TWI294357B - Coating method, liquid supplying head and liquid supplying apparatus - Google Patents

Description

1294357 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於__種成膜方法、㈣供給職液體供給裝 置。 【先前技術】 噴墨頭（液體供給頭）具有隔開細微間隔形成有複數個微 小噴嘴孔之喷嘴板，並且藉由使墨滴自噴嘴孔一方之開口 (油墨噴出口）喷出，且使其喷至印刷紙上而進行印刷。 • 於此種喷墨頭中，將產生如下問題，即若油墨附著於噴 嘴板之油墨噴出口側之面上，則其後所喷出之油墨的喷出 軌跡將受附著之油墨表面的表面張力或黏性等影響而彎 曲，故而油墨無法喷至特定位置。 因此，需要於喷嘴板之油墨噴出口側之面以及噴嘴孔内 周面之油墨喷出口附近，形成含有氟系樹脂等之撥液膜。 此種撥液膜之形成，例如，按如下方式進行（例如，參照 專利文獻1)。 _ 首先，準備贺噶板，並將藉由光而硬化之感光性樹脂薄 膜’層壓至其油墨喷出口相反側之面上。 其次’對該感光性樹脂薄膜持續施加壓力並加熱。藉此， 於噴嘴板之内面，感光性樹脂薄膜受到熱壓著，並且與喷 嘴孔相對應之部分的一部分感光性樹脂薄膜進入噴嘴孔 内0 其次’進行紫外線照射，以使感光性樹脂薄膜硬化。 繼而’將噴嘴板浸潰於例如藉由電荷而使鎳離子與氣系 107043.doc 1294357 樹脂分散的電解液中，並進行授拌。藉此’於未由喷嘴板 之感光性樹脂薄膜所覆蓋之部分上1，於喷嘴板之油墨 喷出口側之面以及噴嘴孔内周面之油墨噴出口附近，形成 共析電鍍層。 、-人於藉由溶媒而溶解去除感光性樹脂薄膜後，以構 成-析电鍍層之氟系樹脂之熔點以上的溫度，對喷嘴板進 行加熱。 藉由上述工彳，於噴嘴板之油墨喷出口層之面以及喷嘴 孔内周面之油墨喷出口附近形成撥液膜。 、、、： 上所述之撥液膜形成方法中，由於對未形成撥 液膜之區域使用感光性樹脂薄膜，故而除用以形成撥液膜 之^序以外’必須進行如下工序，即將感光性樹脂薄膜熱 疋著至喷嘴板之工序、使感光性樹脂薄膜硬化之工序、以 及溶解去除感光性樹脂薄膜之工序。 該等工序較複雜，且必需用以進行各工序之設備。並且， 感光性樹月旨薄膜本身價格較高，因此存在耗費製造成本之 問題。 [專利文獻1]日本專利特開平7_12522〇號公報 [發明所欲解決之問題] 本發明之目的在於提供—種可於基材上所設有之貫通孔 之内周面局部區域上’使用簡單之工序及設備，並以低成 本而形成膜的成膜方法；一種具有利用該成膜方法所形成 之撥液膜的液體供給頭；以及一種具有該液體供給頭的液 體供給裝置。 107043.doc 1294357 【發明内容】 藉由下述之本發明實現如此之目的。 本發明之成膜方法，立蛀外产μ•朴〆 ^ 具特被在於·其係於基材上所設有 之貫通孔内周面的自一妓舎日a它 、 曰 ^朝向另一端之特定長度的局部區 域上’形成膜之成膜方法，且具有 。弟1工彳其於包含上述貫通孔内周面之上述局部區域的 區域上，形成用以獲得上述膜之被加工膜；

第2工序，其將具有紫外線吸收性之遮罩材料填充至上述 貫通孔内； 第3工序其自上述貫通孔之另—端側，對上述基材進行 紫外線照射，其後，制透過上述料材料時之上述紫外 線之衰減或者該衰減及上述遮罩材料之有無，而去除受到 上述紫外線照射之上述被加卫膜，藉此留下存在於上述局 部區域之上述被加工膜，由此獲得上述臈； 料 以及第4工序，其去除殘存於上述貫通孔 内之上述遮罩材

藉：：可於基材上所設有之貫通孔内周面局部區域上， 使用簡單之工序及設備’並以低成本形成膜。 本發明之成膜方法中，較好的是，於上述第i工序中，使 用含有上述膜之構成材料之液體，形成上述被加工膜。 根據該方法（液相成膜），可簡單且可靠地形成被加工膜。 树明之成膜方法中’較好的是’於上述第3工序中，於 大氣壓下進行上述紫外線照射。 、 藉此無轉減遷泵，故而有利於減少臈之製造成本 I07043.doc 1294357 >巧明之成膜方法中，較好的是，於上述第3工序中，於 氮氣環境下進行上述紫外線照射。 藉此，可防止環境中的水蒸氣將紫外線吸收，以防止紫 料衰減。其結果，可於基材之各部分上均句地(無不均地) 分解、去除被加工膜。 本發明之成膜方法中，較好的是，於上述第3工序中，以 使照射上述紫外線之紫外線照射機構與上述基材間隔_ mm之狀態，進行上述紫外線照射。 藉此，可進一步提高被加工膜之分解效率(處理效率 本發明之成臈方法中，較好的是，上述紫外線波長為25〇 nm以下。 藉由使用如此波長之料線，可更加可靠地分解、去除 被加工膜。 本，明之成膜方法中，較好的是，上述紫外線照度為_ W/cm2 〇 藉此，可更加高效地分解、去除被加工膜。 本毛明之成膜方法中，較好的是，上述遮罩材料係實質 上不會因上述紫外線照射而產生變質者。 藉此，可簡單且可靠地去除被加工膜之不必要部分。 本發明之成臈方法中，較好的是上述遮罩材料係可經揮 發而去除者。 藉此’於第4工序中’可使關單設備且低成本地去除遮 罩材料。 本發明之成財法中，較好的是，上述遮罩材料係可藉 107043.doc 1294357 由以水為主成分之清洗液而清洗並去除者。 藉此，於第4工序中，可使用簡單設備且低成本地去除遮 罩材料。 本發明之成膜方法中，較好的是，上述遮罩材料係以水 為主成分者。 此種遮罩材料較容易吸收所透過之紫外線且較易使其衰 減尤其，廉彳貝且較易獲得，並且可簡單地揮發去除，故 而較好。

本發明之錢方法巾，較好的是，上述料材料係以水 >谷性回分子為主成分者。 此種遮罩材料較容易吸收所透過之紫外線且較易使其衰 減’並且於自噴嘴孔内將其去除時’可較容易地去除，故 而較好。 本發明之成膜方法中，較好的是，上述貫通孔—端側之 開口面積（平均）為75〜750000 μηι2。 於如此極其小之貫通孔内周面上形成膜之情形時，較好 的是使用本發明之成膜方法。藉此，於貫通孔内周面之局 部區域上，可簡單且可靠地形成膜。 本發明之成膜方法中，較好的是，於上述第i工序中，使 上述被加工膜形成於上述貫通孔内周面以及上述基材表面 上，並使上述膜連續地形成於上述貫通孔内周面之上述局 部區域，與上述基材之上述貫通孔一端側之面上。 。 本發明之㈣供給頭，其特徵在於具有：㈣本體，其 設置有使液體通過之流路，㈣流路m成排出' 107043.doc 1294357 上述液體之排出口； 而連續地形成 ’以及上述喷 以及撥液膜，其藉由本發明之成臈方法， 於上述流4内周面之排出口附近的局部區域 頭本體之上述排出口側之面上。 藉此， 體供給頭 獲得可使液體可靠且均勻地供給 至目的位置之液 本發明之液體供給頭中，較好的s 平又野的疋具有可自上述排出口 噴出上述液體作為液滴之液滴噴出機構。

本發明之液體供給裝置，其特徵在於具備本發明之液體 供給頭。 藉此，獲得可使液體可靠且均勻地供給至目的位置之液 體供給裝置。 【實施方式】 以下，基於隨附圖式中所表示之較佳實施形態，對本發 明之成膜方法、液體供給頭及液體供給裝置加以詳細說明。 首先，就將本發明之液體供給頭應用於噴墨頭之情形時 的貫施形態加以說明。再者，關於喷墨頭，於本實施形態 中’以採用靜電驅動方式者為示例加以說明，但本發明並 非限疋於此，例如亦可為採用壓電驅動方式等其他驅動方 式者。 圖1係表示將本發明之液體供給頭應用於喷墨頭之情形 時之實施形態的縱剖面圖。 再者，圖1所表示的與一般使用時之狀態上下相反。又， 以下描述中，為便於說明，將圖1中之上側稱為「上」，下 107043.doc -10- 1294357 側稱為「下」。 圖1所示之喷墨頭1係靜電驅動方式之喷墨頭。 該喷墨頭1具有包含喷嘴板2、空腔板3及電極板4之噴頭 本體’並且以夾持空腔板3之方式配置噴嘴板2與電極板4。 空腔板3上設有複數個段差，使得喷嘴板2與空腔板3之間 形成有空隙5。 該空隙5具有各自分隔開之複數個油墨喷出室5丨、設於油 墨喷出室5 1後部之節流孔52、以及使油墨供給至各油墨噴 出室51之公共儲墨區53，於儲墨區53下部設有油墨取入口 54。 空腔板3之油墨噴出室51所對應之部分較薄，其作為使油 墨喷出室51之壓力產生變動之振動板31而起作用。 又’於喷嘴板2上形成有連通至油墨喷出室51之複數個噴 嘴孔（貫通孔）21。各喷嘴孔2 1分別構成使供給至油墨噴出室 5 1之油墨（液體）通過的流路。 又，該喷嘴孔21上方（一方）之開口構成使油墨作為墨滴 (液滴）6而喷出（排出）之油墨喷出口（排出口）211。 繼而，於該喷嘴板2上，撥液膜7連續地形成於油墨噴出 口 211侧之面22，與噴嘴孔21内周面212之油墨噴出口 211附 近之局部區域，即，喷嘴孔21内周面212之自上端（一端）朝 向下端（他端）之特定長度（特定深度）的局部區域212&。 該撥液膜7係較之噴嘴板2之表面，顯示出對油墨具有較 高疏液性（例如，接觸角為90。）之膜。於使用水溶性者作^ 油墨之情形時，形成較之噴嘴板2表面斥水性較高之膜，而 107043.doc 1294357 於使用疏水性（親油性）者作為油墨之情形時，則形成較之噴 嘴板2之表面親水性較高之膜。 因形成有該撥液膜7，故而可防止油墨附著於油墨噴出口 211周圍，並可使墨滴6以大致與喷嘴孔2丨之軸線方向一致 之方式穩定地喷出。 於形成斥水性膜作為撥液膜7之情形時，此可使用下述各 種斥水性樹脂材料而形成：例如，具有氟烷基、烷基、乙 烯基、環氧基、笨乙烯基、甲基丙烯醯氧基等斥水性官能 基之各種偶合劑，如聚四氟乙烯（PTFE)、四氟乙烯_全氟烷 基乙烯醚共聚物（PFA)、乙烯-四氟乙烯共聚物（ETFE)、全 氟乙烯-丙稀共聚物（FEP)、乙烯_三氟氣乙烯共聚物 (ECTFE)、全氟烷基醚般之氟系樹脂，以及矽酮樹脂等。 再者，關於斥水性膜之構成材料之市售品，例如可使用 OPTOOL DSX(大金（DAIKIN)工業股份有限公司製造）等。 另一方面，形成親水性膜作為撥液膜7之情形時，此可使 用具有羥基、羧基、胺基等親水性官能基之各種偶合劑， 以及聚乙烯醇等各種親水性樹脂材料等而形成。 再者，該等係用以形成斥水性臈或者親水性臈之代表性 材料之例示，而由上述材料所形成之膜中，亦存在顯示斥 水性以及親水性之雙方性質者。 撥液膜7之平均厚度雖未特別限定，但較好的是 μπι左右，更好的是〇·〇ι〜〇·3 μηι左右。 本發明之成膜方法適用於形成此種撥液膜7。再者，關於 撥液膜7之形成方法（本發明之成膜方法），下文將會敍述。 107043.doc -12- 1294357 又，油墨喷出口211(喷嘴孔21—端側之開口）之開口面積 (平均）雖未特別限定，但較好的是75〜75〇〇〇〇 pm2左右，更 好的是300〜8000 μιη2左右。於此種細直徑喷嘴孔21之内周 面212上形成撥液膜7之情形時，較好的是使用本發明之成 膜方法。藉此，可簡單且可靠地於噴嘴孔21内周面212之局 部區域212a上，形成撥液膜7。 電極板4接合於空腔板3之與喷嘴板2相反側之面。 私極板4上，於與振動板3丨相對向之部分形成有凹部，與 振動板31之間形成有振動室8。於該振動室8之下面，於對 向於振動板31之各個位置上設有個別電極81。 於孩噴墨頭1中，藉由振動板3丨、振動室8以及個別電極 8 1而構成有靜電致動器（液滴噴出機構）。 如此之喷墨頭1中，若藉由發送電路而將脈衝電壓施加至 個別電極81，則個別電極81表面將帶正電，而與其相對應 之振動板31之下面將帶負電。藉由由此產生之靜電吸引作 用，振動板3 1向下方彎曲。 於該狀態下’若關閉脈衝電壓，則使儲存於個別電極8 i 與振動板31之電荷急速放電，振動板31藉由振動板31自身 之彈力而恢復為大致原先之形狀。 此時，油墨喷出室51内之壓力急速上升，則墨滴6由噴嘴 孔21向δ己錄紙（§己錄用紙p )噴出。 繼而，藉由使振動板3丨再次向下方彎曲，油墨通過節流 孔52自儲墨區53，補給至油墨噴出室5 j内。 此種噴墨頭1，例如可以如下方式製造。 107043.doc 13 1294357 :了係分別用以說明圖i所示之喷墨頭之製造方法的 ” θ 2係具有噴墨頭之噴嘴板的俯 、 為圖1中喷喈柘夕Δ 圓3〜圖6分別 、板之A—Α線縱剖面圖。又，圖5中 不有一例紫外線照射裝置。 飞!·地表 斤再者’圖3〜圖6所表示的均與圖1所示之噴嘴板上下相 。「又’以下描述中，為便於說明，將圖3〜圖6中之上側稱 為上」，下側成為「下」。

、圖3〜圖6所不之噴墨頭之製造方法包含：[1]被加工膜形 成工序、[2]遮罩材料填充工序、[3]不必要部分去除工序、 [4]遮罩材料去除工序以及[5]基板接合工序，其中本發明之 成膜方法適用於工序[1]〜[4]。 以下’就各工序依次加以說明。 [1]被加工膜形成工序（第丨工序） 百先，如圖2以及圖3所示，準備隔開微小間隔形成有複 數個噴嘴孔21之噴嘴板（基材）2。 關於噴嘴板2,例如可使用藉由金屬、陶瓷、矽、玻璃、 塑膠等而構成者。其中，尤其較好的是，使用藉由鈦、鉻、 鐵、鈷、鎳、銅、鋅、錫、金等金屬，或者鎳_磷合金、錫 -銅-磷合金（磷青銅）、銅_鋅合金、不銹鋼等合金，聚碳酸 δ旨、聚颯、ABS樹脂（丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物）、聚對 笨二甲酸乙二醇酯以及聚縮醛等而構成者。 其次’如圖4(a)所示，於喷嘴孔21内周面212之大致整個 面（含有（包含）局部區域212a之區域）以及噴嘴板2表面上， 形成用以獲得撥液膜7之被加工膜7〇。 107043.doc •14- 1294357 藉由於下述工序[3]中去除該被加工膜70之不必要部 分，而獲得撥液膜7。 被加工膜7 0可藉由以下方法而形成：例如，使含有如上 所述之撥液膜7之構成材料的液體接觸喷嘴板2之方法、如 電漿CVD、熱CVD、雷射CVD之化學蒸鍍法（CVD)、真空蒸 鍍、濺鍍法、離子電鍍等之幹式電鍍法等。 其中，被加工膜70尤其較好的是’藉由使含有撥液膜7 之構成材料的液體接觸噴嘴板2之方法（液相成膜）而形成。 根據該方法，可簡單且可靠地形成被加工膜7〇。 又，於此情形時，噴嘴板2與上述液體之接觸，例如可藉 由使噴嘴板2浸潰於上述液體中之方法（浸潰法）、將上述液 體塗布於喷嘴板2之方法（塗布法）以及將上述液體噴淋供給 至喷嘴板2之方法等而進行。 [2]遮罩材料填充工序（第2工序） 其次，於形成有被加工膜70之噴嘴板2之噴嘴孔21内，填 充（供給）具有紫外線吸收性之遮罩材料9。 首先，如圖4(b)所示，於形成有被加工膜7〇之喷嘴板2油 墨噴出口 211側（喷嘴孔21之一端側）之面22上，固定脫離自 如地安裝薄膜材料10。藉此，封閉噴嘴孔21之油墨喷出口 211。 ' 其次，使薄膜材料10側朝下，將該喷嘴板2載置於紫外線 照射裝置100之基板載置台102上。關於該紫外線照射裝置 100之結構，下文將會敍述。 再者，亦可省略薄膜材料10,而使喷嘴板2之油墨噴出口 107043.doc 15 1294357 21ι側之面直接吸附於紫外線照射裝置ι〇0之基板載置台 102 ’藉此封閉油墨噴出口 21|。於使喷嘴板2吸附於基板載 置台102之情形時，關於基板載置台1〇2，使用具有靜電吸 附機構或磁吸附機構等之吸附喷嘴板2之機構者。 再者’由於所使用之遮罩材料9之黏度較高等原因，而難 以將遮罩材料9填充至噴嘴孔21之油墨喷出口 211側（一端 側）之^形時’亦可於將遮罩材料9填充至噴嘴孔2丨内後， 進仃薄膜材料10之安裝或者向基板載置 台102之吸附。 其次，如圖4(c)所示，自喷嘴孔21之上端（他端）注入遮罩 材料9，並將遮罩材料9填充至喷嘴孔21内。 立於本實施形態中，填充遮罩材料9,以覆蓋含有（包含）局 P區域（特疋區域）212a之區域的被加工膜7〇(於圖示之例 中以覆蓋較之噴嘴孔21内周面212之特定區域212a稍寬的 區域）。 再者根據遮罩材料9之不同種類，亦可填充遮罩材料9， 以填埋住幾乎整個噴嘴孔21。 遮罩材料9於下一工序[3]中，亦可為因紫外線照射而猶 «質者，但較好的是實質上不產生變質者。藉此，可更 力谷易且可罪地去除被加工膜7〇之不必要部分。 又，關於遮罩材料9，例如列舉有經揮發去除者，以及藉 挑系m洗液（以水為主成分之清洗液）或有機溶劑而清洗 去除者，但較好的是使用_發去除者以及藉由水系清洗 液而清洗去除者1由制㈣作為遮罩㈣9,則於下述 工序⑷中’可使用簡單設備並以低成本去除遮罩材料9。 107043.doc -16- 1294357 關於L揮發去除之遮罩材料9，可使用如下之各種有機溶 媒，或者包含其等之混合溶媒的液狀物質··例如，水、四 氯化碳、碳酸乙烯酯等無機溶媒，甲基乙基酮（ΜΕΚ)、丙 酮、二乙基酮、甲基異丁基酮（ΜΙΒΚ)、甲基異丙基酮 (ΜΙΡΚ)、環己酮等酮系溶媒，甲醇、乙醇、異丙醇、乙二 醇一乙一醇（deg)、丙二醇等醇系溶媒，二乙驗、二異丙 醚、1，2-一甲氧基乙烷（DME)、丨，4_二氧雜環已烷、四氫呋 喃（THF)、四氫吡喃（THp)、苯甲醚、二乙二醇二甲醚 (diglyme)、二乙二醇乙醚（卡必醇）等醚系溶媒，甲基溶纖 劑、乙基溶纖劑、苯基溶纖劑等溶纖劑系溶媒，己烷、戊 烷、庚烷、環己烷等脂肪烴系溶媒，甲苯、二甲苯、苯等 芳香煙系溶媒，啦啶、吡嗪、呋喃、吡咯、噻吩、甲基吡 咯烷酮等芳香雜環化合物系溶媒，N，队二甲基甲醯胺 (DMF)、N，N-二甲基乙醯胺（DMA)等胺系溶媒，二氯甲烷、 氣仿、1，2-二氣乙烷等鹵素化合物系溶媒，乙酸乙酯、乙酸 甲s曰、曱酸乙酯等酯系溶媒，二甲基亞砜（dms〇)、環丁砜 等硫化合物系溶媒，乙腈、丙腈、丙烯腈等腈系溶媒，以 及甲酉夂、乙酸、二氣乙酸、三說乙酸等有機酸系溶媒。 該等遮罩材料9亦可根據被加工膜7〇(撥液膜7)之構成材 料的種類進行選擇，即，選擇難以使被加工膜7〇膨脹或溶 解者。 再者，於上述物質中，較好的是例如以蒸餾水、離子交 換水、純水、超純水、化〇水等各種水為主成分者，作為可 經揮發去除之遮罩材料9。該等物質由於較容易吸收所透過 107043.doc -17- 1294357 之糸外線且較易使其衰減，尤其，廉價且較易獲得，並且 可簡單地揮發去除，故而較好。 方面’可任思使用水溶性高分子以及水溶性低分 子作為由水系清洗液而清洗去除之遮罩材料9，而以水溶 险呵刀子為主成分之固狀物較佳。該遮罩材料9較容易吸收 所透過之紫外線且較易使其衰減，則於自噴嘴孔21内將其 去除時，可比較容易地去除，故而較好。 關於該水溶性高分子，可列舉例如，澱粉、膠原、纖維 素、結晶纖維素、甲基纖維素、羥丙基纖維素、羥甲基丙 基纖維素、乙基纖維素、m纖維素、聚丙賴納、竣 甲基纖維素或其鹽，聚乙烯醇、&乙烯吡咯烷酮、羧基乙 烯基聚合物、烧基改性祕乙烯基聚合物、㈣酸甲基丙 烯酸烷基共聚物、硫酸軟骨素、玻尿酸、黏液素、硫酸皮 膚素、肝磷脂、硫酸角質素般之黏多糖類或其鹽，海藻酸 ^其鹽，阿拉伯樹膠、壤脂、普魯蘭、角叉菜膠、刺槐豆 膠一仙膠、甲殼素、水解曱殼素、明膠等，並且可將該 4中1種或者2種以上加以組合後使用。 關於將遮草材料9填充（供給）至噴嘴孔則之方法，列舉 有例如旋轉塗布法、喷墨法等。根據該方法，可將遮罩材 料9可靠地（選擇性地）填充至噴嘴孔21内。 再者，此日夺，於液狀遮罩材料9之情形時，可直接使用遮 罩材料9’或者，於固狀遮罩材料9之情形時，可對包含遮 罩材料9之溶液或分散液進行調整後使用。 [3]不必妻部分去除工序（第3工序） 107043.doc -18- 1294357 其次，自與油墨喷出口 211相反側（噴嘴孔21之他端側）， 對噴嘴板2進行紫外線照射。 於此，於圖5中表示去除被加工膜7〇時所使用之一例紫外 線照射裝置。 圖5所示之紫外線照射裝置1〇〇構成為於腔室1〇1内，設置 有載置有喷嘴板2之基板載置台丨〇2，以及使紫外線丨〇4照射 至微小區域之紫外線照射頭（紫外線照射機構）丨〇3。 糸外線照射頭103，以與載置於基板載置台i 〇2之喷嘴板2 之間保持固定間隔之方式受到支持，且可於大致與喷嘴板2 之上面23平行之方向上進行移動操作。 藉由该紫外線照射裝置丨〇〇，而去除形成於噴嘴板2之上 面23以及喷嘴孔21内周面212之局部區域212&以外之區域 212b上的被加工膜7〇時，使紫外線照射頭1〇3成為οχ(接通） 狀怨，並相對噴嘴板2之上面23大致平行地進行掃描。 如圖5所示，若紫外線1〇4自紫外線照射頭1〇3照射至喷嘴 板2之上面23，則藉由紫外線丨〇4而分解並去除形成於喷嘴 板2之上面23的被加工膜7〇。 又’如圖6(a)所示’若使紫外線104照射至喷嘴孔21内， 貝J自遮罩材料9露出（不存在遮罩材料9之區域）之被加工膜 70，直接文到紫外線丨〇4照射而分解，並自噴嘴孔2丨内周面 2 12上去除。 又’此時，一部分紫外線104透過遮罩材料9上端附近， 亦使存在於該部分之被加工膜70分解並去除，但於透過遮 罩材料9之過程中，逐步由遮罩材料9吸收並衰減，故而無 107043.doc •19- 1294357 法分解存在於遮罩材料9下端側之被加工膜7〇。 繼而，使此種紫外線104之照射持續固定時間，藉此留下 存在於局部區域212a之被加工膜70 ’而去除形成於其上側 之區域212b之被加工膜70。 對整個喷嘴板2之上面23以及各噴嘴孔21實施如此之紫 外線照射，藉此如目_所*，留下形成於喷嘴板2油墨喷 出口 211側之面22及側面24,與各噴嘴孔21内周面212之局 部區域212a上的被加工膜70,而去除不必要之被加工膜 70。藉此，獲得撥液膜7。 又，於喷嘴孔21之内周面212上形成：於其長度方向上存 在撥液膜7’且相對於油墨濡濕性較低之疏液性區域；以及 不存在撥液膜7(已去除被加工膜70)，且相對於油墨濡濕性 較高之親液性區域。於本實施形態中，可藉由適當對本工 序[3]之遮罩材料9之種類、紫外線104之波長、紫外線ι〇4 之照度以及紫外線104之照射時間（紫外線照射頭1〇3之掃 描速度）等進行組合並調整，而可任意地設定疏液性區域與 親液性區域之邊界位置。 再者，亦可根據需要，去除形成於噴嘴板2之側面24的被 加工膜70。 該紫外線照射所使用之紫外線104波長較好的是25〇 nm 以下，更好的是200 nm以下。藉由使用此種波長之紫外線 1 〇4 ’可更加可靠地分解並去除被加工膜7〇。 再者，關於被加工膜70(撥液膜7)之構成材料，於使用 OPTOOL DSX(大金(DAIKIN)工業股份有限公司製造）之情 107043.doc -20- 1294357 形時，較好的是使用172nm波長之紫外線m。又，此時 較好的是使用以水為主成分的物f作為遮罩材料9。 紫外線1G4之照度較好的是丨,w/em2左右，更好的是 5〜25 WW左右。藉此’可更加高效地分解並去除被加工 膜70 〇 又，紫外線照射頭103之掃描速度較好的是卜乃mm/sec 左右’更好的是5〜20 mm/sec左右。 紫外線照射頭103與喷嘴板2之間隔距離（圖5中為G)較好 的是1〜50 _左右，更好的是yog左右。藉此，可進一 步k兩被加工膜7〇之分解效率（處理效率）。 腔室101内之環境壓力既可為大氣壓，亦可為減壓狀態， 而較好的是使之為大氣壓。#，較好的是於大氣壓下進行 紫外線照射。藉此，由於無需減壓泵，故而有利於削減喷 嘴板2之製造成本，進而有利於減少喷墨頭1〇3之製造成本。 又，腔至101内之環境，可任意為例如大氣環境、氮氣環 境、惰性氣體環境等，而較好的是如氮氣環境或惰性氣體 環境般或乎不含水蒸氣，或水蒸氣量極少之環境。藉此， 可防止由環境中之水蒸氣吸收紫外線1〇4，並防止紫外線之 衰減。其結果，可於喷嘴板2之各部分上均勻地（無不均地） 分解並去除被加工膜70。 其中，關於環境，尤其妤的是氮氣環境。由於氮氣易獲 得且廉價’故而較好。 [4]遮罩材料去除工序（第4工序） 其次’自基板载置台1 〇2拆除喷嘴板2，並自噴嘴板剝離 107043.doc -21- 1294357 薄膜材料10。繼而，如圖6(c)所示，去除殘存於噴嘴孔21 内部之遮罩材料9。 遮罩材料9之去除方法雖未特別限定’但例如，於使用液 狀物質作為遮罩材料9之情形時，可使用藉由室溫或者加熱 而揮發去除之方法，或藉由清洗液而清洗去除之方法，又， 於使用水溶性高分子作為遮罩材料9之情形時，可使用藉由 水系清洗液（以水為主成分之清洗液）而清洗去除之方法等。 再者，遮罩材料9之去除方法亦可根據遮罩材料9之種類 而適當地設定。例如，於遮罩材料9為以對水之溶解性較低 之樹脂材料為主成分者之情形時，去除遮罩材料9時，可使 用可溶解上述樹脂材料之有機溶劑，而並不使被加工膜 7〇(撥液膜7)溶解或者膨脹。 如上述般，於噴嘴板2之特定區域上形成撥液膜7。 若如此形成撥液膜7，則無需使用如感光性樹脂材料（抗 蝕劑材料）般之高價材料，故而可大幅降低形成撥液膜7時 所需成本。又，可一併於複數個喷嘴孔21内，均勻地形成 撥液膜7。 再者，於本實施形態中，雖就利用因遮罩材料9所造成之 i外線104之衰減以及遮罩材料9之有無，而於噴嘴孔21内 周面212之局部區域212a上形成撥液膜7之情形加以表示， 然而於本發明中，亦可主要利用因遮罩材料9所造成之紫外 線104之衰減，而於噴嘴孔21内周面212之局部區域21以上 形成撥液膜7。 此可藉由如下方式進行，即組合使用紫外線丨與遮罩材 107043.doc -22- 1294357 料9則吏兔外線！ 〇4對遮罩材料9之透過性變得相對較高 並且填充遮罩材料9,以填埋住幾乎整個噴嘴孔Η。 [5]基板接合工序 其次，準備預先製作好之空腔板3以及電極板4。 使喷嘴板2之上面（與油墨噴出口叫相反侧之 面）23’與空腔板3之形成有段差側之面接合。 又，使電極板4之個別電極81側之面，與空腔板3之振動 板3 1側之面接合。 經過上述工序，噴墨頭1得以製造。 此種喷墨頭1搭载於圖7所示之噴墨印表機上（本發明之 液體供給裝置）。 圖1係表示使用本發明之液體供給裝置的噴墨印表機實 施形態之概略圖。 圖7所示之噴墨印表機9〇〇具有裝置本體92〇，且於盆上部 後方設有放置記㈣紙P之托盤921，於下部前方設:用於 排出記錄用紙P之出紙σ 922，而於上部面上設有操作 970 〇

2作面板970包含例如液晶顯示器、有機EL顯*器、LED 燈等，且具有顯示錯誤訊息#之顯㈣（未圖示），以及包括 各種開關等之操作部（未圖示）。 又，於裝置本體920之内部，主要含有：印刷裝置（印刷 機構）940,其具有往復移動之噴頭單元93〇;進紙裝置（進紙 機構）950’其將記錄用紙p逐張送人印刷裝置94Q;以及控 制部（控制機構）960，其對印刷裝置94〇及進紙裝置95〇進= 107043.doc -23 - 1294357 進紙裝置950,藉由控制部_之控制，逐張 錄用紙卜該記錄用紙p通過噴頭單元93〇之：迗記 時’噴頭單元930於與記錄用紙k輸送方向大致直^此 向上往復移動，由此對記錄用鮮進行印刷。即，噴=方 930之往復移動與記錄用紙p之間歇輸送，成為印刷之= 描及副掃描，由此進行噴墨方式之印刷。 ^

+印刷裝置940具有··噴頭單元93〇;托架馬達料卜其成為 喷頭單元930之驅動源；以及往復移動機構942，其受託架 馬達941運轉影響使噴頭單元93〇往復移動。 卞 噴頭單元930於其下部含有··喷墨頭1，其具有多數個喷 嘴孔2i(油墨喷出σ211);油墨卡匣％卜其將油墨供給至喷 墨頭1;以及托架932,其搭載喷墨頭i以及油墨卡厘931。 再者，使用填充有黃色、青色、洋紅色、黑色（黑）之4色 油墨者，作為油墨卡匣931，可進行全彩印刷。 往復移動機構942具有：托架導軸943，其兩端支持於框 架（未圖示）上；以及時規皮帶944，其與托架導軸943平行地 延展。 托架932往復移動自如地支持於托架導軸943，並且固定 於時規皮帶944之一部分上。 若藉由托架馬達941之作動，而介由滑輪使時規皮帶944 正反運轉，則噴頭單元930受託架導軸943引導而往復移 動。繼而’於該往復移動之際，自喷墨頭1喷出適當之油墨’ 由此對記錄用紙Ρ進行印刷。 107043.doc -24- 1294357 進紙裝置950且右· 4 μ β & 、 ^育·進紙馬達951，其成為進紙裝置之驅 動源，以及進紙衰輪 衷輪952，其糟由進紙馬達951之作動而轉 動0 進、氏滚輪952包含夾持記錄用紙p之傳送路徑（記錄用紙 p)且上下對向轉動之從動滾輪952&與驅動滾輪，驅動 滾輪952b連結於進紙馬達951。藉此，進紙滾輪952可將放 置於托盤921中之多數張記錄用紙p逐張送入印刷裝置 940。再者，亦可使用可固錢離自如地安裝容納記錄用紙 P之進紙匣的結構，代替托盤921。 控制部960,基於例如自個人電腦或數位相機等之主電腦 輸入之印刷資料，對印刷裝置94G或進紙裝置95g等進行控 制，藉此進行印刷。 控制部960之任何部位均未圖示，其主要包括對控制各部 分之控制程式等加以記憶的記憶體；將脈衝電壓施加至喷 墨頭1之個別電極81上，並對油墨之噴出時序進行控制的驅 動電路；驅動印刷裝置940(托架馬達941)的驅動電路；驅動 進紙裝置950(進紙馬達951)的驅動電路；獲得來自主電腦之 印刷資料的通訊電路；以及與該等電性連接並對各部分進 行各種控制之CPU。 又，於CPU上，分別電性連接有例如可檢測出油墨卡匿 931之油墨剩餘量以及喷頭單元93〇之位置等的各種傳感 器0 至記 控制部960介由通訊電路，獲得印刷資料並將其儲存 而各驅動電路基於該 憶體。CPU對該印刷資料進行處理 107043.doc -25- 1294357 处理貝料以及來自各種傳感器之輸入資料，輸出驅動訊 =。精由該驅動訊號，靜電致動器、印刷裝置94〇以及進紙 I置950各自作動。藉此，於記錄用紙p上進行印刷。 以上，關於本發明之成膜方法、液體供給頭及液體供給 、，已就圖示之實施形態加以說明，但本發明並非限定 於此等。 例如’藉由本發明之成膜方法而形成之膜並非限定於撥 液膜。 又’本發明之成膜方法，根據需要，可追加任意目的之 JCL 〇 又’本發明之液體供給頭可應用於例如，各種分配喷嘴 等具有細直徑之流路（貫通孔）的各種喷頭。 【圖式簡單說明】 圖1係表示將本發明之液體供給頭應用於噴墨頭之情形 時的貫施形態之縱剖面圖。 圖2係用以說明圖1所示之喷墨頭之製造方法的圖式。 圖3係用以說明圖1所示之喷墨頭之製造方法的圖式。 圖4(a)〜(c)係用以說明圖1所示之喷墨頭之製造方法的圖 式。 圖5係用以說明圖1所示之喷墨頭之製造方法的圖式。 圖6U)〜(c)係用以說明圖1所示之喷墨頭之製造方法的圖 式。 圖7係表示使用本發明之液體供給裝置之噴墨印表機的 實施形態之概略圖。 107043.doc -26- 1294357 【主要元件符號說明】

1 喷墨頭 2 喷嘴板 21 喷嘴孔 211 油墨喷出口 212 内周面 212a 局部區域 212b 區域 22 油墨喷出口側之面 23 上面 24 側面 3 空腔板 31 振動板 4 電極板 5 空隙 51 油墨喷出室 52 節流孔 53 儲墨區 54 油墨取入口 6 墨滴 7 撥液膜 70 被加工膜 8 振動室 81 個別電極 107043.doc -27- 1294357 9 10 100 101 102 103 104 900 • 920 921 922 930 931 932 940 941

943 944 950 951 952 952a 952b 107043.doc 遮罩材料 薄膜材料 紫外線照射裝置 腔室 基板載置台 紫外線照射頭 紫外線 喷墨印表機 裝置本體 托盤 出紙口 喷頭單元 油墨卡匣 托架 印刷裝置 托架馬達 往復移動機構 托架導軸 時規皮帶 進紙裝置 進紙馬達 進紙滾輪 從動滾輪 驅動滾輪 -28- 1294357 960 控制部 970 操作面板 P 記錄用紙 107043.doc -29-

Claims (1)

1294357 十、申請專利範圍： L 種成膜方法，其特徵在於··其係於基材上所設有之貫 通孔内周面的自一端朝向他端之特定長度的局部區域上 形成膜之成膜方法，且具有·· 第1工序，其於包含上述貫通孔内周面之上述局部區域 上形成用以獲得上述膜之被加工膜； 第2工序，其將具有紫外線吸收性之遮罩材料填充至上 述貫通孔内； 第3工序，其自上述貫通孔之他端側對上述基材進行紫 外線照射，並利用透過上述遮罩材料時之上述紫外線之 衣減戈者亥哀減及上述遮罩材料之有無，而去除受到上 述紫外線照射之上述被加工膜，藉此留下存在於上述局 部區域之上述被加工膜而獲得上述膜；以及 第4工序，其去除殘存於上述貫通孔内之上述遮罩材 料。 2·如請求項1之成膜方法，其中於上述第1工序中，使用含 有上述膜之構成材料之液體形成上述被加工膜。 3.如請求項1之成膜方法，其中於上述第3工序中，於大氣 壓下進行上述紫外線照射。 4·如請求項丨之成膜方法，其中於上述第3工序中，於氮氣 環境下進行上述紫外線照射。 5·如請求項1之成膜方法，其中於上述第3工序中，以使照 射上述紫外線之紫外線照射機構與上述基材間隔i〜5〇 mm之狀態，進行上述紫外線照射。 107043.doc 1294357 其中上述紫外線之波長為250 nm 6·如請求項1之成膜方法 以下。 如請求項1之成膜方法，其中上述紫外線之照度為卜5〇 W/cm2 ° 8·如請求項1之成膜方法，盆φ卜汁、危贾u 〆也你 具平上述遮罩材料係實質上不會 因上述紫外線照射而變質者。 θ 9·如睛求項1之成膜方法，其中上述遮罩材料係可經揮發去 除者。 10.如請求们之成膜方法，其中上述遮罩材料係由以水為主 成分之清洗液清洗去除者。 il·如睛求項1之成膜方法’其中上述遮罩材料係、以水為主成 分者。 12·如請求们之錢方法，其巾上述遮罩材料似水溶性高 分子為主成分者。 如明求項1之成膜方法，其中上述貫通孔一端側之開口面 積（平均）為75〜750000 μιη2。 14·如請求項丨之成膜方法，其中於上述第丨工序中，將上述 被加工膜形成於上述貫通孔内周面及上述基材表面上， 並將上述膜連續形成於上述貫通孔内周面之上述局部區 域與上述基材之上述貫通孔一端側之面上。 15.種液體供給頭，其特徵在於具有：喷頭本體，其設有 使液體通過之流路，且該流路一方之開口構成排出上述 液體的排出口；以及 撥液膜’其藉由請求項14之成膜方法，而連續形成於 107043.doc 1294357 上述流路内周面之排出D附近之局部區域與上述喷頭本 體之上述排出口側之面上。 16.如請求項15之液體 ,+ ，、、、Ό員，其中具有可使上述液體作為 液滴而自上述排出口 17· -種液體供給裴置 /之’排出機構。 給頭。 一特徵在於具有請求項15之液體供

107043.doc