JP6918475B2 - ステージ装置、露光装置、および物品の製造方法 - Google Patents
ステージ装置、露光装置、および物品の製造方法 Download PDFInfo
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Description
図1は、本発明の第1実施形態に係るステージ装置を適用可能な露光装置の要部を示す概略図である。露光装置100は、照明系101、レチクルステージ102、投影光学系103、ウエハステージ104、本体構造体105、光源導入部106および定盤107を有する。本実施形態のステージ装置は、定盤107の上に配置されたレチクルステージ102を有するステージ装置に適用される。本実施形態のステージ装置が保持する物体は、レチクル(原版)Rである。
図7は、第2実施形態に係る第2保持部202が有する可動部222および固定部223の当接面S3を示す図である。本実施形態では、可動部222および固定部223の一部に当接面S1を当接させる当接面S3を備えた当接部300を設けた点が第1の実施形態と異なる。当接面S3は、斜め下向きに傾斜した面である。この場合、当接面S3の傾斜角度を調整することで接触部21がレチクルRを−Z方向に押す力および当接部221dを固定する力を調整することができる。力の調整は、レチクルRの走査速度に応じて必要な保持力に基づいてなされる。第1実施形態の当接面S2の傾斜角度を極端に大きくすると、可動部222が三角柱の形状となり、例えば、剛性が不足しうる。一方、本実施形態では、可動部222の剛性の低下を抑えつつ、当接面S3の傾斜角度を大きくすることができる。本実施形態によっても、第1実施形態と同様の効果を得られる。
なお、当接部300と可動部222、当接部300と固定部223は、それぞれ一体で構成されていてもよい。
図8は、第3実施形態に係るステージ装置の構成を示す図である。上記実施形態では、第2保持部202は、レチクルRの上面を保持していた。本実施形態の第2保持部が有する接触部31は、レチクルRの側面のうち、走査方向に沿って伸びる側面と接触する。上記実施形態と同様の構成には同じ符号を付して説明は省略する。本実施形態の可動部222および固定部223に備えられた当接部400が有する当接面S4と接する、接触部31に備えられた当接部500が有する当接面S5は、接触部31がレチクルRの側面を押す方向、すなわち、X方向に傾いている。これにより、当接面S4が当接面S5を押す力は、レチクルRの側面を押す方向と、接触部31をY方向に固定する方向とに分けられる。本実施形態によっても、第1実施形態と同様の効果を得られる。なお、当接部400と可動部222、当接部400と固定部223は、それぞれ一体で構成されていてもよい。また、当接部500と接触部31も一体で構成されていてもよい。
本実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等や微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。例えば、物品として、電気回路素子、光学素子、MEMS、記録素子、センサ、或いは、型等である。電気回路素子としては、DRAM、SRAM、フラッシュメモリ、MRAMのような、揮発性或いは不揮発性の半導体メモリや、LSI、CCD、イメージセンサ、FPGAのような半導体素子等が挙げられる。型としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。基板は、ガラス、セラミックス、金属、半導体、樹脂等が用いられ、必要に応じて、その表面に基板とは別の材料からなる部材が形成されていてもよい。基板としては、具体的に、シリコンウエハ、化合物半導体ウエハ、石英ガラスなどである。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
200 ステージ装置
201 第1保持部
202 第2保持部
21 接触部
22 位置決め部
221 部材
221a 第1支持部
221b 配管形成部
221c 第2支持部
221d 当接部
225 Y駆動部
Claims (10)
- 物体を保持して移動可能なステージを有するステージ装置であって、
前記物体の前記ステージ側の第1の面を保持する第1保持部と、
前記物体の前記第1の面とは異なる第2の面を保持する第2保持部と、を有し、
前記第2保持部は、
前記第2の面と接触する接触部と、
前記ステージ上において前記ステージの移動方向に沿った第1方向に動く可動部と、
前記第1方向で前記可動部と対向する位置において前記ステージに固定される固定部と、
前記可動部を前記第1方向に移動させる駆動部と、を有し、
前記可動部および前記固定部は、前記接触部に連結された部材を挟むことで前記接触部を前記第1方向に位置決めし、
前記可動部の前記部材と接触する面と前記部材の前記可動部と接触する面の少なくとも一方の面、および、前記固定部の前記部材と接触する面と前記部材の前記固定部と接触する面の少なくとも一方の面は、前記第2の面に対して下向きに傾斜しており、
前記駆動部から前記部材に加えられる力は、前記第1方向及び前記接触部が前記第2の面に向かって移動する第2方向に作用することを特徴とするステージ装置。 - 前記可動部および前記固定部は、前記部材と点接触、線接触、または面接触することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 前記可動部および前記固定部の前記部材と当接する面が平面であり、前記部材の前記可動部および前記固定部と当接する面が曲面であることを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。
- 前記可動部と前記部材とは、1つの当接部により当接されており、前記固定部と前記部材とは、複数の当接部により当接されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記接触部は、前記第2の面と面接触することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記第2方向における前記可動部と前記部材との当接部および、前記第2方向における前記固定部と前記部材との当接部の位置が等しくなるように、前記可動部と前記固定部と前記部材が配置されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記第1保持部および前記第2保持部は、真空吸着により前記物体を保持することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記接触部を前記第1方向と交差する方向へ移動させる駆動機構を有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 原版に描かれたパターンを、投影光学系を介して基板に転写する露光装置であって、
前記原版を保持して移動する請求項1乃至8のいずれか1項に記載のステージ装置を備えることを特徴とする露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置を用いてパターンを基板上に形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を現像する工程と、を有する
ことを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2016237798A JP6918475B2 (ja) | 2016-12-07 | 2016-12-07 | ステージ装置、露光装置、および物品の製造方法 |
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