JP2001227932A - マスク検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、透過型のマスクの検査を行うマス
ク検査装置に関し、マスクを透過する電子線を複数素子
を複数ラインに並べた検出器を用いて検出すると共にマ
スクの移動に同期して当該検出器上で画像信号を転送
し、電子ビームの波長が短いことによる高分解能を有効
活用し、かつ検出器のライン方向の画素の同時検出とラ
インの直角方向に画像信号を同期転送して高分解能かつ
高速にマスク検査を実現することを目的とする。 【解決手段】 電子線を発生する電子銃と、電子銃によ
り発生された電子線をマスクに照射するレンズと、マス
クを透過した電子線を結像するレンズと、レンズにより
結像された電子線の画像あるいは電子線の画像を光に変
換した後の画像を検出する、ライン方向に複数の画素を
並べ、かつ複数ラインを持ちラインと直角方向に画像信
号を転送する検出器と、マスクを移動する移動手段と、
移動手段によりマスクを移動させたときに、検出器上の
画像信号を同期して転送制御する制御手段とを備えるよ
うに構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透過型のマスクの
検査を行うマスク検査装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ウェハにＬＳＩ回路パターンなど
を露光するマスク（レチクルマスク）の検査は、光をマ
スクの全体に照射して透過する光の強度を計測してその
像を得て、回路図などと照合して行うようにしている。
光による検査は、その波長によって分解能が限定され、
現在の最高分解能は０．１μｍ程度である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】一方、走査型電子顕微
鏡（以下ＳＥＭという）を使用し、マスクを用いて露光
・現像した後のウェハの回路パターン上に細く絞った電
子ビームを走査してそのときに発生する２次電子を検出
して当該回路パターンの微細構造の検査に使用されてい
る。しかし、ステンシルマスクはパターンを形成する薄
膜の厚さが２〜２０μｍ程度あり、仮にパターン開口部
の最小寸法を０．４μｍとするとアスペクト比が５〜５
０にもなり、これは通常のウェハ表面の構造におけるア
スペクト比よりもきわめて大きく、通常のＳＥＭを使用
し、細く絞った電子ビームを照射して走査しても、開口
部内で発生した２次電子を外部に取り出すことができ
ず、事実上、当該開口部内の検査をすることが不可能で
あるという問題があった。

【０００４】また、従来の上述したウェハ検査用のＳＥ
Ｍでは、細く絞った電子ビームを照射した状態でＸ方向
およびＹ方向にそれぞれ走査（いわゆるラスタ走査）し
てそのときに発生する２次電子を検出し、２次電子像を
画面上に表示している。このため、ウェハ上の一定面積
の信号（画像）を全て得るために必要な時間は、一定面
積の総画素数×サンプリング時間となり、通常、サンプ
リング時間は０．１３μｓ程度である。検出感度を３０
ｎｍとしてサンプル面の１ｃｍ^２を検査するに必要な時
間は、 ０．１３μｓ×１ｃｍ^２／（５０ｎｍ）＝５，２００秒
＝８６分＝１時間２６分 となる。これは、検査に必要な例えばステージ移動の時
間などを全て除外しており、実際には更に多くの時間が
必要となってしまい、このようなラスタスキャン型装置
では１ｃｍ^２につき１時間半程度を要するために実用的
ではないという基本的な問題もあった。

【０００５】本発明は、これらの問題を解決するため、
マスクを透過する電子線を複数素子を複数ラインに並べ
た検出器を用いて検出すると共にマスクの移動に同期し
て当該検出器上で画像信号を転送し、電子ビームの波長
が短いことによる高分解能を有効活用し、かつ検出器の
ライン方向の画素の同時検出とラインの直角方向に画像
信号を同期転送して高分解能かつ高速にマスク検査を実
現することを目的としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】図１を参照して課題を解
決するための手段を説明する。図１において、マスク１
は、透過型の検査対象のマスクである。

【０００７】電子銃３は、電子線を発生するものであ
る。コンデンサレンズ４は、電子銃３により発生された
電子線をマスク１に照射するものである。

【０００８】対物レンズ５は、マスク１を透過した電子
線を結像などするものである。ＣＣＤ９は、検出器の例
であって、対物レンズ５により結像された電子線の画像
あるいは電子線の画像を光に変換した後の画像を検出す
るものである。

【０００９】制御装置１５は、ステージ２を移動制御し
たり、ＣＣＤ９の画像信号を同期してラインと直角方向
に転送したりなどするものである。次に、動作を説明す
る。

【００１０】コンデンサレンズ４が電子銃３から放出さ
れた電子線をマスク１に照射し、対物レンズ５がマスク
１を透過した電子線の像を結像し、検出器であるＣＣＤ
９がここでは、トランスデューサ７で光に変換された画
像を検出し、制御装置１５がステージ２を制御してマス
ク１を移動させると共にＣＣＤ９のラインと直角方向に
画像信号を同期転送させ、ＣＣＤ９から出力された画像
信号を表示したり、記録したりするようにしている。

【００１１】この際、制御装置１５がステージ２を制御
してマスク１上を所定幅で一定方向に移動、あるいは一
定方向と逆方向に移動させることを繰り返してマスク１
の全面を走査するようにしている。

【００１２】また、制御装置１５がステージ２を制御し
てマスク１を連続移動させるようにしている。また、検
出器であるＣＣＤの前方にＸ線を遮断して光の画像を通
過させる板を配置、あるいは電子線の画像を斜めに配置
した電子線・光変換器で変換した光の画像を、レンズで
検出器であるＣＣＤに結像させてＸ線量を低減するよう
にしている。

【００１３】また、試料台上に固定したマスクの位置を
レーザ干渉計で測定してマスクを移動させるようにして
いる。従って、マスク１を透過する電子線を複数素子を
複数ラインに並べた検出器を用いて検出すると共にマス
ク１の移動に同期して検出器上で画像信号（電荷）を順
次転送することにより、電子ビームの波長が短いことに
よる高分解能を有効活用し、かつ検出器のライン方向の
画素の同時検出とラインの直角方向に画像信号（電荷）
を同期転送して高分解能かつ高速にマスク検査を実現す
ることが可能となる。

【００１４】

【発明の実施の形態】次に、図１から図５を用いて本発
明の実施の形態および動作を順次詳細に説明する。

【００１５】図１は、本発明のシステム構成図を示す。
図１において、マスク１は、透過型の検査対象のマスク
である。ステージ２は、モータ１２によって駆動し、マ
スク１をＸ方向およびＹ方向に移動させるものである。
Ｘ方向およびＹ方向の移動量は、図示しないが光干渉距
離計をもとに正確に測定し、マスク１のＸ方向およびＹ
方向の移動量を制御するようにしてもよい。

【００１６】電子銃３は、電子線を発生するものであっ
て、エミッタ１１から放出された電子線を高電圧で加速
して放射するものである。コンデンサレンズ４は、電子
銃３から放射された電子線を集束などしてマスク１に照
射するものである。

【００１７】対物レンズ５は、マスク１を透過した電子
線を結像などするものである。投射レンズ６は、対物レ
ンズ５で結像された電子線の画像を拡大してトランスデ
ューサ７上に投影するものである。

【００１８】トランスデューサ７は、電子線の画像を光
の画像に変換するものであって、例えば蛍光塗料を塗布
した板である。カメラレンズ８は、トランスデューサ７
上の光の画像をＣＣＤ９に結像するものである。

【００１９】ＣＣＤ９は、検出器の例であって、複数画
素のラインを並列に複数設けたものであって、ラインの
直角方向に画像（電荷）を、マスク１の画像の移動に同
期して転送可能なものである。

【００２０】モータ１２は、ステージ２をＸ方向および
Ｙ方向に移動させるためのものである。真空チェンバ１
３は、マスク、ステージ２などを真空中に配置する部屋
である。

【００２１】制御装置１５は、モータ１２を制御してス
テージ２に搭載したマスク１をＸ方向およびＹ方向に移
動制御したり、ＣＣＤ９に制御信号を供給して当該ＣＣ
Ｄ９上に投影されたマスク１の画像の移動に同期してラ
インの直角方向に画像信号（電荷）を転送制御したりな
どするものである。

【００２２】次に、図１の構成の動作を説明する。 （１） 電子銃３から放射された電子線がコンデンサレ
ンズ４によって集束されて透過型のマスク１の所定範囲
を照射する。マスク１の穴の空いている部分を透過した
電子線は、対物レンズ５および投射レンズ６により所定
倍率でトランスデューサ７の面に結像され、光に変換さ
れた画像を発生する。光に変換された画像を、カメラレ
ンズ８でＣＣＤ９の検出面に結像する。検出された画像
信号は制御装置１５の制御もとに図示外の画像メモリに
保存される。

【００２３】（２） （１）の状態で、制御装置１５が
モータ１２を制御してステージ２に搭載されたマスク１
を所定の幅で連続して一定の方向に移動（例えば後述す
る図４の（ｂ）参照）し、マスク１の端に来たときに隣
りの所定の幅で連続して逆方向に移動することを繰り返
すように制御する。この際、同期して、ＣＣＤ９の複数
の光検出素子からなるライン（例えば４０９６素子から
なるライン）に対して直角方向のライン（総数が例えば
３２ライン）に画像信号（電荷）を順次転送し、マスク
１の透過した画像と、同期して当該ＣＣＤ９上の画像信
号（電荷）を転送する。これにより、例えばＣＣＤ９が
３２ラインで構成されている場合には、３２回の転送を
行い、３２倍の画像信号（電荷）の強度となり当該ＣＣ
Ｄ９の端から外部に画像信号として並列に出力（例えば
４０９６画素の画像信号として並列に出力）することが
可能となる。この例では、３２倍の画像信号の強度にな
るので、１ラインと同等の画像の信号の強度でよけれ
ば、３２倍の速さでマスク１を移動できることとなり、
ライン数を増やすにしたがい、結果としてマスク１の移
動速度を比例して速くでき、極めて高速にマスク１を所
定の幅で全体を走査することが可能となる（但し、ＣＣ
Ｄ９のラインからラインへの画像信号（電荷）の転送が
間に合う場合には移動できるが、間に合わない場合には
電荷の転送速度で制限を受けることとなる）。

【００２４】以上のように、透過型のマスク１の一方の
面から電子線を面状態に照射し、透過した電子線の画像
をトランスデューサ７で光の画像に変換し、変換後の光
の画像をＣＣＤ９の素子上に結像し、当該ＣＣＤ９の複
数素子からなるラインの画素の画像信号を、ラインに直
角方向にマスク１の移動に同期して、転送することを繰
り返すことにより、例えばＣＣＤ９のライン数に比例し
てマスク１を一定の幅で走査する速度を増大、ＣＣＤ９
のライン数が例えば３２や２５６の場合には、３２倍や
２５６倍に極めて簡易な構成で速くすることが可能とな
る。以下順次詳細に説明する。

【００２５】図２は、本発明の検出器例を示す。これ
は、図１のＣＣＤ９の構成の１部を模式的に表したもの
であって、ＣＣＤ９の検出面（検出素子）の配列と当該
検出面上に投影された光の画像の例を示す。ＣＣＤ９の
ライン１０１が複数個、図示では８個（ライン）並んで
いる。１ラインは、ＣＣＤ９の素子４０９６個で構成さ
れている。パターン１０５はマスク１を透過した電子線
の光の画像のパターンの投影された例を示す。この場合
には、図１の対物レンズ５、投影レンズ６、およびカメ
ラレンズ８の総合倍率を４３０倍とし、ＣＣＤ９の１画
素（ピクセル）のサイズを１３μｍ角とすると、マスク
１の面上で１画素（ピクセル）は０．０３μｍ角に相当
する。ＣＣＤ９の１ラインを４０９６画素とすれば当該
１ラインはＣＣＤ９上で約５３ｍｍとなり、マスク１上
で１２３．８μｍとなる。

【００２６】ここで、マスク１を搭載したステージ２を
移動させると、それに対応してＣＣＤ９の面上でライン
方向と直角方向に光の画像が１０３から１０４の位置に
移動する。この光の画像の移動速度に同期して、ＣＣＤ
９の各ラインに電荷の転送を行えばライン数分の同期蓄
積、例えば図２の８ラインの場合には８倍の同期蓄積が
可能となる。これにより、１ラインで同じ電荷の画像の
信号でよければ、８倍の速度で光の画像を移動（マスク
１を移動）でき、高速走査が実現できる。これら同期制
御は、図１の制御装置１５がモータ１２を駆動制御して
マスク１を搭載したステージ２を連続移動させると同期
してＣＣＤ９のライン方向への電荷転送を制御する。Ｃ
ＣＤ９から出力された画像信号は、制御装置１５が図示
外の画像メモリに蓄積したり、画面上に表示したりす
る。画像メモリに蓄積したマスク１の透過画像は、当該
マスク１の設計データと照合し、マスク１の欠陥（余分
のパターン、パターンの欠落などの欠陥）を検査するこ
とが可能となる。

【００２７】ここで、透過型のマスク１は、支持膜付の
ものと、支持膜無しのものとがある。支持膜の無いマス
ク１は、開口部が空隙のため、低加速電圧の電子線を当
該マスク１に照射して開口部を透過させて、その画像を
得ることができる。一方、支持膜付のマスク１は、開口
部に支持膜が通常０．１μｍ程度あるので、当該支持膜
の部分を透過した電子線の画像として良好なＳ／Ｎが得
られるように、電子線の加速電圧を適切（例えば１０Ｋ
Ｖから５０ＫＶなど）に選択する。

【００２８】図３は、本発明の要部システム構成図を示
す。これは、マスク検査装置２１のマスク１の移動と、
ＣＣＤ上のラインの直角方向への画像（電荷）の移動
（転送）との同期制御を説明するためのシステム構成の
例を示す。

【００２９】図３において、マスク検査装置２１は、図
１の構成とほぼ同じであって、ここでは、マスク１を取
り付けたステージ２およびＣＣＤカメラ２５などから構
成されるものである。

【００３０】ＣＣＤカメラ２５は、図１のトランスデュ
ーサ７、カメラレンズ８およびＣＣＤ９などから構成さ
れるものであって、電子線の画像を光の画像に変換して
ＣＣＤ９上に結像し、既述した図２の複数ラインのＣＣ
Ｄ９によって光の画像の移動に同期してラインと直角方
向に電荷転送して高速検出可能にしたものである。

【００３１】制御装置１５は、図１の制御装置１５に対
応するものであり、ここでは、位置制御装置１６、ステ
ージ電源１７、画像メモリ１８などから構成されるもの
である。

【００３２】位置制御装置１６は、ステージ２に取り付
けた透過型のマスク１の移動位置を制御するものであっ
て、図示のステージ２からの位置信号、あるいは図示外
のレーザ干渉測長器を用いてステージ２（マスク１）の
位置を精密に測定した位置信号をもとに、モータ１２を
駆動制御してステージ２（マスク１）の移動を制御する
ものである。

【００３３】ステージ電源１７は、位置制御装置１６か
らの信号をもとに、モータ駆動電源をモータ１２に供給
してステージ２を移動させるものである。画像メモリ１
８は、ＣＣＤカメラ２５から出力されたマスク１の透過
した電子線に対応する画像を蓄積するものである。

【００３４】次に、動作を説明する。位置制御装置１６
がステージ２からの位置信号をもとにステージ電源１７
を介してモータ１２に電源を供給してステージ２に取り
付けたマスク１を所定の位置から所定の幅で一定速度で
一定方向、例えば後述する図４の（ｂ）に示すように、
一定方向に一定速度で連続して移動させる。このマスク
１の移動制御に同期して、同期信号をＣＣＤカメラ２５
に供給し、既述した図２で説明したように、マスク１を
透過して当該ＣＣＤカメラ２５のＣＣＤ９のラインと直
角方向への当該画像の移動に一致させて当該画像の電荷
を転送する。この位置制御装置１６の同期制御により、
マスク１を透過した電子線の画像の移動と、ＣＣＤカメ
ラ２５のＣＣＤ９のラインと直角方向への画像の電荷の
転送（移動）とが同期し、例えば３２ラインあれば、３
２倍に増幅された画像の信号がＣＣＤ９の最終端のライ
ンから並列に出力され、これら並列に出力された画像信
号を、画像メモリ１８に蓄積すると共に、図示外の表示
装置上に表示する。また、画像メモリ１８に蓄積したマ
スク１の透過電子線の画像のパターンと、設計データに
基づくパターンとを照合し、欠陥などの有無を自動的に
検査することが可能となる。この際、位置制御装置１６
が、マスク１の移動制御と、ＣＣＤ９のラインと直角方
向への電荷転送とを同期制御しているため、ライン数倍
のマスク１の透過画像の強度が得られ、１ラインの場合
と同じ透過画像の強度とすれば、ライン数倍の高速走査
が可能となる。

【００３５】図４は、本発明の特徴説明図（その１）を
示す。図４の（ａ）は、従来方式（ステップ＆リピー
ト）の例を示す。このステップ＆リピート方式は、１画
素毎（あるいは複数画素の矩形領域毎）にステップ移動
した後に静止するまで待ってその静止した状態の画像を
所定時間蓄積して画像メモリに蓄積し、同様にして次の
ステップ移動などを繰り返し、図示のように矩形領域で
マスク１の全体を塗りつぶして全体の画像を画像メモリ
に蓄積する。このため、ステップ移動して振動が静止す
るまで待つ必要があり、更に、静止した状態で十分なＳ
／Ｎを得るために十分な時間だけＣＤＤに電荷を蓄積
（例えば本発明の実施例の図２で説明したライン数が３
２本の場合に比して、同じＳ／Ｎ比を得るために３２倍
程度の時間だけ電荷を蓄積）した後、ＣＣＤに蓄積した
電荷を出力して画像メモリに蓄積し、１ステップを終了
し、次のステップに進むことを繰り返すものであり、マ
スク１の全体の画像を得るために、非常に多くの時間が
必要となってしまう欠点がある。

【００３６】図４の（ｂ）は、本発明（連続移動）の例
を示す。この本発明の連続移動の方式は、複数画素のラ
イン（例えば４０９６画素のライン）に相当する幅で図
示の点線の矢印のように一定方向に連続移動すると共に
ＣＣＤ９のラインと直角方向に同期して電荷を転送し、
当該ＣＣＤ９のラインの端から連続して出力される画像
信号を画像メモリに蓄積することをマスク１の端に辿り
付くまで行い、端にきたとき（あるいは若干オーバーラ
ン）した後に、方向を逆にして次の幅分を連続して移動
することを繰り返し、マスク１の全体を塗りつぶして全
体の画像を画像メモリに蓄積する。このため、マスク１
上を一定の幅で連続移動して塗りつぶしてそのときにＣ
ＣＤ９から出力される画像信号を画像メモリに連続して
蓄積すればよく、マスク１の全体の画像を極めて高速に
得ることが可能となる。

【００３７】図５は、本発明の特徴説明図（その２）を
示す。これは、図４の（ｂ）の本発明の連続移動の方式
と、細く絞った電子線をラスタスキャンする従来技術と
を比較した例を示す。項目は、両者を比較する下記のよ
うなものである。

【００３８】・検出感度：検出感度は、マスク１上の最
小分解能の例である。 ・実効サンプリングレート：実効的なサンプリングレー
トであって、本発明は１ラインを４０９６画素としてい
るためその分高速なサンプリングレートとなる。従来技
術は電子線ビームで画素毎に走査するので遅くなる。

【００３９】・１ｃｍ^２あたりの走査時間：本発明は既
述した１ラインが複数画素であり、更に複数ライン間
を、マスク１の移動に同期して電荷転送するために高速
走査が可能となる。

【００４０】・ビーム電流密度：マスク１を照射する電
子線ビームの密度である。 ・ビーム偏向：マスク１を照射する電子線ビームの偏向
の有無である。本発明はマスク１を連続移動するため、
電子線ビームの偏向は不要である。

【００４１】以上のように、本発明では１ｃｍ^２当り１
２分で走査して画像を得ることができるが、従来技術
（電子線ビームのラスタスキャン方式）では３時間３０
分も必要となり、マスク１上の広い範囲を極めて高速に
走査して高分解能の画像を得ることが可能となる。

【００４２】図６は、本発明の他の実施例構成図（その
１）を示す。ここで、マスク１、ステージ２、電子銃
３、エミッタ１１、対物レンズ５、投射レンズ６、モー
タ１２、真空チャンバ１３、制御装置１５は、既述した
図１の同一番号のものと同一であるので説明を省略す
る。

【００４３】図６において、ＣＣＤセンサ９’は、投影
レンズ６で結像された電子線の画像を直接に検出するも
のである。信号処理装置２６は、ステージ２の移動（マ
スク１の異動）に同期してＣＣＤセンサ９’の画像信号
（電荷）の転送などを既述したように行い、増強（増
幅）された画像信号を出力するものである。

【００４４】以上のように、マスク１を透過した電子線
の画像を直接にＣＣＤセンサ９’に結像し、電荷の移動
に同期してマスク１を移動させて増幅、あるいはマスク
１の移動に同期して電荷を移動させて増幅することによ
り、Ｓ／Ｎ比の良好な画像信号を検出することが可能と
なる。

【００４５】図７は、本発明の他の実施例構成図（その
２）を示す。ここで、マスク１、ステージ２、電子銃
３、エミッタ１１、対物レンズ５、投射レンズ６、モー
タ１２、真空チャンバ１３、制御装置１５は、既述した
図１の同一番号のものと同一であるので説明を省略す
る。

【００４６】図７において、蛍光スクリーン２７は、透
明な基板（例えばガラス）の上に薄く蛍光物質を塗布し
たものであって、図示の下方向から電子線の画像を投影
して光に変換して上方向に光の画像を放射するものであ
る。

【００４７】観察窓２８は、真空を保持する透明な基板
（例えばガラス）である。尚、蛍光スクリーン２７と観
察窓２８を一体に作成してもよい。この際、電子線の画
像を蛍光スクリーン２７に結像したときにＸ線などが発
生するので、これら発生したＸ線などを当該蛍光スクリ
ーン２７の基板あるいは観察窓２８の基板（例えばＸ線
を遮断／低減する鉛ガラス、あるいは遮断したい波長を
遮断／低減する基板）で遮断あるいは低減し，ＣＣＤセ
ンサ９’のＳ／Ｎ比の低下を防止するようにしている。

【００４８】ＣＣＤカメラ３０は、観察窓２８から放射
される光の画像を検出して増幅するものであって、ここ
では、図示のレンズ２９、ＣＣＤセンサ９’、信号処理
装置２６などから構成されるものである。

【００４９】レンズ２９は、蛍光スクリーン２７で変換
されて放射された光の画像をＣＣＤセンサ９’に結像す
るものである。ＣＣＤセンサ９’は、レンズ２９で結像
された光の画像を検出するものである。

【００５０】信号処理装置２６は、ステージ２の移動
（マスク１の移動）に同期してＣＣＤセンサ９’の画像
信号（電荷）の転送などを既述したように行い、増強
（増幅）された画像信号を出力するものである。

【００５１】以上のように、マスク１を透過した電子線
の画像を透過型の蛍光スクリーン２７で光の画像に変換
し、変換された光の画像をレンズ２９でＣＣＤセンサ
９’に結像し、電荷の移動に同期してマスク１を移動さ
せて増幅、あるいはマスク１の移動に同期して電荷を移
動させて増幅することにより、Ｓ／Ｎ比の良好な画像信
号を検出することが可能となる。

【００５２】図８は、本発明の他の実施例構成図（その
３）を示す。これは、図７に比して、更に、ステージ２
に固定したミラー３２と、固定台３４の上に固定したミ
ラー３３との間のレーザ光の干渉を利用して距離を計測
するいわゆるレーザ干渉計３１を用いて高精度のステー
ジ２の移動（マスク１の移動）を検出（Ｘ方向の移動量
を高精度に検出）、および、直角方向にも同様なものを
設けてＹ方向の移動量を高精度に検出し、これら検出量
をもとに、ＣＣＤセンサ９’上の画像の電荷の移動に同
期させて増幅し、Ｓ／Ｎ比を高くして綺麗な画像を出力
することが可能となる。

【００５３】以上のように、ステージ２の移動量をレー
ザ干渉計で高精度にリアルタイムに計測し、計測した移
動量と、ＣＣＤセンサ９’の電荷の転送とを同期させて
画像を増幅し、高Ｓ／Ｎ比のマスク１の透過画像を生成
することが可能となる。

【００５４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
マスク１を透過する電子線を複数素子を複数ラインに並
べた検出器を用いて検出すると共にマスク１の移動に同
期して検出器上で画像信号（電荷）を順次転送する構成
を採用しているため、電子ビームの波長が短いことによ
る高分解能を有効活用し、かつ検出器のライン方向の画
素の同時検出とラインの直角方向に画像信号（電荷）を
同期転送して高分解能かつ高速にマスク検査を実現する
ことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のシステム構成図である。

【図２】本発明の検出器例である。

【図３】本発明の要部システム構成図である。

【図４】本発明の特徴説明図（その１）である。

【図５】本発明の特徴説明図（その２）である。

【図６】本発明の他の実施例構成図（その１）である。

【図７】本発明の他の実施例構成図（その２）である。

【図８】本発明の他の実施例構成図（その３）である。

【符号の説明】

１：マスク ２：ステージ ３：電子銃 ４：コンデンサレンズ ５：対物レンズ ６：投射レンズ ７：トランスデューサ ８：カメラレンズ ９：ＣＣＤ ９’：ＣＣＤセンサ １１：エミッタ １２：モータ １３：真空チェンバ １５：制御装置 １６：位置制御装置 １７：ステージ電源 １８：画像メモリ ２１：マスク検査装置 ２５：ＣＣＤカメラ ２６：信号処理装置 ２７：蛍光スクリーン ２８：観察窓 ２９：レンズ ３０：ＣＣＤカメラ ３１：レーザ干渉計 ３２，３３：ミラー ３４：固定台

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透過型のマスクの検査を行うマスク検査装
   置において、 電子線を発生する電子銃と、 上記電子銃により発生された電子線を上記マスクに照射
   するレンズと、 上記マスクを透過した電子線を結像するレンズと、 上記レンズにより結像された電子線の画像あるいは当該
   電子線の画像を光に変換した後の画像を検出する、ライ
   ン方向に複数の画素を並べ、かつ複数ラインを持ちライ
   ンと直角方向に画像信号を転送する検出器と、 上記マスクを移動する移動手段と、 上記移動手段により上記マスクを移動させたときに、上
   記検出器上の画像信号を同期して転送制御する制御手段
   とを備えたことを特徴とするマスク検査装置。
2. 【請求項２】上記移動手段により上記マスク上を所定幅
   で一定方向に移動、あるいは一定方向と逆方向に移動さ
   せることを繰り返して当該マスクの全面を走査すること
   を特徴とする請求項１記載のマスク検査装置。
3. 【請求項３】上記移動手段により上記マスクを連続移動
   させることを特徴とする請求項１あるいは請求項２記載
   のマスク検索装置。
4. 【請求項４】上記電子線の画像をトランスデューサで光
   に変換した後、光学レンズを用いてその画像を上記検出
   器上に結像したことを特徴とする請求項１記載のマスク
   検査装置。
5. 【請求項５】上記検出器の前方にＸ線を遮断して光の画
   像を通過させる板を配置、あるいは電子線の画像を斜め
   に配置した電子線・光変換器で変換した光の画像を、レ
   ンズで上記検出器に結像させてＸ線量を低減したことを
   特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載のマ
   スク検査装置。
6. 【請求項６】上記試料台上に固定したマスクの位置をレ
   ーザ干渉計で測定して当該マスクを移動させることを特
   徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載のマス
   ク検査装置。