TWI279080B - Shielded strip line device and method of manufacture thereof - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 228
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 228
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims abstract description 58
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 51
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 43
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- 101100272667 Xenopus laevis ripply2.2 gene Proteins 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 29
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 29
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 28
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 abstract description 28
- 239000004332 silver Substances 0.000 abstract description 28
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 22
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 20
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 20
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 abstract description 15
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 abstract description 13
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 abstract description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 102
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 36
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 33
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 19
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 18
- -1 group Substances 0.000 description 17
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 13
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 11
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 11
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 9
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 6
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 4
- WYXIGTJNYDDFFH-UHFFFAOYSA-Q triazanium;borate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]B([O-])[O-] WYXIGTJNYDDFFH-UHFFFAOYSA-Q 0.000 description 4
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical group [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940071161 dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012935 ammoniumperoxodisulfate Substances 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 2
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 2
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 1-O-galloyl-3,6-(R)-HHDP-beta-D-glucose Natural products OC1C(O2)COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC1C(O)C2OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001152 Bi alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- UMVFITWHIHSBPP-UHFFFAOYSA-N C=C.[O].[O] Chemical compound C=C.[O].[O] UMVFITWHIHSBPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000009917 Crataegus X brevipes Nutrition 0.000 description 1
- 235000013204 Crataegus X haemacarpa Nutrition 0.000 description 1
- 235000009685 Crataegus X maligna Nutrition 0.000 description 1
- 235000009444 Crataegus X rubrocarnea Nutrition 0.000 description 1
- 235000009486 Crataegus bullatus Nutrition 0.000 description 1
- 235000017181 Crataegus chrysocarpa Nutrition 0.000 description 1
- 235000009682 Crataegus limnophila Nutrition 0.000 description 1
- 235000004423 Crataegus monogyna Nutrition 0.000 description 1
- 240000000171 Crataegus monogyna Species 0.000 description 1
- 235000002313 Crataegus paludosa Nutrition 0.000 description 1
- 235000009840 Crataegus x incaedua Nutrition 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000001263 FEMA 3042 Substances 0.000 description 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000238631 Hexapoda Species 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- UZWRFLSUUZNYMU-UHFFFAOYSA-N O(C=1SC=CC1)C=1SC=CC1.C=C Chemical compound O(C=1SC=CC1)C=1SC=CC1.C=C UZWRFLSUUZNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 241000238590 Ostracoda Species 0.000 description 1
- 241000282376 Panthera tigris Species 0.000 description 1
- LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N Penta-digallate-beta-D-glucose Natural products OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@@H]2[C@H]([C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N 0.000 description 1
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002377 Polythiazyl Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXMUSCUQMMSSKP-UHFFFAOYSA-N [O].C=1C=CSC=1 Chemical compound [O].C=1C=CSC=1 SXMUSCUQMMSSKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- LPTWEDZIPSKWDG-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid;dodecane Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1.CCCCCCCCCCCC LPTWEDZIPSKWDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013043 chemical agent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 235000012907 honey Nutrition 0.000 description 1
- DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N hydrate;hydrochloride Chemical compound O.Cl DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 235000012054 meals Nutrition 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005704 oxymethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])O[*:1] 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000323 polyazulene Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000867 polyelectrolyte Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- LRBQNJMCXXYXIU-NRMVVENXSA-N tannic acid Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@@H]2[C@H]([C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-NRMVVENXSA-N 0.000 description 1
- 229940033123 tannic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000015523 tannic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920002258 tannic acid Polymers 0.000 description 1
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHCPAXDKURNIOZ-UHFFFAOYSA-N tetrathiafulvalene Chemical compound S1C=CSC1=C1SC=CS1 FHCPAXDKURNIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
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- H01G9/008—Terminals
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Description
1279080 、發明說明(1) 【發明背景】 1 · 發明領域 蔽條線i型裝署於—種將安裝於電路板或電子基板上的屏 型裝置及其製Ϊ及其製造方法,尤其關於一種屏蔽條線路 頻,主要用乍^方法’該屏蔽條線路型裝置適合高速與高 ^為雜訊濾波器旁通裝置或電源解耦裝置。
2 ·相關技術之說明 隨著科技進步,要 :!而言丄在電源供應 σ错由增高時鐘頻率而 ^是電源供應電路,之 著1曰加且彳§號品質減低 源解耦裝置之性能的要 先前已經開發的用 陶曼電谷以及固態電解 ,有薄金屬膜之複數層 各’具有例如組或銘等 夕孑匕質成形體作為陽極 求更緻密且性能更高的 與數位信號處理電路部 達成。然而,此造成流 高頻率電流增加,導致 ,因此對雜訊濾波器旁 求更嚴格。 於高速數位電路之電源 電容。陶瓷電容係藉由 陶瓷材料所形成,而固 等的閥作用金屬(valve 、此多孔質成形體之氧 電子設備。 之開關中, 過電路,尤 電磁輻射顯 通裝置與電 解耦裝置有 層疊其上沉 態電解電 metal)之 化膜作為介 日本專利公報第平4-56445號(日本專利申請案公開公 民第昭60-37 1 1 4號)為固態電解電容之例子,揭露一種具 ^聚吨洛(poly pyrrole)或其烷基取代型的固態電解電容 沉積於介電氧化膜上作為固態電解質。亦且,日本專利申
1279080 五、發明說明(2) 開公報第平3—3551 6號揭露一種固態電解電容,1 ίί本= y=ine)形成於介電氧化膜上作為固態電 ίί比;=:電1電容之製造方法。此等電容皆使用導 電丨生比先則電谷尚〗00倍或更高的導電聚合物作 解2。因此相較於相同電容值的先前電容而言/、此等^ ’在㈣為m倍或更高之高頻率範圍 =現效果。然而,在超過10別2之高頻率範圍内,此等 ,t之阻抗急劇增加而無法符合近來作為濾波器 與電源解耦裝置要求。 逋褒置 此時,可用於高頻的濾波器的排列亦受到審查。曰本 專利申請案公開公報第平6 — 5304 6號揭露一種表面安裝雜 訊濾波器,包含一曲折導體與一接地導體,其中每一個皆 ,陶瓷介電片所央住。圖i顯示此先前技藝表面安裝濾波白 =,排列之剖面圖。如圖i所示,藉著此先前技藝^二安 裝濾波器,分別為矩形的第一介電片i i 〇、第二介電片 120、與第三介電片13〇層疊以形成層疊體153。第一信號 ,極1 5 1與第二信號電極1 52分別黏附至一對相互面對的^末 端面,平行於層疊體1 5 3之層疊方向。 言號傳輸的第一内部導體Γ11、第二内部導體 120間。第一内部導體ln連接至第一信號電極151,第二 内部導體112連接至第二信號電極152,且曲折導體115連 接於第一内部導體丨i丨與第二内部導體丨丨2間。面對著曲折 導體115的接地導體125放置於第二導電片120與第三導電
第7頁 1279080 五、發明說明(3) 片1 3 0間,且接妯 此等接地電極章導體125連接至一對接地電極(未圖示)。 153之層疊方向勘附至層疊體1 53之末端面中平行於層疊體 極151與第二二,一對末端面,其上未黏附有第一信號電 —電容形成—於5曲號電極152。一電感形成於曲折導體115且 合電感裝置與電t導體115與接地導體125間。因此形成組 有極佳的雜^ u容裝置的雜訊遽波器且因此獲得在高頻具 波器,從第Γ特徵之雜訊濾波器。藉著此表面安裝濾 部導體1 1 1、&5虎電極1 5 1輸入的電信號經由通過第一内 且從第二信_ 體11 5、與第二内部導體112而濾波, 乜琥電極152輸出。 然而,此弈~ 的具有前述導雷二ί ^具有下列問題。雖然先前記憶所用 頻範圍,但_菩^:务作為固態電解質之電容可使用於高 會急劇增:::,在超過10 ΜΗζ之高頻範圍内阻抗 鐘頻率之摔作$此^位,路中通常運用的數百ΜΗζ之時 實現無論頻率如何;;::::;接^號土生電路無法 此電容無法符合 1”、、限接近零之特徵。結果, 之要求。亦且,雖然已經;:或電源解耗裝置 濾波器,但其盔法與锶鈕阳/ Γ用以沩除雜訊的表面安裝 性受限制。因 10(5龍ζ或更高的高頻區域十慮波1現低阻抗,尤其在丨 【發明概述】 本發明之 提供一種屏蔽條線路型裝置,其 1279080 五、發明說明(4) 阻抗低,尤其在100 MHz或更高的高頻區 ^ 高速與高頻,主要用作為雜訊濾波器〜,且適合於 置。 旁通裳置或解轉裝 依據本發明之屏蔽條線路型裝置包人 一閥作用金屬所形成,高頻電流流經其屬構件,由 流流動方向之剖面形狀在該電流方向上 J交於高頻電 介電氧化膜,形成於此金屬構件之表面上、焉上固定;一 層,設置以夾住該介電氧化膜且 二以及一導電 本發明藉著使金屬構件具有;;巧構件。 狀固定之傳輸線構造,m金屬構件内的】::向的剖面形 勻,甚至當金屬構件内部流動的電流為古2 %形成為均 因此使特徵阻抗之頻率依賴性變小。^:益電流時亦然, 金屬形成金屬構件,可形成一曰由從一閥作用 面上。閥作用金屬係其表金屬構件之表 且,藉由提供一導電物質層(導電成層之金屬。更 現了具有傳輸線構造形式的一"衣%金屬構件,實 電層配置於信號線上方與下 線係具有導 上方與下方的導電声於[味&/ 且屏蔽條線係此等 減少裝置之特徵阻抗。:Π 2的磁通量’因此更加 因此實現了;= ϊ化膜與導電層所滤波。 前述剖面形狀得為矩 阻抗之絕對值亦取決於金屬構=、或孩形。裝置之特徵 屬構件之剖面形狀。在前述剖面
第9頁 !279〇8〇
五、發明說明(5) ί矩形之情況中,前述金屬構件之开、 四邊形,例如平板 开^狀將為矩形的平 ;,金屬構件之::::柱狀為圓形之情況 ’金屬構件之形狀將為圓柱狀為環形之 要為實際的矩形、圓形、或環形。狀别述刮面形狀僅需 前述閥作用金屬最妤肖会登 叙合金、铲、盥/ 選自於由銘、銘合金、鈕、 金魏與銳合金所組成的族群中夕_ #+_ 夕種類的金屬。然:後可藉*氧化 2或=種或更 穩定的高介電常數之介電氧化膜。表面而形成均勻並 估麯姓,♦ 乳化膜結果,可容易地獲得榀 一積效率之穩定的屏蔽條線路型裝置。 、士且’前述導體層最好包含一導電聚合物。然後可形 緊雄、接觸於形成在金屬構件之表面上的介電層之高導 =導體@至當金屬才籌件之表面經由敍刻等等所擴展 :亦然。因此可容易地獲得能使用至高頻率 線路型裝置。 开敝保 尤其,前述導電聚合物最好包含選自於由聚吨略、聚 嗟吩(polythiophene)、與聚苯胺所組成之族群中之一種 或二種或更多種類的物質。然後可形成環境穩定性極佳且 對於溫度至少1 0 0 °C仍穩定的導體層。結果,因此可容易 地獲得穩定性與耐用性極佳且可使用至高頻率範圍的屏蔽 條線路型裝置。 【較佳實施例之詳細說明】 茲將參照附圖說明本發明之實施例。首先將說明本發
第10頁 1279080 五、發明說明(6) — 明第一貫施例。圖2顯示此實施例之屏蔽條線路型裝置之 剖面圖,且圖3顯示沿著圖2之線A-A,之剖面圖。 如圖2與3所示,本實施例之屏蔽條線路型裝置設有一 金屬板1 0,包含一閥作用金屬且實質上為平面形狀。舉例 而言’閥作用金屬板1 〇係由鋁所形成。閥作用金屬板1 〇之 形狀為矩形,舉例而言,厚度11 〇 # m、長度2 〇 fflm、且寬 度1〇 nun。閥作用金屬板10之表面,亦即頂面、背面、與 末端面的表面面積藉由電解液中之電解蝕刻增加約2〇 、 倍。 之表面上。介 面而形成。亦 ,以覆蓋閾作 ’導電聚合物 c a C i d )作為 之長度方向上 化膜2 0。此等 長度為,舉例 至此等露出部 經閥作用金屬 種程度地分 且銀膠層3 3形 合物膜31 '導 電氧化膜20形 覆蓋介電氧化 介電氧化膜20形成於此閥作用金屬板1〇 2氧化膜2 〇係藉由氧化閥作用金屬板1 〇之表 ^ ’導電聚合物膜31形成於介電氧化膜2〇上 金屬板10與介電氧化膜2〇。藉著本實施例 ^雜係以對甲本績酸(Para—t〇luenesulf〇ni 的、A ^之聚苯胺所形成。在閥作用金屬板1 0 露未形成導電聚合物膜3〗且露出介電氧 而言部分在閥作用金屬板1〇之長度方向上的 分=/ mm。陽極引線端子i j與i 2分別連接 板1〇陽極引線端子11與12係用以使電信號流 離。道因此陽極引線端子11與12彼此必須某 成於遂電碳膠層32形成於導電聚合物膜31上 電後:d32上。導電層3°係由導電聚 成以^均32、與銀膠層33所形成。亦即,介 覆蓋閥作用金屬板1〇且導電層30形成以 1279080 A、發明說明(7) 膜20中除了前述露出、 :包含鋼箔之金屬板厚度約為100 _ 金屬板40放置成使 ^ 1於導電層3〇之一側的表面上。 面。金屬板40之縱面平行於閥作用金屬板1〇之表 長度還長,因此金屬板比導電層30之縱方向上的 疊。此等末端部分別排列端部未被導電層3〇所重 既然設於閥作用金屬扪。:二:=41與42。 個陽極引線端子丨丨與^ "置處之一個或更多 覆蓋的閥作用金屬^ j Q ^雨入電“號至由介電氧化膜所 離。藉著本發:屬Γ作0用:=端分離了某段距 且此等突出部得排列作為陽極引線二。由=側突出 而黏附的端子得用作為陽極引^端子。糟由知接或捲曲 在本實施例令,閱作用金屬板1〇不 金屬只要其為闕作用金屬。此種閥作 括銘、紹合金、组、趣合金、銳、銳合金ί屬:::包 錯、鍅合金、矽、鎂、鎂合金等等。杯:’ σ金、 2、與鈮所組成之族群中的金屬作為閥作】於:J、 金屬板10得為捲箔、細微粉末之燒結緻密物 爭用 閥作用金屬板1 0之形狀得為曲線形狀或部且, 成介電氧化膜於闕作用金屬之表面上的方法°形 制而得藉由使用電解液之電解成形所形成、使用限 化劑所形成、或者藉由空氣氧化所形成氧化 ;2虱 發明之介電氣化膜。然而福杳L .人-k ^ m η ^ 1279080 五、發明說明(幻 ' -------- 閱作用金属之形狀亦不受特別限制,但從特徵阻 二二二二製程處理之觀點來看最好為平坦、板狀形狀(直 i錄用金屬之縱方向的剖面形狀為矩形),亦得使用 Γί ί部分彎折的闕作用金屬。閥作用金屬亦得柱狀或 Ζ a ^著本發明,得使用已經經由表面擴展的閥作用金 =扒ί 'Γ鉍由表面擴展的閥作用金屬之例子包括藉由將細 ί i ϊ燒結緻密物製成平坦、板狀形狀所形成的閥作用 金屬、藉由在電解液中電解蝕刻所形成的受蝕刻箔, 等。 、曾Φ ί且,雖然本實施例中之導電層3〇係由包含聚苯胺的 V電聚合物膜31、導電碳膠32、與銀膠33所形成,但導電 層不受特別限制只要其具導電性即可,得由任何種類的金 屬、、半導體,例如二氧化錳、氧化銦、等等,或有機介電 形式,例如四氰基對醌二曱烷 (tetracyanoquinodimethane)與四硫富瓦稀 (tetrathiafulvalene)電荷轉移複合物,所形成。導電聚 合物,例如聚吨咯、聚噻吩、聚乙烯雙氧噻吩 (polyethylenedioxythiophene)、聚苯胺、聚亞苯基 (polyphenylene)、聚咬喃(p〇lyfuran)、聚三氨基 (polythiazyl)、聚亞苯基乙烯基 (polyphenylenevinylene)、聚乙炔(p〇iyacetylene)、聚 Ϊ (polyazul ene)、等等尤佳,其中從穩定性觀點來看聚 吡咯、聚噻吩、聚苯胺、與其衍生物較佳。藉著本發明, 聚吡咯、聚噻吩、與聚苯胺之衍生物應係指著,舉例而
l279〇8〇 五、發明說明(9) 各種取代基加入前述化合物之 聚合物共聚合而成的物質等蓉 、、别述化合物與其 *物的推雜物:=;用電電子收取性質之: =特別限制,舉例而言,推月電=物之種類不 =知的摻雜物。此種摻雜物之例子包括f聚合物或得使用 陰離子等等所齒化的化合物、作用二由碘、1、過氯酸 例如芳族續酸化合物、以及作用乍酸的物質, 如鐘、四乙銨陽離子等等。 同Lewl^的物質,例 =藉著本發明’導電層30最好從導電聚合 ,如絀所述,但導電聚合物得用作 20之#氐白入2祕丄 w付用忭馮接觸於介電氧化膜 電聚二物導電聚合物之層得形成於前述導 放置i相拉總〔更且,導電物f之I態電解質與金屬板得 明的ΐϊϊ 使用導電碳膠或銀膠而連接。藉著所說 舖於二:導電層30具有三層構造:導電聚合物膜31,接 ;w電氧化膜20、導電碳膠32,放置於導電聚合物膜31 、與銀膠33,放置於導電碳膠32上,並且排列成使得金 屬板40可藉由導電碳膠32與銀膠33而黏附。 更且,雖然本實施例中厚度,舉例而言,約為丨〇 〇 “ m之包含銅箔的金屬板4〇重疊於導電層3〇之一侧的表面 < 上’但金屬板4 0之材料不僅限於銅而只要為低電阻的金屬 如銀、金、铭、等等即足夠。可藉由此金屬板4 〇更加減 少阻抗。亦且,二個金屬板4 〇得相對地放置於閥作用金屬 板10之兩面上。
五、發明說明(10) 更且,雖然本實施例中導電聚合物膜31與金 由導電碳膠層32與銀穋層33而彼此連接,但 =層32與銀膠層33且導電聚合物膜31得直連接至金U奴 此實施例之屏蔽條線路型裝置得安裝於電子 或得於取出引線端子且密封於拋 ^路板上 用。 %卞且在封於树脂或金屬盒中等等之時使 本發明之屏蔽條線路型裝置得安 路板上或者得於取出引缘^ % 或電子電 等之時使用。子且㈣於樹脂或金屬盒中等 茲將說明本實施例之屏蔽條線路型裝 首先,準備,舉例而言,厚产110 1裒置之製造方法。 寬度η…落作為閱作“屬板:’接長^ ^ 屬板10之表面面積經由電解液中 者’閥作用金 200倍。閥作用金屬板1〇浸入,舉電解飯刻而擴展了大約 的硼酸銨水溶液,遭受舉例而言,5 ’濃度為5質量% 然後清洗且乾燥以形成包含金屬 1 〇 V之陽極氧化, 閥作用金屬板10之表面上。然後,】膜的介電氧化膜20於 即從已經形成有介電氧化膜20的閥作之各末端’亦 起5龍内之區域浸入包含六氣丙缔板10之各邊緣 乾燥以形成包含六I丙烯的遮罩(未蘭树知之溶液,然後 浸入0. 1Ν硫酸水溶液中測量此閥作么不,刖述末端。當 值時,發現靜電電容值約為38〇 。金屬板Β之靜電電容 然後在玻璃容器中準借含有】 準備3有1〇質量%的對甲笨續酸與5 1279080 五、發明說明(11) 2 貝0二的星本:之水溶液,且將已經形成有前述介電氧化膜 後在宮⑼、閥作用金屬板1 〇浸入此水溶液,然後取出。隨 分鐘。ίΐΐ 4中乾燥闕作用金屬板&時,舉例而言,3〇 甲笨炉準備含有1〇質量%的過二硫酸銨與10質量%的對 缺後“ί溶液,且將閥作用金屬板1 〇浸人此水溶液, &俊取出,然後放在空氣中另外2〇分鐘以聚合苯胺。隨 « ^ Φ ^與乙醇清洗此閥作甩金屬板1 0且在溫度80。(:之環 二,浸人前述對甲苯績酸與苯胺的水溶液到在溫 二么梭μ乾燥之操作重複四次以形成包含具有對甲苯碏酸 雜物的聚苯胺之導電聚合物膜31於介電氧化 未被則述遮罩覆蓋的表面區域上。 Υ 然後形成導電碳膠層32與銀膠層33以覆蓋閥作用金屬 勺^中已經形成有導電聚合物膜31的表面區域。因此形成 匕3導電聚合物膜31、導電碳膠層32、與銀膠層33之導電 層。Ik後,厚度,舉例而言,約為丨〇 〇 " m的包含銅箔 之备屬板40重疊於導電層30之一侧的表面上。金屬板4〇放 置成經由導電層30與介電氧化膜20而面對著閥作用金屬板 10之一面。金屬板4〇之縱方向上的長度比導電層3〇之縱方 ,上的長度還長,且金屬板4〇之縱方向上之各末端部不重 璺但從導電層30突出。金屬板4〇之此突出末端部分別用作 為f極引線端子41與42。隨後,各閥作用金屬板1〇末端部 之浸入四氫咬味(tetrahydrofuran)以溶解並消除身為構 成遮罩之樹脂的六氟丙烯。然後使用超聲波焊接器連接二 個陽極引線端子11與12至閥作用金屬板10之各末端。因此
1279080 五、發明說明(12) 製成此實施例之屏蔽條線路型裝置。 雖然本實施例中進行電解液中 作用金屬板之表面面積之方法,作為擴展閥 之燒結緻密物處理成平坦、板狀形:猎由將細微粉末 的金屬板。 狀而製成表面面積擴展 電氣化膜2〇之形成方法亦 閥作用金屬板10之表面在電解液中ς 限制且得藉由使 當的氧化劑之氧化處理所形:θ 、2或藉由使用適 氣化膜Π 所形成的氧化膜。然而通常上,介電 :化膜⑼精由使閥作用金屬板丨◦之表面受電解“而ς電 超聲ii接中,陽極引線端子η㈣藉由 或其他方法而形成。亦且金屬板10,此結合得藉由捲曲 且閥作用金屬板10之,么虫,山闕作用金屬板10得於兩側突出 f且,雜妙—各末端部分得用作為陽極引線端子。 Φ 作用金屬板mite電聚合物膜31係藉由使閥 但本發明中之導電中然後乾燥以聚合笨胺而形成, 電聚合物膜3 1得藉由ζ物膜之形成方法不僅限於此,且導 液至閥作用金屬板方法所形成··塗佈導電聚合物溶 引入形成導電聚合物t 後蒸發此溶液中之溶劑之方法、 後導電聚合物之聚早體及/或寡聚物與聚合催化劑然 方法、或者形成包;直接進行於閥作用金屬板10上之 轉化成導電聚合物之聚合物之中間物的-聚合物層且
1279080 五、發明說明(13) 〜--- 藉著此實施例之屏蔽條線路型裝置,從陽極卩丨 子 11輸入的高頻信號電流穿過閥作用金屬板1〇且從陽極 端子1 2輸出。在此程序中,前述信號電流可由介電膜 20與導電層3 0濾波。既然閥作用金屬板丨〇具有傳輪、 之形狀且直交於信號電流之流動方向的剖面之形狀係择= 上固定,故閥作用金屬板1〇内的電磁場會均勻,甚至二信 號電流為高頻電流時亦然,因此特徵阻抗之頻率依存二° 小 。 亦且,既然閥作用金屬板10係由鋁所形成,故 穩定的介電氧化膜20可容易地形成於閥作用金屬板1〇之表 面上。更且,既然導電層3〇設成環繞閥作用金屬板1〇之周 圍,故實現了可屏蔽從閥作用金屬板1〇漏出的磁通量之屏 蔽條線,且可使裝置之阻抗變低。更且,藉由設 40,可形成陰極引線端子41盥42且屬板 ,m,、以丑口J使裝置之阻抗變得更 低。更且,既然導電層30設有導電聚合物膜31 ’故可容易 形成良好黏附於介電氧化膜20且導電性高的導電層。 田使用閥作帛金屬板10作為陽極且金屬板4〇作為陰極 測量本實施例之屏蔽條線路型裝置之電容值時,發現在頻 = 120 Hz時的電容值約為38〇 ,表示介電氧化膜⑼之 表面適當地由聚苯胺所塗覆。 亦且,當藉由連接二對電極引線端子,亦即設於屏蔽 條線路型裝置之兩側的陽極引線端扣糾及陰極引線端 子41與42至網路分析器而測量功率傳輸特徵%】時,發現 S21在1〇〇 kHz至1〇〇 MHz之頻率範圍中最多為_7〇 dB且在i
1^· 第18頁 1279080 五、發明說明(14) GHz之頻率時最多為-4〇 dB。 條線路型裝置相較於先前姑敲U瞭解本貫施例之屏蔽 電路之電源解耦裝置之極優良特徵。 為同逮數位 茲將說明本發明之第; μ , ^ 彻> Μ # ^ a 只^例。相較於前述第一 f施 ^屏蔽條線路型裝置之排列,本實施例之屏蔽 f置之排列不同之處在於導電聚合物膜31係由聚吡咯 成?外,本實施例之屏蔽條線路型裝置之排列相^:第 一實施例之屏蔽條線路型裝置。 Μ目冋於第 兹=明本實施例之屏蔽條線路型裝置之製造方法。 ^:猎由相同於第一實施例之方法,介電氧化膜 備含有1〇質量%的十二烧苯續鐵di;;後在玻璃容器中準 d=decylbenzenesulf〇nate)的甲醇溶液。表面上已 ^ =電氧化膜20的前述閥作用金屬板1〇浸入此溶液中^後 出。然後在室溫之空氣中乾燥閥作用金屬板為時 ,。然後閥作用金屬板浸入含有5〇質量%的吡咯之 =然後取出’然後留在空氣中為時3〇分鐘以聚合吨嘻合。隨 设L藉著水與乙醇清洗閥作用金屬板且在溫度8〇 β(:之環境 中乾燥。從浸入曱醇溶液至在溫度8〇t中乾燥之操^ =次以形成包含具有十二烷苯磺酸作為摻雜物的聚吡咯之 導電聚合物膜於介電氧化膜2〇之表面上。 + 然後藉由相同前述第一實施例之方法形成導電声3 〇, 藉由形成導電碳膠層32與銀膠層33以環繞閥作用金^板 之表面中已經形成有導電聚合物膜之區域、黏附包含銅箔 1279080 五、發明說明(15) :金屬板40、並且金屬板4〇之各末 端子41與42。隨後,藉由相同於第 陰極引線 遮罩且黏附陽極引線端子丨丨與^。只知例之方法,移除 當使用包含鋁箔的閥作用金屬板 箔的金屬板40作為陰極而測量本實 ,^ %極與包含銅 置之電容值時,發現在頻率]里:;=之2二線路, 值約為380以F,表示介電氧化膜2〇 〃、 z的電合 咯所塗覆。 丨罨軋化膜20之表面適當地由聚吡 亦且,當糟由連接二對電極引 條線路型裝置之兩側的陽搞a ☆山' ’亦P設於屏蔽 -f41 ^42 5. ^ ^和引線鳊子1'1與U及陰極引線端 ί 3 t 而測量功率傳輸特魏1時,發現 S21在1〇〇 .至100 ΜΗζ之頻率範圍中最多 % = 頻率為1 GHz時最多為-40 dB。因此可瞭解本容 線路型裝置相較於先前技藝電容而Ύ仏 位電路之電源解耦裝置的極優良特徵。有作為间速數 兹將說明本發明之第三實施例。相較於前述第一實施 例之屏蔽條線路型裝置之排列,太杂 4第只^ ^ t ^,1 ^ Π ^ ^ ^ ^ 本灵施例之屏蔽條線路型 广置?排列不同處在於導電聚合物膜31係由聚己、 置。裝置之排列相同於第一實施例之屏蔽條線路型裝
、,茲將說明本實施例之屏蔽條線路型裝置之製造方法。 =藉由:同於第一實施例之方法,介電氧化膜20與遮 罩形成於閥作帛金屬板10之表面±。然後在玻璃S 第20頁 1279080 五、發明說明(16) 備具有濃度5質量%的聚己基蜜吩之二〒苯溶液 々 至表面上已經形成有介電氧化 ==液滴 =〇之未遮蔽的區域上,然後在溫度 =用金屬板。然後整個裝置浸入氫氯酸水“;:乾燥 已3具有虱離子作為摻雜物的聚己基噻吩之形成 31於介電氧化膜20之表面上。 導電來合物膜 然後藉由相同於前述第一實施例之方 3〇,藉由形成導電碳膠層32與銀膠層⑽以環繞】: :1〇之表面中已經形成有導電聚合': 金屬板40、並且金屬板4。之 1 = 引線端子41與42。隨後,藉由相同於第一二1乍ί陰極 移除遮罩且黏附陽極引線端子11與12 0貝'方法, 當使用包含鋁箔的閥作用金屬^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 落的金屬板4〇作為陰極而測量本會m t極與包含銅 置之電容值時,發現在頻率里之:蔽條線路型裝 值約為380 ^,表示介電氧牛^而5 ,為120 Ηζ的電容 基噻吩所塗覆。 匕膜2〇之表面適當地由聚己 你始Ϊ ^ ’當藉由連接二對電極引線端子,亦即設於屏蔽 Ϊ4 的陽極引線端子 S21在ί nn t 測量功率傳輸特徵S21時,發現 γ 〇Z之頻率範圍中最多為— Μ dB且在
St? 4〇⑽。因此可瞭解本實施例之屏 裝置相Ϊ於先前技藝電容而言具有作為高速數 電路之電源解耦裝置的極優良特徵。 1279080 五、發明說明(17) 茲將說明本發明之第四實 例之屏蔽條線路型裝置之排,—目較於前述第一實施 裝置之排列不同處在於導電聚丄二之屏蔽條線路型 吩所形成。此外,本實施例之係由聚乙烯雙氧蜜 同於第一實施例之屏蔽條線路型裝、”。路型裝置之排列相 茲將說明本實施例之屏蔽 首先,藉由相同於第一實施例‘方法,二㊁,製造方法。 罩形成於閥作用金屬板10之表面±。缺“ ”膜20舆遮 備含有10質量%的十二烷苯磺鐵之乙醇、、溶在玻璃容器中準 形成有介電氧化膜20的前述閥作用金_ /二^表面上已經 然後取出,然後在室溫之空氣中;=此溶液中 浸入含有50質量%的乙烯雙氯噙、μ刀、里;、、、:後此樣品 然後留在空氣巾/日中然後取出, =工孔〒為時30为鐘以聚合乙烯雙氧噻吩。 田者水…乙醇清洗該樣品且在溫度8 〇艺之環境中乾燥。^ 浸入前述乙醇溶液至在溫度8 〇 t中乾燥之操作^四= 形成包含具有十二烷苯磺酸作為摻雜物的聚乙烯雙氧噻 之導電聚合物膜31於介電氧化膜2〇之表面上。 然後藉由相同於前述第一實施例之方法形成導電芦 3〇 ’藉由形成導電碳膠層32與銀膠層33以環繞閥作用二屬 板10之表面中已經形成有導電聚合物膜之區域、黏附包含《 銅箔之金屬板4 0、並且金屬板4 0之各末端部排列作為阶極 引線端子41與42。隨後,藉由相同於第一實施例之方:, 移除遮罩且黏附陽極引線端子11與12。 / 當使用包含鋁箔的閥作用金屬板1 〇作為陽極與包含銅
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五、發明說明(18) 箔的金屬板4 0作為陰極而測 置之電容值時,發現在頻率“;二::之:蔽條線路型裝 值約為380 ,表示介電氧牛^ ° ,20 Hz的電容 烯雙氧嗟吩所塗覆。 乳化膜2〇之表面適當地由聚乙 亦且,當藉由連接二對電極引線端子,亦即設於屏 裝置之t侧的陽極引線端子11與12及陰極引線Ϊ 至網路分析器而測量功率傳輸特徵S21時,發現 在1 MHz至100 MHz之頻率範圍中最多為_6〇心且 時最多為—4〇,β。因此可瞭解本實施例之屏蔽 =、,’里裝置相較於先前技藝電容而言具有作為高速數位 電路之電源解耦裝置的極優良特徵。 狄刑^ ^說明本發明之第五實施例。本實施例之屏蔽條線 路i裝置之排列相同於前述第二實施例之屏蔽條線路型裝 置亦即’導電聚合物膜3 1係由聚u比0各所形成。 、,兹將說明本實施例之屏蔽條線路型裝置之製造方法。 =先藉由相同於第一實施例之方法,形成介電氧化膜2 〇 /、遮罩於閥作用金屬板丨〇之表面上。然後在玻璃容器中準 備έ。有3 0質量%的十二烷苯磺鐵之甲醇溶液且冷卻至溫度 5 〇 C。然後滴入吡咯至此溶液中直到其濃度變成6質量 /ο、’,同時維持溶液之溫度為_ 5 〇 ,攪動溶液以混合吡咯。 2後滴入溶液於表面上已經形成有介電氧化膜2 0與遮罩的 别,閥作用金屬板丨0之未遮蔽的區域上,然後將該樣品留 在至⑽中為時6 〇分鐘。隨後,藉著水與乙醇清洗閥作用金 屬板10且在溫度80 °C之環境中乾燥。藉以形成包含具有十
1279080 五、發明說明(19) ^烧苯續酸作4#雜物的聚 氧化膜20之表面上。 令心导电象合物膜31於介電 然後藉由相同於箭+、曾 ^ 3〇,_由带$道+、述苐一貫轭例之方法形成導電層 猎由幵y成導電碳膠層32盥銀#層<n u _达„从m i s 板10之表面巾已/、銀膠層33 繞閥作用金屬 銅羯之金屬板4。、、並iii:聚合物膜之區域、黏附包含 引線端子41與42。隨後之各末端部排列作為陰極 移除破罝日机 炱藉由相同於第一實施例之方法, 移除^罩且黏附陽極引線端子11與1 2。 笔的I Ϊ ΤΑ含鋁箱的閥作用金屬板10作為陽極與包含銅 晉夕雷…反作為陰極而測量本實施例之屏蔽條線路型裝 值約時,發現在頻率,舉例而言,為120 Hz的電容 糾^ 75 //F,表示介電氧化膜2〇之表面適當地由聚吡 咯所覆蓋。 你*亦且’當藉由連接二對電極引線端子,亦即設於屏蔽 八各路型裝置之兩侧的陽極引線端子11與1 2及陰極引線端 子41與42至網路分析器而測量功㈣輸特㈣κ,//: =21在1 MHz至1〇〇 MHz之頻率範圍中最多為一60 dB。因此 可f解本實施例之屏蔽條線路型裝置相較於先前技藝電容 而吕具有作為高速數位電路之電源解耦裝置的極優良特 徵。 ‘ ★錄將說明本發明之第六實施例。圖4顯示此實施例之 屏蔽條線路型裝置之透視圖。如圖4所示,此實施例之屏 蔽條線路型裝置設有一形成體1 3,包含平均微粒直徑,舉 例而言’為〇 · 5 /z m的鈕粉末之燒結緻密物。形成體1 3之
第24頁 !279080 五、發明說明(20) 形狀為矩形體,舉例而言,寬度3 m m、長度3 m m、且厚度 ^ 8 mm。鈕配線14與15連接至形成體13之各末端。鈕配線 1 4與15之直徑,舉例而言,為〇· 3 mm。金屬構件16係由形 成體13及鈕配線14與15所形成。 介電氧化膜(未圖示)形成於形成體13之表面上,且導 電聚合物膜、導電;5炭谬層、與銀膠層按照從内側起之順序 形成於此介電氧化膜之表面上,以環繞形成體丨3與介電氧 化臈。導體層35係由導電聚合物膜、導電碳膠層、與銀膠 層所形成。陽極引線端子11與1 2分別連接至鈕配線1 4與 厚度,舉例而言,約為1 〇 〇 // m的包含銅箔之金屬板 40重疊於導體層35之一側的表面上。金屬板4〇之縱方向上 之長度比導體層35之縱方向上之長度還長,因此金屬板4〇 之各末端部分不受導體層35所重疊。此等末端部分別排列 成陰極引線端子41與42。 ,茲將說明本實施例之屏蔽條線路型裝置之製造方法, 首先,平均微粒直徑為0.5 的鈕粉末填入内部寬度為 ":亩” ΐ度為3 -、且内部厚度為Unnn的容器中1 ί f m3 mm的鈕配線14與15黏附至由钽粉末受壓f 。。,藉以準備;屬構ir6d;成體至溫度? 物的形成體U,以及钽配㈣^身為组粉末之燒結緻宅
v的开&後雷猎厭由/濃度為〇.05質量%的磷酸水溶液中施加10 V㈣成電壓使此金屬構件16受到陽極氧化處自。然後進
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氧化膜的一介電氧化 此金屬構件16之叙配 包含六氟丙稀,然後 (未圖示)。當此金屬 中以測量靜電電容 五、發明說明(21) 行清洗並乾燥,藉以形成包含一金屬 膜(未圖示)於金屬構件1 6之表面上。 線1 4與1 5之部份浸入氟樹脂之溶液, 乾燥以形成覆蓋组配線1 4與1 5的遮罩 構件1 6浸入濃度〇 · 1 N的硫酸水溶液 時,發現靜電電容約為3 0 0 # F。 然後在破璃容器中準備含有10質量%的十二烷 之甲醇溶液。表面上已經形成有介電氧化膜20的金/鐵 16浸入此溶液中然後取出。然後金屬構件16留 冓= 氣中乾燥30分鐘。然後金屬構件16浸入含有5〇 工 洛之水溶液中然後取出’留在空氣中3〇分鐘以聚 隨後,藉著水與乙醇清洗該m在溫度= 燥。從浸入甲醇溶液至在溫度80t中乾燥之操作重複= 以=成包含具有十二烷苯磺酸酸作為摻雜物的聚吡咯之ς 電聚合物膜(未圖示)於介電氧化臈之表面上。 導 然後形成導電碳膠層與銀膠層以環繞金 面上已經形成有導電聚合物膜之區域。 表 聚合物膜、導電碳膠層、與銀膠層所形成。隨後y勺 羯的金屬板40黏附至導體層35之一側的 之縱方向上的長度比導體層35之 0 二屬r之各末端部不接觸導體層π。金等 末鈿邛刀別用作為陰極引線端子41與42。 且分f黏附陽極引線端子11與12至組配線14*15移;= 成此只施例之屏蔽條線路型裝置。藉著此實施例之屏蔽條 1279080 五、發明說明(22) 線路型裝置,從陽極引線端子1 1輸入的高頻信號電流穿過 構件16並從陽極引線端子12輸出。在此過程中,前述 儿電%IL 了由介電氧化膜與導體層3 5加以滤波。既然金屬 構件1 6具有傳輸線構造之形狀,且直交於信號電流流動方 $的剖面之形狀實質上固定,故金屬構件1 6内部的電磁場 會均句’甚至當信號電流為高頻電流時亦然,因此特徵阻 抗之頻率依存性小。 、亦且’既然身為閥作用金屬的金屬構件16係由鋁所形 成故均勻且穩定的介電氧化膜可容易地形成於金屬構件 16 =表面上。更且,既然導體層35設成環繞金屬構件Μ, 見見了可屏蔽從金屬構件16漏出的磁通量之屏蔽條線, ί 使裝置之阻抗變低。更且,藉由設置金屬板4 0,可形 成丢極引線端子41與42且可使裝置之阻抗變得更低。更 ^既然導體層3 5設有包含聚吡咯的導電聚合物膜,故可 谷易形成良好黏附於介電氧化膜且導電性高的導體層。 所來ί且ί著本實施例,既然形成體13係由粉末燒結方法 $ ^ w μ #形成體13可容易製成任何的形狀。亦且,可在
(I 且包I銅^ ίΐ五實施例。當使用金屬構件16作為陽極 路型i置:電容值m j極測量本實施例之屏蔽條線 r 以表不介電氧化膜之表面適當地…嘻所塗 亦且,當藉由連接二對電極引線端子,亦即設於屏蔽
1279080 五、發明說明(23) 條線路型裝置之兩側的陽極引線端子〗丨與丨2及陰極引線端 子41與42至網路分析器而測量功率傳輸特徵S2i時,發現 S21在1〇〇 kHz至1〇〇 MHz之頻率範圍中最多為_6〇 dB^在^ GHz之頻率時最多為_40 dB。因此可瞭解本實施例之屏蔽 條線路型裝置相較於先前技藝電容而言具有作為高速數位 電路之電源解耦裝置之極優良特徵。 兹將說明本發明之第七實施例。圖5顯示此實施例之 屏蔽條線路型裝置之透視圖。如圖5所示,此實施例之 蔽條線路型裝置設有圓柱狀金屬構件17 ’由鋁所形成,直 徑為5 mm且長度為100 mnl。圓柱狀金屬構件17之各末 =f,極引線端子lla與123。孔丨lb與12b分別形成於陽極 引線端子11 a與1 2 a中。 介電氧化膜21形成於圓柱狀金屬構#17 化賴之雜,依序從内向外形==有; 曱本嶒ι作為摻雜物的聚苯胺之導電聚合物膜、導電 :思以及銀膠層。導體層36係由此導電聚合物膜、導電‘ =、與銀膠層所形成。包含厚度約為㈣⑽的銅羯之 至導體層36。金屬板4°之縱方向重合於圓柱 ==之軸方向。金屬板4°在縱方向上之長度比導 體層36在相同方向上之長度還長,因此金屬板心 ^ 導:層36。此金屬板4〇之各末端部排列成陰t 1與42&? 一 茲將說明此實施例之屏蔽條線路型裝置之製造方法
第28頁 1279080 五、發明說明(24) _ 首先’準備一包合叙廿σ + 圓柱作為圓柱狀金屬徑為5龍且長度為100 mm的 部排列作為陽極引線 。圓柱狀金屬構件之各末端 別形成於陽極引線端子:與12&。亦且,孔ub與12 b分 電壓而受到陽極氧化。缺:且:由施加10v的 屬氧化膜的介電氧化膜二、^冼並乾知,因此形成包含金 然後圓柱狀金】二狀二屬構件η之表面上。 脂之溶液中,包含3 2末;:之10㈣的部分浸入敦樹 示)於圓知壯入思 氟烯,然後乾燥以形成遮罩(未圖 借k、二 人屬構件17之兩末端。然.後在玻璃容器中準 缺後Γ〇質量%的對甲苯磺酸與5質量%的苯胺。 形成有前述介電氧化膜21的圓柱狀金屬構 ίΜη二#。洛,中然後取出,然後留在室溫之空氣中乾 二租i广°.」後s亥樣品浸人含有10質量%的過二硫酸銨與 質虿%的對甲苯磺酸之水溶液中然後取出,缺後留在^ 、在/孤度80 C之環境中加以乾燥。此等操作重複四次以形 成包含具有對甲苯磺酸作為摻雜物的聚苯胺之導電聚合物 膜於介電氧化膜21之表面上。 然後形成導電碳膠層與銀膠層以環繞圓柱狀金屬構件 1 7之表面上已經形成有導電聚合物膜之區域。因此導體層 3 6係由導電聚合物膜、導電碳膠層、與銀膠層所形成。隨 後’包含厚度約為1 〇 〇 # m的銅箔之金屬板4 〇連接至導體 層36。此金屬板4〇之各末端部排列作為陰極引線端子41a
第29頁 1279080 五、發明說明(25) 與42a。然後分別形成孔41b與42b於陰極引線端子41a命 42a中。隨後,圓柱狀金屬構件17之各末端部浸入四a氮、 喃中以溶解且消除身為遮罩樹脂的六敦丙稀。 Λ ^ 因此製成此實施例之屏蔽條線路型裝置。 藉著此實施例之屏蔽條線路型裝置,從陽極引 11 a輸入的高頻信號電流穿過圓柱狀金屬構件丨7且從 引線端子1 2a輸出。在此過程中,前述信號产人 氧化膜21與導體層36加以遽波。既然圓柱狀金^構&件^電具 有傳輸線構造之形狀且直交於信號電流流動之方向的面 之形狀係實質上固定,故圓柱狀金屬構件17内之電磁場合 均勻’甚至當信號電流為高頻電流時亦然,因此特徵阻^ 之頻率依存性小。 亦且,既然身為閥作用金屬的圓柱狀金屬構件17係由 鋁所形成,故均勻且穩定的介電氧化膜可容易地形成於圓 柱狀金屬構件1 7之表面上。更且,既然導體層3 6設成以環 繞圓柱狀金屬構件17,故實現了可屏蔽從圓枚狀金屬構件 1 7漏出的磁通量之屏蔽條線,且可使裝置之阻抗變低。更 且,藉由設置金屬板4〇,可形成陰極引線端子41&與423且 可使裝置之阻抗變得更低。更且,既然導體層3 6設有包含 聚苯胺的導電聚合物膜,故可容易形成良好黏附於介電氧 化膜且導電性高的導體層。 更且藉著本實施例,既然孔丨lb、12b、41b、與42b分 別形成於陽極引線端子11a與12a及陰極引線端子41a與42a 中’故陽極引線端子1 la與} 2a及陰極引線端子4 ia與42a可
第30頁 1279080 五、發明說明(26) 連接至外部。因此大電流可穩定地流過屏蔽 當使用圓柱狀金屬構件丨7作為陽極且包含銅箔 板40作為陰極而測量本實施例之屏蔽條電 現電容約為10…表示介電氧化膜之 二聚本胺所覆i。亦且,當藉由連接二對電極引線端;地 亦即,设於屏蔽條線路型裝置之兩末端的螺孔llb、i2b、 41 g與42b至網路分析器而測量功率傳輸特徵S2i 緩kHzM GHz之頻率範时最多為_4〇 /b。^ ^可t解本貝施例之屏蔽條線路型裝置相較於先前技藝電 t而5具有作為高速數位電路之電源解耦裝置之極優良特 ==忒明本發明之第八實施例。圖6顯示此第八實施 ,條線路型裝置之外部透視圖。圖6之沿著線B-B, 於二係相同於圖3。此實施例之屏蔽條線路型裝置亦 t且古1用金屬板1 〇,具有長、薄、平板的形狀且其表面 fi二赠9;1電氧化膜2〇 ,並且包含導電物質之層30經由介電 乳化膜20而覆蓋閥作用金屬板1〇。 如,本屏蔽條線路型裝置,閥作用金屬板1〇在縱方向 之端部分具有實質上平面的形狀,位於相同直線 士牛^而B ,閥作用金屬板1 〇係由銘所形成。舉例而 二用金屬板1〇之形狀為矩形,厚度為110 、長 ^ ^ 、且寬度為10 mm。闕作用金屬板10之表面,亦 I7了面、背面、與末端面的表面面積藉由電解液中之電解
1279080 五、發明說明(27) 姑刻增加約2 00倍。包含導電物質之層3〇 你 用金屬板10中除了兩末端部分以外之整個表面。覆盍閥作 從平面觀看,本屏蔽條線為1]形 屬^之-末端部的陽極引線端子u黏附金 -末端部’冑連接至閥作用金屬板1〇之另一末屏:的條陽線之 =線端子12黏附至本屏蔽條線之另—末端部。陽極引線端 子1 1與1 2及包含導電物質之層3 〇間4/l右蚀甘 ^ 、 f物貝6G H ’閥作用金屬板1G由包含導電物質之層3〇 ”絕緣物質60所密封。陽極引線端子丨〗與12皆具有平坦的 矩形剖面。 更且,尺寸大約相同於屏蔽條線路型裝置之底面的金 屬板40黏附至該底面,且陰極引線端子41與42黏附至金屬 板4 0之各末端部。 茲將說明圖6所示的屏蔽條線路型裝置之製造方法。 如前所述,圖6之沿著線B-B,的剖面圖係相同於圖3所示的 剖面圖。 藉著本實施例,使用厚度為/zm且表面面積已經 θ加大約為2 〇 〇倍的銀沒作為閥作用金屬板1 q。此紹羯被 沖出寬度為1 0 mm的正方C形狀。在鋁箔(閥作用金屬板1 〇 ) 之各末端部設有包含六氟丙烯的氟樹脂的絕緣物質6 〇之 後’此鋁箔在5質量%的硼酸銨水溶液中受到1 〇 v的電壓之 陽極氧化,然後清洗且乾燥.以獲得具有包含金屬氧化膜之 介電氧化膜20的鋁箔。當浸入〇· 05 莫耳/升的硫酸水溶液 中而測量此箔之靜電電容時,發現靜電電容約為38 0 /z
第32頁 1279080 五、發明說明(28) F 〇 然後在玻璃容器中準備一具有濃度為1 (J質量%的對甲 苯磺酸與濃度為5質量%的苯胺之水溶液,且其上已經形成 别述介電氧化膜2 0的前述銘箔浸入此水溶液中然後取出。 然後此箔在室溫之空氣中乾燥3 〇分鐘,然後浸入含有丨〇質 量%的過二硫酸銨與1〇質量%的對甲苯磺酸之水溶液中然後 取出’然後維持於空氣中另外2 〇分鐘以聚合苯胺。隨後, 藉著水與乙醇清洗該樣品且在溫度8〇它之環境中乾燥。重 複此等操作四次,獲得介電氧化膜2 〇之表面覆蓋有導電聚 合物膜31的鋁箔(閥作用金屬板1〇)。此導電聚合物膜31包 含具有對甲苯磺酸作為摻雜物的聚苯胺。毋庸贅言,防止 導電聚合物膜3 1形成於設有絕緣物質6 〇的部份處。 、然後塗佈導電碳膠層32與銀膠層33以環繞其上已經形 成有導電聚合物膜31(聚苯胺)的鋁箔,藉以完成導電層 。然後包含厚度約為丨〇〇 的銅箔之金屬板4〇黏附至 電層30金屬板40之末端分別排列成陰極引線端子ο與 Ik後,鋁箔(閥作用金屬板丨〇 )之各末端部浸入四氫呋 超:遮罩樹脂之包含六氟丙烯的樹脂,並且使用 :波烊揍黏附二個(一對)陽極引線端子丨丨與丨2至鋁 合禾端。 當使用鋁箱之閥作用金屬板i 〇作為陽極且 板4°作為陰極而測量所獲得的屏蔽條線路型裝 發現在頻率l2"z時的電容值約乂置表之示電 乳化膜20之表面適當地由聚苯胺所塗覆。亦且,當藉 1279080 五、發明說明(29) 由連接設於此屏蔽條線路型裝置之兩端的二對電極引線端 子11、1 2、4 1、與4 2至網路分析器而測量功率傳輸特徵 S21時,發現S21在100 kHz至100 MHz之頻率範圍中最多為 70 dB且在1 GHz之頻率時最多為-40 dB。因此可瞭解本 實施例之屏蔽條線路型裝置相較於先前技藝電容而言具有 作為高速數位電路之電源解耦裝置之極優良特徵。 茲 的屏蔽 置’但 陰極引 成位於 茲 的屏蔽 置,然 折成正 之處在 將參照 蔽條線 型裝置 處的陰 排列成 茲 此第十 著圖10
將參照圖7說明本發明之第九實施例。雖然圖7所示 條線路型裝置相同於圖6所示的屏蔽條線路型裝 陽極引線端子11與12彎折且金屬板40之各末端處的 線端子41與4 2以及陽極引線端子11與1 2之頂端排列 相同平面上以促進表面安裝至電路板上。 將參照圖8說明本發明之第十實施例。雖然圖8所示 條線路型裝置相同於圖6所示的屏蔽條線路型裝$ 而在圖6所示的裝置中,閥作用金屬板1〇之鋁^
方C形狀且被沖出直角部’但圖8所示的實施例 於鋁箔被沖出U形狀,亦即彎成更圓滑的形 圖9說明本發明之第十-實施例。雖然圖9所示的\ 路型裝置彎成圓滑形狀如同圖8所示的屏蔽、屏 ,但陽極引線端子11與丨2彎折且金屬板4〇之各·山 極引線端子41與42以及陽極引線端子丨丨與夕末端 位於相同平面以促進表面安裝至電路板^。頂端 將參照圖1 0說明本發明之第十二告 二實施例之屏蔽條線路型裝置二=。圖10顯示 之線C-C,之剖面圖。 置之千面圖且圖U係沿 1279080
茲將說明本發明之第十三實施例。此第十三實施例係 圖6所示的屏蔽條線路型裝置之製造方法之實施例。 雖然此屏蔽條線路型裝置 層排列,但就形狀而言,本裝 為碟狀。亦即,雖然在第九至 屬板1 〇之銘箔被沖成在銘箔之 的形狀,但在本實施例中,使 金屬板1 0且鋁箔之各末端朝相 之箔平面之方向上舉起。閥作 端排列為陽極引線端子1 1與1 2 作用金屬板10之表面上的介電 板40。金屬板4〇之各末端排列 極引線端子1 1與1 2之頂端以及 排列成位於相同平面以促進表 具有相同於前述各實施例的 置在縱方向上剖面形狀形成 第十一實施例中,閥作用金 落平面之方向上彎曲或彎折 用薄的條狀鋁箔作為閥作用 同方向彎折而在直交於鋁箔 用金屬板1 0之此紹箔之各末 ’導電層30形成以覆蓋在閥 氧化膜2 0 ’且黏附條狀金屬 為陰極引線端子41與42。陽 陰極引線端子4 1與4 2之頂端 面安裝。 一首先’在玻璃容器中準備含有濃度為1〇質量%的十二 烷,%鐵之甲醇溶液。然後已經完成第八實施例中形成介 ,氧化膜20之製程的鋁箔浸入此溶液中然後取出。然後鋁 箔在室溫之空氣中乾燥3〇分鐘,浸入含有5〇質量%的吨咯 之水溶液中然後取出,且維持於空氣中另外3 q分鐘以聚合 。比洛。隨後,藉著水與乙醇清洗鋁箔且在溫度8〇 t之環境 =乾燥。重複此等操作四次,獲得介電氧化膜2 〇之表面覆 蓋有導電1合物膜31之紹箔(閥作用金屬板1 〇 )。此導電聚 σ物膜31包含具有十二燒笨績酸作為摻雜物的聚也σ各。 然後藉由相同於第八實施例之方法形成導電層3 〇,以
1279080 五、發明說明(31) 鋁箔上已經形成有導電聚合物膜3 1 (聚吡咯)之部份。 包含銅箱之金屬板4〇且金屬板40之各末端排列成 端子41與42 °冑後,藉由第八實施例之方法,溶 产夕^ Ϊ用包含鋁猪之閥作用金屬板1〇作為陽極且包含銅 =Φ々屬板4 〇作為陰極而測量所獲得的屏蔽條線路型裝置 谷_值時,發現在頻率1 2 〇 jjz時的電容值約為3 8 0 // ,示7丨電,氧化膜2 〇之表面適當地由聚。比洛所塗覆。 一 ί且,當藉由連接設於屏蔽條線路型裝置之各末端處 六:德ί極引線端子11、12、41、42至網路分析器而測量 ί ϊ ί輸特徵Sn時,發現S21在100 kHz至100 1〇2之頻率 靶 最夕為—70 dB且在1 GHz之頻率時最多為一 40 (1B。 可,解本見施例之屏蔽條線路型裝置相較於先前技藝 ^谷而言具有作為高速數位電路之電源解耦裝置之極 特徵。 兹將說明本發明之第十四實施例。此第十四實施例係 圖6所示的屏蔽條線路型裝置之製造方法之實施例。 首先,在玻璃容器中準備具有濃度為5質量%之聚己基
,吩溶液,且此溶液滴至已經完成到第八實施例中之介電 氧化膜2。0之形成的鋁箔之未受遮蔽的區域上,然後鋁箔在 溫度8—0 °C之環境中乾燥。然後整個裝置浸入氫氯酸水溶液 中^藉以使用導電聚合物膜31塗佈介電氧化膜2〇之表面。 此導電聚合物膜31包含具有氯離子作為摻雜物的聚己基噻 吩0
第36頁 !279〇8〇 五、發明說明(32) 产短然後藉由相同於第八實施例之方法形成導電層30,以 二繞鋁箔上已經形成有導電聚合物膜31 (聚己基噻
Li後㈣寸包含銅箱之金屬板4〇且金屬板之各末“ 為陰極引線端子41與42。隨後,藉由第八實施例之方 、,溶解遮罩樹脂且黏附二陽極y線端子u與12。 $ μ 用包含鋁猪的閥作用金屬板10作為陽極且包含銅 屬板40料陰極而測量所獲得的屏蔽條線路型裝置 之電谷值阵,發現在頻率12〇Ηζ時的電容值約為38〇 I 覆。不介電氧化膜20之表面適當地由聚己基噻吩所塗 -fj ΐ a!藉由連接設於此屏蔽條線路型裝置之兩端的 子U、12、41、舆42至網路分析器而測量 ’發現S21在⑽山至⑽MHz之頻率 ί ^ ί夕〇心且在1 GHz之頻率時最多為-40 dB。 電id:,屏蔽條線路型裝置相較於先前技藝 兩速數位電路之電源解驗置之極優良 茲將說明本發明之第+ $智:^ y , 圖6所示的屏蔽條線路Λ置此第Λ五實施例係 ^ ^ ^ - 衣方法之實施例。 烧苯#鐵之乙為中準備含有濃度為10質量%的十二 ΐ 5= 錢已經完成在第八實施例中之介 形ΪΓ呂箱浸入此溶液中然後取出。然後銘 雙氧嗟吩之水溶液然後取出,然後維持=二乙上
第37頁 1279080 五、發明說明(33) 鐘以聚合乙烯雙氧舊吩。隨後,藉著水與乙 在溫度80 t:之環境中乾燥。重複此等操作,舉例而j泊且 次’獲得介電氧化膜20之表面覆蓋有導電聚合物膜心的: 箔(閥作用金屬板10)。此導電聚合物膜31包含具有 ^ 苯磺酸作為摻雜物的聚乙烯雙氧噻吩。 一院 然後藉由相同於第一實施例方法形成導電層3〇, 繞銘箱上已經形成有導電聚合物膜31(聚乙烯雙氧噻 衣 部分。然後黏附包含銅箔的金屬板4〇且金屬板4〇之各 排列作為陰極引線端子4丨與“。隨後’藉由第八實施例$ % 方法,,溶解遮罩樹脂且黏附二陽極引線端子丨丨與丨2。 咏當使用包含鋁箱的閥作用金屬板1 0作為陽極且包含銅 泊的,屬板40作為陰極而測量所獲得的屏蔽條線路型裝置 之電容_值時,發現在頻率12〇Hz時的電容值約為38〇 # F,表不介電氧化膜2〇之表面適當地由聚乙烯雙氧噻 塗覆。 亦且,當藉由連接設於屏蔽條線路型裝置之各末端處 的二對電極引線端子n、12、41、42至網路分析器而測量 功率傳輸特徵S21時,發現S21在i MHz至1〇〇 MHz之頻率範 圍中最多為-60 dB且在1 (jHz之頻率時最多為—4〇 dB。因 =可f解本實施例之屏蔽條線路型裝置相較於先前技藝電 谷而&具有作為高速數位電路之電源解耦裝置之極優良特 徵。 兹_將說明本發明之第十六實施例。此第十六實施例係 6所不的屏蔽條線路型裝置之製造方法之實施例。
1279080 五、發明說明(34) 首先’在破璃容器中準備具有濃度為30質量%的十二 炫苯磺鐵之甲醇溶液且冷卻至溫度_5〇。〇。然後。比咯滴入 此洛2中直到其濃度變成6質量%,然後藉由攪拌該溶液加 ”:,同時維持溫度於—㈣。然後此溶液滴至已經完 貫施例中之介電氧化媒20之形成的紹謂之未受遮 =上,然後紹箱維持於室溫中6〇分鐘。隨後藉著水 =酵π洗且於80 C乾燥,獲得介電氧化膜2〇之表面覆蓋 1 t合物膜31之銘箱。此導電聚合物膜31包含具有十 —烷本續酸作為摻雜物的聚叱咯。 产鸲f ί猎由自同於第八實施㈣之方法形纟導電層30,以 二:、呂泊上已經形成有導電聚合物膜3丨(聚吡咯)之部份。 if,附包含銅落的金屬板4〇且金屬板仰之 ==線料41與42。隨後,藉由第八實施例之方j作 /备,罩树月日且黏附二陽極引線端子丨丨與i 2。 落的ί Ϊ 1包含1呂落的闕作用金屬板1 0作為陽極且包含銅 二枯屬板40作為陰極而所獲得的屏蔽 谷:時,發現在頻率120 Ηζ時的電容值約為心置之電 不,丨電氧化膜別之表面適當地由聚吡咯所塗覆。 表 亦且,當藉由連接設於屏蔽條路^ ^ ^ ^ 的二對電極引線端子U、12、41、42至網路八;士末络^ Α 功率傳輸特徵S21時,發現S21 , ] ΜΗ 刀态而測篁^ 圍中畏夕失,η ^ I現“1在1 ΜΗζ至100 MHz之頻率範 =夕為-60 dB。因此可瞭解本實施例之 : 2相較於先前技藝電容而言具有作為高速數位 /'、耦裝置之極優良特徵。茲將說明本發明之第十七實施 第39頁 1279080 五、發明說明(35) ' · 例。圖1 2A至1 2G係依據製程順序顯示圖6所示的屏蔽條線 路型裝置之製造方法。 如圖12A所示,準借正方C形狀金屬箔之閥作用金屬板 10,且如圖12B所示,絕緣物質60設於已經彎折成正方c形 狀的金屬落之各末端附近。此等絕緣物質6〇防止後續製程 中的溶液蔓延。 、接著,如圖12C所示,準備含有5質量%的硼酸銨水溶 液8〇之奋器以及DC電源供應70,以形成介電氧化膜2〇於閥 作用金屬板10之表面上,且Dc電源供應7〇之陰極連接至硼 酸,水溶液80,陽極71連接至閥作用金屬板1〇,且施加仳 電堅以進行陽極形成。在此製程中,閥作用金屬板丨〇中位 於圖中絕緣物質60下方之部份浸入硼酸銨水溶液8〇中。結 果,介電氧化膜20形成於閥作用金屬板1〇之表面上。 屬然^已經卩前述方式形成有彳冑氧化膜2〇的閥作用金 2二1〇 =人溶液90中用以形成導電物質’如圖12£所示。 ::果’:電層30形成於介電氧化膜2〇之表面上,如圖ΐ2ρ 】Wi L藉由黏附金屬板40至導電物質3°之表面而完 成屏蔽條線路型裝置,如圖12G所示。
H 置,述,藉由本發明可獲得一種屏蔽條線路型裝 f 低,尤其在100 MHZ或更高之高頻範圍中更是 通梦晉十ί合用於高速與高頻,主要作為雜訊濾波器之旁 通裝置或作為解耦裝置。 L故恭之穹 速數:iC共了獲得比先前技藝電容更佳地作為高 之電源解麵裝置的屏蔽條線路型裝置之效果。
1279080 五、發明說明(36) 亦且藉由彎折或彎曲在一方向上為薄長形狀的閥作用金屬 之各末端,以使閥作用金屬之形狀為正方C形狀、楔形 狀、或ϋ形狀,提供了可僅藉由浸入用於陽極形成的溶液 中或用於形成導電材料之層的溶液中而製造屏蔽條線路型 裝置之效果。
第41頁 1279080 圖式簡單說明 圖1顯示先前技藝表面安裝濾波器之例子之剖面圖。 圖2顯示依據本發明之一實施例之屏蔽條線路型裝置 之剖面圖。 圖3係沿著圖2之線A-A’之剖面圖。 圖4顯示依據本發明第六實施例之屏蔽條線路型裝置 之透視圖。 圖5顯示依據本發明第七實施例之屏蔽條線路型裝置 之透視圖。 圖6顯示依據本發明第八實施例之屏蔽條線路型裝置 之透視圖。 圖7顯示依據本發明第九實施例之屏蔽條線路型裝置 之透視圖。 圖8顯示依據本發明第十實施例之屏蔽條線路型裝置 之透視圖。 圖9顯示依據本發明第十一實施例之屏蔽條線路型裝 置之透視圖。 圖1 0顯示依據第十二實施例之屏蔽條線路型裝置之平 面圖。 圖11係沿著圖10之線C-C’之剖面圖。 圖1 2A至1 2G係依製程順序顯示依據本發明第十七實施 例之屏蔽條線路型裝置之製造方法。 【符號說明】 10 閥作用金屬板
第42頁 1279080 圖式簡單說明 11,lla,12, 12a 陽極引線端子 1 lb,12b 螺孔 13 形成體 14, 15 组配線 16 金屬構件 17 圓柱狀金屬構件 20,21 介電氧化膜 30導電層 31 導電聚合物膜 32 導電碳膠層 3 3 銀膠層 35 導體層 36 導體層 40 金屬板 41,41a,42,42a 陰極引線端子 41b, 42b 螺孔 60 絕緣物質 70 DC電源供應 71 陽極 8 0 糊酸敍水溶液 90 溶液 110 第一介電片 111 第一内部導體 112 第二内部導體
第43頁 1279080 圖式簡單說明 115 曲折導體 120 第二介電片 125 接地導體 130 第三介電片 151 第一信號電極 152 第二信號電極 153 層疊體 _
第44頁
Claims (1)
1279080 六、申請專利範圍 1 · 一種屏蔽條線路型裝置,包含: 金屬構件’由一閥作用金屬所形成,高頻電流流經 其間且直交於高頻電流流動方向之剖面形狀在該電流方向 上係實質上固定,· ”電氧化膜’形成於此金屬構件之表面上,·以及 一導電層,設置以夾住該介電氧化膜且環繞該金屬構 件0 2面:狀申係請矩專:。範圍第1項之屏蔽條線路型装置,其中該到 3面形如狀申:上利範圍第1項之屏毅條線路"裝置,其中該剖 該剖 4面形如上二專形利。範圍第1項之屏蔽條線路型装置,其中 5讲:一申5專利範圍第1項之屏蔽條線路型裝置Φ — 對苐一電極弓丨線端子,設置於該置,更包含一 置處。 ”乍用金屬構件之不同位 6.如申請專利範圍第1至第5項中— 裝置,其中該導電層包括一層導電聚合物匕。屏蔽條線路型
第45頁 ί2?9〇8〇 申噜專利範蜀 彎a 部。,且該對第 電極引線端子設置成對應於該對末端 ,作以::2=項之屏蔽條線路型裝置,其中該 的束端其形狀為-對互相 χ子第1極%線端子設面朝相同方向升起,且 置成對應於該對末端部。 閥作用金屬%md項之屏蔽條線路型裝置,其中該 八有囡柱狀或圓桶形狀。 15·—種屏蔽條線路型裴置之诰 人 使用一由一閥作 / ,匕各下列步驟·· 件之形壯夂;士 金屬所形成的金屬構件,吁入歷 金屬構件之該兩末端 相或考曲,且於該閥作用 藉由將該闕作構::近設置絕緣物質; j入到化學轉化用之氧化劑中,==物質間之區域 藉由浸入該間作;之該區域之表面上; 該區域於-聚合作用浴槽中::::絕緣物質層間之 氧化膜上;以及 /成一層導電物質於該介電 黏附一金屬板至該導電層。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001287463A JP2003101311A (ja) | 2001-09-20 | 2001-09-20 | シールドストリップ線路型素子 |
JP2001311529A JP3674693B2 (ja) | 2001-10-09 | 2001-10-09 | シールドストリップ線路型素子及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWI279080B true TWI279080B (en) | 2007-04-11 |
Family
ID=26622619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW091121550A TWI279080B (en) | 2001-09-20 | 2002-09-19 | Shielded strip line device and method of manufacture thereof |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6721171B2 (zh) |
CN (1) | CN100492897C (zh) |
DE (1) | DE10243795A1 (zh) |
TW (1) | TWI279080B (zh) |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200409153A (en) * | 2002-09-04 | 2004-06-01 | Nec Corp | Strip line element, printed circuit board carrying member, circuit board, semiconductor package and method for forming same |
US7319599B2 (en) * | 2003-10-01 | 2008-01-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Module incorporating a capacitor, method for manufacturing the same, and capacitor used therefor |
JP4343652B2 (ja) * | 2003-11-07 | 2009-10-14 | Tdk株式会社 | 固体電解コンデンサ及び固体電解コンデンサデバイス |
JP4392237B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2009-12-24 | ローム株式会社 | 固体電解コンデンサ |
JP4240385B2 (ja) * | 2004-02-03 | 2009-03-18 | Necトーキン株式会社 | 表面実装型コンデンサ |
JP4126021B2 (ja) * | 2004-02-05 | 2008-07-30 | ローム株式会社 | 固体電解コンデンサ |
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JP2006165415A (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-22 | Rohm Co Ltd | 固体電解コンデンサ |
US8414962B2 (en) | 2005-10-28 | 2013-04-09 | The Penn State Research Foundation | Microcontact printed thin film capacitors |
JP4626556B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2011-02-09 | Tdk株式会社 | 固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
US7211740B1 (en) | 2006-04-28 | 2007-05-01 | Kemet Electronics Corporation | Valve metal electromagnetic interference filter |
JP4662368B2 (ja) * | 2006-06-22 | 2011-03-30 | Necトーキン株式会社 | 固体電解コンデンサの製造方法 |
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JP2017054757A (ja) * | 2015-09-11 | 2017-03-16 | オムロン株式会社 | 磁気シールド構造 |
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-
2002
- 2002-09-19 TW TW091121550A patent/TWI279080B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-09-20 US US10/247,976 patent/US6721171B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-09-20 CN CNB021495408A patent/CN100492897C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-09-20 DE DE10243795A patent/DE10243795A1/de not_active Ceased
-
2003
- 2003-11-05 US US10/701,587 patent/US6873518B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20030053286A1 (en) | 2003-03-20 |
US6721171B2 (en) | 2004-04-13 |
US6873518B2 (en) | 2005-03-29 |
DE10243795A1 (de) | 2003-05-15 |
US20040105218A1 (en) | 2004-06-03 |
CN1411144A (zh) | 2003-04-16 |
CN100492897C (zh) | 2009-05-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |