JP2007180315A - 転写装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】型に設けられている微細パターンを基板に転写する転写装置において、簡素な構成で正確な転写を行うことができる転写装置を提供する。
【解決手段】微細な転写パターンが形成されている型M1で基板Wを押圧することにより、転写パターンを基板Wに転写する転写装置1において、基板Wの背面側、型M1の背面側の少なくとも一方の側に、弾性部材7、11が設けられている。
【選択図】図1
【解決手段】微細な転写パターンが形成されている型M1で基板Wを押圧することにより、転写パターンを基板Wに転写する転写装置1において、基板Wの背面側、型M1の背面側の少なくとも一方の側に、弾性部材7、11が設けられている。
【選択図】図1
Description
本発明は、転写装置に係り、特に、型の表面に形成された微細な転写パターンを基板の表面に転写するものに関する。
近年、電子線描画法などで石英基板等に超微細な転写パターンを形成して型(テンプレート、スタンパ)を作製し、被成形品(基板)として被転写基板表面に形成されたレジスト膜に前記型を所定の圧力で押圧して、当該型に形成されたパターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている(非特許文献1参照)。
また、前記ナノインプリントを実行するための装置としてたとえば特許文献1に記載の転写装置100が知られている(図4、図5参照)。この転写装置100は、L字型のフレーム102の下部水平部にXステージ106、Yステージ108を設けてその上に被成形品(基板W)の支持部である基板テーブル104を搭載し、フレーム102の垂直部の上部に上下方向の移動機構112を介して型支持部(型保持体)110を設けている。型保持体110は、転写用の微細なパターンを形成されている型Mを保持するものである。
そして、図5に示す状態から基板テーブル104を、Xステージ106、Yステージ108を用いてX軸方向Y軸方向で適宜位置決めし、型保持体110を下降し型Mで基板Wを押圧することで、基板Wへの微細パターンの転写を行うようになっている。
特開2004−34300号公報
Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology
ところで、従来の転写装置100では、型Mのパターンが形成されている面と、転写がされる基板Wの面との平行度が、転写装置100の部品の加工誤差、組み立て誤差等によりごく僅かに悪くなっている場合があり、基板Wへの転写が正確になされない場合あるという問題がある。かかる問題を回避するために、ジンバル機構等を設けて、型Mのパターンが形成されている面と転写がされる基板Wの面との平行度を確保することが考えられる。しかしながらジンバル機構等を設けることにより、装置の構成が煩雑化することになる。
本発明は、前記問題点に鑑みてなされたものであり、型に設けられている微細パターンを基板に転写する転写装置において、簡素な構成で正確な転写を行うことができる転写装置を提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、微細な転写パターンが形成されている型で基板を押圧することにより、前記転写パターンを前記基板に転写する転写装置において、前記基板の背面側、前記型の背面側の少なくとも一方の側に、弾性部材が設けられている転写装置である。
請求項2に記載の発明は、被成形材料である基板を固定保持する基板テーブルと、前記基板テーブルに対向するように弾性部材を介して転写用の型を配置し固定保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向に相対的に移動自在な型保持体と、前記基板テーブルに対して前記型保持体を相対的に移動するための駆動手段とを有する転写装置である。
請求項3に記載の発明は、被成形材料である基板を固定保持する基板テーブルと、弾性部材を介して前記基板テーブルを支持しているベース部材と、前記基板テーブルに対向するように転写用の型を配置し固定保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向に相対的に移動自在な型保持体と、前記基板テーブルに対して前記型保持体を相対的に移動するための駆動手段とを有する転写装置である。
請求項4に記載の発明は、被成形材料である基板を固定保持する基板テーブルと、第1の弾性部材を介して前記基板テーブルを支持しているベース部材と、前記基板テーブルに対向するように第2の弾性部材を介して転写用の型を配置し固定保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向に相対的に移動自在な型保持体と、前記基板テーブルに対して前記型保持体を相対的に移動するための駆動手段とを有する転写装置である。
請求項5に記載の発明は、基板テーブルと、前記基板テーブルに支持され、被成形材料である基板を固定保持する第1の弾性部材と、前記第1の弾性部材に対向するように第2の弾性部材を介して転写用の型を配置し固定保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向に相対的に移動自在な型保持体と、前記基板テーブルに対して前記型保持体を相対的に移動するための駆動手段とを有する転写装置である。
請求項6に記載の発明は、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の転写装置において、前記弾性部材は、合成樹脂、ゴム、前記転写装置の基板テーブルや型保持体よりも弾性係数の小さい金属材料のうちの少なくともいずれかの材料で構成されている転写装置である。
請求項7に記載の発明は、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の転写装置において、前記弾性部材は、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金、ジュラルミンのうちの少なくともいずれかの材料で構成されている転写装置である。
この発明によれば、型に設けられている微細パターンを基板に転写する転写装置において、簡素な構成で正確な転写を行うことができるという効果を奏する。
図1は、本発明の実施形態に係る転写装置1の概略構成を示す図である。
なお、本件明細書においては、説明の便宜のために、水平方向の一方向をX軸方向とし、水平方向の他の一方向であって前記X軸方向に垂直な方向をY軸方向とし、鉛直方向をZ軸方向とする。
転写装置1は、従来の転写装置100と同様に、型M1の表面に形成された微細なパターン(たとえば凹凸パターン)を基板Wの表面に転写する装置であり、基板テーブル9と型保持体(型保持テーブル)5とを備えている。
基板テーブル9は、弾性部材7を介してベース部材3に一体的に支持されており、基板テーブル9と弾性部材7とベース部材3とは、基板移動位置決め手段の例であるXステージ、Yステージ(図1においてはいずれも図示せず)よって支持され、X軸方向、Y軸方向に移動位置決め自在になっている。
また、基板テーブル9は、たとえば、所定の厚みを有する矩形な板状に形成され厚さ方向が上下方向(Z軸方向)に一致するように配置されており、上面の平面に被成形材料である薄い平板状の基板(たとえば矩形な板状の基板)Wを搭載し保持することができるように構成されている。
基板Wの一方の表面には、前記型M1の微細な転写パターンが転写される部位である被成形層(たとえばUV硬化樹脂または熱硬化樹脂で構成された被成形層)が設けられており、基板テーブル9に保持された状態では、基板Wの上側の平面に前記被成形層が存在しており、基板Wの下側の平面(被成形層が設けられていない面)が前記基板テーブル9の上面に接している。
型保持体5は、基板テーブル9の上方に設けられている。また、型保持体5は、下面の平面に弾性部材11を介して転写用の型(矩形な平板状の型)Mを配置し固定保持することができるようになっている。型保持体5の下面は、基板テーブル9の上面に対してほぼ平行になっている。したがって、型保持体5の下面に保持された型M1の下面と基板テーブル9に保持された基板Wの上面とは対向し互いに平行になっている。また、型保持体5の下面に保持された型M1の下面には、微細な転写パターンが存在している。
また、型保持体5は、型M1の転写パターンを基板Wに転写すべく型M1の下面が基板Wの上面に接触している位置と、基板Wを基板テーブル9に設置しもしくは基板Wを前記基板テーブル9から取り外すべく型M1が基板Wから離れた位置との間で、基板テーブル9(ベース部材3)に対して接近・離反する方向(基板テーブル9の上面に直交する方向;Z軸方向)に相対的に移動自在になっている。
たとえば、型保持体5は、図示しないリニアガイドベアリング等を介して転写装置1のフレーム(図示せず;「L」字状以外の形態であってもよい。)に対して、Z軸方向に移動自在になっている。しかしながら、転写装置1のフレームに型保持体5が固定されておりフレームに対して基板テーブル9(ベース部材3)がZ軸方向に移動するように構成されていてもよいし、さらには、転写装置1のフレームに対して、型保持体5と基板テーブル9(ベース部材3)との両方が移動するように構成されていてもよい。すなわち、転写装置1のフレームに対して、型保持体5、基板テーブル9(ベース部材3)の少なくともいずれか一方がZ軸方向で移動するように構成されていればよい。
また、図1に示す転写装置1では、基板テーブル9が下方に位置し型保持体5が上方に位置しているが、逆に、基板テーブル9が上方に位置し型保持体5が下方に位置していてもよいし、型保持体5や基板テーブル9の移動方向が水平方向や斜め方向になるようにしてもよい。
転写装置1には、基板テーブル9(ベース部材3)に対して型保持体5を相対的に移動するための駆動手段(図示せず)と硬化手段(図示せず)とが設けられている。前記駆動手段は、サーボモータ等のアクチュエータを用いて、たとえば、型保持体5をZ軸方向に移動するものである。前記硬化手段は、型M1の転写パターンを基板Wに転写すべく前記駆動手段によって型M1が基板Wに押し付けられたとき(押圧されたとき)に、基板Wの上面に設けられている被成形層を硬化させるためのものであり、被成形層が熱硬化性樹脂で構成されている場合には、前記被成形層を加熱し、被成形層がUV硬化樹脂で構成されている場合には、前記被成形層に紫外線を照射するものである。
弾性部材7、11も矩形な平板状に形成されており、ボルト等の締結部材や接着剤によって、弾性部材7の上面の全面が、基板テーブル9の下面の全面に密着しており、ボルト等の締結部材や接着剤によって、弾性部材7の下面の全面が、ベース部材3の上面の平面に密着している。また、ボルト等の締結部材や接着剤によって、弾性部材11の上面の全面が、型保持体5の下面の全面に密着しており、ボルト等の締結部材によって、弾性部材11の下面が、型M1の全面に密着している。
また、転写装置1には、前述したように、基板テーブル9と弾性部材7とベース部材3とを、X軸方向、Y軸方向で移動位置決め自在な基板移動位置決め手段が設けられている。この基板移動位置決め手段は、たとえば、前述したXステージ106、Yステージ108を用いて構成されている。より詳しくは、ベース部材3は、たとえばリニアガイドベアリングを介して、ベース部材3の周辺部でフレーム(図示せず)に支持されている。
そして、基板テーブル9と型保持体5とが互いに離れているときに(基板Wと型M1とが互いに離れているときに)、サーボモータ等のアクチュエータを用いて、基板テーブル9等をX軸方向、Y軸方向に移動位置決め自在になっている。
なお、型M1の面積を、基板Wの面積よりも小さくし、基板テーブル9を水平方向に適宜移動位置決めして、各位置決め後毎に基板Wへの転写を行うことができるようにしてもよい。このように構成することにより、前記転写後、転写がされた基板Wを適宜切り離せば、1枚の大きい基板Wから多数の製品や半製品を得ることができる。
また、前記フレーム(図示せず)、型保持体5、基板テーブル9、ベース部材3は、たとえば鋼またはスレンレス鋼で構成されている。
前記各弾性部材7、11は、合成樹脂、ゴム、転写装置1のフレームや型保持体5や基板テーブル9やベース部材3よりも弾性係数の小さい金属材料のうちの少なくともいずれかの材料(たとえば、内部に空洞が存在せず材質で満たされている材料)で構成されている。
より具体的には、前記弾性部材7、11は、縦弾性係数Eやせん断弾性係数Gが転写装置1のフレーム等を構成している材料(たとえば、鋼やステンレス鋼)の30〜70%である材料の例である銅、銅合金(たとえば、りん青銅、砲金、黄銅)、アルミニウム、アルミニウム合金、ジュラルミンのうちの少なくともいずれかの材料で構成されている。
なお、前記弾性部材7、11を合成樹脂やゴムで構成する場合には、この合成樹脂やゴムは、クリープを起こしにくく、弾性余効の緩和時間が短いものであることが望ましい。
さらに、転写装置1のフレーム等を構成している材料の材質と同じ材質の材料に微細な空洞を多数点在させて、全体の弾性係数を低下させたものを、前記弾性部材7、11として使用してもよい。
次に、転写装置1の動作について説明する。
まず、図1に示すように、型保持体5と基板テーブル9とが互いが離反しており、型保持体5には、弾性部材11を介して型M1が設置され基板テーブル9には基板Wが設置されているものとする。
この状態で、図示しない制御装置の制御の下、基板WをX軸、Y軸方向で適宜位置決めし、型保持体5を下降して、型M1で基板Wを押圧しつつ、基板Wの被成形層を硬化させる。硬化が終わったら、型保持体5を上昇し基板Wへの転写を終了する。続いて、基板Wを転写装置1から取り外し、次の基板Wへの転写を行う。
転写装置1によれば、基板テーブル9や型M1が弾性部材7、11を介して支持されているので、転写がされる基板Wの面に対して型M1の転写パターンが形成されている面が僅かに斜めに傾いていても、基板Wに転写する際の押圧力で前記弾性部材7、11が適宜変形して、基板Wと型M1とが互いに倣い、転写がされる基板Wの面に対して型M1の転写パターンが形成されている面が平行になるので、正確な転写を行うことができると共に、ジンバル機構等の機構を用いていないので、装置の構成が簡素になっている。
なお、図2に示すように、型M3の下面の転写パターンが、中央部で上側に凹んでいる形状である場合もある。
また、転写装置1において、基板テーブル9を支持している弾性部材7、型M1を保持している弾性部材11のうちのいずれか一方の弾性部材を削除してもよい。
すなわち、弾性部材7を削除し、基板テーブル9をベース部材3に直接設けてもよく、さらには、基板テーブル9とベース部材3とを一体で形成してもよい。または、弾性部材11を削除し、型M1を型保持体5に直接設けてもよい。
さらに、図3に示すように、弾性部材7に直接に基板Wを設置してもよい。
なお、転写装置1は、微細な転写パターンが形成されている型で基板を押圧することにより、前記転写パターンを前記基板に転写する転写装置において、基板の背面側(転写がされる面の反対側に位置している面側)、前記型の背面側(転写パターンが形成されている面の反対側に位置している面側)の少なくとも一方の側に、弾性部材が設けられている転写装置の例である。換言すれば、型、基板の少なくともいずれかが、弾性部材を介して支持されている転写装置の例である。
また、前記弾性部材は、前記押圧をするときに、前記基板の転写がなされる面に前記型の転写パターンが形成されている面を倣わせるためのものであり、前記押圧をするときに、前記型の転写パターンが形成されている面に前記基板の転写がなされる面を倣わせるためのものである。
1 転写装置
3 ベース部材
5 型保持体
7、11 弾性部材
9 基板テーブル
M1、M3 型
W 基板
3 ベース部材
5 型保持体
7、11 弾性部材
9 基板テーブル
M1、M3 型
W 基板
Claims (7)
- 微細な転写パターンが形成されている型で基板を押圧することにより、前記転写パターンを前記基板に転写する転写装置において、
前記基板の背面側、前記型の背面側の少なくとも一方の側に、弾性部材が設けられていることを特徴とする転写装置。 - 被成形材料である基板を固定保持する基板テーブルと;
前記基板テーブルに対向するように弾性部材を介して転写用の型を配置し固定保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向に相対的に移動自在な型保持体と;
前記基板テーブルに対して前記型保持体を相対的に移動するための駆動手段と;
を有することを特徴とする転写装置。 - 被成形材料である基板を固定保持する基板テーブルと;
弾性部材を介して前記基板テーブルを支持しているベース部材と;
前記基板テーブルに対向するように転写用の型を配置し固定保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向に相対的に移動自在な型保持体と;
前記基板テーブルに対して前記型保持体を相対的に移動するための駆動手段と;
を有することを特徴とする転写装置。 - 被成形材料である基板を固定保持する基板テーブルと;
第1の弾性部材を介して前記基板テーブルを支持しているベース部材と;
前記基板テーブルに対向するように第2の弾性部材を介して転写用の型を配置し固定保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向に相対的に移動自在な型保持体と;
前記基板テーブルに対して前記型保持体を相対的に移動するための駆動手段と;
を有することを特徴とする転写装置。 - 基板テーブルと;
前記基板テーブルに支持され、被成形材料である基板を固定保持する第1の弾性部材と;
前記第1の弾性部材に対向するように第2の弾性部材を介して転写用の型を配置し固定保持可能であると共に、前記基板テーブルに対して接近・離反する方向に相対的に移動自在な型保持体と;
前記基板テーブルに対して前記型保持体を相対的に移動するための駆動手段と;
を有することを特徴とする転写装置。 - 請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の転写装置において、
前記弾性部材は、合成樹脂、ゴム、前記転写装置の基板テーブルや型保持体よりも弾性係数の小さい金属材料のうちの少なくともいずれかの材料で構成されていることを特徴とする転写装置。 - 請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の転写装置において、
前記弾性部材は、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金、ジュラルミンのうちの少なくともいずれかの材料で構成されていることを特徴とする転写装置。
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