TWI259550B - Surfacing type substrate transportation processing apparatus - Google Patents

Description

1259550 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明’係關於一種供應例如光阻液體之處理液到例 如LCD用玻璃基板等的被處理基板後進行處理之上浮式 基板搬運處理裝置。 【先前技術】 ' —般而言，在於半導體裝置的製程中，係塗布光阻液 鲁 體到當做被處理基板的LCD用玻璃基板等（以下稱之爲基 板）來形成光阻薄膜後，使用光蝕刻法技術縮小電路圖案 來印刷到光阻薄膜，並將其顯影處理，之後進行從基板去 除光阻薄膜的一連串的處理。 做爲光阻薄膜的成形方法，有例如大家所習知的，將 感光性樹脂溶解到溶劑之光阻液體吐出呈帶狀之光阻供應 噴嘴；及將矩形狀的基板相對地朝向與光阻的吐出方向垂 直的方向平行移動後進行塗布處理的方法（例如專利文獻 · 1)。 根據這種方法，由於從基板的一邊到另一邊吐出（供 · 應）光阻液體呈帶狀的緣故，可以均勻地在矩形狀的基板 、 之全面上形成光阻薄膜）（日本特開平10- 1 5 6 2 5 5號公報（專 利申請範圍第1圖） 【發明內容】 [發明所欲解決的課題] -5- (3) (3)1259550 動的引導栓。 在於本發明中，上述連結手段，係只要連結上述基板 保持元件與滑塊的同時，可以隨著上述被處理基板的浮上 高度移位的話任何的構造也都可以，例如由板簧元件構成 (申請專利範圍第3項）、或.是由可以搖動自如地樞著在滑 塊的腕部元件所形成（申請專利範圍第5項）、或是做成可 以在於搖動元件的中間部是自由搖動地被樞著在滑塊，且 在該搖動元件的基板保持部側的相反側具備配重之構造。 這種情形下，當利用板簧形成連結手段時，在於板簧 元件，做成可以具備：朝向被處理基板的移動方向連續保 持多數基板保持元件之保持部；與相互間隔一定距離配設 後連結上述保持部與滑塊之撓性的連結部（申請專利範圍 第4項）。 另外，在於利用搖動自如地樞著在滑塊的腕元件形成 連結手段的情形下，也可以在於腕部元件的樞著部進一步 地裝著具備有反抗基板保持元件的保持力所作用的彈簧力 之彈簧元件（申請專利範圍第6項）。 此外，在於利用搖動元件與配重構成連結手段的情形 下，也可以在於與之搖動元件的基板保持部側的相反側的 u而部，做成可以進退地螺合結合配重〈申請專利範圍第8 項）。 另外，利用搖動自如地樞著在滑塊的略呈直角桿杆狀 的關節元件形成連結手段的同時，也可以做成在於此一關 節元件的垂直片與上述滑塊的對向面，具備利用激磁產生 -Ί - (4) (4)1259550 比基板保持元件的吸著力小的反抗力之電磁鐵。 另外’也可以將上述連結手段做成具備：一端連結到 滑塊’另一端連結具備有筒狀的軸承之支持元件；及連結 到基板保持元件的下部，且滑動自如地插入到上述筒狀軸 承內的昇降軸（申請專利範圍第]〇項）。此外，也可以將 上述連結手段做成具備：一端連結到滑塊，另一端連結具 備有筒狀的軸承之支持元件；及連結到基板保持元件的下 部’且插入到上述筒狀軸承內的筒狀的多孔套筒；及遊嵌 狀插入到此一多孔套筒的昇降軸；及介隔著上述筒狀軸承 後供應氣體到上述多孔套筒與昇降軸之間的氣體供應手段 (申請專利範圍第1 1項）。或者，將上述連結手段做成具 備··一端連結到滑塊，另一端連結具備有筒狀的軸承之支 持元件·’及連結到基板保持元件的下部，且滑動自如地插 入到上述筒狀軸承內的昇降軸；及分別被裝著在上述筒狀 軸承的內面與昇降軸的外面，產生磁氣吸引力的磁鐵體 (申請專利範圍第1 2項）。 另外’在於被處理基板的移動方向的前後端緣設置卡 合脫離的引導栓的情形下，若具備將引導栓朝垂直方向移 動的垂直移動手段；及將引導栓及垂直移動手段朝水平方 向移動之定位用的水平移動手段會更理想（申請專利範圍 第I 2項）。 (1 )根據申請專利範圍第]項、第3項、及第5項至 第1 2項所記載的發明，利用基板保持元件來吸著保持浮 上在浮上平台上之被處理基板的兩側後，連結手段可以隨 -8- (5) (5)1259550 著被處理基板的浮上高度的狀態邊朝處理液供應手段的下 方移動邊從處理液供應手段供應處理液體呈帶狀後進行處 理。因此’即使被處理基板的浮上高度與滑塊間的高度改 變了也可以將被處理基板與處理液供應手段的間隔維持在 一定的間隔的狀態下予以搬運進行處理。此外，因爲搬運 浮上基板的緣故，除了可以得到裝置的小型化簡單化外， 也可以提昇處理效率。 (2)依據申請專利範圍第2項所記載的發明，除了上 述（1 )以外，由於在被處理基板的移動方向的前後端緣具 備卡合脫離之可以垂直移動的引導栓，因此可以防止被處 理基板的搬運啓動·停止時的加速所形成的被處理基板的 不小心的移動。因此，除了加速度的參數選擇範圍大外又 可以爲持處理精度。此外，除了可以減少基板保持元件的 數量外又可以減少基板保持力的緣故，有利於構成元件的 低減及小型化。 (3 )根據申請專利範圍第4項所記載的發明，構成連 結手段的板簧元件，係具備：朝被處理基板的移動方向連 續保持多數個基板保持元件的保持部；及相互隔一特定間 隔被配列設置’且具備有連結保持部與滑塊之有撓性的連 結部的緣故，可以確保連結手段的搬運方向的剛性’進一 步可以確實地搬運被處理基板。 (4)根據申請專利範圍第3項所記載的發明，由於進 一步地具備：將引導栓朝垂直方向移動之垂直移動手段* ; 及將這些引導栓及_直彳多_手段朝水平方向移謹力之定彳立$ -9 · (6) (6)1259550 水平移動手段，除了上述（2)外’更能夠將被處理基板定 位的緣故，可以提昇處理精度。 【實施方式】 以下，佐以附圖說明本發明的最佳實施方式。在此， 說明關於將本發明的上浮式基板搬運處理裝置適用在L C D 用玻璃基板的光阻塗布顯影處理裝置之光阻塗布顯影處理 裝置的情形。 上述光阻塗布顯影處理裝置，係如第1圖所示，具 備··乘載收容多數個屬於被處理基板之LCD用玻璃基板 G (以下稱之爲基板G )之卡匣C的搬入搬出部1 ;及具 備有對基板G執行包含塗布及顯影的一連串處理用的多 數個處理單元之處理部2 ;及在於曝光裝置4之間執行基 板G的傳送用的介面部3 ’在於處理部2的兩端分別配置 了搬入搬出部]及介面部3。此外，在於第1圖中，將光 阻塗布顯影處理裝置的長方形方向當做X方向，在於平 面圖上與X方向垂直的方向當做Y方向。 上述搬入搬出部]，係具備在於卡匣C與處理部2之 間執行基板G的搬入搬出用的搬運機構5，在於此一搬入 搬出部1執行對外部的卡匣C之搬入搬出。搬運機構5 ’ 係具備有搬運臂5 a可以沿著卡厘；的配列方向之γ方向所 設置的搬運路徑6移動，利用搬運臂5 a在卡匣C與處理 部2之間執行基板G的搬入搬出之構成。 上述處理部2，係基本上具備有朝X方向延伸的基板 -10- (7) (7)1259550 G搬運用的平行之2列的搬運線A、B，沿著搬運線a從 搬入搬出部1側朝向介面部3配列了擦洗（scrub)洗淨處理 單元（SCR) 11、第1熱處理單元區段16、光阻處理單元13 及第2熱處理單元區段1 7。另外，沿著搬運線B從介面 部3側朝向搬入搬出部1配設了第2熱處理單元區段 17、顯影處理單元（DEV)14、i線UV照射單元（i-UV)15及 第 3熱處理單元 1 8。此外，在於擦洗洗淨處理單元 (SCR)U的上面一部份設置了準分子 UV照射單元（e-UV)12。這種場合下，準分子UV照射單元（e-UV)12係在 於洗淨器洗淨的最前端用來去除基板G的有機物質。此 外，i線UV照射單元（i-UV)15係爲了執行顯影的脫色處 理所設置。 此外，第1熱處理單元區段1 6，係具備有層積對基 板G實施熱處理的處理單元所構成之兩個熱處理單元塊 (TB)3 1、32，熱處理單元塊（TB)3 1係被設置在擦洗洗淨 處理單元（SCR)l 1側，熱處理單元塊（TB)32係被設置在光 阻處理單元13側。在於這2個熱處理單元塊（TB)31、32 之間設置了第I搬運機構3 3。 另外，第2熱處理單元區段1 7，係具備有層積對基 板G實施熱處理的處理單元所構成之兩個熱處理單元塊 (TB)34、35 ’熱處理單元塊（TB)34係被設置在光阻處理 單元]3，熱處理單元塊（TB)35係被設置在顯影處理單元 Μ側。在於這2個熱處理單元塊（TB) 34、35之間設置了 第2搬運機構3 6。 -11 - (8) (8)1259550 此外，第3熱處理單元1 8，係具備有層積對基板g 實施熱處理的處理單元所構成之兩個熱處理單元塊 (TB)37、38，熱處理單元塊（TB)37係被設置在顯影處理 單元（D E V ) 1 4側，熱處理單元塊（T B ) 3 8係被設置在卡匣埠 ]側。接著在於這2個熱處理單元塊（丁8)37、38之間設置 了第3搬運機構3 9。 另外，在於介面部3，配設了層積定溫平台（E X τ C Ο L) 41、周邊曝光裝置（EE)、流程記錄裝置（TITLER)後設置的 外部裝置塊42 (BUF);與暫存平台43及第4搬運機構 44 ° 在於這種方式構成的介面部3，係由第2搬運機構3 6 所搬運的基板G，係被搬運到定溫平台（Εχτ c〇L)4 1後， 利用第4搬運機構4 4搬運到外部裝置塊4 2的周邊曝光裝 置（EE)，進行去除周邊光阻用的曝光處理，接著，由第4 搬運機構4 4搬運到曝光裝置4，將基板G上的光阻薄膜 曝光來形成所定的圖案。有時也依情況而定，將基板G 收容到暫存平台（BUFM3後搬運到曝光裝置4。接著，當 曝光結束後，利用第4搬運機構4 4將基板G搬運到外部 裝置塊4 2的流程記錄裝置（T I T L E R )，並且將所定情報記 錄到基板G後，乘載到定溫平台（E X T C 0 L) 4 1上，再搬 違到處理部2所構成。 光阻處理單元1 3，係具備：適用在與本發明相關的 上浮式基板搬運處理裝置的光阻塗布處理裝置2 0 ;及在 於减壓容器（未圖示）內利用光阻塗布處理裝置2 0來將形 -12 - (11) (11)1259550 在墊片本體60a內的空間內的真空管6 1，係由含有多數 個通路6 〇 c之合成橡膠製的帶狀管子所形成。由這種方式 形成的真空管6 1 ’係如第5圖所示，在於構成移動機構 2 7的滑塊2 6上部介隔著折葉6 2形成可以朝垂直方向搖 動自如地被樞著。由於這種構成，形成可以隨著基板保持 元件2 4，換句話說隨著吸著墊片6 0的移位也可以移動真 空管6 1。此外，連接各吸著墊片6 0的真空管6 1，係介隔 著共用的主真空管（未圖示）被連接到真空裝置。 上述移動機構2 7，係利用移動滑動自如地被裝著在 相互平行配置在浮上平台2 2的兩側的導軌2 5之滑塊2 6 的線性馬達所形成。 此外’上述連結手段5 0，係除了連結基板保持元件 24的吸著墊片60與滑塊26外，利用隨著基板G的浮上 高度而可以移位之板簧元件5 1所形成。這種情形下，板 簧元件5 1 ’係基板保持元件2 4的彈性係數被設定成比保 持基板G的保持力小的，換句話說比吸著墊片6 〇的吸著 力弱的彈力（反作用力）的數値。如此，在於利用設定板簧 元件5 1的彈性係數來維持基板保持元件2 4所形成的基板 G之保持力（吸著力）的狀態下，形成可以隨著基板g的浮 上高度的變化移動基板保持元件2 4的位置。 上述板簧元件5 1，係屬於連結吸著墊片6 0與滑塊2 6 的多數元件也無所謂，最好是由〗個元件所形成。換句話 說’如第6圖所示，由具備··朝基板G的移動方向連續 後保持多數個基板保持元件2 4之吸著墊片6 0的保持部 -15- (12) (12)1259550 5 1 a ;及介隔著缺口 5 1 b且相互距離一定間隔被排列設置 後’連結保持部5 1 a與滑塊2 6之具彈性的連結部5 ] c的 一個元件形成會較理想。如此，可以利用一個元件形成板 簧元件5 1，確保在連結手段5 〇的基板G的搬運方向的剛 性’可以更確實地搬運基板G。 接著，說明關於上述構成的光阻塗布處理裝置2 0的 動作方式。首先，將熱處理單元（TB)32熱處理過的基板G 利用未圖示的搬運臂搬入到浮上平台22的搬入領域22a 上時’昇降栓2 8 a會上昇來承接基板G。之後，搬運臂從 浮上平台22退到外側。當承接基板G後，除了昇降栓 2 8 a下降外基板g從搬入領域2 2 a的表面利用噴出的空氣 浮上到約〗〇 〇至]5 〇 V m的高度位置，且在於這種狀態 T ’ ί空裝置便作動來利用基板保持元件24的吸著墊片 6 〇吸著保持基板G。此時，板簧元件5丨會吸收基板G的 # ± S度與滑塊2 6的高度之間的間隙的緣故，可以在浮 上平台2 2的上的搬入領域2 2 a上之約1 0 0至1 5 0 μ m的 高度位置將基板G維持水平狀態。 胃著，線性馬達（移動機構）2 7驅動後，將基板G搬 運到塗布領域22b。在於塗布領域22b，從浮上平台22的 表·®利用空氣的噴出與吸引的平衡來將基板G浮上到約 5 0 // m的高度位置。此時，板簧元件5 1會吸收基板g的 浮上高度與滑塊2 6的高度間隙的緣故，因此可以在浮上 平台2 2的塗布領域2 2 b上的約5 0 β m的高度位置將基板 G維持水平狀態，維持與光阻供應噴嘴2 3間的所定間隙 -16 - (13) (13)1259550 S(1 00至150 m)。這種狀態下，除了從光阻供應噴嘴23 供應（吐出）光阻液體R呈帶狀外，並且藉由移動基板 G ’形成在基板G的表面形成一層均勻的光阻薄膜。 當形成光阻薄膜的基板G被移動到搬出領域2 2 c時， 基板G會利用從搬出領域2 2 c的表面噴出的空氣浮上到約 1 〇 〇至1 5 0 # m的高度位置，在這種狀態下，停止真空裝 置後解除對基板G的吸著保持。如此的話，昇降栓28b 會上昇將基板G移動到上方的承接傳送位置。在於這種 狀態下，未圖示的搬運臂接收到基板G後會將基板G搬 運到次製程的減壓乾燥裝置（V D ) 2 1。 第7圖，係表示本發明的連結手段50A之另一實施 方式的斷面圖。第7圖，係屬於利用搖動自如地樞著在滑 塊2 6的腕部元件5 2來形成連結手段5 0 A的情形。換句 話說’ 一端係介隔著折葉栓5 2 a搖動自如地朝垂直方向樞 著在滑塊2 6的腕部元件5 2，另一端則連結基板保持元件 24的吸著墊片6 0的情形。此外，腕部元件5 2可以是任 意形狀，例如可以爲棒狀或板狀等之任何一種。 利用這種構成，腕部元件5 2會隨著基板G的浮上高 渡位置與滑塊2 6的局度位置的間隙的變化移動的緣故， 吋以維持基板G的浮上高度到所定的位置。 此外，也可以在腕部元件5 2的樞著部裝著彈簧元件 例如復歸彈簧5 3來形成連結手段5 〇 b。換句話說，如第8 圖所示’也可以利用搖動自如地樞著在滑塊2 6的腕部元 件5 2來形成連結手段5 0B的同時，也可以在腕部元件5 2 -17 - (14) (14)1259550 的樞著部，裝著反抗基板保持元件2 4的保持力來作用的 彈簧力之彈簧元件例如裝著復歸彈簧5 3。 此外，在於第7圖及第8圖中，由於其他部份與第】 實施方式相同的緣故，因此同一部份給予相同的符號，並 省略其說明。 第9圖之A，係表示本發明之連結手段5 〇 C的另一實 施方式的斷面圖。第9圖之A，係屬於將連結手段5 0 C的 中間部搖度動自如地樞著在滑塊26，且在於與基板保持 部側相反側具備的配重5 4之搖動元件5 5所形成的情形。 換句話說屬於將一端連結基板保持元件24的吸著墊片 6 0 ’在於另一端部則具備配重5 4的搖動元件5 5的中間部 介隔著折葉栓52b搖動自如地朝垂直方向樞著到滑塊26 的情形。 利用這種構成，在於基板 G的吸著保持狀態下，配 重54發生作用後形成搖動元件55隨著基板G浮上高度 位*與滑塊2 6的間隙變化而移位的緣故，可以基板G的 浮‘上高度維持在所定的位置。 此外，在於上述說明中，雖然說明了將搖動元件55 與配重5 4 —體成形的情形，但是也可以將搖動兀件5 5 A 與配重5 4 A各別形成。如第9圖之B所示，在於利用折 葉拴5 2b搖動自如地樞著到突設在滑塊2 6的上面之托架 2 6 a的搖動元件5 5 A的吸著墊片6 0側與相反側端部設置 母蟓絲部5 5 a，且螺緊結合突設在配重5 4 A的螺絲部5 4 a 到此一母螺絲部5 5 a後，將配重5 4 A做成可以前進後退。 -18 - (15) 1259550 此外’利用螺合固定螺帽54 b到螺絲部5 4 a，並且將 固定螺帽54b推押到搖動元件55A的端面來固定配重 的安裝位置。 如上述一般’藉由在於與搖動元件5 5 A的吸著 6 〇側相反側處螺合結合配重5 4 A呈可前進後退的緣 形成可以調整吸著墊片6 0作用在基板G上的荷重以 影響浮上平台2 2規定的基板G之浮上高度。 此外，在於第9圖之A及第9圖之B所示的實 式中，其他部份係與第1實施方式相同的緣故，因此 部份給予相同的符號，並省略其說明。 第10圖，係表示本發明之連結手段50D的其他 貫施方式。在於第1 〇圖中，連結手段5 0 D，係利用 著折葉栓52c搖動自如第朝垂直方向樞著在滑塊26 爲直角桿杆狀的關節元件5 6所形成的同時，在於此 節元件5 6的垂直片5 6 a與滑塊2 6的對向面具備利用 方式產生比基板保持元件24(吸著墊片 60)的吸著保 還小的反抗力之電磁鐵5 7。這種情形下，做成當將 鐵57激磁時（ON)，會對電磁鐵57產生反抗力後使吸 片60上昇，當不將電磁鐵57激磁（OFF)時，電磁鐵ί 相互吸著後使吸著墊片6 0下降的構成。此外，也可 用彈簧元件來形成關節元件5 6。利用彈簧元件形成 元件5 6，形成可以選用弱的（小的）彈簧係數的緣故， 將基板G的浮上高度維持在更高的精度上。 利用上述的構成，當基板保持元件2 4的吸著墊少 此一 54 A 墊片 故， 避免 施方 同一 另一 介隔 的略 一關 激磁 持力 電磁 著墊 會 以利 關節 可以 1- 6 0 -19- (16) (16)1259550 吸著保持基板G時，只要將電磁鐵57激磁（ON)的話，會 對電磁鐵5 7產生反抗力使吸著墊片6 0上昇後吸著保持基 板G。在於這種狀態下搬運基板G時，電磁鐵5 7會產生 反作用力後吸著墊片6 0便隨著基板G的高度位置與滑塊 2 6的高度位置的間隙變化移位的緣故，可以將基板G的 浮上高度維持在所定的高度。 此外，第1 〇圖所示的實施方式中，其他部份與第1 實施方式相同的緣故，因此同一部份給予相同的符號，並 省略其說明。 第1 2圖，係表示本發明之連結手段5 0 E的其他另一 實施方式。在於第1 2圖中，連結手段5 0 E，係由具備： 一端連結到滑塊2 6 ’另一端具備有筒狀軸承1 〇 1之支持 元件1 〇 〇 ;及連結在吸著墊片6 0的下部，且滑動自如地 插入在筒狀軸承1 〇 1內之昇降軸1 〇 2的軸承所構成。這種 情形下，儘可能地減小昇降軸1 〇 2的重量會較理想。 如此，利用由設置在連結連結手段5 0 E到滑塊2 6的 持元件1 〇 〇的端部之筒狀軸承]〇 ];及滑動自如地插入在 筒狀軸承1 0 1內後形成伸縮（t e】e s c 〇 p e )狀動作（昇降）之昇 降軸1 02所構成的軸承來形成的緣故，形成昇降軸1 02可 以隨著基板G的浮上位高度置與滑塊2 6的高度位置變化 移位（昇降）的緣故’可以將基板G的浮上商度維持在所定 的高度。 此外，在於上述連結手段5 0E中，必須要考慮昇降軸 ]0 2的重量調整從浮上平台2 2噴射出的空氣噴射量。 - 20- (17) (17)1259550 第1 3圖，係表示本發明之連結手段5 0 F的其他另 一實施方式。在於第1 3圖中，連結手段5 0 F，係由具 備：筒狀軸承1 〇 1、及嵌入在此一筒狀軸承丨〇丨內的筒狀 多孔質襯套2 0 4、及以遊嵌狀換句話說隔有間隙地插入到 多孔質襯套2〇4內的昇降軸1 02、及介隔著筒狀軸承1 〇 1 供應在多孔質襯套2〇4與昇降軸102之間形成空氣層之氣 體例如空氣之氣體供應手段2 0 0的空氣軸承所構成。這種 情形下，在於多孔質襯套2 0 4的上下2處，於周圍設置壓 接到筒狀軸承1 0 1內面的0型環2 0 1、2 0 2，維持被供應 空氣的密封性。另外，在於筒狀軸承1 0 1的兩個〇型環 2 0 1、2 0 2之間設置構成氣體供應手段2 0 0的氣體供應口 2 〇 3 ’並且利用將來自未圖示的空氣供應源所供應的空氣 供應到兩個Ο型環2 01、2 0 2之間，從多孔質襯套2 0 4的 內徑全周吹出的空氣來減低昇降軸1 02的上下移動的摩擦 阻抗後，形成可以確保基板G之昇降軸1 〇 2的追蹤性。 因此’可以穩定的搬運基板。此外，這種情形下，儘量減 低昇降軸1 〇 2的重量會較理想。 另外，如上所述，在於藉由利用空氣軸承形成連結手 段5 0F，減低昇降軸I 〇2的上下移動的摩擦阻抗，確保對 基板G之昇降軸]0 2的追蹤性的狀態下，可以設定從浮 上平台2 2噴出的空氣之噴射量的緣故，可以將基板G的 浮上高度維持在更高的精度上。 此外，當利用空氣軸承來形成連結手段5 0F的一部分 的情形下，如第]3圖之兩點鎖線所示，朝向筒狀軸承 -21 - (19) (19)1259550 平面圖，第1 6圖，係第1 5圖的側面圖，第1 7圖，係表 示第2實施方式的引導栓的槪略側面圖。 第2實施方式，係除了與第1實施方式的光阻塗布裝 置相同的構成以外，也具備了被連結在滑塊2 6，且朝基 板G的移動方向之前後端緣卡合脫離之可以垂直移動的 引導栓7 0，做成防止基板G的搬運啓動》停止時的加速 度造成基板G不小心的移動（偏移）的情形。在此，與第】 實施方式相同的部份給予相同的符號，並省略其說明。 在於第2實施方式中，從兩滑塊2 6的移動方向的前 後端部朝內方側突出設置保持托架7 1 ’在此一保持托架 7 1的上方，載置固定屬於定位用水平移動手段之水平汽 缸7 2。此外，在於水平汽缸7 2的活塞桿7 2 a，連結屬於 垂直移動手段的垂直汽缸7 3，在於此一垂直汽缸7 3的活 塞桿7 3 a的前端側則延伸引導栓7 〇。 依據這種構成的第2實施方式的光阻塗布處理裝置， 如第1 7圖之（a)所示，當利用未圖示的搬運臂將基板G搬 入到浮上平台2 2的上方後，利用昇降栓（未圖示）來承接 時，首先，垂直汽缸73作動後引導栓70上昇（參照第17 圖之（b))。接著，水平汽缸7 2作動後引導栓7 0便抵接到 基板G的移動方向之前後端緣後，進行基板G的移動方 向側之定位（alignmen〇(參照第1 7圖之（Ο)。這種情形 下，爲了不使引導栓70與光阻供應噴嘴23干涉，將引導 栓7 0的前端面與基板G的表面做成幾乎同一平面會較理 想c -23 - (20) (20)1259550 另外，當在於引導栓7 0只有給予防止由於基板G的 搬運起動·停止時所造成基板G的偏移功能的情形下’ 也可以做成將基板G的前後端之任何一端的引導栓70上 昇會較理想。 此外，與基板G的移動方向（X方向）垂直的方向（Y方 向）之定位（a 1 i g n m e n t) ’係利用可以移動位®的弓丨導栓8〇 來朝著連結載置在兩滑塊2 6的移動方向的兩端部附近的 水平汽缸8 1的活塞桿8 1 a的垂直汽缸8 2的活塞桿8 2 a的 前端側延伸的Y方向定位。 做成如上所述一般後，在於將引導栓7〇抵接到基板 G的前後端緣的狀態下，當移動基板G時’可以防止基板 G的搬運起動·停止時的加速度所造成之基板G的不小心 移動（偏移）。因此，除了加速度的參數可以有較多的選擇 的同時，又可以維持處理精度。此外，除了可以減少基板 保持元件 24 (吸著墊片 60)的數量外，也可以低減基板保 持力的緣故，可以獲得構成元件的低減及裝置的小型化。 此外，在於第1 5圖中，雖然說明過使用利用板簧元 件5 1所形成的連結手段5 0的情形，當然也可以使用其他 的連結手段5 0 A至5 0 G。 此外，在於第2實施方式中也可以在引導栓70追加 具有昇降栓的功能。例如，在於引導栓7 0的中間部，利 用朝向水平方向突出設置支持栓9 0，形成可以藉由引導 栓7 0的昇降動作來進行基板G的承接及傳送。換句話 說，如第1 8圖之（a)所示一般，當搬入基板G到浮上平台 -24- (21) 1259550 2 2的上方時’首先要水平移動引導栓7 0 5} 的端緣部（參照第1 8圖之（b))。接著，將引 後利用支持栓9 〇支持基板G下面來承接 ]8圖之（c))。其次，在於利用吸著墊片6〇 G後’使引導栓70下降來解放支持栓9〇 於將引導栓7 0抵接到基板G的前後端緣音 基板G (參照第1 8圖之（d ))。接著，當將| 2 2 c的處理結束的基板g傳送到搬運臂的11 執行與上述相同的動作，將基板G從光距 20搬出。 <其他的實施方式> 在於上述實施方式中，雖然說明過利J 形成基板保持元件24，但是也可以使用如I 墊片60A來取代吸著墊片60。此一靜電墊 加電壓到設置在內部的金屬電極6 0 d，讓基 片 6 0 A的表面產生正·負的電荷後，利用 約翰遜·拉別克（Johnsen-Rahbeek)力來吸著 此外，在於第 1 9圖，雖然說明過單極 6 0 A，也可以在靜電墊片的內部設置多數個 極6 0 d，並且在這些電極6 0 d間產生電位差 板G的双極型靜電墊片。 此外，在於上述實施方式中，雖然說明 上浮式基板搬運處理裝置適用在光阻塗布 ί抵接到基板G 導栓7 0往上昇 基板G(參照第 吸著保持基板 ]支持，並且在 5的狀態下移動 ^動到搬出領域 ί形下，係可以 .塗布處理裝置 g吸著墊片6 0 I 1 9圖的靜電 片6 0 A，係施 板G與靜電墊 作用在此間的 保持基板G。 型的靜電墊片 (例如2個）電 :來吸著保持基 過將本發明的 處理裝置的情 -25- (22) (22)1259550 形’當然也可以適用在光阻塗布處理裝置以外之例如顯影 處理裝置。 【圖式簡單說明】 第1圖’係表示適用與本發明相關連之上浮式基板搬 運處理裝置之L C D用玻璃基板的光阻塗布顯像處理裝置 之槪略平面圖。 第2圖，係表示適用上述上浮式基板搬運處理裝置的 光阻塗布處理裝置之第1實施方式的槪略立·體圖。 第3圖，係沿著上述光阻塗布處理裝置的基板之移動 方向的槪略斷面圖。 第4圖，係沿著與上述光阻塗布處理裝置的基板之移 動方向垂直的方向之槪略斷面圖。 第5圖’係表示本發明之連結手段之第1實施方式的 槪略斷面圖。 第6圖’係由一種元件形成構成連結手段之板簧元件 的情形下之立體圖。 第7圖，係表示本發明之連結手段之另一實施方式的 槪略斷面圖。 第8圖，係表示本發明之連結手段之其他另一實施方 式的槪略斷面圖。 第9圖之（A)，係本發明之連結手段之其他另一實施 方式，表示具備搖動元件、配重的槪略斷面圖。 第9圖之（B)，系表示本發明之另一連結手段具備搖 -26 - (23) (23)1259550 動元件、配重之另一實施方式的槪略斷面圖。 第1 0圖，係表示本發明之連結手段之其他另一實施 方式的槪略斷面圖。 第1 1圖，係表示形成本發明的基板保持元件之吸著 墊片的一範例立體圖。 第12圖，係本發明之連結手段之其他另一實施方 式，表示具備軸承的槪略斷面圖。 第1 3 ’系表不本發明之另一連結手段具備氣式軸承 的情形下之槪略斷面圖。 第】4之（a )，系表示本發明之另一連結手段具備磁性 承的情形下之槪略斷面圖。（b)圖，係沿著（a)圖之丨線 段之斷面圖。 第1 5圖，係表示適用與本發明相關連之上浮式基板 搬運處理裝置的光阻塗布處理裝置之第2實施方式的槪略 平面圖。 第1 6圖，係第1 5圖的側視圖。 第1 7圖，係表示第2實施方式的引導栓的動作狀態 之槪略側視圖。 果]8 Η，係表不上述引導检的變形例的動作狀熊之 槪略側視圖。 第1 9圖，係表示本發明之基板保持元件的另一方式 之槪略側視圖。 【主要元件符號說明〕 -27- (24) (24)1259550 G··· LCD用玻璃基板（被處理基板） 22…上浮平台 23…光阻供應噴嘴（處理液供應手段） 2 4···基板保持元件 25…導軌 2 6…滑塊 27…線性馬達（移動機構） * 50,50A，50B550C550D550E，50F550G…連結手段 籲 5 1…板簧元件 5 2…腕部元件 52a，52b;52c···折葉 53…復歸彈簧（彈簧元件） 5 4，5 4 A…酉己重 5 4a…螺絲部 5 5,5 5 A···搖動元件 5 5 a…母螺絲部 _ 5 6…關節元件 5 7…電磁鐵 6 0…吸著墊片 6 0 A…靜電墊片 70…導栓 7 2···水平汽缸（定位用水平移動手段） 7 3…垂直汽缸（垂直移動手段） ]〇〇…支持元件 -28- (25)1259550 101…筒狀軸承 1 02…昇降軸 2 0 0…氣體供應手段 20 1，2 02…〇型環 20 3…氣體供應口 2 04···多孔質襯套 301…第1磁鐵體

3 02···第2磁鐵體

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Claims (1)

1259550 十、申請專利範圍 第93 1 39674號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國9 4年1 2月26 日修正 1 . 一種上浮式基板搬運處理裝置，其特徵爲具備： 從表面噴射或者是噴射及吸引氣體將被處理基板浮上在不 同高度的浮上平台； 及配置在上述平台的上方後，在上述被處理基板的表 面上呈帶狀地供應液體之處理液供應手段； 及以吸附脫離自如的方式分別吸引保持上述被處理基 板的兩端側之多數基板保持元件； 及沿著相互平行地被配置在上述浮上平台的兩側之導 軌移動滑塊之移動機構； 及連結上述基板保持元件與滑塊的同時，可以隨著上 述被處理基板的浮上高度移位的連結手段。 2 · —種上浮式基板搬運處理裝置，其特徵爲具備： 從表面噴射或者是噴射及吸引氣體將被處理基板浮上在不 同高度的浮上平台； 及配置在上述平台的上方後，在上述被處理基板的表 面上呈帶狀地供應液體之處理液供應手段； 及以吸附脫離自如的方式分別吸引保持上述被處理基 板的兩端側之多數基板保持元件； 及沿著相互平行地被配置在上述浮上平台的兩側之導 軌移動滑塊之移動機構； 1259550 及連上述基板保持元件與滑塊的同時，可以隨著上 述被處理基板的浮上高度移位的連結手段； 及連結在上述滑塊且可以朝上述被處理基板的移動方 向之前後端緣部卡合脫離之可垂直移動的引導栓。 3 ·如申請專利範圍第丨項或第2項所記載之上浮式 基板搬運處理裝置，其中利用板簧元件形成上述連結手 段。 4·如申請專利範圍第3項所記載之上浮式基板搬運 處理裝置，其中板簧元件，係具備：朝向被處理基板的移 動方向連續保持多數基板保持元件之保持部；相互間隔一 定距離配設並連結上述保持部與滑塊之可撓性的連結部。 5. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之上浮式 基板搬運處理裝置，其中利用搖動自如地樞著在滑塊的腕 部元件形成上述連結手段。 6. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之上浮式 基板搬運處理裝置，其中利用搖動自如地樞著在滑塊的腕 部元件形成上述連結手段，並且在於腕部元件的樞著部進 一步地裝著具備有反抗基板保持元件的保持力所作用的彈 簧力之彈簧元件。 7. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之上浮式 基板搬運處理裝置，其中上述連結手段，係搖動元件的中 間部是搖動自如地被樞著在滑塊；且在該搖動元件的基板 保持部側的相反側具備配重。 8. 如申請專利範圍第7項所記載之上浮式基板搬運 -2 - 1259550 處理裝置，其中可以利用進退的方式螺合結合配重到上述 搖動元件的端部。 9·如申請專利範圍第1項或第2項所記載之上浮式 基板搬運處理裝置，其中上述連結手段係利用搖動自如地 樞著在滑塊的略呈直角桿杆狀的關節元件所形成的同時， 也可以做成在於此一關節元件的垂直片與上述滑塊的對向 面，具備利用激磁產生比基板保持元件的吸著力小的反抗 力之電磁鐵。 10·如申請專利範圍第1項或第2項所記載之上浮式 基板搬運處理裝置，其中上述連結手段，係具備：一端連 結到滑塊’另一端連結具備有筒狀的軸承之支持元件；及 連結到基板保持元件的下部，且滑動自如地插入到上述筒 狀軸承內的昇降軸。 11.如申請專利範圍第1項或第2項所記載之上浮式 基板搬運處理裝置，其中上述連結手段，係具備：一端連 結到滑塊’另一端連結具備有筒狀的軸承之支持元件；及 連結到基板保持元件的下部，且插入到上述筒狀軸承內的 筒狀的多孔套筒；及遊嵌狀插入到此一多孔套筒的昇降 軸；及介隔著上述筒狀軸承後供應氣體到上述多孔套筒與 昇降軸之間的氣體供應手段。 12·如申請專利範圍第1項或第2項所記載之上浮式 基板搬運處理裝置，其中上述連結手段具備：一端連結到 滑塊’另一端連結具備有筒狀的軸承之支持元件；及連結 到基板保持元件的下部，且滑動自如地插入到上述筒狀軸 -3- 1259550 承內的昇降軸；及分別被裝著在上述筒狀軸承的內面與昇 降軸的外面，產生磁氣吸引力的磁鐵體。 13.如申請專利範圍第2項所記載之上浮式基板搬運 處理裝置，其中更具備：將引導栓朝垂直方向移動的垂直 移動手段；及將引導栓及垂直移動手段朝水平方向移動之 定位用的水平移動手段。

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