】

【発明の効果】以上のように、請求項１〜３、６記載の
発明によれば、凹凸のある試料でも陰影が生じずかつＳ
Ｎ比の高い試料像を得ることができる。

【００４９】また、請求項４記載の発明によれば、試料
に応じて照射する電子ビームの数を適宜調整することが
可能となる。このため、例えば、試料に凹凸がある場合
やＳＮ比の高い試料像を得たい場合は少なくとも２つ以
上の電子ビームを照射し、凹凸のない試料や電子ビーム
により損傷を受けやすい試料の場合は単一の電子ビーム
を照射するなどすれば、的確かつ効率よく試料を観察す
ることが可能となる。

【００５０】また、請求項５記載の発明によれば、試料
の凹凸形状などに合わせて電子ビームの照射方向を適宜
調整できるので、試料の凹凸により電子ビームが照射さ
れずに陰となる領域を確実になくすことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態に係る反射型電子顕微
鏡装置の概念的な説明図である。

【図２】図１の反射型電子顕微鏡装置を上から見たとき
の電子照射系の位置関係などを示す概略的な説明図であ
る。

【図３】本発明の第２の実施形態に係る反射型電子顕微
鏡装置を上から見たときの電子照射系の位置関係などを
示す概略的な説明図である。

【図４】本発明の第３の実施形態に係る反射型電子顕微
鏡装置を上から見たときの電子照射系の位置関係などを
示す概略的な説明図である。

【図５】本発明の第４の実施形態に係る反射型電子顕微
鏡装置を上から見たときの電子照射系の位置関係などを
示す概略的な説明図である。

【図６】本発明の第５の実施形態に係る反射型電子顕微
鏡装置を前から見たときの電子照射系の位置関係などを
示す概略的な説明図である。

【図７】従来の反射型電子顕微鏡装置の概念的な説明図
である。

【符号の説明】

１、４、４ａ 電子銃 ２、５、５ａ 照射レンズ ３、６、６ａ 電子ビーム ７ 試料 ７Ａ Ｔ字型パターン ８ 反射電子 ９ 対物レンズ １０ 検出器 １０Ａ Ｔ字型パターン １１ 撮像カメラ １２ モニタ １３ 電子ビーム制御部 １４ 電子ビーム制御部 １５ 位置制御部 １６ 駆動部 １７ 位置制御部 １８ 駆動部

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 各々電子ビームを発生する電子銃部およ
   び該電子銃部で発生した前記電子ビームを集束して試料
   上に照射する照射レンズを有する複数の電子照射鏡筒
   と、 前記電子ビームが照射された試料からの電子を結像する
   対物レンズおよび該対物レンズの結像位置に配置されか
   つ前記試料からの電子を検出する検出器を有する電子結
   像鏡筒と、 を具備することを特徴とする電子顕微鏡装置。
2. 【請求項２】 前記複数の電子照射鏡筒のうち少なくと
   も２つ以上の電子照射鏡筒から電子ビームを前記試料上
   に同時に照射することを特徴とする請求項１に記載の電
   子顕微鏡装置。
3. 【請求項３】 前記複数の電子照射鏡筒のうち少なくと
   も２つ以上の電子照射鏡筒から電子ビームを前記試料上
   の実質的に同じ領域に同時に照射することを特徴とする
   請求項１に記載の電子顕微鏡装置。
4. 【請求項４】 前記複数の電子照射鏡筒のうち少なくと
   も２つ以上の電子照射鏡筒から電子ビームを前記試料上
   の実質的に同じ領域に同時に照射することと、前記複数
   の電子照射鏡筒のうちの任意の１つの電子照射鏡筒から
   電子ビームを前記試料上に照射することとを切り換える
   切り換え手段をさらに具備することを特徴とする請求項
   １に記載の電子顕微鏡装置。
5. 【請求項５】 前記複数の電子照射鏡筒のうち少なくと
   も１つの電子照射鏡筒を移動して前記複数の電子照射鏡
   筒の相対的な位置を調節する制御手段をさらに具備する
   ことを特徴とする請求項１〜４に記載の電子顕微鏡装
   置。
6. 【請求項６】 複数の電子銃から発生した複数の電子ビ
   ームをそれぞれ集束して試料上の実質的に同じ領域に同
   時に照射し、前記複数の電子ビームが照射された試料面
   からの電子を検出することによって前記複数の電子ビー
   ムが照射された試料面に対応する像を得ることを特徴と
   する電子ビームを用いた試料観察方法。