TW593761B - Method for thermal spray coating and rare earth oxide powder used therefor - Google Patents
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Description
593761 A7 B7 經濟部智慧財4笱員工消費合作注印製 五、發明説明(彳) 發明領域: 本發明係相關於一種薪新的熱噴塗方法及它所使用之 稀土金屬氧化物粉末’更特別處爲其熱噴塗方法,能夠在 各種支撐物(受體)表面產生高度抗熱、抗磨擦及抗腐鈾之塗 層,及具有獨特測粒參數,並適用於熱噴塗材料之稀土金 屬氧化物粉末。 發明背景: 所謂熱噴塗方法,係利用方法已充分建立之氣體火焰 或電漿火焰,在各種支撐物物體表面,諸如金屬、混凝土 、陶瓷及相似物製造物體表面,形成具高度抗熱、抗磨擦 及抗腐蝕的塗層,其中形成塗層之粉末係噴出或噴霧方式 被火焰帶到支撐物表面,因而粒子即在火焰中熔化,並沈 積在支撐物表面,形成一塗層,且隨後以冷卻固化。 用熱噴塗方法在支撐物表面形成塗層之粉末,此後委 以熱噴粉末稱之,其配製通常係在電爐中將起始材料熔化 及以冷卻固化熔化物,接著以硏碎、粉磨及粒子大小分級 ,得到一具有控制粒子尺寸分佈,而適用於熱噴塗方法之 粉末。 典型的工業領域中,熱噴塗方法是廣用於半導體裝置 製造處理方法,其中許多情況包含電漿蝕刻’或利用高反 應性之含鹵氣體電漿氛圍氣,以使用含氯及或含贏蝕刻氣 體之電漿淸淨法。用爲產生電漿之含氯及或含氟氣體之實 施例,包括:SF6、CF4、CHF3、CIF3、HF、Cl2、BCh及 HC1 !i____餐丨 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 丨«·1 # 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 593761 A7 B7 五、發明説明(2 ) ,或單獨或以兩種或更多種之混合物。當微波或高頻波導 入此等含鹵氣體氛圍氣,即可產生電漿。因此曝露於此等 含鹵氣體或它的電漿之設備表面,需具高度抗腐蝕是很重 要的。在習知技術中,該設備之構件或部品是以各種陶瓷 材料諸如二氧化矽、三氧化二鋁、氮化矽、氮化鋁及相似 物等考慮其良好抗腐触者所造成或熱噴塗法塗層。 通常,上述陶瓷材料是以熱噴粉末形式使用,其以熔 化、固化、粉磨及粒子大小分級之基材陶瓷材料當進料, 餵入氣體熱噴或電漿熱噴塗層裝置中製備之。此處重要的 爲,熱噴粉末之粒子在氣體火焰或電漿火焰中,爲確保熱 噴塗層對支撐物表面之高鍵結強度,此等粒子是充分熔化 的。 此處亦甚重要的爲從粉末儲藏室到熱噴槍或噴嘴間粉 末輸送不致阻塞進料管起見’熱噴粉末需有良好的流動性 ,因以熱噴塗方法對於抗熱、抗磨擦及抗腐蝕而言,影響 形成塗層品質非常重要的因素爲塗層進料率之平順度。關 於這點,習知技術使用之熱噴粉末,通常難令人滿意的, 因其粒子具不規則粒子組態,結果產生大角度休息角之不 良的流動率,爲此熱噴槍粉末進料率不會如期望的不阻塞 噴嘴而增加。因此塗層處理不能順利及連續執行,大爲影 響生產處理方法及塗層品質。 爲獲得熱噴塗層具有增加的緻密度及更高的硬度之目 的,又有一減壓電漿熱噴塗層法於近日提出,其中熱噴速 度能增加,但是電漿火焰則需要以減低其能源密度來擴展 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X:297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、·ιτ 經濟邹智慧財產%員工消費合阼ii卬製 593761 A7 _B7 _ 五、發明説明(3 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 其長度及橫剖面,因而除非熱噴粉末使用在此有減低平均 粒徑,火焰中粒子之完全熔化不可能達成。如上所述具有 非常小平均粒徑之熱噴粉末配製之際,以熔化起始材料、 固化熔化物,粉磨固化材料及粒子大小分級等,而以篩選 粒子大小分級之最後步驟,當平均粉末粒徑已非常小時, 實施篩選會有困難。 習知技術中,許多半導體處理製造設備之構件或部品 是以玻璃質材料或熔融石英.玻璃製成,此等材料對含鹵氣 體電漿氛圍氣,僅有低的抗腐蝕性,由於被含鹵氣體電漿 氛圍氣在設備表面腐蝕結果,不但加速設備之磨損,而且 也降低了半導體產品之品質。 雖然陶瓷材料諸如三氧化二鋁、碳化矽及氮化鋁,較 上述玻璃質材料對含鹵氣體電漿氛圍氣更具抗腐蝕性,以 熱噴塗方法形成此等陶瓷材料之塗層,在升溫時並非沒問 題’因此用此等陶瓷材料製造或塗層之半導體處理製造設 備,與上述方法比既使沒那麼嚴重,亦有相同缺點。 發明之摘要: 爲克服上述習知技術之熱噴塗方法問題及缺點,本發 明因此有一目的,提供一薪新及改進的熱噴塗方法,其能 以使用具有優越的進料流動性,及火焰中良好可熔性之熱 噴粉末的執行高生產性之製程,甚至在升溫時對含鹵氣體 或含鹵氣體電漿氛圍氣,均能獲得高抗腐蝕性之塗層。 如此’本發明提供一種用熱噴塗在支撐物表面形成高 $紙張尺度適用中關家標準(〇刚八4規格(21(^ 297公酱) - 593761 A7 B7 五、發明説明(4 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 度抗腐鈾塗層之方法,包含以下步驟:噴塗稀土氧化物粒 子或稀土基材組合氧化物粒子,其中鐵族元素雜質含量, 尤其以氧化物重墓計之不超過5ppm,其被火焰帶到支撐物 表面,特別是電漿火焰沈積熔化粒子在支撐物表面形成一 塗層,進一步期望的爲在稀土氧化物基材熱噴粉末中,鹼 金屬元素及鹼土金屬元素含量,以氧化物重量計之各不超 過 5ppm 〇 尤其,稀土氧化物粒子或稀土基材組合氧化物粒子, 平均粒子直徑範圍爲5〜80// m,分散指數範圍爲〇.1〜〇.7及比 轰面積範圍爲1〜5m2/g,更佳者,粒子爲球狀組態顆粒,以 具有平均粒子直徑範圍爲0.05〜10// m之氧化物原粒子造粒 所得。 更期望者爲上述稀土氧化物基材熱噴粉末,具測粒的 特徵包括; 球狀粒子組態粒子縱橫比不超過2 ; 粒子直徑D9。重量百分比90%(粒子直徑分佈不超過60 // m); 體密度不超過1.6g/cm3 ;及 累積孔體積至少0.02cm3/g(具有孔半徑不超過1/im之孔 )° 較佳實施例之詳細描述: 使用在本發明熱噴塗方法之熱噴粉末由稀土元素氧化 物粒子或稀土元素組合氧化物粒子及其他元素諸如鋁、矽 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 593761 A7 B7 五、發明説明(5 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 及鉻所組成。其中鐵族元素雜質含量,即鐵、鈷及鎳以氧 化物重量計之各不超過5ppm,絕對必要的要素。熱噴粉末 粒子其較佳者爲顆粒狀粒子,最好應有各種測粒的參數之 特定値,包括平均粒子直徑、粒子直徑分佈之分散指數、 定義爲粒子縱橫比之球狀粒子組態、體密度、孔體積及比 表面積,具有特定平均粒子直徑之氧化物原粒子造粒所得 〇 當熱噴粉末滿足於上述使用在本發明的方法各種需求 ,稀土氧化物或稀土基材組合氧化物之塗層,有非常令人 滿意的高度抗熱、抗磨擦及抗腐蝕之性質,假如不提及大 爲改進的靠進料至噴槍之良好流動性粉末塗層製程之生產 性,關於塗層之均勻性及塗層在支撐物表面之吸附,亦同 樣令人滿意。當粉末中鐵族元素雜質含量太高時,例如可 能情況爲鐵族元素雜質係局部集中而形成斑點,該處鐵與 稀土元素反應作用而導致在含鹵氣體或含鹵氣體電漿氛圍 氣中塗層之局部腐蝕。 經濟部智慧財產笱員工消費合itfl印製 上述鐵族元素非常低的雜質含量,能以使用高純度起 始氧化物材料及爲避免含鐵塵埃自周遭進入氧化物粉末, 將起始氧化物粉末在高級淸淨室氣氛下執行顆粒化製程, 予以達成。 使用在本發明熱噴粉末方法,並不限於稀土元素氧化 物或稀土元素組合氧化物,雖然氧化物在含鹵氣體或含鹵 氣體電漿氛圍氣中,有關優越的化學穩定性是較佳的,然 亦能夠是稀土元素碳化物、硼化物或氮化物。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2!〇乂297公釐) 593761 A7 B7 五、發明説明(6) 使用在本發明熱噴粉末方法之稀土元素氧化物或稀土 元素組合氧化物,包括:釔及原子序範圍57〜71之元素,其 中較佳者爲釔、銪、釓、铽、鏑、鈥、餌、錶、鏡及鍇; 更佳者爲釔、釓、铽、鏑、餌及.鏡。此等稀土元素可單獨 使用或結合兩種或更多使用。稀土元素組合氧化物是由稀 土元素與選擇自鋁、矽及鍩(較佳者爲鋁、矽)組合形成元素 組合而成。稀土元素組合氧化物之化學組成,以化學式表 示包括:RAlCh、R4Al2〇9、R3Al5〇12、R2Si〇5、R2Si2〇7、 R2Zr2〇7及相似物,其中R爲稀土元素,然無特別限制性。 稀土氧化物粉末與鋁、矽及鍩之氧化物粉末的混合物,因 在火焰中自氧化物熔化時能形成組合氧化物,其亦能相等 的使用於組合氧化物粉末。 稀土氧化物或稀土基材組合氧化物之原粒子顆粒化成 具有平均直徑範圍5〜8 0 // m,或較佳者爲2 0〜8 0 // m之顆粒 ’可用作具良好流動性之熱噴粉末是很重要的。氧化物顆 粒之平均直徑小於5// m時,由於粒化處理之際會遭遇困難 ’那是不利的;而氧化物顆粒之平均直徑太大時,在噴霧 火焰中氧化物顆粒之熔融有時不完全,而留顆粒核心部分 未熔化,其結果使塗層對支撐物表面之吸附減低,而降低 熱噴粉末之可利用性。 熱噴粉末顆粒粒子之粒徑分佈盡可能狹窄,因爲粉末 顆粒粒子之粒徑分佈寬廣時,當其曝露在高溫火焰如電漿 火焰之際,顆粒非常小者極易熔化終至以揮發而損失,該 時顆粒非常大者則僅不完全的熔化,導致支撐物表面熔化 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T Ρ. 593761 A7 B7 五、發明説明(7 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 物沈積之失敗,結果產生熱噴粉末之損失。狹窄粒徑分佈 熱噴粉末之問題,爲它的配製程序是複雜的,不適於大量 生產粉末之用。寬廣粒徑分佈熱噴粉末通常流動性較差, 會導致進料管及噴嘴之阻塞。關於這點,熱噴粉末應有一 適當値之分散指數範圍0.1〜0.7粒徑分佈。上述分散指數以 公式定義··分散指數=(DWDU))/=(D9Q + Dl。), 其中D9〇及Dm爲90wt.%及10wt.%粒徑上限各別値,粒 子組成粉末直徑各別小於仏〇及Di〇。 因爲熱噴粉末係以細小原粒子之顆粒化作用配製,而 由相對大的平均粒子直徑之顆粒組成,顆粒之比表面積對 相對大粒子直徑能夠相對地大,那麼可確保熱噴熔融時有 好的熔化功效。斟酌優點及缺點間之平衡,本發明方法使 用之熱噴粉末,較佳者其比表面積範圍應爲1〜5m2/g(BET法 )。當粉末之比表面積太小時,熱噴熔融之際熱轉移到顆粒 之效率不會夠高,結果產生塗層之參差不均。另一方面, 粉末顆粒之比表面積太大時,原粒子不相稱之細度會導致 粉末處理之不便。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 考慮到上述顆粒、原粒子之各種需求,其中顆粒是以 顆粒化配製之,稀土氧化物或稀土基材組合氧化物之平均 粒子直徑範圍爲0.05〜10//m,較佳者爲0:5〜10/zm。 除上述各種需求外,更期望本發明熱噴粉末之粒子、 顆粒能滿足各其他測粒的特點,包括: 粒子縱橫比不超過2之球狀粒子組態; 粒徑分佈不超過60/z m之粒徑D9。爲90wt.% ; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 593761 A7 B7 五、發明説明(8) 體密度不超過1.6g/cm3 ; 累積孔體積至少0.02(:1113仏(具有孔半徑不超過1//111之孔 )° 上述粒子縱橫比,其球狀粒子組態是定義爲粒子最大 直徑對粒子最小直徑之比。此値能從粒子之掃瞄式電子顯 微鏡照片測定出。縱橫比1相當於真正的球狀粒子組態,.而 縱橫比大於2.0時代表伸長的粒子組態。當顆粒或粒子之縱 橫比大於2.0時,粉末幾乎不能展示它的良好流動性。關於 此點,縱橫比應該盡可能小到接近1。 粒子之粒徑分佈D”値或顆粒應在60// m或更小,較佳 者爲範圍在20〜60/zm,更佳者範圍在25〜50// m。當此値太 大時,在熱噴塗之粒子熔化有時不完全,結果產生在支撐 物表面火焰熔化塗膜之粗糙表面。當使用有機黏合劑配製 顆粒組·成之熱噴粉末,在大顆粒中黏合劑樹脂之熱分解最 後是不完全的,而在塗膜中留下碳質不分解產物,變成污 染物。 粒子或顆粒體密度及累積孔體積亦爲影響熱噴塗粉末 之熔化行爲參數。關於此點,粒子之體密度應在1.6g/cm3或 更小,及累積孔體積應在0.02cm3/g或更大,較佳者爲在 0.03〜0.4cm3/g範圍。當體密度太大或累積孔體積太小時, 顆粒之熱噴塗粉末熔化有時不完全,結果產生熱噴塗膜之 品質降低。 上述原粒子顆粒化之典型程序如下:原粒子粉末以含 有黏合劑樹脂之水或醇等溶劑掺和成漿,將其餵進一適當 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ---訂 593761 A7 B7 ____ 五,發明説明(9 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 的造粒機,諸如旋轉造粒機、噴霧造粒機、壓縮造粒機、 及流體化造粒機等,轉化成球狀顆粒當作原粒子黏聚物’ 乾燥後,使在大氣下溫度1 200〜1 800°C範圍鍛燒1〜10小時, 或較佳者爲在1 500〜170CTC得出由平均直徑5〜80 // m球狀顆 粒組成之熱噴塗粉末。 當期望稀土基材組合氧化物之顆粒作爲熱噴塗粉末時 ,當然有一可能方法爲稀土基材組合氧化物之原粒子,是 施以上述顆粒化程序。選擇性地它亦可能取代組合氧化物 之原粒子使用,稀土氧化物與組合形成氧化物諸如二氧化 矽、三氧化二鋁及氧化鉻,相當於組合氧化物之化學組成 物在計量化學比的混合物。當期望稀土鋁石權石(r3Ah⑴〇 時,例如稀土銘石榴石之原粒子,能用稀土氧化物(R2〇3)粒 子及三氧化二鋁(AhO3)粒子,以分子比3 : 5之混合物取代 之。 經濟邹智慧財產苟員Μ消費合阼Ti<千製 使用在氧化物原粒子顆粒化成顆粒之黏合劑樹脂例子 ,包括:聚乙烯醇、纖維素衍生物、羧甲基纖維素、羥丙 基纖維素、及甲基纖維素、聚乙儲D比路酮、聚乙二醇、聚 四氟乙烯樹脂、酚樹脂及環氧樹脂,可是無它的特別限制 。黏合劑樹脂使用在顆粒化作用之數量範圍在%(基 於氧化物原粒子之數量)。 使用上述氧化物顆粒之熱噴塗方法,較佳者爲以電獎 熱噴’或使用氬氣或氮氣或氮及氫、氬及氫、氬及氦、或 氬及氮等氣體混合物之減壓電漿熱噴方式執行。 根據本發明之熱噴塗方法,是能夠應用於任何材料之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) "' -- M2- 593761 A7 B7 五、發明説明(10) 各種支撐物而不受限制。支撐物之可應用材料例子包括: 金屬及合金諸如鋁、鎳、鉻、鋅及鉻及與這些金屬之合金 ,陶瓷材料諸如三氧化二鋁、氧化鍩、氮化鋁、氮化矽及 碳化矽及融熔石英玻璃。依有意應用之塗層物質,用熱噴 塗方法形成塗層厚度通常在5 0〜5 00 /zm範圍。根據本發明之 熱噴塗方法可得到高績效展現之半導體製程設備之構件及 部品。 因爲使用在本發明方法之熱噴粉末,係由氧化物原粒 子之球狀顆粒組成,粉末能很平順的噴入火焰而不會阻塞 噴嘴,且顆粒在電漿火焰以高效率的熱轉移熔化,因此本 法形成的塗層是非常均勻及緻密結構。甚至對半導體製程 設備有時遭遇含鹵蝕刻氣體之電漿中爲製得一局部不會腐 鈾塗層,熱噴粉末雜質限制爲鐵族元素雜質含量,以氧化 物重量計之不超過5ppm是特別重要的。根據本發明之熱噴 塗層,當熱噴粉末含有鹼金屬元素及鹼土金屬元素爲雜質 時,其含量各以氧化物重量計之不超過5ppm,仍能給與品 質之改進。
本發明之熱噴塗層方法,將以實施例及比較例方式更 詳細敘述如下:其中,無論如何,未以任何方式限制發明 範疇。下列實施例中,粒徑分佈値Di。、D5Q及D9〇係使用 MicrotracParticleSizeAnalyzerModel9220FRA (Microtrac,9220FRA型,粒徑測定儀)測定。 實施例1 : 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 593761 A7 B7 五、發明説明(Μ) 氧化釔粒子水漿體之配製,係以含有聚乙烯醇1 5g溶解 其中之水15L,及平均粒徑1.1 β m之氧化釔粒子5kg,而其 鐵雜質含量以FuCh重量計之不超過0.5ppm,分散配製而成 。此水漿體使受顆粒化作用,噴入備有雙流體噴嘴之噴霧 造粒機,並乾燥成球狀顆粒後,在大氣下溫度1700°C鍛燒2 小時,即得氧化釔球狀顆粒之熱噴粉末。 如此製得之氧化釔球狀顆粒,以雷射-繞射測粒儀測定 之平均粒徑爲38/z m,粒徑分佈之分散指數爲0.57(從測粒資 料計算)。顆粒之BET比表面積爲1.5m2/g。將顆粒之一小部 分溶解於酸,並將酸溶液使用感應耦合電漿光譜法(ICP Spectro.Method)分析其FeaCh雜質含量,結果顆粒中Fe2〇3含 量以重量計爲lppm。 使用上述配製得之氧化釔顆粒作熱噴粉末,在以氬及 氫氣體混合物當電漿氣體之減壓電漿熱噴方法,形成在鋁 合金板支撐物上之氧化釔塗層厚爲210/zm。當塗層處理時 ,無遭遇由於噴嘴阻塞之困擾難題,且熱噴粉末之可利用 率高達40%。 氧化纪塗層之鋁合金板,被作爲抗腐鈾評鑑試驗,其 在反應性離子蝕刻儀中曝露16小時於四氟化碳電漿,在曝 露於電漿氛圍氣面積及貼附聚亞胺帶遮蔽、防止電漿氛圍 氣侵鈾面積間,量測雷射顯微鏡之水平差,測出其鈾刻率 爲2nm/min·。上面所得試驗資料摘要如表1。 實施例2 : 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) " ~ .14- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂
P 593761 A7 B7 五、發明説明(12) 氧化釔粒子水漿體之配製,係以含有羧甲基纖維素1 5g 溶解其中之水15L,及平均粒徑1.2 // m之氧化釔粒子5kg, 而其鐵雜質含量以Fe2〇3重量計之不超過0.5ppm,分散配製 而成。此水漿體使受顆粒化作用,噴入備有雙流體噴嘴之 噴霧造粒機,並乾燥成球狀顆粒後,在大氣下溫度150CTC 鍛燒2小時,即得氧化釔球狀顆粒之熱噴粉末。 使用實施例1相同方法,形成在鋁合金板支撐物上之氧 化釔塗層厚爲230 /z m。當塗層處理時,無遭遇噴嘴阻塞之 困擾難題,且熱噴粉末之可利用率爲45%。使用實施例1相 同方法量測氧化釔塗層之蝕刻率爲2nm/min.。此等試驗資料 摘要如表1 〇 實施例3 : 除了使用旋轉盤噴霧造粒機取代雙流體噴嘴噴霧造粒 機外,實質上氧化釔顆粒之配製程序,與上敘述實施例2相 同。顆粒之平均粒子直徑爲65 // m、分散指數0.62及BET比 表面積爲l.lm2/g。ICP光譜分析結果,顆粒中鐵雜質含量以 Fe2〇3重量計之爲3ppm。使用實施例2相同方法,形成在鋁合 金板支撐物上之氧化釔塗層厚爲200 //m。當塗層處理時, 無遭遇噴嘴阻塞之困擾難題,顆粒之可利用率爲41 %。使用 實施例1相同方法評鑑塗層之抗腐蝕,量測氧化釔塗層之蝕 刻率爲2nm/min.。此等試驗資料摘要如表1。 實施例4 : 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部智慧財產局員工消費合阼汪印製 593761 A7 _B7 五、發明説明(13) 氧化鏑粒子水漿體之配製,係以平均粒徑1.3 # m之氧 化鏑粒子5kg,其鐵雜質含量以Fe2〇3重量計之不超過0.5ppm ,在含有聚乙烯醇15g溶解其中之水15L中,分散配製而成 。此水漿體使噴入旋轉盤噴霧造粒機,並乾燥成球狀顆粒 後,在空氣中溫度1400°C鍛燒處理2小時,即得氧化鏑顆粒 ,作爲氧化鏑熱噴粉末使用。 顆粒之平均粒子直徑爲25/z m、分散指數0.68及BET比 表面積爲2.0m2/g。ICP光譜分析結果,顆粒中鐵雜質含量以 Fe2〇3重量計之爲2ppm。使用實施例2相同方法,形成在鋁合 金支撐物上之氧化鏑塗層厚爲230 /z m。無遭遇噴嘴阻塞之 任何困擾難題,顆粒之可利用率爲52%。使用實施例1相同 方法評鑑塗層之抗腐蝕,量測氧化鏑塗層之蝕刻率爲 3 n m / m i η.。此等試驗資料摘要如表1。 實施例5 : 釔鋁石榴石(YAG)粒子水漿體之配製,係以平均粒徑 1.3/zm之釔鋁石榴石粒子5kg,其鐵雜質含量以FuCh重量 計之不超過0.5ppm,在含有聚乙烯醇15g溶解其中之水15L 中,分散配製而成。在通過磁鐵去除器減低鐵雜質後,將 此水漿體噴入雙流體噴嘴之噴霧造粒機,並乾燥成球狀顆 粒後,在大氣下溫度170(TC鍛燒2小時,即得釔鋁石榴石顆 粒之熱噴粉末。 此顆粒以雷射-繞射測粒儀測定之平均粒徑爲32 // m, 粒徑分佈之分散指數爲0.52及顆粒之BET比表面積爲 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ~ ' (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
593761 A7 ____ B7 五、發明説明(14) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 2.1m2/g。ICP光譜分析結果,顆粒中鐵雜質含量以Fe2〇3重 量計之爲lppm。使用實施例2相同方法,形成在鋁合金支撐 物上之釔鋁石榴石熱噴塗層厚爲無遭遇噴嘴阻塞 之任何困擾難題,顆粒之可利用率爲52%。使用實施例1相 问方法評鑑塗層之抗腐飩,量測塗層之鈾刻率爲2nm/min.。 此等試驗資料摘要如表1。 實施例δ 除了以相同數量平均粒子直徑其鐵雜質含量 以Fe2Ch重量計之不超過〇.5ppm之砂酸鏡粒子取代紀鋁石榴 石外,實質上球狀顆粒形矽酸鏡(Yb2Si〇5)之熱噴粉末配製 程序,與上敘述實施例5相同。 經濟邹智慧財產%員工消費合阼T1印製 此顆粒以雷射-繞射測粒儀測定之平均粒徑爲40/zm, 粒徑分佈之分散指數爲0.60及顆粒之BET比表面積爲 1.3m2/g。ICP光譜分析結果,顆粒中鐵雜質含量以Fe2〇3重 量計之爲3ppm。使用實施例2相同方法,形成在鋁合金支撐 物上之矽酸鏡熱噴塗層厚爲210 /z m。無遭遇噴嘴阻塞之任 何困擾難題,顆粒之可利用率爲60%。使用實施例1相同方 法評鑑塗層之抗腐鈾,量測塗層之鈾刻率爲2nm/min.。此等 試驗資料摘要如表1 〇 比較例1 : 除了起始氧化釔粒子之平均粒子直徑0.9# m及其中鐵 雜質含量以Fe2Ch重量計之爲lOppm外,實質上作爲熱噴粉 17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇Χ297公釐) 593761 A7 B7 五、發明説明(15) 末氧化釔顆粒之配製程序,與實施例1相同。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此顆粒之平均粒徑爲45 // m,粒徑分佈之分散指數爲 0.60及BET比表面積爲2.0m2/g。顆粒中鐵雜質含量以Fe2〇3 重量計之爲12ppm。使用實施例1相同方法,形成在鋁合金 支撐物上之氧化釔熱噴塗層厚爲210/zm。無遭遇噴嘴阻塞 之任何困擾難題,顆粒之可利用率爲35%。使用實施例1相 同方法評鑑塗層之抗腐鈾,量測塗層之鈾刻率爲3 2 0 n m / m i η. 。此等試驗資料摘要如表1。.上述高蝕刻率値想必由於事實 上此塗層呈褐色斑點,顯出其鐵雜質局部集中,而蝕刻率 量測在斑點面積上所致。 比較例2 : 氧化釔粒子之熱噴粉末配製:爲將平均粒徑爲4 /ζ m之 氧化釔粒子固化熔化物,予以硏碎及粉磨,接著粒子大小 分級。如此配備之氧化釔粒子平均粒徑爲36 // m、分散指數 爲0.61,其中鐵雜質含量以Fe2Ch重量計之爲55ppm。 經濟部智慧財產局員工消費合泎钍印製 使用實施例1相同方法,形成在鋁合金支撐物上之氧化 釔熱噴塗層厚爲190 // m。當塗層處理時,無遭遇噴嘴阻塞 之任何困擾難題,且粉末之可利用率爲11 %。使用實施例1 相同方法量測氧化釔塗層之蝕刻率爲430nm/min.。此等試驗 資料摘要如表1。上述高蝕刻率値想必由於事實上此塗層呈 褐色斑點,顯出其鐵雜質之局部集中,而蝕刻率量測在斑 點面積上所致。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Μ規格(210X297公釐) 593761 A7 __B7 五、發明説明(16) 比較例3〜6 : 除了以三氧化二鋁、二氧化矽' 碳化矽及氮化矽各別 在比較例3、4、5及6取代氧化釔粒子外,在此等各個比較 例形成顆粒之熱噴粉末配製程序,實質上與實施例1相同。 表1顯示各個熱噴粉末之平均粒徑、它的分散指數及BET比 表面積。使用熱噴粉末形成熱噴塗層與實施例1方法相同, 無遭遇噴嘴阻塞之任何困擾難題。表1亦顯示在熱噴塗程序 的熱噴粉末之可利用率,及在此等各個比較例與實施例1相 同方法量測塗層之蝕刻率.。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財4笱員1:消費合汴^印說 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 593761
A
7 B 五、發明説明(17) 經濟邹智慧財4¾員工消費合阼注印說 塗層(膜) 平均粒徑 (Mm) 分散指數 t 匕 (m2/g) Fe2〇3 (ppm) 可利用率 (%) 蝕亥_ (nm/min) 實 1 Y2〇3 38 0.57 1.5 1 40 2 施 2 Yb2〇3 46 0.70 1.8 1 45 2 例 3 Yb2〇3 65 0.62 1.1 3 41 2 4 Dy2〇3 25 0.68 2.0 2 52 3 5 Y3AI5O12 32 0.57 2.1 1 52 2 6 Yb2Si〇5 40 0.60 1.3 3 60 2 比 1 Y2O3 45 0.60 2.0 12 35 320 較 2 Y2O3 36 0.61 0.1 55 11 430 例 3 AI2O3 60 0.47 1.6 35 20 4 Si〇2 43 0.49 2.5 — 32 88 5 SiC 72 0.50 3.5 42 143 6 S13N4 51 0.60 1.8 - 29 76 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 20- 593761 A7 B7 五、發明説明(18) 實施例7 : 氧化釔粒子水漿體之配製,係以含有聚乙烯醇1 5g溶解 其中之水16L ’及平均粒徑1.1 /z m之氧化釔粒子4kg,而其 鐵雜質含量以Fe2〇3重量計之不超過〇.5ρριη,攪拌下分散配 製而成。此水漿體,噴入噴霧造粒機,使氧化釔粒子受顆 粒化作用成球狀顆粒粒子組態後,在空氣中溫度丨600它鍛 燒2小時,即得球狀顆粒可用作熱噴粉末。 如此製得之熱噴粉末,以雷射-繞射測粒儀測定之D90 値爲38 // m,粉末之體密度爲1.16g/cm3,BET比表面積爲 1.2m2/g,累積孔體積爲〇.19cm3/g(具有孔半徑不超過1/z m之 孔,顆粒縱橫比爲1.10)。 粉末中雜質之分析,以ICP(感應耦合電漿光譜分析方 法)檢測分析鐵及鈣;AA(原子吸收光譜分析方法)檢測分析 鈉之結果:Fe2〇3爲3ppm、Ca〇爲3ppm、Na2〇爲4ppm。 此熱噴粉末,在以氬及氫氣體混合物當電漿氣體之減 壓電漿熱噴熔化方法,形成在鋁合金板之熱噴塗層厚爲160 /zm。當塗層處理時,無遭遇噴嘴阻塞之困擾難題,且熱噴 粉末之可利用率爲44%。如此製得之熱噴塗層依據】ISB0601 指定方法量測其表面粗糙度(SurfaceRoughness,Rmax)爲35 // m 實施例8 : 氧化鏡粒子水漿體之配製,係以含有羥丙基纖維素15g 溶解其中之水16L,及平均粒徑1·2 // m之氧化鏡粒子4kg, 本紙張尺度適用中國國家標準(cns ) a4規格(21〇 X297公釐) 91 _ — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 593761 A7 B7 五、發明説明(1g) 而其鐵雜質含量以Fe2〇3重量計之不超過〇.5ppm,攪拌下分 散配製而成。此水漿體,噴入噴霧造粒機,使氧化鏡粒子 受顆粒化作用成球狀顆粒粒子組態後,在空氣中溫度1 500 °C鍛燒2小時,即得球狀顆粒可用作熱噴粉末。 如此製得之熱噴粉末’以雷射-繞射測粒儀測定之D 9。 値爲46//m,粉末之體密度爲1.3g/cm3,BET比表面積爲 1.8m2/g,累積孔體積爲0.23cm3/g(具有孔半徑不超過1// m之 孔,顆粒縱橫比爲1.07)。 粉末中雜質之分析,以ICP(感應耦合電漿光譜分析方 法)檢測分析鐵及惩;A A (原子吸收光譜分析方法)檢測分析 鈉之結果:Fe2〇3爲lppm、Ca〇爲3ppm、Na2〇爲4ppm。 此熱噴粉末,在使用氬及氫氣體混合物當電漿氣體之 減壓電漿熱噴熔化方法,形成在鋁合金板之熱噴塗層厚爲 200 /zm。當塗層處理時,無遭遇噴嘴阻塞之困擾難題,且 熱噴粉末之可利用率爲45%。如此製得之熱噴塗層量測其表 面粗縫度(SurfaceRoughness,Rmax)爲 41/z m。 實施例9 : 氧化釔粒子水漿體之配製,係以含有羧甲基纖維素15g 溶解其中之水15L,及平均粒徑〇·9 # m之氧化釔粒子2kg, 而其鐵雜質含量以Fe2〇3重量計之不超過0.5ppm,攪拌下分 散配製而成。此水漿體,噴入噴霧造粒機’使氧化釔粒子 受顆粒化作用成球狀顆粒粒子組態後,在空氣中溫度丨650 °C鍛燒2小時,即得球狀顆粒可用作熱噴粉末。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X29?公釐) 22- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 ? 593761 A7 B7 五、發明説明(20) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 如此製得之熱噴粉末,測定其D9。値爲28 // m,粉末之 體密度爲l.lg/cm3,BET比表面積爲1.2m2/g,累積孔體積爲 0.09cm3/g(具有孔半徑不超過l//m之孔,顆粒縱橫比爲 1.03) ° 粉末中雜質之分析,以ICP(感應耦合電漿光譜分析方 法)檢測分析鐵及鈣;AA(原子吸收光譜分析方法)檢測分析 鈉之結果:FezCh爲3ppm、Ca〇爲3ppm、Na2〇爲4ppm。 此熱噴粉末,在使用氬及氫氣體混合物當電漿氣體之 減壓電漿熱噴熔化方法,形成在鋁合金板之熱噴塗層厚爲 200 /zm。當塗層處理時,無遭遇噴嘴阻塞之困擾難題,且 熱噴粉末之可利用率爲45%。如此製得之熱噴塗層,量測其 表面粗糙度(SurfaceRoughness,Rmax)爲 26/z m。 比較例7 : 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 氧化鏡粒子水漿體之配製,係以含有聚乙烯醇1 5g溶解 其中之水10L,及平均粒徑1.1 // m之氧化鏡粒子10kg,而其 鐵雜質含量以Fe2〇3重量計之不超過〇.5ppm,攪拌下分散配 製而成。此水漿體,噴入噴霧造粒機,使氧化鏡粒子受顆 粒化作用成球狀顆粒粒子組態後,在空氣中溫度1 60(TC鍛 燒2小時,即得球狀顆粒可用作熱噴粉末。 如此製得之熱噴粉末,其測定之D9〇値爲94 # m,粉末 之體密度爲l.lg/cm3,BET比表面積爲1.4m2/g,累積孔體積 爲0.21cm3/g(具有孔半徑不超過1/zrn之孔,顆粒縱橫比爲 1,02)。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 23- 593761 A7 B7 五、發明説明(2彳) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 粉末中雜質之分析,以ICP(感應耦合電漿光譜分析方 法)檢測分析鐵及鈣;A A (原子吸收光譜分析方法)檢測分析 鈉之結果:Fe2〇3爲3ppm、Ca〇爲2ppm、Na2〇爲5ppm。 此熱噴粉末,在以氬及氫氣體混合物當電漿氣體之減 壓電獎熱噴熔化方法,形成在絕合金板之熱噴塗層厚爲205 //m。當塗層處理時,無遭遇噴嘴阻塞之困擾難題,且熱噴 粉末之可利用率爲4 8 %。如此製得之熱噴塗層,量測其表面 粗糖度(SurfaceRoughness,Rmax)爲 88 /z m。 比較例8 : 用作熱噴粉末之氧化釔粉末配製:爲將氧化釔粉末熔 化所得之氧化釔塊,予以硏碎及粉磨,及固化熔化物後, 接著粒子大小分級。 如此所得之熱噴粉末,其測定之D9。値爲74 // m,粉末 之體密度爲2.1g/cm3,BET比表面積爲0.1m2/g,累積孔體積 爲0.0055cm3/g(具有孔半徑不超過1/zm之孔,粒子縱橫比爲 3.5)。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 粉末中雜質之分析,以ICP(感應耦合電漿光譜分析方 法)檢測分析鐵及鈣;AA(原子吸收光譜分析方法)檢測分析 鈉之結果·· FeiCh 爲 55ppm、Ca〇爲 40ppm、Na2〇爲 lOppm。 此熱噴粉末,使用氬及氫氣體混合物當電漿氣體之減 壓電漿熱噴熔化方法,形成在鋁合金板之熱噴塗層厚爲190 // m。如此製得之熱噴塗層,量測其表面粗糙度 (SurfaceRoughness,Rma〇爲 69/z m 〇 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 24- 經濟部智慧財產苟貞工消費合汴社印製 593761 A7 B7 五、發明説明(22) 摘要言之:實施例7〜9配製之各熱噴粉末,各個測定之 D9。値爲不超過60 // m,粉末之體密度爲不超過l.6g/cm3,累 積孔體積至少爲0.02m3/g及縱橫比爲不超過2。因此,此粉 末在熱噴塗層時展現優越的流動性,而不致遭遇熱噴嘴阻 塞之困擾難題,且電漿火燄中顆粒之熔化是很完全,確保 熱噴塗層之表面是非常平順的。此外,顯目的低雜質含量 ,係影響塗層抗腐蝕有利的因素,其針對以粒子物質產生 還原之電漿蝕刻,給與高抗腐蝕性。當塗層的物體是半導 體裝置或液晶顯示器裝置加工處理之機器或儀器的構件或 部品時,極高純度之熱噴塗層,是非常期待的。 對那相反地,比較例7配製的熱噴粉末,具有94 // m的 大 D9。値,結果產生熱噴塗層很大的表面粗糙度 (SurfaceRoughness,Rma〇値,其必定導至產生粒子物體在電 漿蝕刻處理程序中,表面具有極大的表面粗糙度値。此問 題在比較例8配製的熱噴粉末是更爲嚴重,因此由其形成之 熱噴塗層具有大的表面粗糙度,.顯現斑點,終於導致電漿 蝕刻處理程序中,塗層之局部腐鈾。 此外,實施例7〜9配製的熱噴塗層中雜質含量水平是如 此低,其塗層的物體是頗適用於作爲電子裝置加工處理設 備之構件或部品零件,而在加工處理時不致於導致材料的 污染。其塗層的物體有非常小的表面粗糙度,針對在電漿 蝕刻處理程序中有利的含鹵鈾刻氣體氛圍氣,具高的抗腐 蝕性,因爲只有大的表面粗糙度値’係導致產生粒子物質 在電漿鈾刻中,處理時產生材料的污染。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 25- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
Claims (1)
- 593761 r........ ! :γ>· 1Μ· η ,_ ^J)8 六、申請專利範圍 ^2: 第90 1 1 6050號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國93年4月29日修正 1. 一種用熱噴塗方法在支撐物表面形成的稀土化合物或 稀土基材組合物之熱噴塗層,該熱噴塗方法包含以下步驟 :在支撐物(受體)表面上噴塗稀土化合物或稀土基材組合物 粒子’此粒子係被火焰帶到該表面上,此粒子平均粒徑範 圍爲5〜80 // m,分散指數範圍爲〇·ΐ〜〇·7,BET比表面積範圍 爲1〜5m2/g,及作爲粒子中雜質的鐵之含量以氧化鐵重量計 爲不超過5ppm。 2·如申請專利範圍第1項之在支撐物表面形成的稀土化 合物或稀土基材組合物之熱噴塗層,其中,稀土化合物或 稀土基材組合物之粒子爲平均粒徑範圍0.05〜10 // m之原粒 子的顆粒。 3. 如申請專利範圍第1項之在支撐物表面形成的稀土化 合物或稀土基材組合物之熱噴塗層,其中,所用的火焰是 電漿火焰。 4. 如申請專利範圍第2項之在支撐物表面形成的稀土化 合物或稀土基材組合物之熱噴塗層,其中,稀土化合物或 稀土基材組合物之顆粒的平均粒徑範圍爲20〜80// m。 5. 如申請專利範圍第2項之在支撐物表面形成的稀土化 合物或稀土基材組合物之熱噴塗層,其中,稀土氧化物或 稀土基材組合氧化物之顆粒係由以下步驟配製:係將含有 黏合劑樹脂之水漿體中稀土化合物或稀土基材組合物的原 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X29?公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 l· 項再填寫本百 Φ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 593761 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 粒子’予以顆粒化作用成球狀顆粒形態,及在溫度範圍 UOOt〜180(TC鍛燒顆粒狀原粒子1〜10小時。 6·如申請專利範圍第5項之在支撐物表面形成的稀土化 合物或稀土基材組合物之熱噴塗層,其中,黏合劑樹脂之 數量範圍在0.1〜5wt.%間,以稀土化合物或稀土基材組合物 之數量計之。 7. 如申請專利範圍第1項之在支撐物表面形成的稀土化 合物或稀土基材組合物之熱噴塗層,其中,熱噴塗層厚度 範圍爲50〜500 // m。 8. —種由粒子組成的稀土化合物或稀土基材組合物之熱 噴塗用粉末,其特徵爲具有:粒子縱橫比不超過2之球狀粒 子構型; 粒徑分佈中粒徑値D9〇爲有90wt.%者不超過60// m ; 體密度不超過1.6g/cm3 ;及 對於具有孔半徑不超過1 # m之孔,其累積孔體積爲至 少 0.02cin3/g。 9. 如申請專利範圍第8項之稀土化合物或稀土基材組合 物之熱噴塗用粉末,其中,鐵族元素雜質含量,鹼金屬元 素及鹼土金屬元素含量,以氧化物重量計之,各均不超過 5ppm 〇 10. 如申請專利範圍第8項之稀土化合物或稀土基材組合 物之熱噴塗用粉末,其中,稀土化合物與稀土基材組合物 各別是稀土氧化物與稀土基材組合氧化物。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) --·--------^------訂----- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
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Cited By (2)
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Families Citing this family (90)
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---|---|---|---|---|
US6686045B2 (en) * | 2001-01-31 | 2004-02-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Composite fine particles, conductive paste, and conductive film |
US6916534B2 (en) | 2001-03-08 | 2005-07-12 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Thermal spray spherical particles, and sprayed components |
US6767636B2 (en) | 2001-03-21 | 2004-07-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Thermal spray rare earth oxide particles, sprayed components, and corrosion resistant components |
US6596397B2 (en) * | 2001-04-06 | 2003-07-22 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Thermal spray particles and sprayed components |
JP2003073794A (ja) | 2001-06-18 | 2003-03-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 耐熱性被覆部材 |
US7479304B2 (en) * | 2002-02-14 | 2009-01-20 | Applied Materials, Inc. | Gas distribution plate fabricated from a solid yttrium oxide-comprising substrate |
US6780787B2 (en) * | 2002-03-21 | 2004-08-24 | Lam Research Corporation | Low contamination components for semiconductor processing apparatus and methods for making components |
US7166200B2 (en) * | 2002-09-30 | 2007-01-23 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for an improved upper electrode plate in a plasma processing system |
JP3825737B2 (ja) | 2002-10-24 | 2006-09-27 | 住友重機械工業株式会社 | 精密位置決め装置及びこれを用いた加工機 |
KR101168422B1 (ko) * | 2002-11-20 | 2012-07-25 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 내열성 피복 부재의 제조 방법 |
JP3829935B2 (ja) * | 2002-12-27 | 2006-10-04 | 信越化学工業株式会社 | 高耐電圧性部材 |
EP1435501B1 (en) * | 2002-12-30 | 2006-02-22 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Heat-resistant coated member |
CN1705561A (zh) * | 2003-01-27 | 2005-12-07 | 东京毅力科创株式会社 | 改进紧固件的方法和设备 |
JP2004241203A (ja) * | 2003-02-04 | 2004-08-26 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理室壁処理方法 |
ES2464782T3 (es) * | 2003-02-25 | 2014-06-04 | A.L.M.T. Corp. | Placa metálica refractaria revestida con una capa de superficie de óxido, y soporte de carga para sinterización que la utiliza |
US20050112289A1 (en) * | 2003-03-03 | 2005-05-26 | Trickett Douglas M. | Method for coating internal surface of plasma processing chamber |
JP2004332081A (ja) * | 2003-05-12 | 2004-11-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 耐プラズマ部材及びその製造方法 |
JP4666575B2 (ja) * | 2004-11-08 | 2011-04-06 | 東京エレクトロン株式会社 | セラミック溶射部材の製造方法、該方法を実行するためのプログラム、記憶媒体、及びセラミック溶射部材 |
JP4560387B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2010-10-13 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用粉末、溶射方法及び溶射皮膜 |
US7552521B2 (en) * | 2004-12-08 | 2009-06-30 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for improved baffle plate |
US7601242B2 (en) * | 2005-01-11 | 2009-10-13 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing system and baffle assembly for use in plasma processing system |
US20060225654A1 (en) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Fink Steven T | Disposable plasma reactor materials and methods |
US7527832B2 (en) * | 2005-04-27 | 2009-05-05 | Ferro Corporation | Process for structuring self-cleaning glass surfaces |
US7666494B2 (en) * | 2005-05-04 | 2010-02-23 | 3M Innovative Properties Company | Microporous article having metallic nanoparticle coating |
US7935540B2 (en) * | 2005-07-14 | 2011-05-03 | 3M Innovative Properties Company | Water-soluble polymeric substrate having metallic nanoparticle coating |
KR20080028498A (ko) * | 2005-08-22 | 2008-03-31 | 도카로 가부시키가이샤 | 열방사 특성 등이 우수한 용사 피막 피복 부재 및 그 제조방법 |
JP4555865B2 (ja) * | 2005-08-22 | 2010-10-06 | トーカロ株式会社 | 耐損傷性等に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 |
JP4571561B2 (ja) * | 2005-09-08 | 2010-10-27 | トーカロ株式会社 | 耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 |
TW200728503A (en) * | 2005-09-30 | 2007-08-01 | Fujimi Inc | Thermal spray coating |
DE102006046517A1 (de) | 2005-09-30 | 2007-05-03 | Fujimi Incorporated, Kiyosu | Thermisches Spritzpulver und Verfahren zur Ausbildung einer thermischen Spritzbeschichtung |
US8017230B2 (en) | 2005-10-31 | 2011-09-13 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Ceramic powders and thermal barrier coatings made therefrom |
JP2007126712A (ja) * | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Fujimi Inc | 溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法 |
JP4630799B2 (ja) * | 2005-11-02 | 2011-02-09 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法 |
US7850864B2 (en) * | 2006-03-20 | 2010-12-14 | Tokyo Electron Limited | Plasma treating apparatus and plasma treating method |
US20080032065A1 (en) * | 2006-03-30 | 2008-02-07 | High Performance Coatings, Inc. | Methods for coating engine valves with protective coatings using infrared radiation |
JP5159634B2 (ja) * | 2006-12-07 | 2013-03-06 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | ウォームスプレーコーティング方法とその粒子 |
US20080241377A1 (en) * | 2007-03-29 | 2008-10-02 | Tokyo Electron Limited | Vapor deposition system and method of operating |
US9157152B2 (en) * | 2007-03-29 | 2015-10-13 | Tokyo Electron Limited | Vapor deposition system |
US10622194B2 (en) | 2007-04-27 | 2020-04-14 | Applied Materials, Inc. | Bulk sintered solid solution ceramic which exhibits fracture toughness and halogen plasma resistance |
US10242888B2 (en) | 2007-04-27 | 2019-03-26 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing apparatus with a ceramic-comprising surface which exhibits fracture toughness and halogen plasma resistance |
KR100868093B1 (ko) * | 2007-05-28 | 2008-11-10 | 주식회사 포스코 | 원심주조법을 이용한 허스롤 제조 방법 |
US20090226614A1 (en) * | 2008-03-04 | 2009-09-10 | Tokyo Electron Limited | Porous gas heating device for a vapor deposition system |
US8291856B2 (en) * | 2008-03-07 | 2012-10-23 | Tokyo Electron Limited | Gas heating device for a vapor deposition system |
BRPI0909979A2 (pt) * | 2008-06-10 | 2015-10-27 | Nippon Steel Hardfacing | rolo de aquecimento e material de pulverização térmica |
US20100272982A1 (en) * | 2008-11-04 | 2010-10-28 | Graeme Dickinson | Thermal spray coatings for semiconductor applications |
EP2191809A1 (en) * | 2008-11-27 | 2010-06-02 | 3M Innovative Properties Company | Dental ceramic article, process for production and use thereof |
US8450552B2 (en) | 2009-05-18 | 2013-05-28 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Pyrolysis reactor materials and methods |
US8272347B2 (en) * | 2009-09-14 | 2012-09-25 | Tokyo Electron Limited | High temperature gas heating device for a vapor deposition system |
CN102137554A (zh) * | 2010-01-26 | 2011-07-27 | 深圳富泰宏精密工业有限公司 | 电子装置外壳及其制作方法 |
US9139910B2 (en) | 2010-06-11 | 2015-09-22 | Tokyo Electron Limited | Method for chemical vapor deposition control |
US8852347B2 (en) | 2010-06-11 | 2014-10-07 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for chemical vapor deposition control |
US20120183790A1 (en) * | 2010-07-14 | 2012-07-19 | Christopher Petorak | Thermal spray composite coatings for semiconductor applications |
US20130032529A1 (en) * | 2011-02-07 | 2013-02-07 | Molycorp Minerals, Llc | Rare earth-containing filter block and method for making and using the same |
US9034199B2 (en) | 2012-02-21 | 2015-05-19 | Applied Materials, Inc. | Ceramic article with reduced surface defect density and process for producing a ceramic article |
US9212099B2 (en) | 2012-02-22 | 2015-12-15 | Applied Materials, Inc. | Heat treated ceramic substrate having ceramic coating and heat treatment for coated ceramics |
US20130288037A1 (en) * | 2012-04-27 | 2013-10-31 | Applied Materials, Inc. | Plasma spray coating process enhancement for critical chamber components |
US9343289B2 (en) | 2012-07-27 | 2016-05-17 | Applied Materials, Inc. | Chemistry compatible coating material for advanced device on-wafer particle performance |
FR2998561B1 (fr) * | 2012-11-29 | 2014-11-21 | Saint Gobain Ct Recherches | Poudre haute purete destinee a la projection thermique |
US9865434B2 (en) | 2013-06-05 | 2018-01-09 | Applied Materials, Inc. | Rare-earth oxide based erosion resistant coatings for semiconductor application |
US9850568B2 (en) | 2013-06-20 | 2017-12-26 | Applied Materials, Inc. | Plasma erosion resistant rare-earth oxide based thin film coatings |
US9583369B2 (en) | 2013-07-20 | 2017-02-28 | Applied Materials, Inc. | Ion assisted deposition for rare-earth oxide based coatings on lids and nozzles |
US20150079370A1 (en) * | 2013-09-18 | 2015-03-19 | Applied Materials, Inc. | Coating architecture for plasma sprayed chamber components |
US9725799B2 (en) | 2013-12-06 | 2017-08-08 | Applied Materials, Inc. | Ion beam sputtering with ion assisted deposition for coatings on chamber components |
US9869013B2 (en) | 2014-04-25 | 2018-01-16 | Applied Materials, Inc. | Ion assisted deposition top coat of rare-earth oxide |
EP3190205A4 (en) | 2014-09-03 | 2017-10-11 | Fujimi Incorporated | Slurry for thermal spraying, thermal sprayed film and thermal sprayed film formation method |
KR101865232B1 (ko) * | 2015-02-10 | 2018-06-08 | 닛폰 이트륨 가부시키가이샤 | 성막용 분말 및 성막용 재료 |
JP6578106B2 (ja) | 2015-02-24 | 2019-09-18 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用粉末 |
JP6384536B2 (ja) | 2015-10-23 | 2018-09-05 | 信越化学工業株式会社 | フッ化イットリウム溶射材料及びオキシフッ化イットリウム成膜部品の製造方法 |
CN105235310A (zh) * | 2015-10-30 | 2016-01-13 | 申文明 | 一种抗腐蚀的复合板 |
CN105603352B (zh) * | 2016-01-15 | 2018-07-24 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | Al2O3/YAG非晶/共晶复合陶瓷涂层及其制备方法 |
JP6443380B2 (ja) * | 2016-04-12 | 2018-12-26 | 信越化学工業株式会社 | イットリウム系フッ化物溶射皮膜、及び該溶射皮膜を含む耐食性皮膜 |
CN105755423B (zh) * | 2016-04-14 | 2019-04-30 | 航天材料及工艺研究所 | 一种抗氧化涂层及其制备方法 |
KR101935380B1 (ko) * | 2016-05-17 | 2019-01-07 | 마이크로크래프트코리아 주식회사 | 잉크젯용 수지 조성물의 제조방법 |
KR102459191B1 (ko) | 2016-07-14 | 2022-10-26 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 서스펜션 플라스마 용사용 슬러리, 희토류산 불화물 용사막의 형성 방법 및 용사 부재 |
WO2018052129A1 (ja) | 2016-09-16 | 2018-03-22 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用材料 |
TWI733897B (zh) | 2016-09-16 | 2021-07-21 | 日商福吉米股份有限公司 | 熔射用材料 |
RU2646299C2 (ru) * | 2016-11-18 | 2018-03-02 | Общество с ограниченной ответственностью "ТСО материалы" | Материал для газотермического нанесения, способ его изготовления и способ его нанесения |
CN109954885A (zh) * | 2017-12-25 | 2019-07-02 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种增材制造用复合粉末及其制备方法 |
FR3077287B1 (fr) * | 2018-01-31 | 2023-09-22 | Saint Gobain Ct Recherches | Poudre pour revetement de chambre de gravure |
US11047035B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-06-29 | Applied Materials, Inc. | Protective yttria coating for semiconductor equipment parts |
JP7147675B2 (ja) | 2018-05-18 | 2022-10-05 | 信越化学工業株式会社 | 溶射材料、及び溶射部材の製造方法 |
JP7156203B2 (ja) * | 2018-08-10 | 2022-10-19 | 信越化学工業株式会社 | サスペンションプラズマ溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法 |
JP6939853B2 (ja) * | 2018-08-15 | 2021-09-22 | 信越化学工業株式会社 | 溶射皮膜、溶射皮膜の製造方法、及び溶射部材 |
EP3640229B1 (en) * | 2018-10-18 | 2023-04-05 | Rolls-Royce Corporation | Cmas-resistant barrier coatings |
US11236023B2 (en) | 2018-11-07 | 2022-02-01 | Honeywell International Inc. | Method of forming a protective coating on a surface of a ceramic substrate |
JP7331762B2 (ja) * | 2019-04-12 | 2023-08-23 | 信越化学工業株式会社 | 溶射材料、その製造方法、及び溶射皮膜の形成方法 |
CN110903719A (zh) * | 2019-11-25 | 2020-03-24 | 杨腾跃 | 一种用于钢铁材料表面防护的稀土金属涂层及其制备方法 |
CN110904361B (zh) * | 2019-12-16 | 2020-10-30 | 北京君山表面技术工程有限公司 | 等离子喷涂用镍基合金复合粉末及熔覆涂层的制备方法 |
CN114231879B (zh) * | 2021-12-17 | 2023-02-03 | 武汉苏泊尔炊具有限公司 | 热喷涂粉末、其制备方法以及防腐蚀涂层 |
CN115325851B (zh) * | 2022-07-01 | 2024-04-12 | 杭州三花研究院有限公司 | 换热器及其制造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4590090A (en) * | 1982-07-28 | 1986-05-20 | General Electric Company | Method for making interdiffused, substantially spherical ceramic powders |
EP0167723A1 (en) * | 1984-05-02 | 1986-01-15 | The Perkin-Elmer Corporation | Zirconium oxide powder containing zinc oxide and yttrium oxide |
US4645716A (en) * | 1985-04-09 | 1987-02-24 | The Perkin-Elmer Corporation | Flame spray material |
DE3543802A1 (de) * | 1985-12-12 | 1987-06-19 | Bbc Brown Boveri & Cie | Hochtemperatur-schutzschicht und verfahren zu ihrer herstellung |
JPH0757690B2 (ja) * | 1989-06-16 | 1995-06-21 | 信越化学工業株式会社 | 希土類酸化物充実球状粒子の製造方法 |
JPH05320860A (ja) | 1992-05-18 | 1993-12-07 | Tosoh Corp | 溶射用ジルコニア粉末 |
JPH06142822A (ja) * | 1992-11-09 | 1994-05-24 | Kawasaki Steel Corp | 高融点活性金属鋳造用鋳型の製造方法 |
US6447937B1 (en) * | 1997-02-26 | 2002-09-10 | Kyocera Corporation | Ceramic materials resistant to halogen plasma and components using the same |
EP0990713B1 (de) * | 1998-09-07 | 2003-03-12 | Sulzer Markets and Technology AG | Anwendung eines thermischen Spritzverfahrens zur Herstellung einer Wärmedämmschicht |
TW503449B (en) * | 2000-04-18 | 2002-09-21 | Ngk Insulators Ltd | Halogen gas plasma-resistive members and method for producing the same, laminates, and corrosion-resistant members |
-
2001
- 2001-06-25 DE DE60127035T patent/DE60127035T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-25 EP EP01401676A patent/EP1167565B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-25 EP EP05291531.1A patent/EP1642994B8/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-28 KR KR1020010037364A patent/KR100612796B1/ko active IP Right Grant
- 2001-06-29 US US09/893,565 patent/US6576354B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-29 CN CNB011259418A patent/CN1201030C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-29 TW TW090116050A patent/TW593761B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-04-28 US US10/423,903 patent/US6733843B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI427188B (zh) * | 2006-10-31 | 2014-02-21 | Fujimi Inc | 熱噴塗粉末、形成熱噴塗塗層之方法、以及耐電漿侵蝕之構件 |
TWI472647B (zh) * | 2006-10-31 | 2015-02-11 | Fujimi Inc | 熱噴塗粉末及形成熱噴塗塗層之方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6576354B2 (en) | 2003-06-10 |
US20030203120A1 (en) | 2003-10-30 |
US6733843B2 (en) | 2004-05-11 |
US20020018902A1 (en) | 2002-02-14 |
KR100612796B1 (ko) | 2006-08-17 |
EP1642994A2 (en) | 2006-04-05 |
DE60127035D1 (de) | 2007-04-19 |
EP1167565B1 (en) | 2007-03-07 |
EP1167565A2 (en) | 2002-01-02 |
CN1201030C (zh) | 2005-05-11 |
KR20020001650A (ko) | 2002-01-09 |
EP1642994B1 (en) | 2016-12-21 |
EP1642994B8 (en) | 2017-04-19 |
EP1642994A3 (en) | 2008-03-19 |
CN1342782A (zh) | 2002-04-03 |
DE60127035T2 (de) | 2007-11-08 |
EP1167565A3 (en) | 2002-02-20 |
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