JP2002100038A - 転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ナノインプリンティングにおいて、原盤と基
板のアライメントが容易であり、原盤や基板を短時間で
加熱・冷却ができ、また基板と原盤の剥離が容易である
転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法を提供す
ること。 【解決手段】 情報に相当するパターンを有する原盤１
１を保持する原盤保持手段１０と、原盤１１の前記パタ
ーンが転写される基板１３を保持する基板保持手段１２
と、原盤１１と基板１３間を固定する固定手段と、原盤
１１と基板１３間に圧力を印加する圧力印加手段とを備
え、原盤保持手段１０と基板保持手段１２と固定手段と
は一体となって圧力印加手段に対して脱着可能に構成さ
れていることを特徴とする転写装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は転写装置、転写用カ
ートリッジ、及び転写方法に係わり、特にナノメートル
レベルの精度で微細構造や磁気情報の転写が可能な転写
装置、転写用カートリッジ、及び転写方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光の回折限界を越えて、微細なリソグラ
フィーを実現するいわゆる超解像を利用する方法として
近接場光を利用する方法が知られている。これには、微
小な開口を有するプローブを用いる方法（特開平７−１
０６２２９）や、よりスループットを上げるためにマス
クをレジストに極めて近距離に置く方法（特開平８−１
７９４９３）や密着させる方法がある。これに対して、
光や電子線によるリソグラフィーではなくナノインプリ
ンティングと呼ばれる方法が新しいナノ加工技術として
提案されている。これはナノレベルで凹凸のある原盤を
基板上のレジストなどに押しつけて加工する方法であ
る。

【０００３】一方、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）
は、ドライブの内部に記録媒体であるディスクが固定さ
れて、このディスクに対してデータの記録再生を実行す
るための磁気記録装置である。ＨＤＤは、ディスク上に
予め記録されたサーボ情報により、磁気ヘッドをディス
ク上の目標位置（目標トラック）に位置決めする制御を
行う。一般にサーボ情報は、ディスク上の円周方向に所
定の間隔を持って配置されるサーボ領域（サーボセク
タ）に記録される。また、サーボ領域は、ディスク上の
全トラックに対して半径方向に設けられている。

【０００４】このようなＨＤＤを製造する製造工程にお
いて、通常ではドライブ本体の筐体の内部にディスクと
ヘッドとが組み込まれた後に、サーボライタと称するサ
ーボ書き込み装置によりディスク上にサーボ情報が記録
される。ここでディスクはスピンドル機構に固定的に取
り付けられる。またヘッドはボイスコイルモータにより
駆動するヘッドアクチュエータに実装される。

【０００５】従来のサーボライタを使用してサーボ情報
を書き込む方法は、ヘッドを移動制御して、ディスク上
に設定される全トラックの各サーボ領域にサーボ情報を
順次記録するため、製造工程の中でも長時間を要する工
程の一つである．従って、サーボ情報の書き込み工程に
要する時間を短縮化することは、HDDの製造工程の効率
を向上させるために有効である。

【０００６】これを解決するための方法として、サーボ
情報を予め記録した原盤を用意し、この原盤を使用し
て、ドライブに組込むための基板にサーボ情報をコピー
する磁気転写方式を利用した方法が提案されている（例
えば特開平7−78337号公報を参照）。この磁気転写方式
では、原盤と基板とを密着させて、外部からバイアス磁
界を加えることにより、原盤の磁化情報を基板に転写す
る方法である。

【０００７】上記の原盤を用いてナノインプリンティン
グにより基板を加工する方法の欠点は、原盤と基板のア
ライメントが困難であり、また一般にプレス機を高温に
して加工するため、原盤や基板を加熱したり、冷却する
のに時間がかかるという欠点があった。また、原盤と基
板の剥離が困難である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】前述したように、ナノ
インプリンティングでは、原盤と基板のアライメントが
困難であり、また一般にプレス機を高温にして加工する
ため、原盤や基板を加熱したり冷却するのに時間がかか
るという欠点があった。また、原盤と基板の剥離が困難
である。

【０００９】本発明は上記実情に鑑みてなされたもので
あり、原盤と基板のアライメントが容易であり、原盤や
基板を短時間で加熱・冷却ができ、また基板と原盤の剥
離が容易である転写装置、転写用カートリッジ、及び転
写方法を提供するものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】（構成）前述した課題を
解決するために、本発明の第１は、情報に相当するパタ
ーンを有する原盤を保持する原盤保持手段と、前記原盤
の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持手
段と、前記原盤と前記基板間を固定する固定手段と、前
記原盤と前記基板間に圧力を印加する圧力印加手段とを
備え、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定
手段とは一体となって前記圧力印加手段に対して脱着可
能に構成されていることを特徴とする転写装置を提供す
る。

【００１１】本発明の第１において、以下の構成を備え
ることが好ましい。

【００１２】（１）一体になった前記原盤保持手段と前
記基板保持手段と前記固定手段とを前記圧力印加手段と
その外部との間で搬送する搬送手段を備えること。

【００１３】（２）前記原盤保持手段と前記基板保持手
段の少なくとも一方に、前記原盤と前記基板の少なくと
も一方の温度制御を行う温度制御手段が設けられている
こと。

【００１４】（３）前記原盤及び前記基板間の相対位置
を面内方向で制御する面内位置制御手段を備えること。

【００１５】また、本発明の第２は、情報に相当するパ
ターンを有する原盤を保持する原盤保持手段と、前記原
盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持
手段と、前記原盤と前記基板間を固定する固定手段とを
備え、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定
手段とを一体として搬送可能に構成されていることを特
徴とする転写用カートリッジを提供する。

【００１６】本発明の第２において、以下の構成を備え
ることが好ましい。

【００１７】（１）前記原盤保持手段と前記基板保持手
段の少なくとも一方に、前記原盤と前記基板の少なくと
も一方の温度制御を行う温度制御手段が設けられている
こと。

【００１８】（２）前記原盤保持手段と前記基板保持手
段間に介在しかつ前記原盤及び前記基板の周囲に配置さ
れ、前記原盤と前記基板とを引き離す方向に弾性力を生
ずる弾性体を備えること。

【００１９】また、本発明の第３は、情報に相当するパ
ターンを有する原盤を保持する原盤保持行程と、前記原
盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持
行程と、前記原盤と前記基板間を固定する固定行程と、
前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段と
を一体にして圧力印加部へ搬送する第１の搬送行程と、
前記圧力印加部において前記原盤と前記基板間に圧力を
印加する圧力印加行程と、前記原盤保持手段と前記基板
保持手段と前記固定手段とを一体にして前記圧力印加部
から外部へ搬送する第２の搬送行程とを具備することを
特徴とする転写方法を提供する。

【００２０】本発明の第３において、以下の構成を備え
ることが好ましい。

【００２１】（１）前記第２の搬送行程の後に、前記固
定行程により固定された前記原盤と前記基板間を引き離
す行程と、前記基板保持手段から前記基板を取り出す行
程とを備えること。

【００２２】（２）前記原盤と前記基板の少なくとも一
方の温度制御を行う温度制御行程を備えること。

【００２３】（３）前記原盤及び前記基板間の相対位置
を面内方向で制御する面内位置制御行程を備えること。

【００２４】（作用）本発明によれば、原盤保持手段と
基板保持手段と固定手段とは一体となって圧力印加手段
に対して脱着可能に構成されているので、原盤と基板の
アライメントが容易であり、原盤や基板を短時間で加熱
・冷却ができ、また基板と原盤の剥離が容易である。

【００２５】プレスする手段としては一般に油圧を用い
る方法が高い圧力をかけられることから好ましいが、原
盤と基板のアライメントはその位置の測定を光学的、電
気的な手段を用いた場合には、プレス装置と一体化する
ことは困難である。したがって、原盤を保持する手段
と、基板を保持する手段と、原盤と基板の平行方向（面
内方向）の相対位置を固定する手段と、さらには原盤と
基板の平行方向の相対位置を検出して制御する手段と
が、プレスする手段とは分離されていれば、原盤と基板
の平行方向の相対位置を精度よく決める手段を容易に用
いることができる。

【００２６】また、プレス機のプレス台の熱容量は大き
く、一方、一般にプレス時間は１分程度で十分である。
したがって、本発明では熱容量の小さい原盤・基板ホル
ダーを用いることにより短時間で加熱、冷却ができる。
また片側だけの急速な加熱や冷却が可能であり、熱膨張
率の差を利用して原盤と基板の剥離を容易に行わせるこ
とができる。

【００２７】原盤や基板を保持する手段としては真空チ
ャック方式によるものが好ましい。また、原盤や基板を
保持するために、弾性体を介して保持することが好まし
い。弾性体を介することにより均一に圧力がディスクに
印可され、均一な磁気転写にとってより好ましい。弾性
体としてはゴム類が好ましく、印可する圧力によって異
なるが、位置合わせなどから透明なシリコンゴム膜が好
ましい。ゴム膜にディスクを保持するための吸盤として
の作用を持たせることも可能である。また、ゴム膜に適
当に微小な穴を開け、真空でディスクを吸着させてもよ
い。

【００２８】原盤と基板の相対位置を検出する手段とし
ては、光学顕微鏡、静電容量センサー、光学干渉位置セ
ンサーなどが特に好ましい。また基板と原盤の相対位置
を自動的に制御するために、原盤もしくは基板の一方に
凹部が、片方にそれにちょうどはまる凸部が表面に形成
されて立体的に位置制御したり、両方の表面に親水性の
パターンが形成され、水などの液体を介して親和エネル
ギー的に位置制御したりする手段を有することも好まし
く、これらを組み合わせてもよい。また上記の凹部や凸
部は原盤や基板に形成されてなくても原盤や基板を保持
する手段に作製されていてもよい。後者の場合には原盤
や基板を該保持手段に正確に位置決めして設置すること
が必要である。このためには保持ホルダーに凸部や凹部
もしくは穴をつけ、それにはまるような穴や凹部や凸部
を原盤や基板につけることが好ましい。

【００２９】原盤と基板の平行方向の相対位置を固定す
る手段としては、原盤と基板の間を減圧して大気圧を用
いて略密着させる方法が最も好ましい。原盤を保持する
手段と、基板を保持する手段を外枠で固定したり、クラ
ンプで止めることも好ましい。

【００３０】原盤と基板に圧力を印加する手段として
は、油圧ポンプによるものが最も好ましい。油圧ポンプ
による方法では原盤と基板の平面のゆがみやたわみを正
して、精度良く転写することが可能である。

【００３１】本発明の転写装置は、原盤を保持する手段
と、基板を保持する手段が一体化可能であり、該一体化
された手段をプレス手段に搬送する手段を有しているこ
とを特徴としてもよい。一体化可能のカートリッジ式と
することにより、別の場所で原盤と基板の相対位置を高
精度にアライメントした後、プレス手段に搬送した際に
わずかなズレも防止することができる。

【００３２】本発明の転写装置は、原盤を保持する手段
とプレスする手段の間、もしくは基板を保持する手段と
プレスする手段の間に弾性体を有することを特徴として
もよい。弾性体を有することにより、均一に加重をかけ
ることが可能となり、均一な転写ができると共に、装置
の寿命を長くすることができる。

【００３３】本発明の転写装置は、原盤を保持する手
段、および基板を保持する手段に加熱する手段および冷
却する手段を有することを特徴としてもよい。これによ
り、加熱、冷却を短時間に行えると共に、原盤と基板に
温度差を設けて、剥離を容易にすることが可能である。

【００３４】本発明の転写装置は、原盤の微細情報パタ
ーンが凹凸構造もしくは、磁気情報であることを特徴と
してもよい。原盤の微細情報パターンが凹凸構造である
場合には、原盤の凹凸構造よりも転写される基板に柔ら
かい材質を選べば、凹凸構造が基板に転写される。この
場合には応力集中は比較的緩和されるが、原盤と基板が
凹凸構造を介して密着するため剥離が困難となる。した
がって、原盤と基板の間にフッ素系樹脂やシリコーン樹
脂系の剥離材を介する方が好ましい。

【００３５】磁気情報の転写の場合には、その目的とす
るところはサーボ信号の基板（ＨDDディスク）への転写
である。ＨＤＤに使用されるディスクは、近年の高紀録
密度化に伴って、表面粗さが例えは20nm以下（グライド
の高さ）の鏡面加工が要求されている。一般に、高記録
密度化の実現には、ヘッドとディスク表面間の間隔（ス
ペーシング）の低減化が必要である。このため、ディス
クの表面は高度の鏡面性が要求されている。したがっ
て、転写時や剥離時に基板に傷がつくことは極力さける
必要がある。そのため磁気転写においては原盤は、特開
平11-273070に示されるように平坦化された方が好まし
い。

【００３６】さらに磁気転写の場合には磁場を印加する
手段があることが好ましく、直流磁場および交流磁場の
両者を印加できる方が好ましい。印加磁場の方向は転写
する磁気信号がトラックの長手方向か垂直方向かによっ
て異なる。

【００３７】本発明の転写方法は、情報に相当するパタ
ーンを有する原盤を保持する原盤保持行程と、前記原盤
の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持行
程と、前記原盤と前記基板間を固定する固定行程と、前
記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを
一体にして圧力印加部へ搬送する第１の搬送行程と、前
記圧力印加部において前記原盤と前記基板間に圧力を印
加する圧力印加行程と、前記原盤保持手段と前記基板保
持手段と前記固定手段とを一体にして前記圧力印加部か
ら外部へ搬送する第２の搬送行程とを具備することを特
徴とする。

【００３８】このような工程を有することにより、上述
したように基板と原盤の相対位置を精密に制御でき、そ
の位置を保ったままプレスすることが可能であり、また
加熱や冷却を短時間で行うことができる。

【００３９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照しつつ詳細に説明する。

【００４０】（第１の実施形態）図１に本実施形態にお
ける原盤ホルダー及び基板ホルダー部１の構成を示す。
図２に本実施形態で示す転写装置の構成を示した。１０
は２．５インチ径のニッケル製原盤１１を真空に引いて
保持するための原盤ホルダー、１２は２．５インチ径の
ガラス製基板１３を真空に引いて保持するための基板ホ
ルダー、１４は基板ホルダーをＸ、Ｙ方向に精密に駆動
するためのアクチュエーター、１５は位置決めのための
CCD、１６は原盤と基板の間を減圧にしたり、高圧気体
を入れたりするための導入路、１７はシール部、１８は
基板を加熱するための電熱線、１９は原盤を加熱するた
めの電熱線、２０は基板を冷却するための水導入路、２
１は原盤を冷却するための水導入路、２２は原盤または
基板を固定するための減圧導入路、２３は基板ホルダー
を抑えるためのバネ、２４はモニター、２５は搬送装
置、２６は圧力を印加するための油圧スタンプ台、２７
は弾性体である。

【００４１】ここで、原盤１１と、膜厚50nmのポリメチ
ルメタクリレート膜２８を塗布したガラス基板１３を、
原盤ホルダー１０と基板ホルダー１２にそれぞれ設置し
た。原盤１１には示すように、最小パターンが２０ｎｍ
で高さが４０ｎｍ凹凸パターンが設置されている。また
中心に位置決めするためのマーク２９が設けられている
（図示せず）。

【００４２】位置決め台３０上で、電熱線１８、１９を
用いてホルダー１１と１２をそれぞれ１１０℃に設定し
た。原盤１１と基板１３の水平方向の相対位置はＣＣＤ
１５を用いてモニター２４で観察しながら、原盤のマー
ク２９と基板の中心のマーク３１が合うようにアクチュ
エータ１４のＸＹ制御機構を用いて合わせた。次に、基
板１３と原盤１１間の距離をアクチュエータのＺ制御機
構で近づけ接触させた後、導入路２２を用いて基板１３
と原盤１１間を減圧にして相対位置を固定した。次に、
搬送装置２５を用いて油圧スタンプ台２６に搬送し、全
圧１０トンの圧力を３０秒間印可した。

【００４３】次に、油圧を解放した後、剥離台３２に搬
送し、水導入路２０に１分間冷却水を流した。導入路１
６を通して３気圧の圧縮空気を導入し、原盤と基板を剥
離した。

【００４４】AFM（Atomic force microscope）で測定し
たところ、原盤の凹凸パターンに対応した凹凸が基板上
に中心からの位置精度１ミクロンで均一に形成されてい
ることがわかった。

【００４５】（第２の実施形態）まず、磁気転写につい
て、図３を参照しながら簡単に説明する。一方向に磁化
され平坦化された磁気転写原盤４１内にパターニングさ
れた強磁性材料によって発生する記録磁界により、パタ
ーン形状に対応した磁化パターンがガラス基板４２上の
磁性層４３に記録される。すなわち、原盤４１には、ト
ラッキング用サーボ信号、アドレス情報信号、再生クロ
ック信号等に対応するパターニングされた垂直磁化の強
磁性材料が形成され、前もって一方向の残留磁化４４を
与えておく。また基板４２上の垂直磁性層４３にも一方
向の初期残留磁化４６を与えておく。励磁磁界４５を磁
化残留４４とは同方向に、また残留磁化４６とは反対方
向に印可し、４４に接した部分の磁化４６が反転し４７
になるように励起磁界４５の強さを調整する。これによ
り原盤の磁気情報が基板に転写されプリフォーマット記
録される。図３ではトラックの垂直方向の磁化を示した
が、トラックの長手方向の磁気転写も同様である。

【００４６】以下に、本発明の本実施形態における転写
装置について、図４と図５を参照しながら説明する。図
４は本実施形態における磁気原盤５０の構成を示す概略
断面図である。図５は本実施形態における転写装置の原
盤および基板ホルダー部の構成を示す概略図である。図
６は本実施形態における転写装置の構成を示す概略図で
ある図４に示すように中心穴５１ａが開いたガラスから
なる基板５１の表面には、情報パターンに対応する強磁
性体５２のパターンが酸化シリコン膜５３中に形成され
ている。また表面には硬質膜５４が形成されている。こ
の図において、６１ａは後述する原盤ホルダー６１の一
部に設けられるもので、原盤５０をその中心穴５１ａで
保持するための中心軸である。

【００４７】原盤５０は、例えば、特開平11-273070で
開示された工程を経て形成される。強磁性体の材料とし
ては、Ni−Fe、Fe−Al−Si等の結晶材料、Co−Zr−Nb等
のCo基のアモルファス材料、Fe−Ta−N等のFe系微結晶
材料、Fe、Co、Fe−Co Co-Cr、Co-Ni、Baフェライト等
が好ましい。磁性薄膜の形成方法としては、真空蒸着
法、イオンビームスパッタ法あるいは対向ターゲットス
パッタ法がある。

【００４８】図５に本実施形態で示す転写装置のカート
リッジ式の原盤および基板ホルダー部６０の構成を示し
た。６１は原盤５０を真空に引いて保持するための導入
路６４がついた原盤ホルダー、６２は中心に穴６３ａが
形成され、表面に磁性層が形成されたガラス基板６３を
真空に引いて保持するための導入路６５がついた基板ホ
ルダー、６６はシール部、６７は原盤ホルダー６１と基
板ホルダー６２の開閉できる連結部、６８は原盤と基板
の間を減圧にしたり、高圧気体を入れたりするための導
入路、６９は搬送装置、７０は圧力を印加するための油
圧スタンプ系である。７１は油圧コントロール系、７２
は圧力計、７３はスタンプ台である。また７４は電磁石
である。

【００４９】原盤５０を原盤ホルダー６１に設置し、基
板６３を基板ホルダー６２に設置した。基板６３上の磁
性媒体層は一層でもよいし、サーボ信号用の下層磁性層
を有する二層媒体であってもよい。サーボ信号用の二層
媒体の場合には下層媒体は上層媒体と比較して保磁力が
低い媒体であれば何でもよい。原盤ホルダー６１と基板
ホルダー６２を向き合わせた。原盤５０と基板６３の水
平方向の相対位置は原盤ホルダー６１の凸部７５および
基板ホルダー６２に掘られた凹部７６をかみ合わせるこ
とで制御した。次に、導入部６８を介して原盤と基板間
を減圧にして、相対位置を固定した。次に、搬送装置６
９を用いて油圧スタンプ台７３に搬送し、全圧１０トン
の圧力を３０秒間印可した。

【００５０】次に、油圧を解放した後、電磁石７４に搬
送し、基板と原盤に対して垂直方向に１分間磁界を印可
し磁気転写を行った。導入路６８を通じて３気圧の圧縮
空気を導入すると共に、原盤と基板の間にくさびを挿入
して剥離した。ＭFM（Magnetic force microscope）で
測定したところ、原盤の磁気パターンに対応した磁気パ
ターンが中心からの位置精度２ミクロンで基板上の磁性
体層に形成された。

【００５１】なお、本発明は上記実施形態に限定される
ものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変
形して実施することが可能である。

【００５２】

【発明の効果】本発明によれば、原盤と基板のアライメ
ントが容易であり、原盤や基板を短時間で加熱・冷却が
でき、また基板と原盤の剥離が容易である転写装置、転
写用カートリッジ、及び転写方法を提供することが可能
である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 第１の実施形態における転写装置の原盤およ
び基板ホルダー部の構成を示す概略図。

【図２】 第１の実施形態における転写装置の構成を示
す概略図。

【図３】 第２の実施形態における磁気転写の原理を示
す概略図。

【図４】 第２の実施形態における原盤の概略断面図。

【図５】 第２の実施形態における転写装置の原盤およ
び基板ホルダー部の構成を示す概略図。

【図６】 第２の実施形態における転写装置の構成を示
す概略図。

【符号の説明】

１…原盤ホルダー・基板ホルダー部 １０…原盤ホルダー １１…ニッケル製原盤 １２…基板ホルダー １３…ガラス基板 １４…ＸＹアクチュエータ １５…ＣＣＤ １６…原盤と基板の間を減圧にしたり、高圧気体を入れ
たりするための導入路、 １７…シール部 １８…基板を加熱するための電熱線 １９…原盤を加熱するための電熱線 ２０…基板を冷却するための水導入路 ２１…原盤を冷却するための水導入路 ２２…原盤または基板を固定するための減圧導入路 ２３…基板ホルダーを抑えるためのバネ ２４…モニター ２５…搬送装置 ２６…圧力を印加するための油圧スタンプ台 ２７…弾性体 ２８…ポリメチルメタクリレート膜 ２９…マーク ３０…位置決め台 ３１…マーク ３２…剥離台 ４１…磁気転写原盤 ４２…ガラス基板 ４３…磁性層 ４４…残留磁化 ４５…励起磁界、 ４６…初期残留磁化 ４７…転写された磁化 ５０…磁気転写原盤 ５１…ガラス基板 ５２…強磁性体 ５３…酸化シリコン膜 ５４…硬質膜 ６０…原盤および基板ホルダー部 ６１…原盤ホルダー ６２…基板ホルダー ６３…基板 ６４…原盤５０を真空に引いて保持するための導入路 ６５…ガラス基板６３を真空に引いて保持するための導
入路 ６６…シール部 ６７…連結部 ６８…原盤と基板の間を減圧にしたり、高圧気体を入れ
たりするための導入路 ６９…搬送装置 ７０…油圧スタンプ駆動系 ７１…油圧コントロール系 ７２…圧力計 ７３…スタンプ台 ７４…電磁石 ７５…凸部 ７６…凹部

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 情報に相当するパターンを有する原盤を
   保持する原盤保持手段と、前記原盤の前記パターンが転
   写される基板を保持する基板保持手段と、前記原盤と前
   記基板間を固定する固定手段と、前記原盤と前記基板間
   に圧力を印加する圧力印加手段とを備え、前記原盤保持
   手段と前記基板保持手段と前記固定手段とは一体となっ
   て前記圧力印加手段に対して脱着可能に構成されている
   ことを特徴とする転写装置。
2. 【請求項２】 一体になった前記原盤保持手段と前記基
   板保持手段と前記固定手段とを前記圧力印加手段とその
   外部との間で搬送する搬送手段を備えたことを特徴とす
   る請求項１記載の転写装置。
3. 【請求項３】 前記原盤保持手段と前記基板保持手段の
   少なくとも一方に、前記原盤と前記基板の少なくとも一
   方の温度制御を行う温度制御手段が設けられていること
   を特徴とする請求項１又は２記載の転写装置。
4. 【請求項４】 前記原盤及び前記基板間の相対位置を面
   内方向で制御する面内位置制御手段を備えたことを特徴
   とする請求項１乃至３のいずれかに記載の転写装置。
5. 【請求項５】 情報に相当するパターンを有する原盤を
   保持する原盤保持手段と、前記原盤の前記パターンが転
   写される基板を保持する基板保持手段と、前記原盤と前
   記基板間を固定する固定手段とを備え、前記原盤保持手
   段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体として搬
   送可能に構成されていることを特徴とする転写用カート
   リッジ。
6. 【請求項６】 前記原盤保持手段と前記基板保持手段の
   少なくとも一方に、前記原盤と前記基板の少なくとも一
   方の温度制御を行う温度制御手段が設けられていること
   を特徴とする請求項５記載の転写用カートリッジ。
7. 【請求項７】 前記原盤保持手段と前記基板保持手段間
   に介在しかつ前記原盤及び前記基板の周囲に配置され、
   前記原盤と前記基板とを引き離す方向に弾性力を生ずる
   弾性体を備えたことを特徴とする請求項５又は６記載の
   転写用カートリッジ。
8. 【請求項８】 情報に相当するパターンを有する原盤を
   保持する原盤保持行程と、前記原盤の前記パターンが転
   写される基板を保持する基板保持行程と、前記原盤と前
   記基板間を固定する固定行程と、前記原盤保持手段と前
   記基板保持手段と前記固定手段とを一体にして圧力印加
   部へ搬送する第１の搬送行程と、前記圧力印加部におい
   て前記原盤と前記基板間に圧力を印加する圧力印加行程
   と、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手
   段とを一体にして前記圧力印加部から外部へ搬送する第
   ２の搬送行程とを具備することを特徴とする転写方法。