JPH1174182A - マスク搬送装置及びマスクステージ - Google Patents
マスク搬送装置及びマスクステージInfo
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- JPH1174182A JPH1174182A JP9245919A JP24591997A JPH1174182A JP H1174182 A JPH1174182 A JP H1174182A JP 9245919 A JP9245919 A JP 9245919A JP 24591997 A JP24591997 A JP 24591997A JP H1174182 A JPH1174182 A JP H1174182A
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- electrostatic chuck
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- transfer device
- mask stage
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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- Electron Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 大面積で、パターン寸法が不安定となりやす
いマスクを、安全で信頼性高く転写装置にロード・アン
ロードする装置を提供する。 【解決手段】 本マスク搬送装置は、マスク６を保持す
る静電チャック８を有する。また、該静電チャック８を
マスク６に押し付けるためのバネ９を有する。静電チャ
ック面とマスク面がきちんと合った後に電圧を印加して
静電チャックを吸着させることができる。
いマスクを、安全で信頼性高く転写装置にロード・アン
ロードする装置を提供する。 【解決手段】 本マスク搬送装置は、マスク６を保持す
る静電チャック８を有する。また、該静電チャック８を
マスク６に押し付けるためのバネ９を有する。静電チャ
ック面とマスク面がきちんと合った後に電圧を印加して
静電チャックを吸着させることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイスや
液晶デバイス等の転写露光用のマスクを搬送する装置、
及び、そのマスクを保持するマスクステージに関する。
特には、荷電粒子線縮小転写装置において用いるような
破損し易いマスクを露光装置にロード・アンロードする
ためのマスク搬送装置に関する。
液晶デバイス等の転写露光用のマスクを搬送する装置、
及び、そのマスクを保持するマスクステージに関する。
特には、荷電粒子線縮小転写装置において用いるような
破損し易いマスクを露光装置にロード・アンロードする
ためのマスク搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の半導体デバイス露光装置は、近紫
外光や紫外光を用いるものが主流であった。これらの光
露光装置は大気中で露光を行うものであり、そのマスク
ステージやマスク搬送装置のマスク把持には真空チャッ
クを用いていた。そのようなウェハ搬送装置の中には、
ウェハを裏面からチャックするものも知られている。
外光や紫外光を用いるものが主流であった。これらの光
露光装置は大気中で露光を行うものであり、そのマスク
ステージやマスク搬送装置のマスク把持には真空チャッ
クを用いていた。そのようなウェハ搬送装置の中には、
ウェハを裏面からチャックするものも知られている。
【０００３】一方、荷電粒子線であるイオンビームや電
子ビームをエネルギ線として用いる荷電粒子線転写装置
では、真空下で露光が行われるため、真空チャックを用
いることはできない。これらのイオンビームの縮小転写
装置や、セルプロジェクション（あるいはブロック描
画、キャラクタープロジェクション）と呼ばれる半導体
デバイスの電子線露光装置におけるマスクの搬送装置の
詳細については、公表されていない。
子ビームをエネルギ線として用いる荷電粒子線転写装置
では、真空下で露光が行われるため、真空チャックを用
いることはできない。これらのイオンビームの縮小転写
装置や、セルプロジェクション（あるいはブロック描
画、キャラクタープロジェクション）と呼ばれる半導体
デバイスの電子線露光装置におけるマスクの搬送装置の
詳細については、公表されていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術のウェハ
把持用真空チャックでは、対象となるウェハはその全体
が０．５mm以上の厚さのシリコン板であるので、ウェハ
を少々乱暴に扱っても破損する心配はない。しかし、電
子線縮小転写装置用マスクは、例えば２〜３μm厚のメ
ンブレンに穴開きパターンが形成されたものである。さ
らに、分割転写方式のような１チップ全体のパターンを
有するマスクを用いる露光方式では、セルプロジェクシ
ョン描画装置と異なり、１チップ分の全パターンを有す
る広いマスクを使用する。しかも、場合によっては、１
チップのデバイスのパターンをコンプリメンタリー（相
補的）な２つのパターンに分割し２枚のマスクに分けて
形成しなければならないため、マスクが非常に大面積
（一例１３５×２２９mm）となる。したがって、電子線
縮小転写装置用のマスク搬送装置は、きわめて薄くかつ
大きい、そして壊れ易く変形し易いマスクを安全に搬送
しなければならないという、きわめて厳しい要請を受け
る。
把持用真空チャックでは、対象となるウェハはその全体
が０．５mm以上の厚さのシリコン板であるので、ウェハ
を少々乱暴に扱っても破損する心配はない。しかし、電
子線縮小転写装置用マスクは、例えば２〜３μm厚のメ
ンブレンに穴開きパターンが形成されたものである。さ
らに、分割転写方式のような１チップ全体のパターンを
有するマスクを用いる露光方式では、セルプロジェクシ
ョン描画装置と異なり、１チップ分の全パターンを有す
る広いマスクを使用する。しかも、場合によっては、１
チップのデバイスのパターンをコンプリメンタリー（相
補的）な２つのパターンに分割し２枚のマスクに分けて
形成しなければならないため、マスクが非常に大面積
（一例１３５×２２９mm）となる。したがって、電子線
縮小転写装置用のマスク搬送装置は、きわめて薄くかつ
大きい、そして壊れ易く変形し易いマスクを安全に搬送
しなければならないという、きわめて厳しい要請を受け
る。
【０００５】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたもので、大面積で、破損のおそれがあり、あるいは
パターン寸法が不安定となりやすいマスクを、安全で信
頼性高く転写装置にロード・アンロードする装置を提供
することを目的とする。さらに、マスクを、回転及び平
行移動の精度を良好に保ったままで搬送できるマスク搬
送装置を提供することを目的とする。
れたもので、大面積で、破損のおそれがあり、あるいは
パターン寸法が不安定となりやすいマスクを、安全で信
頼性高く転写装置にロード・アンロードする装置を提供
することを目的とする。さらに、マスクを、回転及び平
行移動の精度を良好に保ったままで搬送できるマスク搬
送装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の第１態様のマスク搬送装置は、 マスクを
保持する静電チャックを有するマスク搬送装置であっ
て； 該静電チャックをマスクに押し付けるための付勢
機構を有することを特徴とする。この態様においては、
マスクに対してバネやゴム等の付勢機構で搬送装置の静
電チャックを押しつけ、静電チャック面とマスク面がき
ちんと合った後に電圧を印加して静電チャックを吸着さ
せることができる。そのため、マスク受け渡し時に、マ
スクを曲げる力が働かないのでマスクが破損することは
ない。
め、本発明の第１態様のマスク搬送装置は、 マスクを
保持する静電チャックを有するマスク搬送装置であっ
て； 該静電チャックをマスクに押し付けるための付勢
機構を有することを特徴とする。この態様においては、
マスクに対してバネやゴム等の付勢機構で搬送装置の静
電チャックを押しつけ、静電チャック面とマスク面がき
ちんと合った後に電圧を印加して静電チャックを吸着さ
せることができる。そのため、マスク受け渡し時に、マ
スクを曲げる力が働かないのでマスクが破損することは
ない。
【０００７】本発明の第２態様のマスク搬送装置は、
マスク保管箱とプリアライメント装置あるいはマスクス
テージのいずれかの間でマスクを搬送する装置であっ
て；マスクを保持する静電チャックを有し、該静電チャ
ックを、マスク保管箱、プリアライメント装置又はマス
クステージに保持されているマスクに押し付けるための
付勢機構を有することを特徴とする。マスクはプリアラ
イメントが行われた後は常に静電チャックでチャックさ
れた状態で搬送されるため、ローディング精度は十分高
くなる。また、マスクを裸でマスクステージにチャック
することとすれば、静電チャックの吸着力が比較的小さ
くとも、そして４Ｇ位の加減速を受けても、チャックと
マスクの間にスリップが起きるおそれがない。さらに、
裸の軽いマスクを保持すればよいため小面積の静電チャ
ックでも搬送できる。また、マスクに補強リングを接着
する必要がないため、接着によるパターン誤差を考えな
くてよい。
マスク保管箱とプリアライメント装置あるいはマスクス
テージのいずれかの間でマスクを搬送する装置であっ
て；マスクを保持する静電チャックを有し、該静電チャ
ックを、マスク保管箱、プリアライメント装置又はマス
クステージに保持されているマスクに押し付けるための
付勢機構を有することを特徴とする。マスクはプリアラ
イメントが行われた後は常に静電チャックでチャックさ
れた状態で搬送されるため、ローディング精度は十分高
くなる。また、マスクを裸でマスクステージにチャック
することとすれば、静電チャックの吸着力が比較的小さ
くとも、そして４Ｇ位の加減速を受けても、チャックと
マスクの間にスリップが起きるおそれがない。さらに、
裸の軽いマスクを保持すればよいため小面積の静電チャ
ックでも搬送できる。また、マスクに補強リングを接着
する必要がないため、接着によるパターン誤差を考えな
くてよい。
【０００８】本発明の第３態様のマスク搬送装置は、
マスクを保持する静電チャックを有するマスクステージ
あるいはプリアライメント装置との間でマスクを受け渡
すマスク搬送装置であって； マスクを保持する静電チ
ャックを有し、 該搬送装置の静電チャックと上記マス
クステージあるいはプリアライメント装置の静電チャッ
クとが、マスク表裏を互いに逆の方向から吸着すること
を特徴とする。この態様では、同一場所の表と裏でマス
クの吸着を行うため、受け渡し時にマスクを曲げる力は
働かずマスクを破損する心配はない。
マスクを保持する静電チャックを有するマスクステージ
あるいはプリアライメント装置との間でマスクを受け渡
すマスク搬送装置であって； マスクを保持する静電チ
ャックを有し、 該搬送装置の静電チャックと上記マス
クステージあるいはプリアライメント装置の静電チャッ
クとが、マスク表裏を互いに逆の方向から吸着すること
を特徴とする。この態様では、同一場所の表と裏でマス
クの吸着を行うため、受け渡し時にマスクを曲げる力は
働かずマスクを破損する心配はない。
【０００９】本発明の第４態様のマスク搬送装置は、
マスクを保持する静電チャックを有するマスクステージ
あるいはプリアライメント装置との間でマスクを受け渡
すマスク搬送装置であって； マスクを保持する静電チ
ャックを有し、 該搬送装置の静電チャックが、上記マ
スクステージあるいはプリアライメント装置の静電チャ
ックよりも吸着面の面積が狭いことを特徴とする。この
態様では、搬送装置の静電チャックとマスクステージの
静電チャックの両方に電圧が印加されている時にマスク
に曲げる力が働かないという有利な作用効果を得ること
ができる。
マスクを保持する静電チャックを有するマスクステージ
あるいはプリアライメント装置との間でマスクを受け渡
すマスク搬送装置であって； マスクを保持する静電チ
ャックを有し、 該搬送装置の静電チャックが、上記マ
スクステージあるいはプリアライメント装置の静電チャ
ックよりも吸着面の面積が狭いことを特徴とする。この
態様では、搬送装置の静電チャックとマスクステージの
静電チャックの両方に電圧が印加されている時にマスク
に曲げる力が働かないという有利な作用効果を得ること
ができる。
【００１０】本発明の第５態様のマスク搬送装置は、
マスクを保持する静電チャックを有するマスクステージ
あるいはプリアライメント装置との間でマスクを受け渡
すマスク搬送装置であって； 該マスクステージあるい
はプリアライメント装置の静電チャックが複数の部分に
分割されており、 該搬送装置は、マスクステージの静
電チャックの一部と相対する静電チャック、及び、該静
電チャックをマスクに押し付けるための付勢機構を有
し； マスクステージから搬送装置にマスクを受け渡す
際に、 上記付勢機構で、搬送装置の静電チャックを、
マスクステージあるいはプリアライメント装置の静電チ
ャックに保持されているマスクに押し付け、 次に、該
搬送装置の静電チャックに電圧印加し、 次に、上記マ
スクステージあるいはプリアライメント装置の静電チャ
ック電極を、搬送装置の静電チャックと相対しない部分
から先に電圧印加を解除し、最後に該搬送装置の静電チ
ャックを押し付けられている部分の電圧印加を解除し、
その後、搬送装置の移動を開始することを特徴とする。
この態様では、マスクステージからマスクを外す際にマ
スクに無理な力がかかるようなことがない。
マスクを保持する静電チャックを有するマスクステージ
あるいはプリアライメント装置との間でマスクを受け渡
すマスク搬送装置であって； 該マスクステージあるい
はプリアライメント装置の静電チャックが複数の部分に
分割されており、 該搬送装置は、マスクステージの静
電チャックの一部と相対する静電チャック、及び、該静
電チャックをマスクに押し付けるための付勢機構を有
し； マスクステージから搬送装置にマスクを受け渡す
際に、 上記付勢機構で、搬送装置の静電チャックを、
マスクステージあるいはプリアライメント装置の静電チ
ャックに保持されているマスクに押し付け、 次に、該
搬送装置の静電チャックに電圧印加し、 次に、上記マ
スクステージあるいはプリアライメント装置の静電チャ
ック電極を、搬送装置の静電チャックと相対しない部分
から先に電圧印加を解除し、最後に該搬送装置の静電チ
ャックを押し付けられている部分の電圧印加を解除し、
その後、搬送装置の移動を開始することを特徴とする。
この態様では、マスクステージからマスクを外す際にマ
スクに無理な力がかかるようなことがない。
【００１１】本発明のマスクステージは、 マスクを保
持する静電チャックを有するマスクステージであって；
該マスクステージの静電チャックが複数の部分に分割
されており、 該マスクステージとの間でマスクを受け
渡す、該マスクステージの静電チャックの一部と相対す
る静電チャックを有する搬送装置が付設されており、搬
送装置からマスクステージへマスクを受け渡す際に、上
記搬送装置の静電チャックに相対する部分のマスクステ
ージの静電チャック電極が最初に電圧が印加され、その
後その周辺の静電チャック電極に電圧が印加されること
を特徴とする。本発明のマスクステージでは、マスクの
チャッキングが、搬送装置の静電チャックと相対する部
分からその周辺へと進むので、マスクに皺や変形が生じ
ることがない。
持する静電チャックを有するマスクステージであって；
該マスクステージの静電チャックが複数の部分に分割
されており、 該マスクステージとの間でマスクを受け
渡す、該マスクステージの静電チャックの一部と相対す
る静電チャックを有する搬送装置が付設されており、搬
送装置からマスクステージへマスクを受け渡す際に、上
記搬送装置の静電チャックに相対する部分のマスクステ
ージの静電チャック電極が最初に電圧が印加され、その
後その周辺の静電チャック電極に電圧が印加されること
を特徴とする。本発明のマスクステージでは、マスクの
チャッキングが、搬送装置の静電チャックと相対する部
分からその周辺へと進むので、マスクに皺や変形が生じ
ることがない。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ説明す
る。図１は、本発明の１実施例に係るマスク搬送装置の
全体構成を示す側面図である。（Ａ）は、マスクステー
ジとの受け渡し状態を示し、（Ｂ）はプリアライメント
装置との受け渡し状態を示す。図１（Ａ）の左端には電
子線縮小転写装置の鏡筒１が示されている。この鏡筒１
内には、電子銃（図示されず）や電子レンズ（×印）等
を含む電子光学系が収められている。同鏡筒１内は、真
空ポンプ（図示されず）で排気されており、運転中は高
度の真空に保たれる。
る。図１は、本発明の１実施例に係るマスク搬送装置の
全体構成を示す側面図である。（Ａ）は、マスクステー
ジとの受け渡し状態を示し、（Ｂ）はプリアライメント
装置との受け渡し状態を示す。図１（Ａ）の左端には電
子線縮小転写装置の鏡筒１が示されている。この鏡筒１
内には、電子銃（図示されず）や電子レンズ（×印）等
を含む電子光学系が収められている。同鏡筒１内は、真
空ポンプ（図示されず）で排気されており、運転中は高
度の真空に保たれる。
【００１３】鏡筒１の側面には、マスクステージチャン
バ２が側方に突出するように設けられている。同チャン
バ２も気密な構造であって内部は真空に保たれる。マス
クステージチャンバ２内には、マスクステージ３が図の
左右に横行可能に収められている。図の状態では、マス
クステージ３は、鏡筒１の外部に引き出されており、マ
スク交換を行う態勢である。マスクステージチャンバ２
の外璧にはゲートバルブ１１が設置されている。このゲ
ートバルブ１１は気密な弁であって、マスク交換時を除
いて閉じられており、マスクステージチャンバ２内を真
空に保つ。マスク交換時には、ゲートバルブ１１が開い
て、マスク６を保持する搬送アーム１０ａが出入りす
る。
バ２が側方に突出するように設けられている。同チャン
バ２も気密な構造であって内部は真空に保たれる。マス
クステージチャンバ２内には、マスクステージ３が図の
左右に横行可能に収められている。図の状態では、マス
クステージ３は、鏡筒１の外部に引き出されており、マ
スク交換を行う態勢である。マスクステージチャンバ２
の外璧にはゲートバルブ１１が設置されている。このゲ
ートバルブ１１は気密な弁であって、マスク交換時を除
いて閉じられており、マスクステージチャンバ２内を真
空に保つ。マスク交換時には、ゲートバルブ１１が開い
て、マスク６を保持する搬送アーム１０ａが出入りす
る。
【００１４】マスクステージ３の下面には、静電チャッ
ク４が、接着剤５で貼り付けられている。接着剤が用い
られているのは、ボルト締結などでは、ステージ移動時
にnmオーダーのズレが生じるからである。静電チャック
４の下面には、静電チャック電極４ａ、４ｂが配置され
ている。この静電チャック４の下面にマスク６を密着さ
せて電極４ａ、４ｂに電圧を印加すると，静電気の作用
によりマスク６が静電チャック４の下面に吸着される。
マスク交換を終えた後は、マスクステージ３は図の左の
鏡筒１内に移動し、マスク６を光学系の光軸付近に位置
させる。なお、マスクステージ３の中央部は中空となっ
ており、図の上から下に向かって電子線がマスク６を照
射し、マスク６を通過してパターン化された電子線は、
さらに下に進んでウェハ（図示されず）上に投影結像さ
れる。
ク４が、接着剤５で貼り付けられている。接着剤が用い
られているのは、ボルト締結などでは、ステージ移動時
にnmオーダーのズレが生じるからである。静電チャック
４の下面には、静電チャック電極４ａ、４ｂが配置され
ている。この静電チャック４の下面にマスク６を密着さ
せて電極４ａ、４ｂに電圧を印加すると，静電気の作用
によりマスク６が静電チャック４の下面に吸着される。
マスク交換を終えた後は、マスクステージ３は図の左の
鏡筒１内に移動し、マスク６を光学系の光軸付近に位置
させる。なお、マスクステージ３の中央部は中空となっ
ており、図の上から下に向かって電子線がマスク６を照
射し、マスク６を通過してパターン化された電子線は、
さらに下に進んでウェハ（図示されず）上に投影結像さ
れる。
【００１５】図１（Ｂ）にはプリアライメント装置１４
及びマスク搬送装置本体１０が示されている。プリアラ
イメント装置１４は、マスク６を、電子線縮小転写装置
にロードする前の時点で予め粗い位置合わせを行ってお
く装置である。プリアライメント装置１４は、プリアラ
イメント光学系１５、マスク６を下面に吸着する静電チ
ャック１６、及びこの静電チャック１６をＸ・Ｙ・θ方
向で移動させるステージ１４ａからなる。静電チャック
１２の下面にマスク６を吸着させた後、プリアライメン
ト光学系１５の視野内にマスク６上のアライメントマー
ク（図示されず）が入るようにステージ１４ａを調整し
てプリアライメントを行う。プリアライメント終了後、
搬送アーム１０ａがマスク６を受け取り、プリアライメ
ントの姿勢をほぼ保ったまま予め決められたストローク
だけマスクステージチャンバ２側に移動して電子線縮小
転写装置のマスクステージ３にマスクを渡す。
及びマスク搬送装置本体１０が示されている。プリアラ
イメント装置１４は、マスク６を、電子線縮小転写装置
にロードする前の時点で予め粗い位置合わせを行ってお
く装置である。プリアライメント装置１４は、プリアラ
イメント光学系１５、マスク６を下面に吸着する静電チ
ャック１６、及びこの静電チャック１６をＸ・Ｙ・θ方
向で移動させるステージ１４ａからなる。静電チャック
１２の下面にマスク６を吸着させた後、プリアライメン
ト光学系１５の視野内にマスク６上のアライメントマー
ク（図示されず）が入るようにステージ１４ａを調整し
てプリアライメントを行う。プリアライメント終了後、
搬送アーム１０ａがマスク６を受け取り、プリアライメ
ントの姿勢をほぼ保ったまま予め決められたストローク
だけマスクステージチャンバ２側に移動して電子線縮小
転写装置のマスクステージ３にマスクを渡す。
【００１６】マスク搬送装置本体１０は、搬送アーム１
０ａの昇降及び繰り出し・引き込み機構１０ｂを有す
る。搬送アーム１０ａの先端部の上面には、バネ９を介
して静電チャック８が備えられている。この静電チャッ
ク８は、マスク６の周辺部（約８００μm とやや厚い）
を吸着保持する。
０ａの昇降及び繰り出し・引き込み機構１０ｂを有す
る。搬送アーム１０ａの先端部の上面には、バネ９を介
して静電チャック８が備えられている。この静電チャッ
ク８は、マスク６の周辺部（約８００μm とやや厚い）
を吸着保持する。
【００１７】この搬送アーム１０ａでマスク６を受け取
る際は、アームの静電チャック８をマスク６の特定部分
の下に移動させた後、搬送アーム１０ａを上げる。その
時、静電チャック８は、プリアライメント装置１４の静
電チャック１６又はマスクステージ３の静電チャック４
に対して、バネ９の付勢力で押し付けられる。この力で
アームの静電チャック８はステージ側の静電チャック１
６等に密着する。
る際は、アームの静電チャック８をマスク６の特定部分
の下に移動させた後、搬送アーム１０ａを上げる。その
時、静電チャック８は、プリアライメント装置１４の静
電チャック１６又はマスクステージ３の静電チャック４
に対して、バネ９の付勢力で押し付けられる。この力で
アームの静電チャック８はステージ側の静電チャック１
６等に密着する。
【００１８】次に、アーム側の静電チャック８に電圧を
印加してマスク６を吸着させる。この時は、マスク６
は、表裏面から静電チャックで吸着されている。次にア
ームの静電チャック８から離れているステージのチャッ
ク電極から順に印加電圧を切って行き、最後に、アーム
静電チャック８の電極８ａと相対しているステージの電
極（マスクステージ３では電極４ａ）の電圧を切ってマ
スク６をステージから離して搬送アーム１０ａ上に載せ
る。その後、アーム１０ａを繰り出し・引き込みさせ
て、電子線縮小転写装置のマスクステージ３とプリアラ
イメント装置１４との間でマスクをやり取りする。マス
クを静電チャックから外す時もこのような手順で行うの
で、マスクの破損、精度劣化を生じることがない。
印加してマスク６を吸着させる。この時は、マスク６
は、表裏面から静電チャックで吸着されている。次にア
ームの静電チャック８から離れているステージのチャッ
ク電極から順に印加電圧を切って行き、最後に、アーム
静電チャック８の電極８ａと相対しているステージの電
極（マスクステージ３では電極４ａ）の電圧を切ってマ
スク６をステージから離して搬送アーム１０ａ上に載せ
る。その後、アーム１０ａを繰り出し・引き込みさせ
て、電子線縮小転写装置のマスクステージ３とプリアラ
イメント装置１４との間でマスクをやり取りする。マス
クを静電チャックから外す時もこのような手順で行うの
で、マスクの破損、精度劣化を生じることがない。
【００１９】次に、マスクステージの静電チャックの詳
細について説明する。図２は、マスクステージの静電チ
ャックの詳細を示す図である。（Ａ）は静電チャック電
極の配置を示す底面図であり、（Ｂ）はマスクステージ
３と搬送アーム１０ａ先端部を示す側面図である。マス
クステージ３の底面には、図２（Ａ）に示すように、多
数のチャック電極が配置されている。すなわち、長方形
の帯状をしたマスクステージ３の底面の図の右辺の中央
部には、やや小さい一対の電極２１、２２が配置されて
いる。この電極２１、２２は、搬送アーム１０ａ側の静
電チャック電極８ａと相対する位置に置かれている。
細について説明する。図２は、マスクステージの静電チ
ャックの詳細を示す図である。（Ａ）は静電チャック電
極の配置を示す底面図であり、（Ｂ）はマスクステージ
３と搬送アーム１０ａ先端部を示す側面図である。マス
クステージ３の底面には、図２（Ａ）に示すように、多
数のチャック電極が配置されている。すなわち、長方形
の帯状をしたマスクステージ３の底面の図の右辺の中央
部には、やや小さい一対の電極２１、２２が配置されて
いる。この電極２１、２２は、搬送アーム１０ａ側の静
電チャック電極８ａと相対する位置に置かれている。
【００２０】電極２１の隣（図の上）には、電極２３
が、その隣には電極２５が配置されており、さらにマス
クステージ３の長い辺に沿って順に電極２７〜３５が配
置されている。さらに、マスクステージ３の左辺には、
電極３７、３９が配置されている。図２（Ａ）のマスク
ステージ３の下半分にも、上記各電極と対称の位置に電
極２４〜４０が配置されている。
が、その隣には電極２５が配置されており、さらにマス
クステージ３の長い辺に沿って順に電極２７〜３５が配
置されている。さらに、マスクステージ３の左辺には、
電極３７、３９が配置されている。図２（Ａ）のマスク
ステージ３の下半分にも、上記各電極と対称の位置に電
極２４〜４０が配置されている。
【００２１】アーム１０ａ側のチャック電極８ａと相対
する電極２１、２２には、１台の電源４５が接続されて
いる。図２（Ａ）の上半分の電極２３〜３９には１台の
電源４１が接続されており、下半分の電極２４〜４０に
は別の１台の電源４２が接続されている。そして各グル
ープの隣り合う各電極間には遅延スイッチ４３が介在し
ている。この遅延スイッチ４３は、隣り合う電極への電
圧印加を０．１秒ずつ遅らせるものである。
する電極２１、２２には、１台の電源４５が接続されて
いる。図２（Ａ）の上半分の電極２３〜３９には１台の
電源４１が接続されており、下半分の電極２４〜４０に
は別の１台の電源４２が接続されている。そして各グル
ープの隣り合う各電極間には遅延スイッチ４３が介在し
ている。この遅延スイッチ４３は、隣り合う電極への電
圧印加を０．１秒ずつ遅らせるものである。
【００２２】次に、マスクステージ３にマスクを吸着さ
せる時の動作について説明する。搬送アーム１０ａを上
へ押し上げることによって、バネ９の作用で、マスク６
はマスクステージ側の静電チャック４に押し付けられ
る。ここで、アーム側のチャック電極８ａと相対してい
るマスクステージ側のチャック電極２１、２２にそれぞ
れ＋８００Ｖと−８００Ｖの電圧が供給され、マスク６
は両側の静電チャックでチャックされた状態になる。次
に、０．１秒の遅れで順次チャック電極２３〜３９及び
チャック電極２４〜４０の電極にそれぞれ±８００Ｖの
電圧が印加され、マスク６はその周囲をマスクステージ
側のチャック４にチャックされる。その後搬送アーム１
０ａ側の静電チャック８は電圧を切られ、搬送アーム１
０を下げることによって、搬送装置はマスク６から離れ
る。次に、搬送アーム１０ａを図の右側へ移動させ、そ
の後ゲートバルブ（図１Ａの１１）を閉じる。
せる時の動作について説明する。搬送アーム１０ａを上
へ押し上げることによって、バネ９の作用で、マスク６
はマスクステージ側の静電チャック４に押し付けられ
る。ここで、アーム側のチャック電極８ａと相対してい
るマスクステージ側のチャック電極２１、２２にそれぞ
れ＋８００Ｖと−８００Ｖの電圧が供給され、マスク６
は両側の静電チャックでチャックされた状態になる。次
に、０．１秒の遅れで順次チャック電極２３〜３９及び
チャック電極２４〜４０の電極にそれぞれ±８００Ｖの
電圧が印加され、マスク６はその周囲をマスクステージ
側のチャック４にチャックされる。その後搬送アーム１
０ａ側の静電チャック８は電圧を切られ、搬送アーム１
０を下げることによって、搬送装置はマスク６から離れ
る。次に、搬送アーム１０ａを図の右側へ移動させ、そ
の後ゲートバルブ（図１Ａの１１）を閉じる。
【００２３】このように、本実施例によれば、同一場所
の表と裏でしかもパターンのない場所でマスクの受け渡
しを行うため、受け渡し時にマスクを曲げる力は働かな
いのでマスクを破損する心配はない。また、マスクは端
から順に少しずつチャックされるため、チャック側に凹
状に曲ったマスクでも問題なくチャックできる。
の表と裏でしかもパターンのない場所でマスクの受け渡
しを行うため、受け渡し時にマスクを曲げる力は働かな
いのでマスクを破損する心配はない。また、マスクは端
から順に少しずつチャックされるため、チャック側に凹
状に曲ったマスクでも問題なくチャックできる。
【００２４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の第１態様のマスク搬送装置では、静電チャックをマス
クを押し付けるための付勢機構を有するので、マスクに
対して搬送装置の静電チャックを押しつけ、静電チャッ
ク面とマスク面がきちんと面が重なった後電圧を印加す
ることができる。そのため、マスク受け渡し時に、マス
クを曲げる力が働かないのでマスクが破損することはな
い。また、本発明の第３態様のマスク搬送装置では、同
一場所の表と裏でマスクの吸着を行うため、受け渡し時
にマスクを曲げる力は働かずマスクを破損する心配はな
い。さらに、本発明のマスクステージでは、マスクのチ
ャッキングが、搬送装置の静電チャックと相対する部分
からその周辺へと進むので、マスクに皺や変形が生じる
ことがない。
の第１態様のマスク搬送装置では、静電チャックをマス
クを押し付けるための付勢機構を有するので、マスクに
対して搬送装置の静電チャックを押しつけ、静電チャッ
ク面とマスク面がきちんと面が重なった後電圧を印加す
ることができる。そのため、マスク受け渡し時に、マス
クを曲げる力が働かないのでマスクが破損することはな
い。また、本発明の第３態様のマスク搬送装置では、同
一場所の表と裏でマスクの吸着を行うため、受け渡し時
にマスクを曲げる力は働かずマスクを破損する心配はな
い。さらに、本発明のマスクステージでは、マスクのチ
ャッキングが、搬送装置の静電チャックと相対する部分
からその周辺へと進むので、マスクに皺や変形が生じる
ことがない。
【図１】本発明の１実施例に係るマスク搬送装置の全体
構成を示す側面図である。（Ａ）は、マスクステージと
の受け渡し状態を示し、（Ｂ）はプリアライメント装置
との受け渡し状態を示す。
構成を示す側面図である。（Ａ）は、マスクステージと
の受け渡し状態を示し、（Ｂ）はプリアライメント装置
との受け渡し状態を示す。
【図２】マスクステージの静電チャックの詳細を示す図
である。（Ａ）は静電チャック電極の配置を示す底面図
であり、（Ｂ）はマスクステージ３と搬送アーム１０ａ
の先端部を示す側面図である。
である。（Ａ）は静電チャック電極の配置を示す底面図
であり、（Ｂ）はマスクステージ３と搬送アーム１０ａ
の先端部を示す側面図である。
１ 電子線縮小転写装置鏡筒 ２ マスクステー
ジチャンバ ３ マスクステージ ４ 静電チャック ４ａ、４ｂ 静電チャック電極 ５ 接着剤 ６ マスク ８ 静電チャック ８ａ 静電チャック電極 ９ バネ １０ マスク搬送装置本体 １０ａ 搬送アー
ム １３ 接着剤 １４ プリアライメント装置 １４ａ ステージ １５ プリアライメント光学系 １６ 静電チャッ
ク １６ａ プリアライメント装置静電チャック電極
ジチャンバ ３ マスクステージ ４ 静電チャック ４ａ、４ｂ 静電チャック電極 ５ 接着剤 ６ マスク ８ 静電チャック ８ａ 静電チャック電極 ９ バネ １０ マスク搬送装置本体 １０ａ 搬送アー
ム １３ 接着剤 １４ プリアライメント装置 １４ａ ステージ １５ プリアライメント光学系 １６ 静電チャッ
ク １６ａ プリアライメント装置静電チャック電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２Ｊ ５０３Ｄ ５４１Ｌ
Claims (8)
- 【請求項１】 マスクを保持する静電チャックを有する
マスク搬送装置であって；該静電チャックをマスクに押
し付けるための付勢機構を有することを特徴とするマス
ク搬送装置。 - 【請求項２】 マスク保管箱とプリアライメント装置あ
るいはマスクステージのいずれかの間でマスクを搬送す
る装置であって；マスクを保持する静電チャックを有
し、 該静電チャックを、マスク保管箱、プリアライメント装
置又はマスクステージに保持されているマスクに押し付
けるための付勢機構を有することを特徴とするマスク搬
送装置。 - 【請求項３】 マスクを保持する静電チャックを有する
マスクステージあるいはプリアライメント装置との間で
マスクを受け渡すマスク搬送装置であって；マスクを保
持する静電チャックを有し、 該搬送装置の静電チャックと上記マスクステージあるい
はプリアライメント装置の静電チャックとが、マスク表
裏を互いに逆の方向から吸着することを特徴とするマス
ク搬送装置。 - 【請求項４】 マスクを保持する静電チャックを有する
マスクステージあるいはプリアライメント装置との間で
マスクを受け渡すマスク搬送装置であって；マスクを保
持する静電チャックを有し、 該搬送装置の静電チャックが、上記マスクステージある
いはプリアライメント装置の静電チャックよりも吸着面
の面積が狭いことを特徴とするマスク搬送装置。 - 【請求項５】 マスクを保持する静電チャックを有する
マスクステージあるいはプリアライメント装置との間で
マスクを受け渡すマスク搬送装置であって；該マスクス
テージあるいはプリアライメント装置の静電チャックが
複数の部分に分割されており、 該搬送装置は、マスクステージの静電チャックの一部と
相対する静電チャック、及び、該静電チャックをマスク
に押し付けるための付勢機構を有し；マスクステージか
ら搬送装置にマスクを受け渡す際に、 上記付勢機構で、搬送装置の静電チャックを、マスクス
テージあるいはプリアライメント装置の静電チャックに
保持されているマスクに押し付け、 次に、該搬送装置の静電チャックに電圧印加し、 次に、上記マスクステージあるいはプリアライメント装
置の静電チャック電極を、搬送装置の静電チャックと相
対しない部分から先に電圧印加を解除し、最後に該搬送
装置の静電チャックを押し付けられている部分の電圧印
加を解除し、 その後、搬送装置の移動を開始することを特徴とするマ
スク搬送装置。 - 【請求項６】 マスクを保持する静電チャックを有する
マスクステージであって；該マスクステージの静電チャ
ックが複数の部分に分割されており、 該マスクステージとの間でマスクを受け渡す、該マスク
ステージの静電チャックの一部と相対する静電チャック
を有する搬送装置が付設されており、 搬送装置からマスクステージへマスクを受け渡す際に、
上記搬送装置の静電チャックに相対する部分のマスクス
テージの静電チャック電極が最初に電圧が印加され、そ
の後その周辺の静電チャック電極に電圧が印加されるこ
とを特徴とするマスクステージ。 - 【請求項７】 上記マスク搬送装置が、真空下に置かれ
るマスクステージと、大気下に置かれるプリアライメン
ト装置との間でマスクを搬送するものである請求項１〜
５いずれか１項記載のマスク搬送装置。 - 【請求項８】 上記付勢機構がバネであることを特徴と
する請求項１〜５いずれか１項記載のマスク搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9245919A JPH1174182A (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | マスク搬送装置及びマスクステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9245919A JPH1174182A (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | マスク搬送装置及びマスクステージ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1174182A true JPH1174182A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=17140802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9245919A Pending JPH1174182A (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | マスク搬送装置及びマスクステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1174182A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003073495A1 (fr) * | 2002-02-27 | 2003-09-04 | Tokyo Electron Limited | Procede de support d'un substrat |
| SG102066A1 (en) * | 2002-01-09 | 2004-02-27 | Asml Us Inc | Method and apparatus for transferring and loading a reticle with a robotic reticle end-effector |
| WO2006051896A1 (ja) | 2004-11-15 | 2006-05-18 | Nikon Corporation | 基板搬送装置、基板搬送方法および露光装置 |
| WO2007023941A1 (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Nikon Corporation | 保持装置、組立てシステム、スパッタリング装置、並びに加工方法及び加工装置 |
| JP2007141924A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Nikon Corp | マスク収納容器開装置、露光装置 |
| US8070145B2 (en) | 2005-08-26 | 2011-12-06 | Nikon Corporation | Holding unit, assembly system, sputtering unit, and processing method and processing unit |
| JP2013211554A (ja) * | 2013-04-12 | 2013-10-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 基板固定装置 |
-
1997
- 1997-08-28 JP JP9245919A patent/JPH1174182A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG102066A1 (en) * | 2002-01-09 | 2004-02-27 | Asml Us Inc | Method and apparatus for transferring and loading a reticle with a robotic reticle end-effector |
| WO2003073495A1 (fr) * | 2002-02-27 | 2003-09-04 | Tokyo Electron Limited | Procede de support d'un substrat |
| WO2006051896A1 (ja) | 2004-11-15 | 2006-05-18 | Nikon Corporation | 基板搬送装置、基板搬送方法および露光装置 |
| US7916268B2 (en) | 2004-11-15 | 2011-03-29 | Nikon Corporation | Substrate carrying device, substrate carrying method, and exposure device |
| WO2007023941A1 (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Nikon Corporation | 保持装置、組立てシステム、スパッタリング装置、並びに加工方法及び加工装置 |
| US8070145B2 (en) | 2005-08-26 | 2011-12-06 | Nikon Corporation | Holding unit, assembly system, sputtering unit, and processing method and processing unit |
| JP5007949B2 (ja) * | 2005-08-26 | 2012-08-22 | 株式会社ニコン | 保持装置、組立てシステム、並びに加工方法及び加工装置 |
| US8668191B2 (en) | 2005-08-26 | 2014-03-11 | Nikon Corporation | Holding unit, assembly system, sputtering unit, and processing method and processing unit |
| JP2007141924A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Nikon Corp | マスク収納容器開装置、露光装置 |
| JP4692238B2 (ja) * | 2005-11-15 | 2011-06-01 | 株式会社ニコン | マスク収納容器開装置、露光装置 |
| JP2013211554A (ja) * | 2013-04-12 | 2013-10-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 基板固定装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20040720 |