JP2013211554A - 基板固定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板201をステージ203上に固定する基板固定装置であって、前記ステージ203上に固定されたステージガード204を備え、前記ステージガードは204、前記基板201の表側の主面を微細加工あるいは観察する開口部が設けられているとともに、所定の高さを有して前記ステージ203との間に空間を形成して前記基板201の裏側の主面を前記ステージ203に非接触とし、前記ステージガード204と前記ステージ203との間に形成した前記空間内に入れた前記基板201の表側の主面の一部を用いて前記基板201を前記ステージガード204に水平に保持する所定の手段を備えたことを特徴とする。
【選択図】図2
Description
次に、基板をステージガードに保持する手段に応じて、本発明の実施形態について説明する。
本参考形態の基板固定装置は、基板を保持する手段が加圧であり、加圧チャンバを用いる装置である。図1は、加圧チャンバを用いた基板固定装置の一例を示す模式図である。図1(a)は基板を固定する基板固定装置の断面模式図、図1(b)は、加工・観察面102を有する基板101の斜視外観模式図、図1(c)は、上方から見た基板固定装置と固定された基板の平面模式図である。
本実施形態の基板固定装置は、基板を保持する手段が静電吸着であり、静電チャックを用いる装置である。図2は、静電チャックまたは真空チャックを用いた本発明の基板固定装置の一例を示す模式図である。図2(a)は基板を固定する基板固定装置の断面模式図、図2(b)は、加工・観察面202を有する基板201の斜視外観模式図、図2(c)は、上方から見た基板固定装置と固定された基板の平面模式図である。
本実施形態の基板固定装置は、基板を保持する手段が第1の実施形態と同じ静電吸着であり、図3は、本実施形態による静電チャックを用いた本発明の基板固定装置の一例を示す模式図である。図3(a)は基板を固定する基板固定装置の断面模式図、図3(b)は、加工・観察面302を有する基板301の斜視外観模式図、図3(c)は、上方から見た基板固定装置と固定された基板の平面模式図である。
本実施形態の基板固定装置は、基板を保持する手段が真空吸着であり、真空チャックを用いる装置である。本実施形態による装置は、図2の静電チャックを真空チャックに置き換えた構成となるので、図2を用いて説明する。図2(a)は基板を固定する基板固定装置の断面模式図、図2(b)は、加工・観察面202を有する基板201の斜視外観模式図、図2(c)は、上方から見た基板固定装置と固定された基板の平面模式図である。
本実施形態の基板固定装置は、基板を保持する手段が真空チャックと静電チャックを併用するものである(不図示)。本実施形態による装置は、図2の静電チャックに真空チャックを加えた構成となり、基板の固定力が強化される。本実施形態は、真空中での基板の固定が可能であり、基板裏面に汚染やダメージを与えない。
102 加工・観察面
103 ステージ
104 ステージガード
105 加圧チャンバ
106 バルブ
201 基板
202 加工・観察面
203 ステージ
204 ステージガード
207 静電チャックまたは真空チャック
301 基板
302 加工・観察面
303 ステージ
304 ステージガード
307 静電チャック
308 導電膜
401 基板
402 加工または観察
403 ステージ
501、601、701 基板
502、602、702 加工・観察面
503、603、703 ステージ
505 ピン
607 静電チャックまたは真空チャック
707 静電チャック
708 導電膜
Claims (5)
- 表裏に主面を有する基板の表側の主面を微細加工する場合、あるいは微細加工した基板の表側の主面を観察する場合に、前記基板をステージ上に固定する基板固定装置であって、
前記ステージ上に固定されたステージガードを備え、
前記ステージガードは、前記基板の表側の主面を微細加工あるいは観察する開口部が設けられているとともに、所定の高さを有して前記ステージとの間に空間を形成して前記基板の裏側の主面を前記ステージに非接触とし、
前記ステージガードと前記ステージとの間に形成した前記空間内に入れた前記基板の表側の主面の一部を用いて前記基板を前記ステージガードに水平に保持する手段を備え、
前記基板を保持する手段が静電吸着であり、前記ステージガードに静電チャックを設け、前記静電チャックにより前記基板の表側の主面の一部を前記ステージガードに吸着させて前記基板を固定することを特徴とする基板固定装置。 - 前記基板が、前記基板の表側の主面の周辺部に導電膜が形成された基板であり、該導電膜を用いて前記静電チャックに前記基板を固定することを特徴とする請求項1に記載の基板固定装置。
- 表裏に主面を有する基板の表側の主面を微細加工する場合、あるいは微細加工した基板の表側の主面を観察する場合に、前記基板をステージ上に固定する基板固定装置であって、
前記ステージ上に固定されたステージガードを備え、
前記ステージガードは、前記基板の表側の主面を微細加工あるいは観察する開口部が設けられているとともに、所定の高さを有して前記ステージとの間に空間を形成して前記基板の裏側の主面を前記ステージに非接触とし、
前記ステージガードと前記ステージとの間に形成した前記空間内に入れた前記基板の表側の主面の一部を用いて前記基板を前記ステージガードに水平に保持する手段を備え、
前記基板を保持する手段が真空吸着であり、前記ステージガードに真空チャックを設け、前記真空チャックにより前記基板の表側の主面の一部を前記ステージガードに吸着させて前記基板を固定することを特徴とする基板固定装置。 - 表裏に主面を有する基板の表側の主面を微細加工する場合、あるいは微細加工した基板の表側の主面を観察する場合に、前記基板をステージ上に固定する基板固定装置であって、
前記ステージ上に固定されたステージガードを備え、
前記ステージガードは、前記基板の表側の主面を微細加工あるいは観察する開口部が設けられているとともに、所定の高さを有して前記ステージとの間に空間を形成して前記基板の裏側の主面を前記ステージに非接触とし、
前記ステージガードと前記ステージとの間に形成した前記空間内に入れた前記基板の表側の主面の一部を用いて前記基板を前記ステージガードに水平に保持する手段を備え、
前記基板を保持する手段が静電吸着および真空吸着であり、前記ステージガードに静電チャックと真空チャックとを設け、前記静電チャックと真空チャックとを併用することにより前記基板の表側の主面の一部を前記ステージガードに吸着させて前記基板を固定することを特徴とする基板固定装置。 - 前記基板が、ナノインプリント用モールド基板であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の基板固定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2013083731A JP5565495B2 (ja) | 2013-04-12 | 2013-04-12 | 基板固定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009064031A Division JP5288191B2 (ja) | 2009-03-17 | 2009-03-17 | 基板固定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2013211554A true JP2013211554A (ja) | 2013-10-10 |
JP5565495B2 JP5565495B2 (ja) | 2014-08-06 |
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ID=49529087
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2013083731A Expired - Fee Related JP5565495B2 (ja) | 2013-04-12 | 2013-04-12 | 基板固定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5565495B2 (ja) |
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