JP2006181725A - 成膜方法、液体供給ヘッドおよび液体供給装置 - Google Patents

成膜方法、液体供給ヘッドおよび液体供給装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006181725A
JP2006181725A JP2004374495A JP2004374495A JP2006181725A JP 2006181725 A JP2006181725 A JP 2006181725A JP 2004374495 A JP2004374495 A JP 2004374495A JP 2004374495 A JP2004374495 A JP 2004374495A JP 2006181725 A JP2006181725 A JP 2006181725A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
forming method
film forming
mask material
hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004374495A
Other languages
English (en)
Inventor
Shintaro Asuke
慎太郎 足助
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2004374495A priority Critical patent/JP2006181725A/ja
Priority to TW094144291A priority patent/TWI294357B/zh
Priority to US11/312,979 priority patent/US7641943B2/en
Priority to KR1020050128272A priority patent/KR100744894B1/ko
Priority to CNB2005101340730A priority patent/CN100404260C/zh
Publication of JP2006181725A publication Critical patent/JP2006181725A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/14Structure thereof only for on-demand ink jet heads
    • B41J2/14314Structure of ink jet print heads with electrostatically actuated membrane
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/14Structure thereof only for on-demand ink jet heads
    • B41J2/1433Structure of nozzle plates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1606Coating the nozzle area or the ink chamber
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/162Manufacturing of the nozzle plates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/1623Manufacturing processes bonding and adhesion
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/164Manufacturing processes thin film formation
    • B41J2/1642Manufacturing processes thin film formation thin film formation by CVD [chemical vapor deposition]
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/164Manufacturing processes thin film formation
    • B41J2/1643Manufacturing processes thin film formation thin film formation by plating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/164Manufacturing processes thin film formation
    • B41J2/1645Manufacturing processes thin film formation thin film formation by spincoating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/164Manufacturing processes thin film formation
    • B41J2/1646Manufacturing processes thin film formation thin film formation by sputtering

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

【課題】基材に設けられた貫通孔の内周面の局所領域に、簡易な工程・設備を用いながら、低コストで膜を形成することができる成膜方法、かかる成膜方法により形成された撥液膜を備える液体供給ヘッド、この液体供給ヘッドを備えた液体供給装置を提供すること。
【解決手段】本発明の成膜方法は、ノズル板2のインク吐出口211側の面22と、ノズル孔21の内周面212の局所領域212aとに連続して形成された撥液膜7を、ノズル孔21の内周面212およびノズル板2のほぼ全面に被加工膜を形成する工程と、ノズル孔21内に紫外線吸収性を有するマスク材を充填する工程と、ノズル板2の上面23側から紫外線照射を行って、マスク材を透過する際の紫外線の減衰およびマスク材の有無を利用して、紫外線により照射された被加工膜を除去して撥液膜7を得る工程と、ノズル孔21内に残存するマスク材を除去する工程とにより形成する。
【選択図】図1

Description

本発明は、成膜方法、液体供給ヘッドおよび液体供給装置に関するものである。
インクジェットヘッド(液体供給ヘッド)は、微細なノズル孔が微小間隔を隔てて複数形成されたノズル板を有し、ノズル孔の一方の開口(インク吐出口)からインク滴を吐出させ、印刷紙に着弾させることによって印刷を行う。
このようなインクジェットヘッドでは、ノズル板のインク吐出口側の面にインクが付着すると、その後に吐出されたインクの噴出軌道が、付着したインクの表面張力や粘性等の影響を受けて曲げられてしまい、所定の位置にインクが着弾できないという問題が生じる。
このため、ノズル板のインク吐出口側の面と、ノズル孔の内周面のインク吐出口近傍に、フッ素系樹脂等で構成される撥液膜を形成することが行われている。
このような撥液膜の形成は、例えば、次のようにして行われる(例えば、特許文献1参照。)。
まず、ノズル板を用意し、そのインク吐出口と反対側の面に、光により硬化する感光性樹脂フィルムをラミネートする。
次に、この感光性樹脂フィルムを、圧力を加えつつ加熱する。これにより、ノズル板の裏面に感光性樹脂フィルムが熱圧着されるとともに、ノズル孔に対応する部分の感光性樹脂フィルムの一部が、ノズル孔内に入り込む。
次に、紫外線を照射し、感光性樹脂フィルムを硬化させる。
次に、ノズル板を、例えば、ニッケルイオンとフッ素系樹脂とを電荷により分散させた電解溶液中に浸漬し、攪拌する。これにより、ノズル板の感光性樹脂フィルムで覆われていない部分、すなわち、ノズル板のインク吐出口側の面と、ノズル孔の内周面のインク吐出口近傍に共析メッキ層が形成される。
次に、感光性樹脂フィルムを、溶媒により溶解除去した後、共析メッキ層を構成するフッ素系樹脂の融点以上の温度で、ノズル板を加熱する。
以上の工程により、ノズル板のインク吐出口側の面と、ノズル孔の内周面のインク吐出口近傍に撥液膜が形成される。
しかしながら、以上のような撥液膜の形成方法では、撥液膜を形成しない領域を、感光性樹脂フィルムを使用するため、撥液膜を形成するための工程の他に、感光性樹脂フィルムをノズル板に熱圧着する工程、感光性樹脂フィルムを硬化させる工程や、感光性樹脂フィルムを溶解除去する工程を行わなければならない。
これらの工程は、複雑であり、また、各工程を行うための設備が必要となる。しかも、感光性樹脂フィルム自体が高価であり、このようなことから、製造コストがかかるといった問題がある。
特開平7−125220号公報
本発明の目的は、基材に設けられた貫通孔の内周面の局所領域に、簡易な工程・設備を用いながら、低コストで膜を形成することができる成膜方法、および、かかる成膜方法により形成された撥液膜を備える液体供給ヘッド、および、この液体供給ヘッドを備えた液体供給装置を提供することにある。
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の成膜方法は、基材に設けられた貫通孔の内周面の、一端から他端に向かう所定長さの局所領域に膜を形成する成膜方法であって、
前記貫通孔の内周面の前記局所領域を含む領域に、前記膜を得るための被加工膜を形成する第1の工程と、
前記貫通孔内に、紫外線吸収性を有するマスク材を充填する第2の工程と、
前記貫通孔の他端側から、前記基材に対して紫外線照射を行って、前記マスク材を透過する際の前記紫外線の減衰、または、該減衰および前記マスク材の有無を利用して、前記紫外線により照射された前記被加工膜を除去することにより、前記局所領域に存在する前記被加工膜を残して前記膜を得る第3の工程と、
前記貫通孔内に残存する前記マスク材を除去する第4の工程とを有することを特徴とする。
これにより、基材に設けられた貫通孔の内周面の局所領域に、簡易な工程・設備を用いながら、低コストで膜を形成することができる。
本発明の成膜方法では、前記第1の工程において、前記被加工膜を、前記膜の構成材料を含有する液体を用いて形成することが好ましい。
かかる方法(液相成膜)によれば、被加工膜を容易かつ確実に形成することができる。
本発明の成膜方法では、前記第3の工程において、前記紫外線照射を、大気圧下で行うことが好ましい。
これにより、減圧ポンプが不要となるので、膜の製造コストの削減に有利となる。
本発明の成膜方法では、前記第3の工程において、前記紫外線照射を、窒素ガス雰囲気で行うことが好ましい。
これにより、雰囲気中の水蒸気に紫外線が吸収され、減衰するのを防止することができる。その結果、被加工膜を基材の各部において均一に(ムラなく)分解・除去することができる。
本発明の成膜方法では、前記第3の工程において、前記紫外線照射を、前記紫外線を照射する紫外線照射手段と前記基材とを、1〜50mm離間させた状態で行うことが好ましい。
これにより、被加工膜の分解効率(処理効率)をより高めることができる。
本発明の成膜方法では、前記紫外線の波長は、250nm以下であることが好ましい。
このような波長の紫外線を用いることにより、被加工膜をより確実に分解・除去することができる。
本発明の成膜方法では、前記紫外線の照度は、1〜50W/cmであることが好ましい。
これにより、被加工膜をより効率よく分解・除去することができる。
本発明の成膜方法では、前記マスク材は、前記紫外線照射により、実質的に変質しないものであることが好ましい。
これにより、被加工膜の不要部分の除去をより容易かつ確実に行うことができる。
本発明の成膜方法では、前記マスク材は、揮発除去されるものであることが好ましい。
これにより、第4の工程において、マスク材の除去を、簡易な設備を使用して低いコストで行うことができる。
本発明の成膜方法では、前記マスク材は、水を主成分とする洗浄液により洗浄除去されるものであることが好ましい。
これにより、第4の工程において、マスク材の除去を、簡易な設備を使用して低いコストで行うことができる。
本発明の成膜方法では、前記マスク材は、水を主成分とするものであることが好ましい。
このものは、透過する紫外線を比較的容易に吸収して減衰させ易く、特に、安価かつ入手が容易であり、また、容易に揮発除去し得ることから好ましい。
本発明の成膜方法では、前記マスク材は、水溶性高分子を主成分とするものであることが好ましい。
このものは、透過する紫外線を比較的容易に吸収して減衰させ易く、これをノズル孔内から除去する際には、比較的容易に除去可能であることから好ましい。
本発明の成膜方法では、前記貫通孔の一端側の開口面積(平均)は、75〜750000μmであることが好ましい。
このような極小の貫通孔の内周面に膜を形成する場合に、本発明の成膜方法を適用するのが好適である。これにより、貫通孔の内周面の局所領域に、膜を容易かつ確実に形成することができる。
本発明の成膜方法では、前記第1の工程において、前記被加工膜を、前記貫通孔の内周面および前記基材の表面に形成し、前記膜を前記貫通孔の内周面の前記局所領域と、前記基材の前記貫通孔の一端側の面とに連続して形成することが好ましい。
本発明の液体供給ヘッドは、液体が通過する流路が設けられ、該流路の一方の開口が前記液体を排出する排出口を構成するヘッド本体と、
本発明の成膜方法により、前記流路の内周面の排出口近傍の局所領域と、前記ヘッド本体の前記排出口側の面とに連続して形成された撥液膜とを備えることを特徴とする。
これにより、液体を目的の箇所に確実かつ均一に供給し得る液体供給ヘッドが得られる。
本発明の液体供給ヘッドでは、前記液体を前記排出口から液滴として吐出可能な液滴吐出手段を備えることが好ましい。
本発明の液体供給装置は、本発明の液体供給ヘッドを備えることを特徴とする。
これにより、液体を目的の箇所に確実かつ均一に供給し得る液体供給装置が得られる。
以下、本発明の成膜方法、液体供給ヘッドおよび液体供給装置を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明の液体供給ヘッドをインクジェットヘッドに適用した場合の実施形態について説明する。なお、インクジェットヘッドとして、本実施形態では静電駆動方式を採用するものを例に説明するが、これに限定されず、例えば、圧電駆動方式等の他の駆動方式を採用するものであってもよい。
図1は、本発明の液体供給ヘッドをインクジェットヘッドに適用した場合の実施形態を示す縦断面図である。
なお、図1は、通常使用される状態とは、上下逆に示されている。また、以下では、説明の便宜上、図1中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
図1に示すインクジェットヘッド1は、静電駆動方式のインクジェットヘッドである。
このインクジェットヘッド1は、ノズル板2、キャビティ板3および電極板4とで構成されるヘッド本体を有しており、キャビティ板3を挟むようにしてノズル板2と電極板4が配置されている。
キャビティ板3には、複数の段差が設けられ、ノズル板2とキャビティ板3との間に空隙5が画成(形成)されている。
この空隙5は、各々区切られた複数のインク吐出室51と、インク吐出室51の後部に設けられたオリフィス52と、各インク吐出室51にインクを供給する共通のリザーバ53とを有しており、リザーバ53の下部には、インク取込口54が設けられている。
キャビティ板3のインク吐出室51に対応する部分は、薄肉とされており、インク吐出室51の圧力を変動させる振動板31として機能する。
また、ノズル板2には、インク吐出室51に連通する、複数のノズル孔(貫通孔)21が形成されている。各ノズル孔21は、それぞれ、インク吐出室51に供給されたインク(液体)が通過する流路を構成する。
また、このノズル孔21の上方(一方)の開口は、インクをインク滴(液滴)6として吐出(排出)するインク吐出口(排出口)211を構成する。
そして、このノズル板2には、インク吐出口211側の面22と、ノズル孔21の内周面212のインク吐出口211の近傍の局所領域、すなわち、ノズル孔21の内周面212の、上端(一端)から下端(他端)に向かう所定長さ(所定深さ)の局所領域212aとに連続して、撥液膜7が形成されている。
この撥液膜7は、ノズル板2の表面よりも、インクに対して高い撥液性(例えば、接触角が90°以上)を示す膜である。インクとして水溶性のものを使用する場合には、ノズル板2の表面よりも撥水性の高い膜が形成され、インクとして疎水性(親油性)のものを使用する場合には、ノズル板2の表面よりも親水性の高い膜が形成される。
この撥液膜7が形成されていることにより、インク吐出口211の周囲にインクが付着するのが防止され、インク滴6が、ノズル孔21の軸線方向と略一致するように安定に噴出される。
撥液膜7として撥水性膜を形成する場合、これは、例えば、フルオロアルキル基、アルキル基、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、メタクリロキシ基等の撥水性官能基を有する各種カップリング剤、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、パーフルオロエチレン−プロペン共重合体(FEP)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)、パーフロロアルキルエーテルのようなフッ素系樹脂、シリコーン樹脂等の各種撥水性樹脂材料等を用いて形成することができる。
なお、撥水性膜の構成材料の市販品としては、例えば、オプツールDSX(ダイキン工業株式会社製)等を用いることができる。
一方、撥液膜7として親水性膜を形成する場合、これは、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の親水性官能基を有する各種カップリング剤、ポリビニルアルコール等の各種親水性樹脂材料等を用いて形成することができる。
なお、これらは、撥水性膜または親水性膜を形成するための代表的な材料の例示であり、前記材料により形成された膜には、撥水性および親水性の双方の性質を示すものもある。
撥液膜7の平均厚さは、特に限定されないが、0.01〜20μm程度であるのが好ましく、0.01〜0.3μm程度であるのがより好ましい。
このような撥液膜7の形成に、本発明の成膜方法が適用される。なお、撥液膜7の形成方法(本発明の成膜方法)については後述する。
また、インク吐出口211(ノズル孔21の一端側の開口)の開口面積(平均)は、特に限定されないが、75〜750000μm程度であるのが好ましく、300〜8000μm程度であるのがより好ましい。このような細径のノズル孔21の内周面212に撥液膜7を形成する場合に、本発明の成膜方法を適用するのが好適である。これにより、ノズル孔21の内周面212の局所領域212aに、撥液膜7を容易かつ確実に形成することができる。
電極板4は、キャビティ板3のノズル板2と反対側の面に接合されている。
電極板4は、振動板31と対向する部分に凹部が形成されており、振動板31との間に振動室8が形成されている。この振動室8の下面には、振動板31に対向する各々の位置に個別電極81が設けられている。
このインクジェットヘッド1では、振動板31、振動室8および個別電極81により、静電アクチュエータ(液滴吐出手段)が構成されている。
このようなインクジェットヘッド1では、発信回路により、個別電極81にパルス電圧を印加すると、個別電極81の表面がプラスに帯電し、それに対応する振動板31の下面がマイナス電位に帯電する。これにより発生する静電気の吸引作用によって、振動板31は下方へ撓む。
この状態で、パルス電圧をOFFすると、個別電極81と振動板31に蓄えられた電荷を急激に放電し、振動板31自体の弾性力で振動板31は、ほぼ元の形状に復元する。
このとき、インク吐出室51内の圧力が急激に上昇し、ノズル孔21より記録紙(記録用紙P)に向けてインク滴6が吐出される。
そして、振動板31が再び下方へ撓むことにより、インクがリザーバ53よりオリフィス52を通じてインク吐出室51内に補給される。
このようなインクジェットヘッド1は、例えば、次のようにして製造することができる。
図2〜図6は、それぞれ、図1に示すインクジェットヘッドの製造方法を説明するための図であり、図2は、インクジェットヘッドが備えるノズル板の上面図、図3〜図6は、それぞれ、ノズル板の図1中のA−A線縦断面図である。また、図5には、紫外線照射装置の一例を模式的に示してある。
なお、図3〜図6は、いずれも、図1に示すノズル板とは上下が逆に示されている。また、以下では、説明の便宜上、図3〜図6中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
図3〜図6に示すインクジェットヘッドの製造方法は、[1]被加工膜形成工程、[2]マスク材充填工程、[3]不要部分除去工程、[4]マスク材除去工程、[5]基板接合工程とを有しており、このうち、工程[1]〜[4]に、本発明の成膜方法が適用されている。
以下、各工程について、順次説明する。
[1]被加工膜形成工程(第1の工程)
まず、図2および図3に示すように、ノズル孔21が微小間隔を隔てて複数形成されたノズル板(基材)2を用意する。
ノズル板2としては、例えば、金属、セラミックス、シリコン、ガラス、プラスチック等で構成されたものを用いることができる。このうち、特にチタン、クロム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、スズ、金等の金属、またはニッケル−リン合金、スズ−銅−リン合金(リン青銅)、銅−亜鉛合金、ステンレス鋼等の合金、ポリカーボネート、ポリサルフォン、ABS樹脂(アクリルニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体)、ポリエチレンテレフタレート、ポリアセタール等で構成されたものを用いるのが好ましい。
次いで、図4(a)に示すように、ノズル孔21の内周面212のほぼ全面(局所領域212aを含む(包含する)領域)およびノズル板2の表面に、撥液膜7を得るための被加工膜70を形成する。
この被加工膜70の不要部分を、後工程[3]において除去することにより、撥液膜7が得られる。
被加工膜70は、例えば、前述したような撥液膜7の構成材料を含有する液体をノズル板2に接触させる方法、プラズマCVD、熱CVD、レーザーCVDのような化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式メッキ法等により形成することができる。
この中でも、被加工膜70は、特に、撥液膜7の構成材料を含有する液体をノズル板2に接触させる方法(液相成膜)により形成するのが好ましい。かかる方法によれば、被加工膜70を容易かつ確実に形成することができる。
また、この場合、ノズル板2と前記液体との接触は、例えば、前記液体にノズル板2を浸漬する方法(浸漬法)、前記液体をノズル板2に塗布する方法(塗布法)、前記液体をノズル板2にシャワー状に供給する方法等により行うことができる。
[2]マスク材充填工程(第2の工程)
次に、被加工膜70が形成されたノズル板2のノズル孔21内に、紫外線吸収性を有するマスク材9を充填(供給)する。
まず、図4(b)に示すように、被加工膜70が形成されたノズル板2のインク吐出口211側(ノズル孔21の一端側)の面22に、シート材10を着脱可能に装着する。これにより、ノズル孔21のインク吐出口211が閉塞される。
次いで、このノズル板2を、シート材10側を下方にして、紫外線照射装置100の基板載置用ステージ102に載置する。この紫外線照射装置100の構成については後述する。
なお、シート材10を省略して、ノズル板2のインク吐出口211側の面を、紫外線照射装置100の基板載置用ステージ102に、直接、吸着等させることにより、インク吐出口211を閉塞するようにしてもよい。ノズル板2を基板載置用ステージ102に吸着させる場合、基板載置用ステージ102としては、静電吸着機構や磁気吸着機構等のノズル板2を吸着する機構を有するものが用いられる。
なお、用いるマスク材9の粘度が高い等の理由により、ノズル孔21のインク吐出口211側(一端側)にまでマスク材9を充填し難い場合には、ノズル孔21内にマスク材9を充填した後に、シート材10の装着または基板載置用ステージ102への吸着を行うようにしてもよい。
次いで、図4(c)に示すように、ノズル孔21の上端(他端)からマスク材9を注入して、ノズル孔21内にマスク材9を充填する。
本実施形態では、局所領域(特定領域)212aを含む(包含する)領域の被加工膜70を覆うように(図示の例では、ノズル孔21の内周面212の所定領域212aより若干広い領域を覆うように)、マスク材9を充填する。
なお、マスク材9の種類によっては、マスク材9を、ノズル孔21内のほぼ全てを埋めるように充填してもよい。
マスク材9は、次工程[3]において紫外線照射により、若干変質するようなもまのであってもよいが、実質的に変質しないものが好ましい。これにより、被加工膜70の不要部分の除去をより容易かつ確実に行うことができる。
また、マスク材9としては、例えば、揮発除去されるもの、水系洗浄液(水を主成分とする洗浄液)や有機溶剤により洗浄除去されるもの等が挙げられるが、揮発除去されるもの、水系洗浄液により洗浄除去されるものが好ましい。マスク材9として、これらのものを用いることにより、後工程[4]において、マスク材9の除去を、簡易な設備を使用して低いコストで行うことができる。
揮発除去されるマスク材9としては、例えば、水、四塩化炭素、エチレンカーボネイト等の無機溶媒や、メチルエチルケトン(MEK)、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール(DEG)、グリセリン等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン(THP)、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグリム)、ジエチレングリコールエチルエーテル(カルビトール)等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環化合物系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMA)等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホラン等の硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸系溶媒のような各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等の液状のものを用いることができる。
これらのマスク材9は、被加工膜70(撥液膜7)の構成材料の種類に応じて、すなわち、被加工膜70を膨潤または溶解し難いものを選択するようにすればよい。
なお、前述したものの中でも、揮発除去されるマスク材9としては、例えば、蒸留水、イオン交換水、純水、超純水、RO水等の各種水を主成分とするものが好適である。これらのものは、透過する紫外線を比較的容易に吸収して減衰させ易く、特に、安価かつ入手が容易であり、また、容易に揮発除去し得ることから好ましい。
一方、水系洗浄液により洗浄除去されるマスク材9としては、水溶性高分子および水溶性低分子のいずれも用いることができるが、水溶性高分子を主成分とする固形状のものが好適である。このマスク材9は、透過する紫外線を比較的容易に吸収して減衰させ易く、これをノズル孔21内から除去する際には、比較的容易に除去可能であることから好ましい。
この水溶性高分子としては、例えば、デンプン、コラーゲン、セルロース、結晶セルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシメチルプロピルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリアクリル酸ナトリウム、カルボシキシメチルセルロースまたはその塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、アルキル変性カルボキシビニルポリマー、アクリル酸メタアクリル酸アルキル共重合体、コンドロイチン硫酸、ヒアルロン酸、ムチン、デルマタン硫酸、ヘパリン、ケラタン硫酸のようなムコ多糖類またはその塩、アルギン酸またはその塩、アラビアゴム、寒天、プルラン、カラギーナン、ローカストビーンガム、キサンタンガム、キチン、加水分解キチン、ゼラチン等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
マスク材9をノズル孔21内に充填(供給)する方法としては、例えば、スピンコート法、インクジェット法等が挙げられる。かかる方法によれば、マスク材9をノズル孔21内に確実に(選択的に)充填することができる。
なお、この場合、液状のマスク材9に場合には、マスク材9をそのまま、また、固形状のマスク材9の場合には、マスク材9を含む溶液または分散液を調整して用いるようにすればよい。
[3]不要部分除去工程(第3の工程)
次に、インク吐出口211と反対側(ノズル孔21の他端側)から、ノズル板2に対して紫外線照射を行う。
ここで、被加工膜70の除去に用いる紫外線照射装置の一例を、図5に示す。
図5に示す紫外線照射装置100は、チャンバー101内に、ノズル板2が載置される基板載置用ステージ102と、微小領域に紫外線104を照射する紫外線照射ヘッド(紫外線照射手段)103が設置されて構成されている。
紫外線照射ヘッド103は、基板載置用ステージ102に載置されたノズル板2との間で一定の間隔を保持するように支持され、ノズル板2の上面23に対して略平行な方向に移動操作し得るようになっている。
この紫外線照射装置100によって、ノズル板2の上面23と、ノズル孔21の内周面212の局所領域212a以外の領域212bとに形成された被加工膜70を除去するには、紫外線照射ヘッド103をON状態とし、ノズル板2の上面23に対して略平行に走査する。
図5に示すように、紫外線照射ヘッド103から、ノズル板2の上面23に紫外線104が照射されると、紫外線104により、ノズル板2の上面23に形成された被加工膜70が分解・除去される。
また、図6(a)に示すように、ノズル孔21内に紫外線104が照射されると、マスク材9から露出した(マスク材9が存在しない領域の)被加工膜70は、紫外線104に直接曝されることにより分解され、ノズル孔21の内周面212から除去される。
また、このとき、紫外線104の一部は、マスク材9の上端付近を透過し、この部分に存在する被加工膜70も分解・除去するが、マスク材9を透過するうちに徐々にマスク材9に吸収されて減衰し、マスク材9の下端側に存在する被加工膜70を分解することができなくなる。
そして、このような紫外線104の照射を一定時間継続することにより、局所領域212aに存在する被加工膜70を残して、これより上側の領域212bに形成された被加工膜70が除去される。
このような紫外線照射を、ノズル板2の上面23全体と、各ノズル孔21に対して施すことにより、図6(b)に示すように、ノズル板2のインク吐出口211側の面22および側面24と、各ノズル孔21の内周面212の局所領域212aとに形成された被加工膜70を残して、不要な被加工膜70が除去される。これにより、撥液膜7が得られる。
また、ノズル孔21の内周面212には、その長手方向に、撥液膜7が存在し、インクに対する濡れ性の低い撥液性領域と、撥液膜7が存在せず(被加工膜70が除去され)、インクに対する濡れ性の高い親液性領域とが形成される。本実施形態では、本工程[3]におけるマスク材9の種類、紫外線104の波長、紫外線104の照度、紫外線104の照射時間(紫外線照射ヘッド103の走査速度)等を適宜組み合わせて調整することにより、撥液性領域と親液性領域との境界位置を任意に設定することができる。
なお、必要に応じて、ノズル板2の側面24に形成された被加工膜70も除去するようにしてもよい。
この紫外線照射に用いられる紫外線104の波長は、250nm以下であるのが好ましく、200nm以下であるのがより好ましい。このような波長の紫外線104を用いることにより、被加工膜70をより確実に分解・除去することができる。
なお、被加工膜70(撥液膜7)の構成材料として、オプツールDSX(ダイキン工業株式会社製)を用いる場合には、172nmの波長の紫外線104が好適に用いられる。また、この場合、マスク材9には、水を主成分とするものが好適に用いられる。
紫外線104の照度は、1〜50W/cm程度であるのが好ましく、5〜25W/cm程度であるのがより好ましい。これにより、被加工膜70をより効率よく分解・除去することができる。
また、紫外線照射ヘッド103の走査速度は、1〜25mm/sec程度であるのが好ましく、5〜20mm/sec程度であるのがより好ましい。
紫外線照射ヘッド103とノズル板2との離間距離(図5中、G)は、1〜50mm程度であるのが好ましく、1〜30mm程度であるのがより好ましい。これにより、被加工膜70の分解効率(処理効率)をより高めることができる。
チャンバー101内の雰囲気圧力は、大気圧であってもよく、減圧状態であってもよいが、大気圧とするのが好ましい。すなわち、紫外線照射は、大気圧下で行うのが好ましい。これにより、減圧ポンプが不要となるので、ノズル板2の製造コストの削減、ひいては、インクジェットヘッド1の製造コストの削減に有利となる。
また、チャンバー101内の雰囲気は、例えば、大気や、窒素ガス雰囲気、不活性ガス雰囲気等のいずれであってもよいが、窒素ガス雰囲気や不活性ガス雰囲気のように、水蒸気を殆ど含まないか、水蒸気量の極めて少ない雰囲気が好ましい。これにより、雰囲気中の水蒸気に紫外線104が吸収され、減衰するのを防止することができる。その結果、被加工膜70をノズル板2の各部において均一に(ムラなく)分解・除去することができる。
中でも、雰囲気としては、特に、窒素ガス雰囲気が好ましい。窒素ガスは、入手が容易で、かつ、安価であることから好ましい。
[4]マスク材除去工程(第4の工程)
次に、ノズル板2を基板載置用ステージ102から取り外し、シート材10をノズル板から剥離する。そして、図6(c)に示すように、ノズル孔21の内部に残存するマスク材9を除去する。
マスク材9の除去方法は、特に制限されないが、例えば、マスク材9として、液状のものを用いた場合には、室温または加熱により揮発除去する方法や、洗浄液により洗浄除去する方法、また、マスク材9として水溶性高分子を用いた場合には、水系洗浄液(水を主成分とする洗浄液)により洗浄除去する方法等を用いることができる。
なお、マスク材9の除去方法は、マスク材9の種類に応じて、適宜設定するようにすればよい。例えば、マスク材9が水への溶解性が低い樹脂材料を主成分とするものである場合、マスク材9の除去には、被加工膜70(撥液膜7)を溶解または膨潤することなく、前記樹脂材料を溶解可能な有機溶剤を用いることができる。
以上のようにして、ノズル板2の所定の領域に撥液膜7が形成される。
このようにして撥液膜7を形成すれば、感光性樹脂材料(レジスト材料)のような高価な材料を用いることを要しないので、撥液膜7の形成に要するコストを大幅に低減することができる。また、複数のノズル孔21内に、一括で均一に撥液膜7を形成することができる。
なお、本実施形態では、マスク材9による紫外線104の減衰およびマスク材9の有無を利用して、ノズル孔21の内周面212の局所領域212aに撥液膜7を形成する場合について示したが、本発明では、マスク材9による紫外線104の減衰を主に利用して、ノズル孔21の内周面212の局所領域212aに撥液膜7を形成することもできる。
これは、紫外線104とマスク材9とを、紫外線104のマスク材9に対する透過性が比較的高くなるように組み合わせて用い、ノズル孔21内のほぼ全てを埋めるようにマスク材9を充填することにより行うことができる。
[5]基板接合工程
次に、予め作製しておいたキャビティ板3および電極板4を用意する。
そして、ノズル板2の上面(インク吐出口211と反対側の面)23と、キャビティ板3の段差が形成された側の面とを接合する。
また、電極板4の個別電極81側の面と、キャビティ板3の振動板31側の面とを接合する。
以上の工程を経て、インクジェットヘッド1が製造される。
このようなインクジェットヘッド1は、図7に示すようなインクジェットプリンタ(本発明の液体供給装置)に搭載される。
図7は、本発明の液体供給装置を適用したインクジェットプリンタの実施形態を示す概略図である。
図7に示すインクジェットプリンタ900は、装置本体920を備えており、上部後方に記録用紙Pを設置するトレイ921と、下部前方に記録用紙Pを排出する排紙口922と、上部面に操作パネル970とが設けられている。
操作パネル970は、例えば、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、LEDランプ等で構成され、エラーメッセージ等を表示する表示部(図示せず)と、各種スイッチ等で構成される操作部(図示せず)とを備えている。
また、装置本体920の内部には、主に、往復動するヘッドユニット930を備える印刷装置(印刷手段)940と、記録用紙Pを1枚ずつ印刷装置940に送り込む給紙装置(給紙手段)950と、印刷装置940および給紙装置950を制御する制御部(制御手段)960とを有している。
制御部960の制御により、給紙装置950は、記録用紙Pを一枚ずつ間欠送りする。この記録用紙Pは、ヘッドユニット930の下部近傍を通過する。このとき、ヘッドユニット930が記録用紙Pの送り方向とほぼ直交する方向に往復移動して、記録用紙Pへの印刷が行なわれる。すなわち、ヘッドユニット930の往復動と記録用紙Pの間欠送りとが、印刷における主走査および副走査となって、インクジェット方式の印刷が行なわれる。
印刷装置940は、ヘッドユニット930と、ヘッドユニット930の駆動源となるキャリッジモータ941と、キャリッジモータ941の回転を受けて、ヘッドユニット930を往復動させる往復動機構942とを備えている。
ヘッドユニット930は、その下部に、多数のノズル孔21(インク吐出口211)を備えるインクジェットヘッド1と、インクジェットヘッド1にインクを供給するインクカートリッジ931と、インクジェットヘッド1およびインクカートリッジ931を搭載したキャリッジ932とを有している。
なお、インクカートリッジ931として、イエロー、シアン、マゼンタ、ブラック(黒)の4色のインクを充填したものを用いることにより、フルカラー印刷が可能となる。
往復動機構942は、その両端をフレーム(図示せず)に支持されたキャリッジガイド軸943と、キャリッジガイド軸943と平行に延在するタイミングベルト944とを有している。
キャリッジ932は、キャリッジガイド軸943に往復動自在に支持されるとともに、タイミングベルト944の一部に固定されている。
キャリッジモータ941の作動により、プーリを介してタイミングベルト944を正逆走行させると、キャリッジガイド軸943に案内されて、ヘッドユニット930が往復動する。そして、この往復動の際に、インクジェットヘッド1から適宜インクが吐出され、記録用紙Pへの印刷が行われる。
給紙装置950は、その駆動源となる給紙モータ951と、給紙モータ951の作動により回転する給紙ローラ952とを有している。
給紙ローラ952は、記録用紙Pの送り経路(記録用紙P)を挟んで上下に対向する従動ローラ952aと駆動ローラ952bとで構成され、駆動ローラ952bは給紙モータ951に連結されている。これにより、給紙ローラ952は、トレイ921に設置した多数枚の記録用紙Pを、印刷装置940に向かって1枚ずつ送り込めるようになっている。なお、トレイ921に代えて、記録用紙Pを収容する給紙カセットを着脱自在に装着し得るような構成であってもよい。
制御部960は、例えばパーソナルコンピュータやディジタルカメラ等のホストコンピュータから入力された印刷データに基づいて、印刷装置940や給紙装置950等を制御することにより印刷を行うものである。
制御部960は、いずれも図示しないが、主に、各部を制御する制御プログラム等を記憶するメモリ、インクジェットヘッド1の個別電極81にパルス電圧を印加して、インクの吐出タイミングを制御する駆動回路、印刷装置940(キャリッジモータ941)を駆動する駆動回路、給紙装置950(給紙モータ951)を駆動する駆動回路、および、ホストコンピュータからの印刷データを入手する通信回路と、これらに電気的に接続され、各部での各種制御を行うCPUとを備えている。
また、CPUには、例えば、インクカートリッジ931のインク残量、ヘッドユニット930の位置等を検出可能な各種センサ等が、それぞれ電気的に接続されている。
制御部960は、通信回路を介して、印刷データを入手してメモリに格納する。CPUは、この印刷データを処理して、この処理データおよび各種センサからの入力データに基づいて、各駆動回路は、駆動信号を出力する。この駆動信号により静電アクチュエータ、印刷装置940および給紙装置950は、それぞれ作動する。これにより、記録用紙Pに印刷が行われる。
以上、本発明の成膜方法、液体供給ヘッドおよび液体供給装置について図示の実施形態について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、本発明の成膜方法で形成される膜は、撥液膜に限るものではない。
また、本発明の成膜方法は、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、本発明の液体供給ヘッドは、例えば、各種ディスペンスノズル等の細径の流路(貫通孔)を有する各種ヘッドに適用することができる。
本発明の液体供給ヘッドをインクジェットヘッドに適用した場合の実施形態を示す縦断面図である。 図1に示すインクジェットヘッドの製造方法を説明するための図である。 図1に示すインクジェットヘッドの製造方法を説明するための図である。 図1に示すインクジェットヘッドの製造方法を説明するための図である。 図1に示すインクジェットヘッドの製造方法を説明するための図である。 図1に示すインクジェットヘッドの製造方法を説明するための図である。 本発明の液体供給装置を適用したインクジェットプリンタの実施形態を示す概略図である。
符号の説明
1‥‥インクジェットヘッド 2‥‥ノズル板 21‥‥ノズル孔 211‥‥インク吐出口 212‥‥内周面 212a‥‥局所領域 212b‥‥領域 22‥‥インク吐出口側の面 23‥‥上面 24‥‥側面 3‥‥キャビティ板 31‥‥振動板 4‥‥電極板 5‥‥空隙 51‥‥インク吐出室 52‥‥オリフィス 53‥‥リザーバ 54‥‥インク取込口 6‥‥インク滴 7‥‥撥液膜 70‥‥被加工膜 8‥‥振動室 81‥‥個別電極 9‥‥マスク材 10‥‥シート材 100‥‥紫外線照射装置 101‥‥チャンバー 102‥‥基板載置用ステージ 103‥‥紫外線照射ヘッド 104‥‥紫外線 900……インクジェットプリンタ 920……装置本体 921……トレイ 922……排紙口 930……ヘッドユニット 931……インクカートリッジ 932……キャリッジ 940……印刷装置 941……キャリッジモータ 942……往復動機構 943……キャリッジガイド軸 944……タイミングベルト 950……給紙装置 951……給紙モータ 952……給紙ローラ 952a……従動ローラ 952b……駆動ローラ 960……制御部 970……操作パネル P……記録用紙

Claims (17)

  1. 基材に設けられた貫通孔の内周面の、一端から他端に向かう所定長さの局所領域に膜を形成する成膜方法であって、
    前記貫通孔の内周面の前記局所領域を含む領域に、前記膜を得るための被加工膜を形成する第1の工程と、
    前記貫通孔内に、紫外線吸収性を有するマスク材を充填する第2の工程と、
    前記貫通孔の他端側から、前記基材に対して紫外線照射を行って、前記マスク材を透過する際の前記紫外線の減衰、または、該減衰および前記マスク材の有無を利用して、前記紫外線により照射された前記被加工膜を除去することにより、前記局所領域に存在する前記被加工膜を残して前記膜を得る第3の工程と、
    前記貫通孔内に残存する前記マスク材を除去する第4の工程とを有することを特徴とする成膜方法。
  2. 前記第1の工程において、前記被加工膜を、前記膜の構成材料を含有する液体を用いて形成する請求項1に記載の成膜方法。
  3. 前記第3の工程において、前記紫外線照射を、大気圧下で行う請求項1または2に記載の成膜方法。
  4. 前記第3の工程において、前記紫外線照射を、窒素ガス雰囲気で行う請求項1ないし3のいずれかに記載の成膜方法。
  5. 前記第3の工程において、前記紫外線照射を、前記紫外線を照射する紫外線照射手段と前記基材とを、1〜50mm離間させた状態で行う請求項1ないし4のいずれかに記載の成膜方法。
  6. 前記紫外線の波長は、250nm以下である請求項1ないし5のいずれかに記載の成膜方法。
  7. 前記紫外線の照度は、1〜50W/cmである請求項1ないし6のいずれかに記載の成膜方法。
  8. 前記マスク材は、前記紫外線照射により、実質的に変質しないものである請求項1ないし7のいずれかに記載の成膜方法。
  9. 前記マスク材は、揮発除去されるものである請求項1ないし8のいずれかに記載の成膜方法。
  10. 前記マスク材は、水を主成分とする洗浄液により洗浄除去されるものである請求項1ないし9のいずれかに記載の成膜方法。
  11. 前記マスク材は、水を主成分とするものである請求項1ないし10のいずれかに記載の成膜方法。
  12. 前記マスク材は、水溶性高分子を主成分とするものである請求項1ないし10のいずれかに記載の成膜方法。
  13. 前記貫通孔の一端側の開口面積(平均)は、75〜750000μmである請求項1ないし12のいずれかに記載の成膜方法。
  14. 前記第1の工程において、前記被加工膜を、前記貫通孔の内周面および前記基材の表面に形成し、前記膜を前記貫通孔の内周面の前記局所領域と、前記基材の前記貫通孔の一端側の面とに連続して形成する請求項1ないし13のいずれかに記載の成膜方法。
  15. 液体が通過する流路が設けられ、該流路の一方の開口が前記液体を排出する排出口を構成するヘッド本体と、
    請求項14に記載の成膜方法により、前記流路の内周面の排出口近傍の局所領域と、前記ヘッド本体の前記排出口側の面とに連続して形成された撥液膜とを備えることを特徴とする液体供給ヘッド。
  16. 前記液体を前記排出口から液滴として吐出可能な液滴吐出手段を備える請求項15に記載の液体供給ヘッド。
  17. 請求項15または16に記載の液体供給ヘッドを備えることを特徴とする液体供給装置。
JP2004374495A 2004-12-24 2004-12-24 成膜方法、液体供給ヘッドおよび液体供給装置 Pending JP2006181725A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004374495A JP2006181725A (ja) 2004-12-24 2004-12-24 成膜方法、液体供給ヘッドおよび液体供給装置
TW094144291A TWI294357B (en) 2004-12-24 2005-12-14 Coating method, liquid supplying head and liquid supplying apparatus
US11/312,979 US7641943B2 (en) 2004-12-24 2005-12-20 Coating method, liquid supplying head and liquid supplying apparatus
KR1020050128272A KR100744894B1 (ko) 2004-12-24 2005-12-22 성막 방법, 액체 공급 헤드 및 액체 공급 장치
CNB2005101340730A CN100404260C (zh) 2004-12-24 2005-12-23 成膜方法、液体供给头及液体供给装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004374495A JP2006181725A (ja) 2004-12-24 2004-12-24 成膜方法、液体供給ヘッドおよび液体供給装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006181725A true JP2006181725A (ja) 2006-07-13

Family

ID=36611931

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004374495A Pending JP2006181725A (ja) 2004-12-24 2004-12-24 成膜方法、液体供給ヘッドおよび液体供給装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7641943B2 (ja)
JP (1) JP2006181725A (ja)
KR (1) KR100744894B1 (ja)
CN (1) CN100404260C (ja)
TW (1) TWI294357B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009073040A (ja) * 2007-09-20 2009-04-09 Fujifilm Corp 液体吐出ヘッドの流路基板の製造方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101257838B1 (ko) * 2006-02-03 2013-04-29 삼성디스플레이 주식회사 잉크젯 헤드의 노즐 플레이트 표면에 소수성 코팅막을형성하는 방법
US8721041B2 (en) * 2012-08-13 2014-05-13 Xerox Corporation Printhead having a stepped flow path to direct purged ink into a collecting tray
JP6631052B2 (ja) * 2015-07-02 2020-01-15 セイコーエプソン株式会社 圧電デバイスの製造方法
WO2021019693A1 (ja) * 2019-07-30 2021-02-04 コニカミノルタ株式会社 ノズルプレート、ノズルプレートの製造方法及びインクジェットヘッド

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1992013720A1 (en) 1991-02-04 1992-08-20 Seiko Epson Corporation Ink-jet printing head and method of making said head
JP3379119B2 (ja) 1992-12-03 2003-02-17 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録ヘッド及びその製造方法
JP3169037B2 (ja) 1993-10-29 2001-05-21 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録ヘッドのノズルプレートの製造方法
JP3438797B2 (ja) * 1995-09-08 2003-08-18 富士通株式会社 インクジェットヘッドの製造方法
JPH09239991A (ja) * 1996-03-07 1997-09-16 Seiko Epson Corp インクジェット記録ヘッドの製造方法及びそのヘッドを有するインクジェットプリンタ
JP3093634B2 (ja) 1996-05-13 2000-10-03 シチズン時計株式会社 インクジェットプリンターヘッド用ノズル板の表面処理方法
US6019907A (en) * 1997-08-08 2000-02-01 Hewlett-Packard Company Forming refill for monolithic inkjet printhead
WO1999012740A1 (fr) * 1997-09-10 1999-03-18 Seiko Epson Corporation Structure poreuse, tete d'enregistrement par jet d'encre, procedes de fabrication et dispositif d'enregistrement par jet d'encre
US6561624B1 (en) * 1999-11-17 2003-05-13 Konica Corporation Method of processing nozzle plate, nozzle plate, ink jet head and image forming apparatus
KR100499118B1 (ko) * 2000-02-24 2005-07-04 삼성전자주식회사 단결정 실리콘 웨이퍼를 이용한 일체형 유체 노즐어셈블리 및 그 제작방법
JP2002011875A (ja) * 2000-06-29 2002-01-15 Ricoh Co Ltd ノズル形成部材及びその製造方法並びに液滴吐出ヘッド
JP4374811B2 (ja) 2001-08-24 2009-12-02 リコープリンティングシステムズ株式会社 インクジェットプリンタ用ノズルプレートの製造方法
JP2003154663A (ja) * 2001-11-20 2003-05-27 Hitachi Printing Solutions Ltd インクジェットプリンタ用ノズルプレートの製造方法
TW568837B (en) 2002-12-20 2004-01-01 Chiang-Ho Cheng Piezo-electrical ink-jetting nozzle head and its production method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009073040A (ja) * 2007-09-20 2009-04-09 Fujifilm Corp 液体吐出ヘッドの流路基板の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN100404260C (zh) 2008-07-23
TW200640697A (en) 2006-12-01
TWI294357B (en) 2008-03-11
KR100744894B1 (ko) 2007-08-01
US20060141167A1 (en) 2006-06-29
CN1796131A (zh) 2006-07-05
KR20060073493A (ko) 2006-06-28
US7641943B2 (en) 2010-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7513602B2 (en) Coating method, liquid supplying head and liquid supplying apparatus
JP3169037B2 (ja) インクジェット記録ヘッドのノズルプレートの製造方法
JP4214999B2 (ja) ノズル板の製造方法、ノズル板、液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出装置
US20080129772A1 (en) Apparatus and method of preventing drying of ink in inkjet printhead and printing method using inkjet printer
JP2017144659A (ja) 液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置
KR100744894B1 (ko) 성막 방법, 액체 공급 헤드 및 액체 공급 장치
JP5593659B2 (ja) 液滴吐出装置
JP6237980B2 (ja) 液体噴射ヘッドユニット及び液体噴射装置
JP4595527B2 (ja) 成膜方法、液体供給ヘッドおよび液体供給装置
JP4393730B2 (ja) インクジェットヘッド
JP2006175605A (ja) 成膜方法、液体供給ヘッドおよび液体供給装置
JP2007062291A (ja) 液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出装置
JP2006150155A (ja) 液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出装置
JP2017132244A (ja) ノズル板、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置、ノズル板の製造方法
JP2001187453A (ja) ピエゾ駆動型インクジェット記録ヘッドのノズルプレート
JPH09131880A (ja) インクジェットヘッドの製造方法
JPH1110874A (ja) 紫外線硬化型インク用のインクジェット式記録ヘッド
JPH106494A (ja) インクジェットヘッド
JP2006060127A (ja) アクチュエータ、インクジェット式記録ヘッド、インクジェットプリンタ、アクチュエータポンプ、およびアクチュエータの製造方法
JP2005059255A (ja) インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置
JP2006150156A (ja) 液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出装置
JP2009220396A (ja) ノズルプレート、液滴吐出ヘッド、液体カートリッジ及びインクジェット記録装置
JP2017087512A (ja) 液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置及び液体吐出ヘッドの製造方法
JP2017209977A (ja) ノズル板、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置
JP2017132252A (ja) ノズル板、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置、ノズル板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080917

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081007

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081125

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090127