JP2009023804A - 基板搬送装置および基板搬送方法 - Google Patents

Abstract

【課題】装置を大型化することなく、基板の姿勢を維持して基板の搬送距離を長くすること。
【解決手段】基板搬送装置１は、基板１０を浮上させるエア浮上ステージ３と、エア浮上ステージ３により浮上させられた状態の基板１０を保持する基板保持機構と、基板保持機構を搬送方向に移動させる基板搬送機構７と、基板保持機構と基板搬送機構７を制御する制御部とを備え、該制御部は、基板搬送機構７の搬送方向のストロークエンド近傍において、基板保持機構による基板１０の保持を解除して、基板保持機構をストロークエンドから離れる方向に戻し、戻した位置で再度基板保持機構に基板１０を保持させて、再び基板搬送機構７を駆動させる。
【選択図】図１

Description

本発明は、基板搬送装置および基板搬送方法に関するものである。

従来、基板検査装置にガラス基板を搬送する手段として、例えば、特許文献１および特許文献２に開示されている浮上搬送手段が開示されている。
特許文献１および特許文献２に記載の浮上搬送手段によれば、高圧エア等の流体を基板下面に供給して基板を浮上させ、基板の一部を把持して搬送軸に沿って基板を強制搬送するようになっている。
特開２０００−９６６１号公報 特開２００２−１８１７１４号公報

しかしながら、特許文献１および特許文献２に記載の浮上搬送手段では、基板の搬送距離が搬送装置のストロークの長さに制限され、基板の搬送距離をストロークの長さ以上にすることができないという不都合がある。また、基板の把持を解除すると、基板がエア浮上により流されてしまい基板を静止させておくことができないという不都合がある。

そのため、基板の姿勢をずらすことなく、搬送装置のストロークの長さ以上に基板を浮上搬送するためには、搬送装置のストロークを長くするか、ストロークを追加しなければならない。これらの場合、搬送装置の案内機構の長さを延長したり、新たな搬送装置を追加したりしなければならず、装置構成が複雑で高価なものになってしまうという問題があった。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板を安定した姿勢で搬送することができる装置であって、装置を大型化することなく基板の搬送距離を長くすることができる基板搬送装置および基板搬送方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明は以下の手段を採用する。
本発明は、基板を浮上させる浮上手段と、該浮上手段により浮上させられた状態の前記基板を保持する保持手段と、該保持手段を搬送方向に移動させる駆動手段と、前記保持手段と前記駆動手段を制御する制御手段とを備え、該制御手段は、前記駆動手段の搬送方向のストロークエンド近傍において、前記保持手段による前記基板の保持を解除して、前記保持手段をストロークエンドから離れる方向に戻し、戻した位置で再度前記保持手段に前記基板を保持させて、再び前記駆動手段を駆動させる基板搬送装置を提供する。

本発明によれば、浮上手段の作動により基板が浮上させられ、保持手段の作動により基板が浮上状態で保持される。基板を保持した保持手段は、駆動手段の作動により搬送方向に移動させられる。保持手段が駆動手段の搬送方向のストロークエンド近傍に到達すると、制御手段の作動により、保持手段による基板の保持が解除されて、保持手段はストロークエンドから離れる方向に戻される。

これにより、基板がストロークエンド近傍に残された状態で、保持手段が基板に対して搬送方向に後退させられる。そして、戻した位置で再度保持手段に基板を保持させることにより、基板の搬送方向前方に保持手段により保持されていない部分を形成し、駆動手段による保持手段のストロークに余裕をもたせることができる。

また、この状態で、駆動手段の作動により保持手段を再び搬送方向にストロークエンド近傍まで移動させることで、基板の前端側をストロークエンドから突出させ、後段の工程に容易に引き渡すことが可能となる。その結果、装置を大型化することなく、基板の搬送距離を長くすることが可能となる。

上記発明においては、前記保持手段が、前記搬送方向に複数配列されていることとしてもよい。
このように構成することで、駆動手段のストロークエンドにおいて、基板をストロークエンドに残して保持手段をストロークエンドから離れる方向に戻しても、搬送方向に複数配列された任意の保持手段に再度基板を保持させることができる。

また、上記発明においては、前記制御手段が、前記浮上手段による前記基板の浮上を停止して、前記保持手段による前記基板の保持を解除することとしてもよい。
このように構成することで、保持手段による基板の保持を解除しても、基板が移動してしまうのを防ぐことができる。

また、上記発明においては、前記浮上手段により浮上した状態の基板表面に接触・離間させられる固定手段を備え、前記制御手段が、前記保持手段による前記基板の保持を解除する際に、前記固定手段に前記基板を接触させることとしてもよい。
このように構成することで、保持手段による基板の保持を解除しても、固定手段が基板に接触することによる摩擦力によって基板が静止状態に固定されるので、基板が移動してしまったり、基板の姿勢がずれたりするのを防ぎ、基板の姿勢を保ったまま保持手段の保持位置を変えることができる。

また、上記発明においては、前記固定手段が、前記基板を吸着する吸着手段を備えることとしてもよい。
このように構成することで、固定手段は、吸着手段の作動により基板を吸着しながら基板を静止状態に固定するので、基板の姿勢を精度よく保ったまま保持手段の保持位置を変えることができる。

本発明は、基板を浮上させる浮上工程と、浮上させられた状態の前記基板を保持して搬送方向に移動させる第１の移動工程と、搬送方向のストロークエンド近傍において、前記基板の保持を解除して、保持位置をストロークエンドから離れる方向に変更して再度前記基板を保持する保持位置変更工程と、保持位置を変更した前記基板を再度搬送方向に移動させる第２の移動工程とを備える基板搬送方法を提供する。

本発明によれば、浮上工程において基板を浮上させ、第１の移動工程において基板を浮上状態で保持しながら搬送方向に移動させる。基板を搬送方向のストロークエンド近傍まで搬送すると、保持位置変更工程において、一旦基板の保持を解除して、保持位置をストロークエンドから離れる方向に変更して再度基板を保持する。そして、第２の移動工程において、再度基板を搬送方向に移動させる。

この場合に、保持位置変更工程において、ストロークエンドまで搬送した基板の保持位置をストロークエンドから離れる方向に変更することとしたので、第２の移動工程において、基板の前端側をストロークエンドから突出させ、後段の工程に容易に基板を引き渡すことが可能となる。その結果、搬送方向のストロークを大型化することなく、基板の搬送距離を長くすることができる。

本発明によれば、基板を安定した姿勢で搬送することができ、装置を大型化することなく基板の搬送距離を長くすることができるという効果を奏する。

以下、本発明の一実施形態に係る基板搬送装置１について、図面を参照して説明する。
本実施形態に係る基板搬送装置１は、図１〜図６に示すように、基板１０を浮上させるエア浮上ステージ（浮上手段）３と、浮上させられた基板１０を保持する基板保持機構（保持手段）５と、該基板保持機構５を基板１０の搬送方向に移動させる基板搬送機構（駆動手段）７と、浮上状態の基板１０を静止状態に固定する基板固定機構（固定手段）９（図７〜図９参照）と、エア浮上ステージ３、基板保持機構５、基板搬送機構７および基板固定機構９を制御する図示しない制御部（制御手段）とを備えている。

エア浮上ステージ３は、基板１０の搬送方向を長手方向とする平板状に形成され、図示しないベース部上に固定されている。エア浮上ステージ３の上端面には、複数のエア噴出し孔１１が全面にわたって所定の間隔で設けられている。エア浮上ステージ３は、浮上エア系統１３に接続され、浮上用電磁弁１５の作動により、各エア噴出し孔１１から上向きに、すなわち、搬送される基板１０に対して下方から圧縮エアを吐出して、基板１０を浮上させるようになっている。

基板保持機構５は、エア浮上ステージ３の幅方向（図１において上下方向）の一端に隣接して配置され、浮上させられた基板１０の幅方向の端部を下方から吸着保持するようになっている。具体的には、基板保持機構５は、浮上させられた基板１０を保持する基板吸着機構１７と、該基板吸着機構１７を上下に昇降させる上下機構１９とを備えている。

基板吸着機構１７は、搬送される基板１０に吸着させる基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃを備えている。基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、搬送される基板１０に吸着して、基板１０を浮上状態で保持するものである。基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、細長く形成された板状部材に設置され、基板１０を広範囲にわたって保持できるように、搬送方向に所定の間隔を空けて配列されている。

また、基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、それぞれ基板１０の搬送方向に等間隔に配列された５つの吸着パッド部２３を備えている。各吸着パッド部２３は、ほぼ円柱形状に形成され、弾性部材からなる上向きに突出した吸着部を有している。各吸着部は、上端面が浅い窪み状に形成され、この窪みのほぼ中央に吸着孔（図示略）が設けられている。

基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、図５および図６に示すように、それぞれ吸着用電磁弁２５ａ，２５ｂ，２５ｃを介して吸着用エア吸引系統２７に接続されている。基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、吸着用電磁弁２５ａ，２５ｂ，２５ｃのＯＮ作動により、各吸着部の吸着孔から吸引するようになっている。すなわち、基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、搬送されてきた基板１０の下端面に各吸着パッド部２３の吸着部を接触させて、吸着部の窪み内が負圧になることにより基板１０を吸着する。

上下機構１９は、基板吸着機構１７を下方から支持して上下に昇降させるものである。上下機構１９は、基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃのそれぞれの下方に位置するように３つ配列されている。各上下機構１９は、それぞれが同期して上下方向に伸縮可能に設けられている。

基板搬送機構７は、基板１０の搬送方向に沿って配置される直線レール状の駆動軸２９と、該駆動軸２９の長手方向に沿って直線駆動させられるスライダ３１とを備えている。前記３つの上下機構１９は、スライダ３１上に載置されている。

駆動軸２９は、エア浮上ステージ３の長手方向の全長にわたって、基板搬入側から基板搬出側にかけてエア浮上ステージ３に隣接して設置されている。すなわち、駆動軸２９に取り付けられたスライダ３１は、エア浮上ステージ３の基板搬入側から基板搬出側まで往復移動可能となっている。

基板固定機構９は、浮上した状態の基板１０を静止状態に固定するものである。基板固定機構９は、図８および図９に示すように円柱形状に形成され、エア浮上ステージ３に設けられた貫通孔３５内に収容されて、エア浮上ステージ３の上端面から後述する固定パッド部３３を上下方向に出没させられるように設けられている。

また、基板固定機構９は、図７に示すように、エア浮上ステージ３のストロークエンド近傍において、搬送される基板１０の四隅の近傍に対応する位置に４箇所配置されている。また、基板固定機構９は、先端部に上端面がほぼ平面の固定パッド部３３を備えている。固定パッド部３３は、例えば、耐摩耗性を有する樹脂から形成されている。

制御部は、上述したエア浮上ステージ３、基板保持機構５、基板搬送機構７および基板固定機構９に接続され、それぞれの作動を制御するようになっている。具体的には、制御部は、エア浮上ステージ３の浮上用電磁弁１５を制御して、エア噴出し孔１１からの圧縮エアの吐出・停止を切り替えるようになっている。また、制御部は、基板保持機構５の吸着用電磁弁２５ａ，２５ｂ，２５ｃを制御して、基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃによる基板１０の吸着・解放を切り替えるようになっている。

また、制御部は、基板保持機構５の上下機構１９を上昇または下降させるようになっている。また、制御部は、基板搬送機構７のスライダ３１を前進移動または後退移動させるようになっている。また、制御部は、基板固定機構９を上昇または下降させるようになっている。

さらに、制御部は、基板搬送機構７により搬送された基板１０がスライダ３１のストロークエンド近傍に到達したときには、以下のように基板保持機構５、基板搬送機構７および基板固定機構９を制御するようになっている。

すなわち、制御部は、スライダ３１が基板受渡し位置に達したときには、スライダ３１を停止させた後、基板固定機構９を作動させて基板１０が移動しないように固定パッド部３３を上昇して基板１０を支持する。次に、吸着用電磁弁２５ａ，２５ｂ，２５ｃをＯＦＦ作動させて各吸着パッド部２３の吸引動作を停止させ、基板１０を解放した状態で基板保持機構５の上下機構１９を下降させて基板１０の保持を一旦解除するようになっている。

そして、制御部は、基板搬送機構７によりスライダ３１を所望の距離、例えば、基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃの１ピッチ分後退させた後に、吸着用電磁弁２５ａ，２５ｂ，２５ｃをＯＮ作動させて基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃを吸着状態に切換え、基板保持機構５の上下機構１９を上昇させて基板１０を保持し、基板固定機構９を下降させて基板１０の固定を解除し、基板搬送機構７によりスライダ３１をストロークエンド近傍まで移動させるようになっている。

この場合、基板１０は、スライダ３１が後退した距離だけ、隣接した次工程の他の検査装置または製造装置内部に送り出される。基板保持機構５は、基板１０の先端部分が他の検査装置の基板保持機構により保持されたことを確認すると、基板１０の保持を解除すると同時に上下機構１９により下降されるようになっている。基板１０から切り離された基板保持機構５は、スライダ３１により基板が搬入されてくる初期位置まで戻されて、エア浮上ステージ３の上流側で次に搬送されてくる基板を待機するようになっている。

このように構成された本実施形態に係る基板搬送装置１の作用について説明する。
本実施形態に係る基板搬送装置１により基板１０を搬送するには、まず、エア浮上ステージ３の基板搬入側にスライダ３１を移動させて、基板保持機構５を初期位置に待機させる。

次に、基板１０が搬入されてくると、浮上用電磁弁１５をＯＮにして、エア浮上ステージ３の各エア噴出し孔１１から上向きに圧縮エアを吐出させる。そして、図示しない基板搬送ロボットにより基板１０をアライメント領域に搬入して所定のアライメントを行った後、基板保持機構５を作動して上下機構１９を上昇させ、吸着用電磁弁２５ａ，２５ｂ，２５ｃをＯＮ状態にして基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃにより基板１０の下面を吸着保持する。なお、基板固定機構９は、貫通孔３５内に収容状態としておく。

これにより、搬送される基板１０は、エア浮上ステージ３の基板搬入側に、その幅方向の一端を基板保持機構５により保持された状態で、各エア噴出し孔１１から吐出される圧縮エアを受けて、エア浮上ステージ３の上端面より僅かに上方に浮上させられる。

続いて、制御部は、スライダ３１に前進信号を出力する。スライダ３１は、図１０に示すように、制御部からの前進信号を受けて基板搬出側に移動させられる。これにより、基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃに浮上状態で保持されている基板１０は、エア浮上ステージ３上を搬送される。基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、基板１０の搬送方向のほぼ全長にわたって所定の間隔を空けて基板１０を保持しているので、基板１０が移動してしまったり、基板１０の姿勢がずれたりすることなく、基板１０を安定して搬送することができる。

制御部は、スライダ３１をストロークエンド近傍まで移動させると、すなわち、基板１０をストロークエンド近傍まで搬送すると、スライダ３１に駆動停止信号を出力する。スライダ３１は、制御部からの駆動停止信号を受けて駆動軸２９のストロークエンド近傍で停止する。このとき、基板固定機構９の固定パッド部３３は、エア浮上ステージ３の上端面より下降した位置となるように貫通孔３５内に収容されているので、基板１０の搬送を妨げることはない。

続いて、制御部は、基板固定機構９に上昇信号を出力する。基板固定機構９は、制御部からの上昇信号を受けて上昇し、固定パッド部３３を基板１０に接触させる。基板１０は、基板１０と固定パッド部３３との間に発生する摩擦力により、静止状態に固定される。これにより、基板保持機構５による基板１０の保持がなくなっても、基板１０が移動してしまったり、基板１０の姿勢がずれたりすることを防ぐことができる。

基板１０が基板固定機構９により固定されると、制御部は、吸着用電磁弁２５ａ，２５ｂ，２５ｃをＯＦＦに切り替えるとともに、上下機構１９に下降信号を出力する。基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、各吸着パッド部２３の各吸着孔による吸着状態を解除する。また、基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、図１１に示すように、上下機構１９が下降することにより、基板１０から離れる方向に移動させられる。

基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃによる基板１０の保持が解除されると、制御部は、所定の距離を後退させる後退信号をスライダ３１に出力する。スライダ３１は、制御部からの後退信号を受けて、例えば、図１２に示すように、基板１０に対して、最後尾の基板吸着部２１Ａが基板１０から外れる位置まで後退移動して停止する。

スライダ３１の後退移動が停止すると、制御部は、上下機構１９に上昇信号を出力する。上下機構１９は、図１３に示すように、制御部からの上昇信号を受けて上昇させられる。このとき、基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃが同期して上昇するが、基板１０が駆動軸２９のストロークエンド近傍に残された状態でスライダ３１が後退移動させられているので、図１３に示す例では、基板吸着部２１Ｂ，２１Ｃだけが基板１０に接触する。

制御部は、図６に示すように、吸着用電磁弁２５ａをＯＦＦ状態に維持し、吸着用電磁弁２５ｂ，２５ｃをＯＮに切替えて、基板１０を基板吸着部２１Ｂ，２１Ｃの吸着パッド部２３の各吸着孔に吸着する。これにより、ストロークエンド近傍に浮上状態で残された基板１０は、搬送方向後方を基板吸着部２１Ｂ，２１Ｃにより保持される。したがって、基板１０の搬送方向前方に基板保持機構５により保持されていない部分を形成し、スライダ３１による基板保持機構５のストロークに余裕をもたせることができる。

この場合に、基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、基板１０を広範囲に渡って保持できるように搬送方向に所定の間隔を空けて配列されているので、基板１０の全長以内の距離でスライダ３１を後退移動させても、基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃのいずれかにより再度基板を保持することが可能となる。

また、基板保持機構５による基板１０の保持が解除されている間、基板１０に基板固定機構９が接触して基板１０が静止状態に固定されるので、基板１０が移動してしまったり、基板１０の姿勢がずれたりすることなく、基板１０の姿勢を保ったまま基板保持機構５の保持位置を変えることができる。

続いて、基板１０が再度基板保持機構５によって保持されると、制御部は、基板固定機構９に下降信号を出力する。基板固定機構９は、制御部からの下降信号を受けて下降し、固定パッド部３３がエア浮上ステージ３の上端面より下降した位置となるように貫通孔３５内に収容される。

その後、制御部は、スライダ３１に前進信号を出力する。スライダ３１は、図１４に示すように、制御部からの前進信号を受けて前進移動する。制御部は、スライダ３１を再度ストロークエンド近傍まで移動させると、スライダ３１に駆動停止信号を出力する。スライダ３１は、制御部からの駆動停止信号を受けて、ストロークエンド近傍で停止する。

この場合に、基板１０は基板吸着部２１Ｂ，２１Ｃにより搬送方向後方を保持されているので、スライダ３１がストロークエンド近傍まで移動することで、基板１０の前端側をストロークエンドから突出させることができる。

そして、ストロークエンドから突出された基板１０の前端部が、後段の基板搬送装置の基板保持機構により保持された状態で、制御部が、吸着用電磁弁２５ｂ，２５ｃをＯＦＦに切り替えるとともに、上下機構１９に下降信号を出力する。これにより、基板吸着部２１Ｂ，２１Ｃは、各吸着パッド部２３の各吸着孔による吸着状態を解除する。また、基板吸着部２１Ｂ，２１Ｃは、図１５に示すように、上下機構１９が下降することにより、基板１０から離れる方向に移動させられる。これにより、基板１０は、エア浮上ステージ３の基板搬出側から後段の工程に搬出される。

以上説明したように、本実施形態に係る基板搬送装置１によれば、基板１０の前端側をストロークエンドから突出させることができ、後段の工程に基板１０を容易に引き渡すことが可能となる。その結果、装置を大型化することなく、基板１０の搬送距離を長くすることが可能となる。

なお、本実施形態は、以下のように変形することができる。
例えば、本実施形態においては、基板固定機構９を基板１０に接触させて、摩擦力により基板１０を静止状態に固定することとしたが、これに代えて、図１６に示すように、基板固定機構３７の固定パッド部３９のほぼ中央を浅い窪み状に形成した吸着パッド４１を設け、基板保持機構５と同様に、制御部の作動により、基板１０を吸着パッド４１に吸着して固定することとしてもよい。

具体的には、各基板固定機構３７は、それぞれ固定用電磁弁４３を介して固定用エア吸引系統４５に接続されている。基板１０を固定するときは、制御部は、固定用電磁弁４３をＯＮに切替える。これにより、基板固定機構３７は、基板１０を固定パッド部３９に吸着する。一方、基板１０の固定を解除するときは、制御部は、固定用電磁弁４３をＯＦＦに切替える。これにより、基板固定機構３７は、固定パッド部３９による吸着状態を解除する。

このようにすることで、基板固定機構３７は、基板１０を固定パッド部３９に吸着しながら静止状態に固定するので、基板１０の姿勢を精度よく保ったまま基板保持機構５の保持位置を変えることができる。

以上、本発明の一実施形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
例えば、本実施形態においては、５つの吸着パッド部２３を備える基板吸着部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃにより基板１０を保持することとしたが、吸着パッド部２３および基板吸着部の数や配置はこれに限定されるものでない。
また、例えば、本実施形態においては、基板保持機構５をエア浮上ステージ３の幅方向の一端に設けることとしたが、これに代えて、基板保持機構５をエア浮上ステージ３の幅方向の他端にも設けて、基板１０の幅方向の両端部を保持することとしてもよい。
また、基板保持機構５をエア浮上ステージ３の幅中央に設け、搬送方向における基板１０の中央を保持して搬送するセンター搬送方式を採用することとしてもよい。

本発明の一実施形態に係る基板搬送装置を上から見た上面図である。 図１の基板搬送装置を横から見た側面図であって、基板保持機構が上昇した状態を示した図である。 図１の基板搬送装置を横から見た側面図であって、基板保持機構が下降した状態を示した図である。 図１の基板搬送装置のエア浮上ステージを上から見た概略図である。 図１の基板搬送装置の基板吸着部のエア配管図を示す該略図である。 図１の基板搬送装置の基板吸着部のエア配管図を示す該略図である。 図１の基板搬送装置を上から見た概略図である。 図７の基板搬送装置を横から見た側面図であって、基板固定機構が下降した状態を示した図である。 図７の基板搬送装置を横から見た側面図であって、基板固定機構が上昇した状態を示した図である。 図１の基板搬送装置の基板保持機構が前進した状態を示した図である。 図１０の基板搬送装置の基板保持機構が下降した状態を示した図である。 図１１の基板搬送装置の基板搬送部が後退した状態を示した図である。 図１２の基板搬送装置の基板保持機構が上昇した状態を示した図である。 図１３の基板搬送装置の基板搬送部が前進した状態を示した図である。 図１４の基板搬送装置の基板保持機構が下降した状態を示した図である。 本発明の一実施形態の変形例に係る基板搬送装置のエア配管図を示す該略図である。

符号の説明

１ 基板搬送装置
３ エア浮上ステージ（浮上手段）
５ 基板保持機構（保持手段）
７ 基板搬送機構（駆動手段）
１０ 基板

Claims (6)

1. 基板を浮上させる浮上手段と、
   該浮上手段により浮上させられた状態の前記基板を保持する保持手段と、
   該保持手段を搬送方向に移動させる駆動手段と、
   前記保持手段と前記駆動手段を制御する制御手段とを備え、
   該制御手段は、前記駆動手段の搬送方向のストロークエンド近傍において、前記保持手段による前記基板の保持を解除して、前記保持手段をストロークエンドから離れる方向に戻し、戻した位置で再度前記保持手段に前記基板を保持させて、再び前記駆動手段を駆動させる基板搬送装置。
2. 前記保持手段が、前記搬送方向に複数配列されている請求項１に記載の基板搬送装置。
3. 前記制御手段が、前記浮上手段による前記基板の浮上を停止して、前記保持手段による前記基板の保持を解除する請求項１または請求項２に記載の基板搬送装置。
4. 前記浮上手段により浮上した状態の基板表面に接触・離間させられる固定手段を備え、
   前記制御手段が、前記保持手段による前記基板の保持を解除する際に、前記固定手段に前記基板を接触させる請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板搬送装置。
5. 前記固定手段が、前記基板を吸着する吸着手段を備える請求項４に記載の基板搬送装置。
6. 基板を浮上させる浮上工程と、
   浮上させられた状態の前記基板を保持して搬送方向に移動させる第１の移動工程と、
   搬送方向のストロークエンド近傍において、前記基板の保持を解除して、保持位置をストロークエンドから離れる方向に変更して再度前記基板を保持する保持位置変更工程と、
   保持位置を変更した前記基板を再度搬送方向に移動させる第２の移動工程と
   を備える基板搬送方法。

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