JP5297141B2 - 転写装置 - Google Patents

Description

本発明は転写装置に係り、特に、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写するものに関する。

近年、電子線描画法などで石英基板等に超微細な転写パターンを形成してモールド（テンプレート；スタンパ；型）を作製し、被成型品として被転写基板表面（基材の表面）に形成されたレジスト膜（たとえば、ＵＶ硬化樹脂や熱可塑性樹脂で構成されたレジスト膜）に前記モールドを所定の圧力で押圧して、当該モールドに形成された転写パターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている（非特許文献１参照）。

上記転写の形態として、たとえば、熱インプリント法やＵＶインプリント法を掲げることができる。

図９は、熱インプリント法による転写を行うときに使用される転写装置２００の概略構成を示す図である。

転写装置（ナノインプリント装置）２００は、型Ｍの下面ＭＡに形成されているたとえばナノオーダーの微細な転写パターンを、被成型品（被成型素材）Ｗの上面ＷＡに転写する装置である。この転写は、型Ｍの下面ＭＡを被成型品Ｗの上面ＷＡに接触させて押圧（プレス）することに行われる。

ここで、熱インプリント法による転写について、図１１を参照しつつ詳しく説明する。

まず、転写装置２００に、型Ｍと被成型品Ｗとが設置されており、図１１（ａ）に示すように、この被成型品Ｗの上方に、たとえば金属で構成された型Ｍが位置しているものとする。なお、被成型品Ｗは、熱可塑性樹脂で構成されているものとする。

図１１（ａ）に示す状態から、型Ｍを下降させて、型Ｍで被成型品Ｗを押圧すると共に加熱し、この加熱後、被成型品Ｗを冷却し被成型品Ｗを硬化させる（図１１（ｂ）参照）。この後、型Ｍを上昇して被成型品Ｗから型Ｍを離すと、被成型品Ｗへの微細な転写パターンの転写が終了する（図１１（ｃ）参照）。

次に、転写装置２００について説明する。

転写装置２００は、ベースフレーム２０２と被成型品保持体２０４とＸＹステージ２０６と型保持体２０８と移動体２１０とを備えて構成されている。

ＸＹステージ２０６は被成型品保持体２０４を載置し保持している。被成型品保持体２０４は、被成型品Ｗを上面に載置し真空吸着等によって保持するようになっている。型保持体２０８はこの下面で型Ｍを真空吸着等によって保持するようになっている。また、型保持体２０８は、移動体２１０に一体的に設けられている。移動体２１０は、被成型品保持体２０４に対して接近・離反する方向（Ｚ軸方向）で移動位置決め自在になっている。

型保持体２０８には、ベローズを用いて構成された筒状の部材２１２が設けられている。筒状部材２１２の上端は型保持体２０８に一体的に設けられている。また、Ｚ軸方向から見ると、筒状部材２１２の内側に、被成型品保持体２０４に保持されている被成型品Ｗや型保持体２０８に保持されている型Ｍが位置している。

そして、図９に示す状態から、移動体２１０を下降させると、図１０（ａ）に示すように、被成型品保持体２０４と型保持体２０８とで、真空成型室２１４が形成されるようになっている。

また、真空成型室２１４が形成されたときに、真空ホンプ２１６で真空成型室２１４を減圧することができるようになっている。この減圧終了後に、図１０（ａ）に示す状態から、移動体２１０をさらに下降させて、図１０（ｂ）に示すように、型Ｍで被成型品Ｗを押圧し転写を行うようになっている。

図１２は、ＵＶインプリント法による転写を行うときに使用される転写装置３００の概略構成を示す図である。

転写装置３００は、転写装置２００の場合と同様にして、型Ｍの下面ＭＡに形成されているたとえばナノオーダーの微細な転写パターンを、被成型品（被成型素材）Ｗの上面ＷＡに転写するときに使用する装置である。

ここで、ＵＶインプリント法による転写について、図１３を参照しつつ詳しく説明する。

転写装置３００に、型Ｍと被成型品Ｗとが設置されており、図１３（ａ）に示すように、被成型品Ｗの上面ＷＡに、硬化前の紫外線硬化樹脂（ＵＶ硬化樹脂）Ｗ１が薄く設けられており、このＵＶ硬化樹脂Ｗ１の上方に、紫外線を透過する石英ガラス等で構成された型Ｍが位置しているものとする。なお、被成型品Ｗは、たとえば、樹脂やシリコンや金属で構成されているものとする。

図１３（ａ）に示す状態から、型Ｍを下降させて、型ＭでＵＶ硬化樹脂Ｗ１を押圧し紫外線（ＵＶ光）をＵＶ硬化樹脂Ｗ１に照射しＵＶ硬化樹脂Ｗ１を硬化させる（図１３（ｂ）参照）。

ＵＶ硬化樹脂Ｗ１が硬化した後、型Ｍを上昇して被成型品ＷやＵＶ硬化樹脂Ｗ１から型Ｍを離し（図１３（ｃ）参照）、この後、被成型品Ｗを転写装置３００から搬出する。

図１３（ｃ）に示す状態では、硬化したＵＶ硬化樹脂Ｗ１の表面が薄い残膜Ｗ２で覆われているので、この残膜Ｗ２を、たとえばＯ_２アッシングで除去する。

この後、微細な転写パターンが転写されたＵＶ硬化樹脂Ｗ１をマスキング部材として、被成型品Ｗをエッチングすると、図１３（ｄ）に示すように、被成型品Ｗの上面ＷＡの一部が除去される。この後、マスキング部材としてのＵＶ硬化樹脂Ｗ１を除去することにより、被成型品Ｗへの微細な転写パターンの転写が終了する。

次に、転写装置３００について説明する。

図１２に示す転写装置３００は、紫外線発生装置３０２が設けられている点が、転写装置２００と異なり、その他の点は、転写装置２００と同様に構成されており、ほぼ同様に動作するようになっている。

したがって、図１２において、転写装置３００を構成している部材であって図９に示すものと同様な部材は、図９のものと同じ参照符号を付してある。

なお、上記従来の転写に関連する特許文献として、たとえば、特許文献１を掲げることができる。
Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｏｃｉｅｔｉｅｓ ｆｏｒ Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ ａｎｄ Ｎａｎｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ２５（２００１） １９２−１９９ 特開２００４−３４３００号公報

ところで、従来の転写装置２００，３００では、被成型品保持体２０４が、ボルトによってＸＹステージ２０６に一体的に設けられており、型保持体２０８が、ボルトによって移動体２１０に一体的に設けられている。したがって、被成型品保持体２０４の下面とＸＹステージ２０６の上面との間のごく僅かな隙間や、移動体２１０の下面と型保持体２０８の上面との間のごく僅かな隙間に空気が入り込み大気圧がかかることがある。また、上記各ボルトは、転写装置の構造上の制約（たとえば、転写装置３００における紫外線の光路を確保するための制約）で、被成型品保持体２０４の周辺部や型保持体２０８の周辺部に設けられており、被成型品保持体２０４の中央部や型保持体２０８の中央部には設けられていない。

このように構成されていることにより、転写装置２００で真空成型室２１４を形成し真空ポンプ２１６で真空成型室２１４を減圧すると、図１０に破線Ｌ１０で示すように、被成型品保持体２０４の中央部が中凸に変形し、型保持体２０８の中央部が中凸に変形する。

たとえば、真空成型室２１４が円柱状に形成されており、円形状の上面が型保持体２０８側に存在し、円形状の底面が被成型品保持体２０４側に存在しており、前記上面や前記下面の直径が３００ｍｍであるとし、真空成型室２１４がほぼ真空になるまで減圧されたとすると、真空成型室２１４の上面に相当する型保持体２０８の円形状の面には、約７００ｋｇｆ（６９０Ｎ）程度の力が加わる。同様にして、真空成型室の底面に相当する被成型品保持体２０４の円形状の面にも、約７００ｋｇｆ（６９０Ｎ）程度の力が加わる。そして、図１０に破線Ｌ１０で示すような変形が発生する。

上述した変形の結果、被成型品保持体２０４が保持している被成型品Ｗや型保持体２０８が保持している型Ｍにも、同様の変形が発生し、転写がされない部位が被成型品Ｗに生じる等の転写不良が発生するという問題がある。

本発明は、前記問題点に鑑みてなされたものであり、型に形成されている微細な転写パターンを真空成型室内で被成型品に転写する転写装置において、真空成型室を構成している部材の変形を防止することにより転写不良の発生を回避することができる転写装置を提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明は、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、前記被成型品を保持する被成型品保持体と、前記型を保持する型保持体と、前記型保持体を着脱自在に支持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する移動体と、前記移動体の相対的な移動により前記被成型品保持体と前記型保持体との間の距離が所定の距離よりも小さくなったときに、前記被成型品保持体および前記型保持体と協働して、前記型保持体が保持している型と前記被成型品保持体が保持している被成型品とが内側に入る真空成型室を形成する枠状の部材と、前記真空成型室を減圧する減圧手段とを有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記移動体による前記型保持体の保持を解除するように構成されている転写装置である。

請求項２に記載の発明は、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、前記被成型品を保持する被成型品保持体と、前記型を保持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する型保持体と、前記被成型品保持体を着脱自在に支持するベース部材と、前記型保持体の相対的な移動により前記型保持体と前記被成型品保持体との間の距離が所定の距離よりも小さくなったときに、前記型保持体および前記被成型品保持体と協働して、前記型保持体が保持している型と前記被成型品保持体が保持している被成型品とが内側に入る真空成型室を形成する枠状の部材と、前記真空成型室を減圧する減圧手段とを有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記ベース部材による前記被成型品保持体の保持を解除するように構成されている転写装置である。

請求項３に記載の発明は、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、前記被成型品を保持する被成型品保持体と、前記型を保持する型保持体と、前記型保持体を着脱自在に支持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する移動体と、前記被成型品保持体を着脱自在に支持するベース部材と、前記移動体の相対的な移動により前記型保持体と前記被成型品保持体との間の距離が所定の距離よりも小さくなったときに、前記型保持体および前記被成型品保持体と協働して、前記型保持体が保持している型と前記被成型品保持体が保持している被成型品とが内側に入る真空成型室を形成する枠状の部材と、前記真空成型室を減圧する減圧手段とを有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記移動体による前記型保持体の保持を解除し、前記ベース部材による前記被成型品保持体の保持を解除するように構成されている転写装置である。

請求項４に記載の発明は、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、前記被成型品を保持する被成型品保持体と、前記型を着脱自在に支持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する型保持体と、前記型保持体の相対的な移動により前記被成型品保持体と前記型との間の距離が所定の距離よりも小さくなったときに、前記被成型品保持体および前記型と協働して、前記被成型品保持体が保持している被成型品が内側に入る真空成型室を形成する枠状の部材と、前記真空成型室を減圧する減圧手段とを有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記型保持体による前記型の保持を解除するように構成されている転写装置である。

請求項５に記載の発明は、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、前記被成型品を保持する被成型品保持体と、前記型を保持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する型保持体と、前記被成型品保持体を着脱自在に支持するベース部材と、前記型保持体の相対的な移動により前記型と前記被成型品保持体との間の距離が所定の距離よりも小さくなったときに、前記被成型品保持体および前記型と協働して、前記被成型品保持体が保持している被成型品が内側に入る真空成型室を形成する枠状の部材と、前記真空成型室を減圧する減圧手段とを有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記ベース部材による前記被成型品保持体の保持を解除するように構成されている転写装置である。

請求項６に記載の発明は、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、前記被成型品を保持する被成型品保持体と、前記型を保持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動位置決め自在な型保持体と、前記転写をすべく前記型と前記被成型品とをお互いに接触させるときに、前記被成型品および前記型保持体と協働して、前記型と前記被成型品とが内部に入る真空成型室を形成する真空成型室形成部材と、前記真空成型室内を減圧する減圧手段とを有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記型保持体による前記型の保持を解除するように構成され、前記減圧手段による減圧をしたときに、前記被成型品保持体の背面、前記型保持体の背面のうちの少なくとも一方の背面が受ける大気圧により、前記被成型品と前記型とが前記被成型品保持体と前記型保持体とで挟み込まれて押圧されるように構成されていることを特徴とする転写装置。

請求項７に記載の発明は、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、前記被成型品を保持する被成型品保持体と、前記型を保持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する型保持体と、前記転写をすべく前記型と前記被成型品とをお互いに接触させるときに、前記型および前記被成型品保持体と協働して、前記被成型品が内部に入る真空成型室を形成する真空成型室形成部材と、前記真空成型室内を減圧する減圧手段とを有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記型保持体による前記型の保持を解除するように構成され、前記減圧手段による減圧をしたときに、前記被成型品保持体の背面、前記型の背面のうちの少なくとも一方の背面が受ける大気圧により、前記被成型品が前記被成型品保持体と前記型とで挟み込まれて押圧されるように構成されている転写装置である。

本発明によれば、型の形成されている微細な転写パターンを真空成型室内で被成型品に転写する転写装置において、真空成型室を構成している部材の変形を防止することにより転写不良の発生を回避することができるという効果を奏する。

［第１の実施形態］
図１は、本発明の第１の実施形態に係る転写装置１の概略構成を示す図である。

以下、説明の便宜のために、水平な一方向をＸ軸方向とし、水平な他の一方向であってＸ軸方向に垂直な方向をＹ軸方向とし、鉛直方向（上下方向）をＺ軸方向とする。

転写装置（ナノインプリント装置）１は、たとえば平板状に形成されている型Ｍの下面ＭＡに形成されているナノオーダーの微細な転写パターンを、平板状に形成されている被成型品（被成型素材）Ｗの上面ＷＡに転写する装置である。この転写は、型Ｍの下面ＭＡを被成型品Ｗの上面ＷＡに接触させて押圧（プレス）することにより行われる。

転写装置１は、ベースフレーム３を備えており、このベースフレーム３には、被成型品保持体５と型保持体７と移動体９とが設けられている。被成型品保持体５は、微細な転写パターンが転写される被成型品Ｗを、たとえば真空ポンプ１０で真空吸着して保持するようになっている。なお、被成型品保持体５の上面は、被成型品Ｗよりも大きく形成されており、Ｚ軸方向から見ると、被成型品保持体５の上面の中央で被成型品Ｗが載置されて保持されるようになっている。型保持体７は、微細な転写パターンが形成されている型Ｍを、たとえば真空ポンプ１１で真空吸着して保持するようになっている。移動体９は、型保持体７を着脱自在に支持していると共に、被成型品保持体５に対して接近・離反する方向（Ｚ軸方向）で相対的に移動位置決め自在になっている。

すなわち、移動体９は、図示しないリニアガイドベアリングを介してベースフレーム３に支持されており、転写装置１の全体の動作を制御する制御装置１３の制御の下、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、矢印Ａ１の方向で移動位置決め自在になっている。なお、転写装置１では、移動体９のみがＺ軸方向で移動位置決め自在になっているが、移動体９に代えてもしくは加えて、被成型品保持体５がＺ軸方向で移動位置決め自在になっていてもよい。

また、転写装置１には、真空成型室ＳＰ１（図３参照）を形成するための枠状の部材１５が設けられている。枠状の部材１５は、移動体９の移動方向（Ｚ軸方向）で弾性を備えている。枠状の部材１５はたとえば円筒状に形成されており、枠状の部材１５の一端部（枠状に形成されている上端部）が型保持体７に一体的に設けられている。

そして、移動体９の移動（図１に示す状態から下降）により、被成型品保持体５と移動体９に保持されている型保持体７との間の距離が所定の距離よりも小さくなったときに、枠状の部材１５の他端部（枠状に形成されている下端部）が、被成型品保持体５に接触する（すなわち、図１に示す距離Ｌ１が「０」になる）ようになっている。

この接触によって、被成型品保持体５および移動体９に保持されている型保持体７と協働して、枠状の部材１５が、真空成型室（減圧成型室；気密を保つことができる空間）ＳＰ１を形成するようになっている。そして、真空成型室ＳＰ１の内側に、型保持体７が保持している型Ｍと被成型品保持体５が保持している被成型品Ｗとが入るようになっている。

なお、型保持体７と被成型品保持体５との間の距離が前記所定の距離であるとき（図１に示す距離Ｌ１が「０」になったとき）には、型保持体７が保持している型Ｍと、被成型品保持体５が保持している被成型品Ｗとはお互いに接触しておらず僅かに離れている（図３（ａ）参照）。

また、枠状の部材１５の上端を型保持体７に一体的に設ける代わりに、枠状の部材１５の下端を被成型品保持体５に一体的に設けた構成であってもよい。

また、転写装置１には、真空成型室ＳＰ１を減圧する減圧手段１７が設けられている。減圧手段１７は、真空ポンプ１９を備えて構成されており、真空ポンプ１９と真空成型室ＳＰ１とが流路２１でつながっている。流路２１の途中には、たとえば電磁弁で構成された切り換えバルブ２３が設けられており、切り換えバルブ２３のスプールが一方の側にあるときには、真空ポンプ１９と真空成型室ＳＰ１とがお互いにつながり、真空ポンプ１９を稼動することにより真空成型室ＳＰ１内を減圧することができるようになっている。一方、切り換えバルブ２３のスプールが他方の側にあるときには、真空ポンプ１９と真空成型室ＳＰ１との間の流路２１が遮断されると共に、切り換えバルブ２３と流路２１とを通って、大気が真空成型室ＳＰ１内に入るようになっている。

型保持体７は、リニアガイドベアリング２５を介して移動体９に支持されており、移動体９に対して接近・離反する方向（Ｚ軸方向）で移動自在になっている。

図１に示すように、型保持体７を着脱自在な移動体９が型保持体７を保持している状態では、移動体９の平面状の下面と型保持体７の平面状の上面とがお互いに面接触しており、たとえば真空ポンプ２６を用いた真空吸着により型保持体７と移動体９とが一体になっている。一方、移動体９が型保持体７を離している状態では、真空吸着が停止し、リニアガイドベアリング２５を介して移動体９に支持されている型保持体７が、図１に示す状態から矢印Ａ２で示す下方向に移動し、たとえば、図３（ａ）に示すように、型保持体７が移動体９から離れるようになっている。

さらに説明すると、移動体９には、ストッパ部材２７が設けられている。ストッパ部材２７は、図示しないリニアガイドベアリングを介して移動体９に支持されている。そして図示しないシリンダ等のアクチュエータによって図１の左右方向（矢印Ａ３の方向）で移動するようになっている。型保持体７の側面には、ストッパ部材２７の円錐状の先端部が係合する「Ｖ」字状の凹部２９が形成されており、ストッパ部材２７が型保持体７の凹部２９に最も入り込んだ状態では、型保持体７が上昇して移動体９に面接触するようになっている。そして、たとえば、この接触した状態で、真空吸着により、移動体９が型保持体７を一体的に保持するようになっている。

ストッパ部材２７が、型保持体７の凹部２９から完全に抜け出た状態では、型保持体７が移動体９から離れる方向（下方向）に自由に移動できるようになっており、ストッパ部材２７が、中間位置（図３や図４（ｃ）で示す位置）に存在している場合には、型保持体７が移動体９から所定の距離だけ離れることができるようになっている。なお、前記中間位置は、ストッパ部材２７が、型保持体７の凹部２９に最も入り込んだ位置と型保持体７の凹部２９から完全に抜け出た時の位置との間に存在している位置である。転写装置１のストッパ部材２７は、たとえば、図１に示す位置（完全に入り込んだ位置）と前記中間位置との間で移動するようになっている。

また、転写装置１では、図２（ａ）で示すように、各リニアガイドベアリング２５と各ストッパ部材２７とを、Ｘ軸方向の両端部に配置してあるが、図２（ｂ）で示すように、各リニアガイドベアリング２５をＸ軸方向の両端部に配置し、各ストッパ部材２７をＹ軸方向の両端部に配置した構成であってもよい。

枠状の部材（筒状の部材）１５は、型保持体７で保持している型Ｍを囲むようにして、枠状の上端部が型保持体７に一体的に設けられている。また、型保持体７が図１の下方に移動して図１に示す距離Ｌ１が「０」になったときに、被成型品保持体５で保持する被成型品Ｗを囲むようにして、筒状部材１５の枠状の下端部が被成型品保持体５に接触するようになっている。

また、枠状の部材１５は、ベローズ（たとえば円筒状のベローズ）３１を備えることによって、前述したように、Ｚ軸方向で弾性を備えている。

より詳しく説明すると、ベローズ３１の下端部には、リング状の部材３５が一体的に設けられており、Ｏリング（たとえば耐熱性Ｏリング）３３が、リング状の部材３５の下面に設けられた枠状の溝に入り込んで、リング状の部材３５に支持されている。なお、Ｏリング３３の一部は、リング状の部材３５の下面から下方に突出している。そして、型保持体７が被成型品保持体５の側に移動したときに、Ｏリング３３が、被成型品保持体５と接触して真空成型室ＳＰ１が形成されるようになっている。

ベローズ３１の上端部には、リング状の部材３７が一体的に設けられており、このリング状の部材３７は、Ｏリング（たとえば耐熱性Ｏリング）３９をシール部材として型保持体７に一体的に設けられている。

なお、Ｚ軸方向から見ると、型保持体７、被成型品保持体５、ベローズ３１、各リング状の部材３５，３７、各Ｏリング３３，３９の中心はお互いにほぼ一致している。また、型保持体７で保持されている型Ｍ、被成型品保持体５で保持されている被成型品Ｗは、ベローズ３１、各リング状の部材３５，３７、各Ｏリング３３，３９の内側に存在している。

次に転写装置１の動作について、図１、図３、図４を参照して説明する。

転写装置１は、制御装置１３の制御の下、被成型品Ｗの紫外線硬化樹脂に照射する紫外線を発生する紫外線発生装置（図示せず）や、被成型品Ｗを加熱するヒータ等（図示せず）を適宜稼動することによって、上述した熱インプリント法やＵＶインプリント法を実行することができるようになっている。

まず、図１に示すように、被成型品保持体５に転写前の被成型品Ｗが保持されており、型保持体７に型Ｍが保持されており、型保持体７が移動体９に接触して保持されており、移動体９や型保持体７が上方に位置して被成型品保持体１５から離れており、真空成型室ＳＰ１が形成されていない状態を初期状態とする。この初期状態から、移動体９を下降する。

この下降で移動体９と型保持体７との間の距離が前述した所定の距離になったときに、真空成型室ＳＰ１が形成されるので、真空成型室ＳＰ１が形成されたときに移動体９の移動を停止する。なお、真空成型室ＳＰ１が形成されただけでは、真空成型室内ＳＰ１は減圧されておらず、たとえば、ほぼ大気圧になっている。また、型保持体７が保持している型Ｍと、被成型品保持体５が保持している被成型品Ｗとは、接触することなくお互いが離れている。

真空成型室ＳＰ１が形成された後であって被成型品Ｗと型Ｍとがお互いに接触する前に、移動体９による型保持体７の保持を解除し（ストッパ部材２７を前記中間位置に位置させ、真空ポンプ２６を停止して移動体９による型保持体７の真空吸着を停止し）、型保持体７を移動体９から離す（図３（ａ）参照）。

この後、減圧手段１７で真空成型室ＳＰ１を減圧すると、型保持体７の背面（型Ｍを保持している面とは反対側の面；移動体９に接触していた型保持体７の上面）にかかる大気圧により、筒状の部材１５が弾性変形して縮み、型保持体７が図３（ａ）の矢印Ａ４の方向へ移動する。この移動によって被成型品Ｗと型Ｍとがお互いに接触する（図３（ｂ）参照）。この接触をする前までに、真空成型室ＳＰ１内が、被成型品Ｗの転写部位に気泡が発生しない程度に（たとえば、ほぼ真空になるまで）減圧されるようになっている。なお、真空成型室ＳＰ１を減圧したときに、型保持体７の背面の全面にかかる大気圧によっても、型保持体７や型Ｍはほとんど変形せず、筒状の部材１５をＺ軸方向で圧縮して、被成型品保持体５側（下側）に僅かに平行移動するだけである。

続いて、停止していた移動体９を、図３（ｂ）で示す矢印Ａ５の方向（被成型品保持体５に近づく方向）に移動し型保持体７と移動体９とをお互いに接触させて、移動体９（型保持体７）と被成型品保持体５とで型Ｍと被成型品Ｗとを挟み込んで押圧し転写を行う（図４（ｃ）参照）。

この転写後に、ストッパ部材２７を図４（ｃ）に矢印Ａ６で示すように、型保持体７側に移動し型保持体７の凹部２９に最も入り込んだ位置に位置させる。このようにストッパ部材２７を移動した後、真空ポンプ２６を用いた真空吸着によって移動体９で型保持体７を一体的に保持し、真空成型室ＳＰ１を大気圧に戻す。

続いて、移動体９を図４（ｄ）に矢印Ａ７で示すように上昇し、転写が終了した被成型品Ｗを次の被成型品Ｗに交換することで、前記初期状態に戻る。

なお、上記動作において、型保持体７を移動体９から離した後、移動体９と被成型品保持体５とで型Ｍと被成型品Ｗとを押圧することなく、型保持体７の背面にかかる大気圧のみを用いて、被成型品Ｗと型Ｍとをお互いに接触させて押圧し転写を行うようにしてもよい。

また、真空成型室ＳＰ１が形成された後であって被成型品Ｗと型Ｍとがお互いに接触する前に、移動体９を停止しているが、真空成型室ＳＰ１が形成された後であって被成型品Ｗと型Ｍとがお互いに接触する前までに真空成型室ＳＰ１の十分な減圧が可能であれば、移動体９を停止させることなく、たとえば減速させるだけでもよい。

さらに、真空成型室ＳＰ１を形成すべく移動体９を型保持体７側に移動するときに、移動体９による型保持体７の保持を解除し型保持体７を移動体９から予め所定の距離だけ離しておいてもよい。そして、真空成型室ＳＰ１が形成され真空成型室ＳＰ１の減圧をするときに、型保持体７が移動体９からさらに離れる構成であってもよい。

転写装置１によれば、移動体９が型保持体７を着脱自在に支持しており、真空成型室ＳＰ１の減圧を行うときに移動体９が型保持体７を離すようになっているので、真空成型室ＳＰ１を減圧したときに、型保持体７が変形する（図１０に破線Ｌ１０で示すような中凸等の形態に変形する）ことを防止することができ、型保持体７に保持されている型Ｍの変形も防止することができる。これにより、型保持体７が保持している型Ｍで被成型品保持体５が保持している被成型品Ｗを均一に押圧することができ、転写不良の発生を回避することができる。

なお、真空成型室ＳＰ１の減圧による型保持体７の変形を防止する対策として、従来の転写装置２００，３００では、型保持体２０８を移動体２１０に固定するボルトの本数を増やしたり、ボルトのサイズを大きくしたり、また、型保持体２０８や移動体２１０の剛性を高める対策が考えられるが、このような対策を施すと転写装置が大型化してしまう。一方、転写装置１では、上記対策をする必要が無いので、転写装置１が大型化することを回避することができる。

［第２の実施形態］
図５は、本発明の第２の実施形態に係る転写装置１ａの概略構成を示す図である。

本発明の第２の実施形態に係る転写装置１ａは、被成型品保持体５がベース部材４１に着脱自在に設けられている点が、第１の実施形態に係る転写装置１と異なり、その他の点は、第１の実施形態に係る転写装置１とほぼ同様に構成されており、ほぼ同様の作用効果を奏する。

なお、図５に示した転写装置１ａの各構成要素のうちで、図１に示す転写装置１と同様に構成されているものは、同一の符号を付してある。また、図５に示す転写装置１ａでは、型Ｍを保持するための真空ポンプ（図１に示す真空ポンプ１１）等や被成型品Ｗを保持するための真空ポンプ（図１に示す真空ポンプ１０）等の表示は省略してある。

転写装置１ａは、被成型品Ｗを保持する被成型品保持体５と、型Ｍを保持する型保持体７と、型保持体７を着脱自在に支持し被成型品保持体５に対して接近・離反する方向で相対的に移動する移動体９と、被成型品保持体５を着脱自在に支持するベース部材４１と、真空成型室ＳＰ１を形成するための枠状の部材１５と、真空成型室ＳＰ１を減圧する減圧手段１７とを備えて構成されている。なお、ベース部材４１は、ベースフレーム３に一体的に設けられている。

被成型品保持体５は、リニアガイドベアリング４５を介してベース部材４１に支持されており、ベース部材４１に対して接近・離反する方向（Ｚ軸方向）で移動自在になっている。

被成型品保持体５を着脱自在なベース部材４１が被成型品保持体５を保持している状態では、被成型品保持体５の平面状の下面とベース部材４１の平面状の上面とがお互いに面接触しており、たとえば真空ポンプ４３を用いた真空吸着により被成型品保持体５とベース部材４１とが一体になっている。一方、ベース部材４１が被成型品保持体５を離している状態では、被成型品保持体５がベース部材４１に対して接近・離反する方向で移動自在になっている。

なお、ベース部材４１による被成型品保持体５の保持の解除は、ベース部材４１による被成型品保持体５の真空吸着を停止すればよい。また、被成型品保持体５がベース部材４１に載置されている構成であるので、ベース部材４１による被成型品保持体５の保持を解除しただけでは、被成型品保持体５が上方に移動することはない。しかし、ベース部材４１による被成型品保持体５の保持の解除によって、被成型品保持体５とベース部材４１との間のごく僅かな隙間に空気が入り込めるようになり、この状態で真空成型室ＳＰ１の減圧をすると、被成型品保持体５の背面（下面；ベース部材４１の上面と接していた面）の全面に大気圧がかかるようになっている。

次に転写装置１ａの動作について説明する。

まず、初期状態として、図５に示すように、被成型品保持体５に転写前の被成型品Ｗが保持されており、型保持体７に型Ｍが保持されており、型保持体７が移動体９に保持されており、被成型品保持体５がベース部材４１に保持されており、移動体９や型保持体７が上方に位置して被成型品保持体５から離れており、真空成型室ＳＰ１が形成されていないものとする。この初期状態から、移動体９を下降する。

この下降で移動体９と型保持体７との間の距離が前述した所定の距離になったときに、真空成型室が形成されるので、真空成型室が形成されたときに移動体９の移動を停止する。

真空成型室が形成された後であって被成型品Ｗと型Ｍとがお互いに接触する前に、移動体９による型保持体７の保持を解除し、ベース部材４１による被成型品保持体５の保持を解除する。

この後、減圧手段１７で真空成型室を減圧すると、ベース部材４１の上面と被成型品保持体５の下面との間のごく僅かな隙間に大気が侵入し、被成型品保持体５の背面（下面）と型保持体７の背面（上面）とにかかる大気圧により、筒状の部材１５が弾性変形して縮み、被成型品Ｗと型Ｍとがお互いに接触する。

続いて、停止していた移動体９を、下方向に移動し型保持体７と移動体９とをお互いに接触させて、移動体９（型保持体７）と被成型品保持体５とで型Ｍと被成型品Ｗとを挟み込んで押圧し転写を行う。

この転写後に、移動体９で型保持体７を保持し、ベース部材４１で被成型品保持体５を保持し、真空成型室を大気圧に戻す。

続いて、移動体９を上昇し、転写が終了した被成型品Ｗを次の被成型品Ｗに交換することで、前記初期状態に戻る。

転写装置１ａによれば、転写装置１の場合と同様にして、転写不良の発生を回避することができる。すなわち、ベース部材４１が被成型品保持体５を着脱自在に支持しており、真空成型室の減圧を行うときにベース部材４１が被成型品保持体５を離すようになっているので、真空成型室を減圧したときに、被成型品保持体５が中凸等に変形することを防止することができ、被成型品保持体５に保持されている被成型品Ｗの変形も防止することができる。これにより、型保持体７が保持している型Ｍで被成型品保持体５が保持している被成型品Ｗを均一に押圧することができ、転写不良の発生を回避することができる。

なお、第２の実施形態に係る転写装置１ａにおいて、移動体９が型保持体７を常に一体的に保持する構成であってもよい。

また、転写装置１や転写装置１ａで型Ｍと被成型品Ｗとを入れ換えた構成であってもよい。すなわち、被成型品保持体５（型保持体）が型Ｍを保持し、型保持体７（被成型品保持体）が被成型品Ｗを保持する構成であってもよい。

なお、転写装置１や転写装置１ａを、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置であって、前記被成型品を保持する被成型品保持体と、前記型を保持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動位置決め自在な型保持体と、前記転写をすべく前記型と前記被成型品とをお互いに接触させるときに、前記被成型品および前記型保持体と協働して、前記型と前記被成型品とが内部に入る真空成型室を形成する真空成型室形成部材と、前記真空成型室内を減圧する減圧手段とを有し、前記減圧手段による減圧をしたときに、前記被成型品保持体の背面の全面、前記型保持体の背面の全面のうちの少なくとも一方の背面の全面が受ける大気圧により、前記真空成型室形成部材が縮み前記被成型品と前記型とが前記被成型品保持体と前記型保持体とで挟み込まれ均一に押圧されるように構成されている転写装置として把握してもよい。

［第３の実施形態］
図６は、本発明の第３の実施形態に係る転写装置１ｂの概略構成を示す図である。

転写装置１ｂは、移動体９が型保持体７を着脱自在に支持することに代えて、型保持体４７が型Ｍａを着脱自在に支持している点が、第１の実施形態に係る転写装置１とは異なり、その他の点は、第１の実施形態に係る転写装置１とほぼ同様に構成されほぼ同様の効果を奏する。なお、図６に示した転写装置１ｂの各構成要素のうちで、図１に示す転写装置１と同様に構成されているものは、同一の符号を付してある。

転写装置１ｂは、被成型品Ｗを保持する被成型品保持体５と、型Ｍａを着脱自在に支持し被成型品保持体５に対して接近・離反する方向（Ｚ軸方向）で相対的に移動する型保持体４７と、枠状の部材１５とを備えて構成されている。

また、転写装置１ｂには、移動体９とロードセル４９とが設けられている。型保持体４７は、ロードセル４９を介して移動体９に一体的に設けられており、これにより、型保持体４７は、移動体９と共にＺ軸方向で移動位置決め自在になっている。ロードセル４９は転写の際の押圧力を測定するものである。なお、ロードセル４９が、上述した転写装置１，１ａに設けられていてもよい。

型Ｍａは、平板状に形成されており、型Ｍａの厚さ方向の中間部であって型Ｍａの外周には、リング状のスリットＭ２が形成されている。型Ｍａの下面には、所定の深さで枠状に形成された溝Ｍ１は形成されている。なお、Ｚ軸方向から見ると、溝Ｍ１は、スリットＭ２の底部Ｍ４よりも外側に形成されており、これによって、型Ｍの下側には、枠状のくびれ部Ｍ３が形成されている。

型Ｍａは、リニアガイドベアリング５３により、型保持体４７に対してＺ軸方向で移動自在になっている。また、型Ｍａには、型保持体７の場合と同様な凹部（図示せず）が設けられており、この凹部に図示しないストッパ部材（ストッパ部材２７と同様なストッパ部材）が係合するようになっている。さらに、真空ポンプ５１によって、型Ｍａが型保持体４７に一体的に支持されるようになっている。

そして、前記ストッパ部材が前記凹部の最も入り込み、真空ポンプ５１で真空吸着しているときには、型保持体４７が型Ｍａを一体的に保持しており、前記ストッパ部材が前述した中間位置に位置し、真空ポンプ５１が停止しているときには、型保持体４７が型Ｍａの保持を解除しており、型Ｍａが型保持体４７から離れるようになっている。

枠状の部材１５は、たとえば耐熱性を備えたＯリング５５で構成されている。Ｏリング５５は、型Ｍａの下面に設けられた枠状の溝に係合して、溝Ｍ１の外側で型Ｍａに一体的に設けられている。なお、Ｏリング５５の下端部は、型Ｍａの下面よりも僅かに下方に突出している。また、図６に示す状態では、距離（Ｏリング５５と被成型品保持体５との間の距離）Ｌ２＜距離（微細な転写パターンが形成されている型Ｍａの下面と被成型品保持体５に設置されている被成型品Ｗとの間の距離）Ｌ３になっている。そして、型Ｍａ等が下降してＯリング５５が被成型品保持体５に接したときに、真空成型室が形成されるようになっており、Ｏリング５５が被成型品保持体５への接触を開始したときには、型Ｍａと被成型品保持体５に設置されている被成型品Ｗとの間は僅かに離れている。

Ｏリング５５が被成型品保持体５に接した直後、型保持体４７による型Ｍａの保持を解除して真空成型室を減圧すると、型Ｍａの背面にかかっている大気圧でＯリング５５が圧縮されてＺ軸方向で縮み、型Ｍａが被成型品Ｗに面接触する。さらに転写装置１の場合と同様にして、型保持体４７を下降し、型Ｍａで被成型品Ｗを押圧し、転写を行うようになっている。なお、真空成型室を減圧するときや、転写をするときに、Ｏリング５５が縮むのはもちろんであるが、くびれ部Ｍ３が設けられていることにより、型Ｍａがくびれ部のところで弾性変形するようになっている。すなわち、型Ｍａの一部もＺ軸方向で弾性変形するようになっている。

ところで、転写装置１ｂを図７に示す転写装置１ｃのように変形してもよい。

図７に示す転写装置１ｃは、型Ｍａにくびれ部やＯリングを設ける代わりに、ベローズ３１を備えた枠状の部材１５を設けた点が、図６に示す転写装置１ｂとは異なり、その他の点は、転写装置１ｂとほぼ同様に構成されており、ほぼ同様に動作する。

ここで、転写装置１ｃの動作について説明する。

まず、図７に示すように、被成型品保持体５に転写前の被成型品Ｗが保持されており、型保持体４７に型Ｍａが保持されており、型保持体４７や型Ｍａが上方に位置して被成型品保持体５から離れており、真空成型室ＳＰ１が形成されていない状態を初期状態とする。この初期状態から、移動体９（型保持体７）を矢印Ａ８の方向（下方）に移動する。

この移動で型Ｍａと被成型品保持体５との間の距離が前述した所定の距離になったときに、真空成型室が形成されるので、真空成型室が形成されたときに型保持体４７の移動を停止する。

真空成型室が形成された後であって被成型品Ｗと型Ｍとがお互いに接触する前に、型保持体４７による型Ｍａの保持を解除し、型Ｍａを型保持体４７から離す（図８（ａ）参照）。

この後、減圧手段１７で真空成型室を減圧すると、型Ｍａの背面にかかる大気圧により、筒状の部材１５が弾性変形して縮み、型Ｍａが図８（ａ）の矢印Ａ９の方向へ移動する。この移動によって被成型品Ｗと型Ｍとがお互いに接触する（図８（ｂ）参照）。

続いて、停止していた移動体９（型保持体４７）を、図８（ｂ）で示す矢印Ａ１０の方向に移動し型保持体４７と型Ｍａとをお互いに接触させて、型保持体４７と被成型品保持体５とで型Ｍａと被成型品Ｗとを挟み込んで押圧し転写を行う（図８（ｃ）参照）。

この転写後に、型保持体４７で型Ｍａを保持し、真空成型室を大気圧に戻し、型保持体４７を図８（ｃ）に矢印Ａ１１で示すように上昇し、転写が終了した被成型品Ｗを次の被成型品Ｗに交換することで、前記初期状態に戻る。

転写装置１ｂや転写装置１ｃによれば、転写装置１の場合と同様にして、転写不良の発生を回避することができる。すなわち、型保持体４７が型Ｍａを着脱自在に支持しており、真空成型室の減圧を行うときに、型保持体４７が型Ｍａを離すようになっているので、真空成型室を減圧したときに、型Ｍａが中凸等に変形することを防止することができる。これにより、型Ｍａで被成型品保持体５が保持している被成型品Ｗを均一に押圧することができ、転写不良の発生を回避することができる。

なお、転写装置１ｂや転写装置１ｃにおいて、転写装置１ａの場合と同様にして、被成型品保持体５を着脱自在なベース部材を設け、転写装置１ａと同様に動作させてもよい。

すなわち、転写装置１ｂや転写装置１ｃを、被成型品を保持する被成型品保持体と、前記型を保持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する型保持体と、前記被成型品保持体を着脱自在に支持するベース部材と、前記型保持体の相対的な移動により前記型と前記被成型品保持体との間の距離が所定の距離よりも小さくなったときに、前記被成型品保持体および前記型と協働して、前記被成型品保持体が保持している被成型品が内側に入る真空成型室を形成する枠状の部材と、前記真空成型室を減圧する減圧手段とを有する装置としてもよい。

また、転写装置１ｂや転写装置１ｃを、被成型品を保持する被成型品保持体と、型を保持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する型保持体と、転写をすべく前記型と前記被成型品とをお互いに接触させるときに、前記型および前記被成型品保持体と協働して、前記被成型品が内部に入る真空成型室を形成する真空成型室形成部材と、前記真空成型室内を減圧する減圧手段とを有し、前記減圧手段による減圧をしたときに、前記被成型品保持体の背面の全面、前記型の背面の全面のうちの少なくとも一方の背面の全面が受ける大気圧により、前記枠状の部材が縮み前記被成型品が前記被成型品保持体と前記型とで挟み込まれ均一に押圧されるように構成されている転写装置として把握してもよい。

本発明の第１の実施形態に係る転写装置１の概略構成を示す図である。 図１におけるＩＩ矢視図である。 転写装置１の動作を示す図である。 転写装置１の動作を示す図である。 本発明の第２の実施形態に係る転写装置１ａの概略構成を示す図である。 本発明の第３の実施形態に係る転写装置１ｂの概略構成を示す図である。 転写装置１ｂの変形例である転写装置１ｃの概略構成を示す図である。 転写装置１ｃの動作を示す図である。 熱インプリント法による転写を行うときに使用される従来の転写装置２００の概略構成を示す図である。 転写装置２００の動作を示す図である。 熱インプリント法を示す図である。 ＵＶインプリント法による転写を行うときに使用される従来の転写装置３００の概略構成を示す図である。 ＵＶインプリント法を示す図である。

符号の説明

１ａ、１ｂ、１ｃ 転写装置
５ 被成型品保持体
７、４７ 型保持体
９ 移動体
１５ 枠状の部材
１７ 減圧手段
４１ ベース部材

Claims (7)

1. 型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、
   前記被成型品を保持する被成型品保持体と；
   前記型を保持する型保持体と；
   前記型保持体を着脱自在に支持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する移動体と；
   前記移動体の相対的な移動により前記被成型品保持体と前記型保持体との間の距離が所定の距離よりも小さくなったときに、前記被成型品保持体および前記型保持体と協働して、前記型保持体が保持している型と前記被成型品保持体が保持している被成型品とが内側に入る真空成型室を形成する枠状の部材と；
   前記真空成型室を減圧する減圧手段と；
   を有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記移動体による前記型保持体の保持を解除するように構成されていることを特徴とする転写装置。
2. 型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、
   前記被成型品を保持する被成型品保持体と；
   前記型を保持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する型保持体と；
   前記被成型品保持体を着脱自在に支持するベース部材と；
   前記型保持体の相対的な移動により前記型保持体と前記被成型品保持体との間の距離が所定の距離よりも小さくなったときに、前記型保持体および前記被成型品保持体と協働して、前記型保持体が保持している型と前記被成型品保持体が保持している被成型品とが内側に入る真空成型室を形成する枠状の部材と；
   前記真空成型室を減圧する減圧手段と；
   を有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記ベース部材による前記被成型品保持体の保持を解除するように構成されていることを特徴とする転写装置。
3. 型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、
   前記被成型品を保持する被成型品保持体と；
   前記型を保持する型保持体と；
   前記型保持体を着脱自在に支持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する移動体と；
   前記被成型品保持体を着脱自在に支持するベース部材と；
   前記移動体の相対的な移動により前記型保持体と前記被成型品保持体との間の距離が所定の距離よりも小さくなったときに、前記型保持体および前記被成型品保持体と協働して、前記型保持体が保持している型と前記被成型品保持体が保持している被成型品とが内側に入る真空成型室を形成する枠状の部材と；
   前記真空成型室を減圧する減圧手段と；
   を有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記移動体による前記型保持体の保持を解除し、前記ベース部材による前記被成型品保持体の保持を解除するように構成されていることを特徴とする転写装置。
4. 型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、
   前記被成型品を保持する被成型品保持体と；
   前記型を着脱自在に支持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する型保持体と；
   前記型保持体の相対的な移動により前記被成型品保持体と前記型との間の距離が所定の距離よりも小さくなったときに、前記被成型品保持体および前記型と協働して、前記被成型品保持体が保持している被成型品が内側に入る真空成型室を形成する枠状の部材と；
   前記真空成型室を減圧する減圧手段と；
   を有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記型保持体による前記型の保持を解除するように構成されていることを特徴とする転写装置。
5. 型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、
   前記被成型品を保持する被成型品保持体と；
   前記型を保持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する型保持体と；
   前記被成型品保持体を着脱自在に支持するベース部材と；
   前記型保持体の相対的な移動により前記型と前記被成型品保持体との間の距離が所定の距離よりも小さくなったときに、前記被成型品保持体および前記型と協働して、前記被成型品保持体が保持している被成型品が内側に入る真空成型室を形成する枠状の部材と；
   前記真空成型室を減圧する減圧手段と；
   を有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記ベース部材による前記被成型品保持体の保持を解除するように構成されていることを特徴とする転写装置。
6. 型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、
   前記被成型品を保持する被成型品保持体と；
   前記型を保持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動位置決め自在な型保持体と；
   前記転写をすべく前記型と前記被成型品とをお互いに接触させるときに、前記被成型品および前記型保持体と協働して、前記型と前記被成型品とが内部に入る真空成型室を形成する真空成型室形成部材と；
   前記真空成型室内を減圧する減圧手段と；
   を有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記型保持体による前記型の保持を解除するように構成され、
   前記減圧手段による減圧をしたときに、前記被成型品保持体の背面、前記型保持体の背面のうちの少なくとも一方の背面が受ける大気圧により、前記被成型品と前記型とが前記被成型品保持体と前記型保持体とで挟み込まれて押圧されるように構成されていることを特徴とする転写装置。
7. 型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、
   前記被成型品を保持する被成型品保持体と；
   前記型を保持し、前記被成型品保持体に対して接近・離反する方向で相対的に移動する型保持体と；
   前記転写をすべく前記型と前記被成型品とをお互いに接触させるときに、前記型および前記被成型品保持体と協働して、前記被成型品が内部に入る真空成型室を形成する真空成型室形成部材と；
   前記真空成型室内を減圧する減圧手段と；
   を有し、前記真空成型室が形成された後であって前記被成型品と前記型とがお互いに接触する前に、前記型保持体による前記型の保持を解除するように構成され、
   前記減圧手段による減圧をしたときに、前記被成型品保持体の背面、前記型の背面のうちの少なくとも一方の背面が受ける大気圧により、前記被成型品が前記被成型品保持体と前記型とで挟み込まれて押圧されるように構成されていることを特徴とする転写装置。

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