TW565834B

TW565834B - Optical recording medium

Info

Publication number: TW565834B
Application number: TW091100007A
Authority: TW
Inventors: Goro Fujita; Tetsuhiro Sakamoto
Original assignee: Sony Corp
Priority date: 2001-01-09
Filing date: 2002-01-02
Publication date: 2003-12-11
Also published as: CN1455920A; EP1267336A1; US20040076111A1; EP1267336A4; JP2002208186A; US7038998B2; WO2002056308A1; KR20020079981A

Description

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技術領域· 本=係有關光學記錄媒體（以下亦稱光碟），尤其是有關可咼被度記.錄的光學記錄媒體。 ” ’、背景技術 ^ 近年來，隨動晝、靜止書箄禎次 ^ a +一、 ^貝料記錄成數位之技術的务展，可處理大容量的資料，大 nvn^ ^ ^ ^ m 里5己錄裝置之CD及 4先碟裝置深受嘱目，進—步促進大容量化的研究。圖1A係一種先前光碟的剖面圖。在厚度社2 mm之透光性碟形基板__ 15a，在該面上形成有依序堆疊如 ) 有苒折且电；丨負膜、記錄膜、電介貝膜、反射膜等的光學記錄層16。狀 < 構造及層數依記錄材料的種類及設計而定。亚在光學記錄層16的上層形成有保護層17。記錄或重現上述光碟時，係自碟形基板15對光學記錄層 16照射特定波長的雷射光等光線。光碟重現時，被光學記錄層16反射的回射光，被收光元件收光，#由信號處理電路產生特定信號，並輸出重現信號。上述之光碟因應設置在碟形基板15之一個表面上的溝 ba，光學記錄層16亦具有凹凸形狀，追蹤區域被該溝 15a區分〇以下，將自碟形基板15觀察之向保護層17突出成凸狀的區域稱之為地面L，將凹部區域稱之為槽G。上述被區分之地面L與槽G内，因應光碟的設計，選擇任 -4 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 x 297公釐) 區域或其兩區域作為記錄區域㈣顯示如僅使用地面L區域作為記錄區域，槽G區域則用作區分追蹤區域之區域來佈局光碟的剖面圖。 ' 此外，其他光碟亦有僅使用槽G區域作為記錄區域，而將地面L區域用作區分追蹤區域的區域來佈局等。再者’為提高面記錄密度’亦開發出使用地面L與槽〇兩個區域作為記錄區域之地面、槽記錄的佈局等， —此係藉由同時使用地與槽G兩者，將妨礙追縱方向高密度化之光學性調制轉移功能(Mtf; m— Transfer —η)之伺服信號衰減作為產生追縱錯誤信號週期之數倍槽間距的記錄追蹤，以因應高記錄密度化。此外’深度調制記錄佈局係交替配置又深度不同的槽，將產ί追蹤錯誤信號的週期延長兩％，延伸光學限度，以因應南記錄密度化。另外，亦可形成使構成形成於碟形側面形成之字形（蛇行）的槽。基板15上之溝15 a之内如具有小型光碟_)的佈局，如圖1B所示，僅使用地面 L區域作為記錄區域’槽〇區域則用作區分追蹤區域的區域 ’形成交替S己置形成擺動W之槽G，與未形成擺㈣，而内側面延伸成直線狀之槽G的佈局。陣電路寺檢測用於控時脈等。在擺動内記錄層上不需要位址資自上述擺動W，藉由特定之擺動矩制追縱之位址資訊及光碟旋轉速度的錄位址資訊等時，地面及槽之光學記 Λ ’可提南該部分的記錄密度。 -5- 565834

上述的擺動亦可適用於上述地面、槽記錄佈局及深度調制記錄佈局。但是，由於妨礙光學MTF干擾鄰接追蹤資訊，雖曾考虑上述地面、槽記錄佈局在地面、槽範圍的其中一個壁面形成擺動，或是，深度調制記錄佈局以槽之深度週期相同之特定週期配置包含擺動的槽週期，但是有關擺動的配置並然限定，在主要步驟、成形步驟及成膜步驟等製造處理上 ’尚不瞭解有關包含適切配置之擺動的光碟。發明之揭示有鑑於上述的狀況，本發明之目的在提供一種地面、槽記錄佈局及深度調制記錄佈局等地面與槽範圍内的一部分包含擺動的光學記錄媒體，其特徵為於製造處理上包含適切配置的擺動。為求達成上述目的，本發明之光學記錄媒體包含：在表面形成有溝，包含被該溝就各追蹤區域區分成之凸部與凹部的概略®盤狀碟形基板；形成於上述溝形成面上之上述碟形基板上，&含因應上述溝之凹凸形狀的先學記錄層；及形成於上述光學記錄層上的保護膜；構成上述溝之相對的對側壁内，自上述凹部觀察為上述碟形基板的内周側自上述凸σ卩觀察，在上述碟形基板之外周側側壁部形成有擺動。上述本發明t光學記錄媒體的上述擺動宜至少提供時脈資訊或位址資訊。上述本舍明之光學記錄媒體之被區分成上述各追縱區域 -6 - 565834 A7

之凸部與凹部的上述光學記錄層均宜用作記錄區域。上述本發明之光學記錄媒體中，上述碟形基板宜為自包含與被上述溝所區分之凸部與凹部圖案相反圖案之凹凸= 模轉印該凹凸圖案的樹脂製基板。 μ 上述本發明之光學記錄媒體係於表面形成有溝，包含被該溝就各追蹤區域區分成之凸部與凹部的概略圓盤狀碟形基板上，堆疊有包含因應上述溝之凹凸形狀的光學記錄層與保護膜，將上述凸部（地面）與凹部（槽）的兩區域作為記錄區域的佈局等，其特徵為構成上述溝之相對的一對側壁内，自凹部（槽）觀察為碟形基板的内周側，自凸部（地面）=察，在碟形基板的外周側側壁部形成有提供時脈資訊或位2 資訊的擺動。由於地面、槽記錄佈局等之光學記錄媒體，自包含與被溝所區分之凸部與凹部圖案相反圖案之凹凸原模轉印該凹凸圖案的碟形基板成形時，自凹部（槽）觀察為碟形基板的外周側，自凸部（地面）觀察，碟形基板内周側的側壁部容易受到損傷，因此在此處設置擺動時可能造成擺動信號的品質降低此外’在上述部分设置擺動時，可能擄大於寫入地面時刪除擺動信號，或反之，於寫入擺動時刪除地面信號等刪除寫入的問題。另外’從凹部（槽）觀察為碟形基板的内周側，從凸部（地面）觀祭’碟形基板外周側的側壁部不容易受到碟形基板成形時的損傷，可防止於此處設置擺動時造成擺動信號的品質降低，此外，可抑制刪除寫入問題擴大。本紙張尺度適用中國國家操準(CNS) Α4規格(21〇Χ297公釐) 5 五、發明説明（亦即，在地面、槽記錄佈局等之地面與槽範圍内的一部分包含擺動的光學記錄媒體形成，在製造處理上，擺動被適切配置的光學記錄媒體。此外，為求達成上述目的，本發明之光學記錄媒體包含 :在表面上形成有深度不同的數種溝，並包含被該溝就各追蹤區域區分成之凸部與凹部的概略圓盤狀碟形基板；形成於上述溝形成面上之上述碟形基板上，包含因應上述溝之凹凸形狀的光學記錄層；及形成於上述光學記錄層上的保護膜，·上述深度不同之數種溝内，在較淺之溝的側壁部形成有擺動。上述本發明之光學記錄媒體，宜在上述碟形基板上形，有第一深度之第一溝與比第—深度較深之第三深度的第二溝來形成上述溝，在上述第一溝的側壁部形成有上述擺動。上述本發明之光學記錄媒體的上述擺動宜至少提供時脈資訊或位址資訊。上述本發明之光學記錄媒體之被區分成上述各追蹤區域之凸部與凹部之上述光學記錄層内之任何一個區域宜用作 s己錄區域。上述本發明之光學記錄媒體中，上述碟形基板宜為自包含與被上述溝所區分之凸部與凹部圖案相反圖案之凹凸原模轉印該凹凸圖案的樹脂製基板。，上述本發明之光學記錄媒體係於表面形成有深度不同的數種溝’包含被該溝區分成各追蹤區域之凸部與凹部的概本紙張尺度適用中國國家樣準(CNS) Α4·(21〇 Χ 297^^) 、發明説明（略圓盤狀碟形基板上，八的it n @ b 且有13 口應上述溝之凹凸形狀 =; 護膜，將上述凸部（地面）與凹部（槽）的任 ::域作為記錄區域的佈局等，其特徵為在深度不同 /内，於較淺之溝的侧壁部形成有擺動。二：：成！成有第一深度之第-溝與比第-議深之第 X的第一溝’作為設置於碟形基板的溝，在第一溝的側壁部形成有擺動。、、由於深度調制記錄佈局等之光學記錄媒體，自包含與被冓斤區刀《凸部與凹部圖案相反圖案之凹凸原模轉印該凹与圖案的碟形基板成形日寺，較深之溝的側壁部容易受到損明口此在此處5又置擺動時可能造成擺動信號的品質降低此外纟上述部分設置擺動時，可能造成擺動信號的品質降低。另外’較淺之溝的側壁部不容易受到碟形基板成形時的損傷，因此在此處設置擺動時，彳防止擺動信號的品質降低。亦即，在深度調制記錄佈局等之地面與槽範圍内的一部分包含擺動的光學記錄媒體形成，在製造處理上，擺動被適切配置的光學記錄媒體。圖式之簡單說明圖1A係先前之光碟的剖面圖，圖1β係顯示區分地面與槽之溝形狀及配置的光碟平面圖。圖2Α係第一種實施形態之光碟的斜視圖，圖2β係圖2八中之X — X’的剖面圖。 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4规格(210X297公董Υ 565834

A7 B7 發明説明（圖3A係顯示相當於圖2B中之Yl部之放大圖之剖面構造及光線照射方法的模型圖，圖3B係顯示區分地面與槽之溝形狀及配置的光碟平面圖。圖4A〜圖4H係顯示第一種實施形態之光碟製造方法之製造步驟的剖面圖，圖4A顯示形成光碟原盤的步驟，圖化顯示曝光及顯像步驟，圖4C顯示形成硬掩膜步驟，圖4D顯示形成母盤步驟’圖4E顯示形成原模步驟，圖4F顯示形成碟形基板步驟，圖4G顯示形成光學記錄層步驟，圖4H顯示形成保護層步驟。圖5係第一種實施形態之曝光裝置（切割機）的模型構造圖6A係進行第-種實施形態之曝光處理時的模型圖，圖 6B係曝光處理時使用之雷射光束的光強度分布，圖㈣曝光及顯像步驟後之光碟原盤的剖面圖，圖㈣碟形基板纪剖面圖。圖7A係進行第一種實施形態之光學記錄層之成膜處則的換型圖，圖錢步驟後之剖面圖，圖7_ 入能力的抖動。圖8A係顯示形成第一種實施形態之碟形基板之步驟的模型剖面圖’請係起模時之相當於圖8八大圖。 3 I W & 八=第二種實施形態之光碟的剖面圖，圖㈣顯示區刀地面與槽之溝形狀及配置的光碟平面圖。圖_系顯示形成第二種實施形態之碟形基板步驟的模

•10- A7 B7 五、發明説明（8 ) 型剖面圖’圖10 B係起模時之相當.於圖1〇A中之γ4部的放大圖。發明之最佳實施形態以下，麥照圖式詳細說明本發明的實施形態。實施形| 圖2Α係本實施形態之光碟的斜視圖，圖2β係圖2Α中之X X的剖面圖。光碟1包含碟形基板15、光學記錄層丨6及保護層17的疊層體’並包含中心部包含開孔部的概略圓盤形狀。圖3Α係顯示相當於圖2Β中之I部之放大圖之剖面構造及光線照射方法的模型圖。圖式的右側為光碟的内周側，左側為外周側。在厚度D1為M〜L2 mm之碟形基板15的一個表面設有溝 1 ，該面上形成有依序堆疊電介質膜、記錄膜、電介質膜、反射膜等的光學記錄層1 6。膜構造及層數依記錄材料之種類及設計而定。在光學記錄層16的上層形成有保護層17。上述光碟之光學記錄層16因應溝15 a形成凹凸形狀，並將追蹤區域區分成自碟形基板15觀察向保護層17突出成凸狀之區域的地面L與凹部區域的槽g。本貫施形悲如使用地面L及槽G兩個區域作為記錄區域。圖3B係顯示上述光碟中區分地面L與槽G之溝i5a形狀及配置的光碟平面圖，並相當於圖3A所示之剖面圖之光碟的上面圖。圖式右側為光碟的内周側，左側為外周側。 -11 - 565834 A7 B7

構成上述溝15a之相對的一對側壁内，自槽G觀察為碟形基板的内周側，自地面L觀察，在碟形基板外周側的側壁部形成有提供時脈資訊或位址資訊的擺動w。本實施形態之光碟可藉由包含一般構造的光碟裝置實施圯錄或重現，實施記錄或重現時，如圖3 A所示，係重現用或兄錄用的雷射光束LB藉由對物透鏡的〇L等聚光，穿透透光性的碟形基板15，對上述構造之光碟的光學記錄層“進行照射。重現時，被光學記錄層所反射之回射光被收光元件收光 ’藉由信號處理電路產生特定信號，並輸出重現信號。亦即，自接收反射光所獲得之收光信號，藉由各種特定之矩陣電路等檢測出如因像散像差法之聚焦誤差信號及因差動推挽法之追蹤誤差信號等伺服誤差信號、叮信號以及與光碟旋轉同步之時脈信號及用於進行位址檢測等的擺動信號。以下說明上述之本實施形態之光碟的製造方法。首先，如圖4A所#，準備在玻璃基板1〇上形成有光阻膜 11的光碟原盤。繼續，如圖4B所示，#由雷射光束或電子束等，以使形成碟形基板之溝區域感光的圖案進行光阻膜丨丨的曝光，實施顯像處理，形成將碟形基板之溝區域予以開孔之圖案的光阻膜11 a。該曝光步驟係將光阻膜na實施圖案加工，使最後之光碟的構造，如上述的自槽G觀察為碟形基板的内周側，自地面 •12- 五、發明説明（1〇 ) L觀察，在碟形基板的外周側側壁部形成有擺動w圖案。 ”繼續，如圖4C所示，如使用銀電錢處理及其他成膜處理寺，在上述玻璃基板1G上之光阻膜Ua上形成硬掩膜12。硬掩膜12的表面轉印有與玻璃基板1〇及光阻膜⑴所構成之圖案之凹凸相反圖案的凹凸。繼續’如圖4D所示’在上述硬掩膜12上形成母盤"。在母盤13表面轉印有與硬掩膜12之表面凹凸相反圖案的凹凸。圖式上，硬掩膜12位於下方，並與圖化上下顛倒描繪。繼續，如圖4E所示，在上述母盤13上形成原模14。在原杈14的表面轉印有與母盤13之表面凹凸相反圖案的凹凸。圖式上，母盤13位於下方，並與圖4〇上下顛倒描繪。繼續，如圖4F所示，如藉由壓縮成形法、射出成形法或光聚合2P(Photo Polymarization)法等，在上述原模u的凹凸圖案上形成聚碳酸酯等樹脂製基板的碟形基板15。碟形基板15上轉印有與原模14之表面凹凸相反圖案之凹凸所形= 的溝l：>a。圖式上，原模14位於下方，並與圖4E上下顛倒描緣。藉由上述步驟，可形成包含與以圖4B所示之步驟所形成之光阻膜1 la構成之開孔部圖案相同圖案的溝，亦即，可彤成包含自槽G觀察為碟形基板内周側，自地面匕觀察，在碟形基板外周側的側壁部形成有擺動w之圖案之溝的碟形美板。繼續，如圖4G所示，如藉由濺射法等，依序形成包含電介質膜、記錄層、電介質膜、反射膜之疊層體的光學兒錄本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公爱) -13- A7 B7 五、發明説明（” 層16。繼續，如圖4H所示，在光學記錄層16的上層形成保 17。曰如上所述的可製造圖2A、圖2：8、圖3A及圖3B所示之構造的光碟。 ° 上述光碟之提供時脈資訊或位址資訊的擺動w，形成在構成溝15a之相對的一對側壁内，自槽G觀察為碟形基板的内周側’自地面L觀察為碟形基板外周側的側壁部上。藉此了防止擺動#號的品質降低，且可抑制刪除寫入問題的擴大，在製造處理上，形成擺動被適切配置的光碟 ’其理由說明如下：圖5係一種上述圖4B所示之光阻膜曝光步驟中使用之曝光裝置（切割機）的概略構造圖。自氦一編雷射等雷射光源30射出的雷射光束Lb被半反射鏡：1a分吾彳成第一雷射光束lb 1與第二雷射光束[β 2。穿透半反射鏡31a之第一雷射光束LB1經由反射鏡31b及反射鏡31c，射入光束組合器33内。另外，被半反射鏡3 la所反射之第二雷射光束lB2則經由反射鏡31d、聲光元件32、反射鏡31e，射入光束組合器33 内。第一雷射光束LB1與第二雷射光束LB2在光束組合器33中結合，被反射鏡3 If反射，並導入在玻璃基板1〇上形成有光阻膜11的光碟原盤34，供曝光處理。上述構造之聲光元件32可抑制第二雷射光束LB2之光軸 -14- 本紙杀尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公爱) 五、發明説明（12 , 以微小角度擺動等。圖6A係藉由上述之第一雷射光束山與第二雷射光束lb2 進行曝光處理'時的模型圖。藉由使上述第田射光束LBl與第二雷射光束LB2重疊，將光阻膜上之槽形成區域R。予以曝光，而在地面形成㈣上不照射雷射光束。時备對光阻臈實施圖案曝光，以使得槽形成區域與地面形成區域、之範圍内’最後光碟之構造中，如上述的自槽G觀察為碟形基板的内周側，自地面[觀察，在碟形基板外周側之側壁部形成有擺動…的圖案。亦即，上述第-雷射光束LB1未擺動而被掃描，描㈣田射光束LB 1光點頂端部未形成有擺動之槽形成區域％與地面形成區域~的範圍，另外，第二雷射光束LB2藉由配置於圖5所示之曝光裝置之第二雷射光束之光杨上的聲光元 ^周制’在對行進方向垂直的方向上少許擺動進行掃晦，來也繪弟二雷射光束LB2光點頂端部形成有擺_之槽形成區域Rg與地面形成區域RL的範圍。藉由將如此曝光之光阻膜予以顯像，如上述的可形成包含擺動之圖案的光阻膜圖案。圖6B係顯示上述第一雷射光束LB1與第二雷射光束⑻的先強度分布，其中縱轴表示光強度，橫轴表示位置。 ,第二雷射光束LB2被調製’因比第一雷射光束⑻傾斜而形成彗形像差，並因通過聲光元件帶有元件的像差，因此光束剖面比第一雷射光束LB 1為寬。本紙張尺度_中國國家標準(CN_S) A4規格(210χ 297公 -15- 13 五、發明説明（二上所述’第二雷射光束LB2的剖面比第-雷射光束⑻ 宰C所二藉由上述曝光及顯像所形成之光阻膜⑴ 成區仙2 被各光束之頂端部騎所形成之槽形面形成區域Rl範圍之光阻膜山壁面的傾斜，弟-㈣射先束啦描㈣形成之振㈣比第— 描繪未形成的擺動較為緩和。田 :果，自上述光碟原盤所獲得之碟形基板"的溝…，亦二所示’在形成地面L與槽G之範圍之溝.15a的壁面内 7成有擺動W者形成緩和的斜面。 /有鑑於上述碟形基板15之溝15a，形成有擺㈣之壁面者 >成緩和斜面的狀況’考慮光學記錄層的成膜步驟時，將 «W形成於自槽G觀察為碟形基板的内周側，自地面㉘祭為碟形基板之外周側的側壁部上，藉由以下㈣明此為適切配置者。 ° 圖Μ係光學記錄層之成膜步驟中使用之㈣裝置的模型構造圖。碟形基板15將溝形成面置於上面，與靶子τ相對。於賤射步驟中’自乾子飛出的_粒子堆積在碟形基板 15的溝形成面上。 i 由於全部自靶子飛出的濺射粒子堆積，藉由主要對碟形基板15斜向射入的濺射粒子成分，如相當於圖7A中之丫，部之放大圖的圖7B所示，溝15a所形成之凹凸之凹部（槽⑺的内周側形成凸部（地面L)的陰影，成膜之光學記錄層16的祺厚變薄，導致膜形成不均勻。、本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐） -16- 五、發明説明（亦^，碟形基板15之溝15a之凹凸之凹部（槽G)的内周側 /、凸邛（地面L)之外周側的光學記錄層16的膜厚變薄，反之，凹部（槽句之外周側與凸部（地面匕）之内周側的光學記錄層 16的膜厚變厚。由於碟形基板中央部自任何方向均等的堆積濺射粒子，因此可獲得均勻的膜厚，但是，$常光碟中央部係形成開孔區域，因此不提供使用。如上所述，光學記錄層丨6的膜厚產生不均勾時，於寫入地面或槽内時’會在刪除其他資料之所謂刪除寫入上產生各向異性。亦即，由於膜厚較厚之部分的能量傳導大，容易f生經由該厚之部分的刪除寫入，因此，縮小寫入能力的範圍以避免產生刪除寫入。例如’圖7C係顯示對寫入能力的抖動，實線a表示自外周側之地面L至内周側之槽G的刪除寫人，虛線b表示自内周側之地面L至外周側之槽G的刪除寫入。自外周側之地面L至内周側之槽G，由於光學記錄層的膜厚較厚，因此，可減少抖動之寫入能力區域（範圍）相對性縮小。另外，自内周側之地面L至外周側之槽G，由於光學記錄層的膜厚較薄，ϋ此，可減少抖動之寫入能力.區域（範圍）相對擴大。有關上述刪除寫入的狀況，如上所述的，考慮藉由擺動使溝之壁面的傾斜趨緩時，藉由形成擺動而趨緩之壁面，由於光學記錄層的膜厚變厚，因此容易產生刪除寫入。由於光學記錄層如上所述的，碟形基板以冑…之凹凸本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X297公爱^

的凹部（槽G)内周側變薄，凹部（槽G)之外周倒變厚，若在凹部（槽G)的外周側設置擺動，將進一步促成厚膜化，導致自外周側之地面L至内周側之槽G之刪除寫入的寫入能力範圍更加縮小。反之，在凹部（槽G)的内周側設置擺動時，雖促成凹部 (槽G)之内周側的光學記錄層厚膜化，由於僅縮小自寫入能力範圍原本較大之内周側的地面L至外周側之槽G的刪除寫入範圍，因此，並未縮小整個光碟的寫入能力範圍。亦即，自碟形基板之凹部（槽）觀察為内周倒，自凸部（地面）觀察為外周側設置擺動時，可抑制刪除寫入問題的擴大 ’顯示在製造處理上’擺動經過適切配置。此外，亦從製造處理上之其他理由來說明上述配置之擺動適切。，圖8A係顯示在原模14之凹凸圖案上形成聚碳酸酯等樹脂製基板之碟形基板15之步驟的模型剖面圖，圖此相當於將上述步驟之碟形基板15自原模14起模時之圖8A中之I部的放大圖。如藉由壓縮成形法、射出成形法或光聚合 Polymanzation)法等，在一般包含金屬之原模14的凹凸圖案上形成水妷酸酯等樹脂製基板的碟形基板丨5，並將其冷卻時，由於構成碟形基板1 5之樹脂的線膨脹係數大於構成原模14的金屬，因此向徑内側内縮的大小大於原模。因此，於起模時，如圖8B所示，碟形基板15之凸部（地面 L)的内周側係卡在原模的凸部自原模14起模，當最後之接 -18- A7 B7 觸面積更小時’產生相當於地面L之内周側壁面角部z的應力’並隨伴變形而產生拖曳角。因此，地面丄之内周側側壁面因上述理由而容易受到損.傷，此處設置擺動時，可能造成擺動信號的品質降低。反之，由於地面L之外周側側壁面於起模時亦不致受到損傷，因此，在此處設置擺動時可防止擺動信號的品質降低。亦即，自碟形基板之凹部（槽）觀察為内周側，自凸部（地面）觀察，在外周側設置擺動時，可防止因起模時之損傷造成擺動信號的品質降低，顯示在製造處理上，擺動經過適切配置。如上所述，本實施形態之光碟’自凹部（槽）觀察為碟形基板之内周側，自凸部（地面）觀察為碟形基板外周側的側壁部，於碟形基板成形時不容易受到損傷，在此處設置擺動時可防止擺動信號的品質降低，並可抑制删除寫入問題的擴大，此種於地面、槽記錄佈局等之地面與槽範圍内的一部分包含擺動的光學記錄㈣’係在製造處理上擺動經過適切處理者。墓一種實施形態本實施形態之光碟與圖2所示之第一種實施形態同樣的包含碟形基板、光學記錄層及保護層的叠層肖，並包含在中心部包含開孔部的概略圓盤形狀。圖9A係本實施形態之光碟的剖面圖。在厚度卩丨為丨‘丨〜^ mm之碟形基板15的一個表面交替設 -19- 565834 A7 ， B7 五、發明説明（17 ) 有第一溝15 ai與比第一溝15 ai較深的第二溝丨5 “，該面上形成有依序堆疊電介質膜、記錄膜、電介質膜、反射膜等的光學記錄層1 ^。膜構造及層數依記錄材料之種類及設計而定。在光學記錄層16的上層形成有保護層17。上述光碟之光學記錄層16因應第一溝15ai及弟二溝15七形成凹凸形狀，並將追蹤區域區分成自碟形基板15觀察向保護層17突出成凸狀之區域的地面L與第一溝i5ai凹部區域的第一槽G1及第二溝15 凹部區域的第二槽G2。地.面L與第一槽G1及第二槽G2的平坦部寬度形成概略相等。本實施形態如使用地面L及槽（第一槽gi及第二槽G2)之任何一個作為記錄區域。兩區域均可作為記錄區域。如上所述，交替配置深度不同之槽之深度調制記錄佈局，將追蹤錯誤信號的產生週期延長兩倍以擴衣光學限度，可對應於高記錄密度化。圖9B係顯示上述光碟中區分地面l與槽（第一槽g 1及第二槽G2)之溝形狀及配置的光碟平面圖，並相當於圖9a所示之剖面圖之光碟的上面圖。於深度不同之兩種槽（第一槽G 1及第二槽G2)内，在較淺槽的第一槽G1側壁部形成有提供時脈資訊或位址資訊的擺動W。本實施形態之光碟與第一種實施形態之光碟同樣的，可藉由包含一般構造的光碟裝置實施記錄或重現，於重現時係以收光元件接收被光學記錄層所反射的回射光，藉由特 •20· 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公爱) 565834 A7 ' ___________ B7__ 五、發明説明（*18^ " ；---— 疋之矩陣電路等檢測出如因像散像.差法之聚焦誤差信號及因差動推挽法之追蹤誤差信號等飼服誤差信號、RF信號，以及與光碟錢轉同步之時脈信號及用於進行位址等 U 擺動信號。的上述之本實施形態的光碟為深度調制記錄佈局的光碟，並從製造處理上的理由來說明上述配置的擺動適切。制圖10A係顯示在原模14之凹凸圖案上形成聚碳酸酯等樹脂製基板之碟形基板15之步驟的模型剖面圖，圖1〇6相當於將上述步驟之碟形基板15自原模14起模時之圖1〇A中之丫4部的放大圖。如錯由壓縮成形法、射出成形法或光聚合2P(Ph〇t() P〇lymanZatl〇n)法等，在一般包含金屬之原模14的凹凸圖案上形成聚碳酸酯等樹脂製基板的碟形基板丨5，並將其冷卻妗，由於構成碟形基板丨5之樹脂的線膨脹係數大於構成原模14的金屬，因此向徑内側内縮的大小大於原模。因此，於起模時，如圖1〇B所示，接近較深之第二槽的地面L内周側係卡在原模的凸部自原填^ 4起模，當最後之接觸面積更小時，產生相當於接近第二槽G2之内周側壁面角部Z的應力，並隨伴變形而產生拖曳角。因此’接近較深之第二槽G2的溝壁面因上述理由而容易文到損傷’於此處設置擺動時，可能造成擺動信號的品質降低。反之’由於較淺之溝的壁面於起模時亦不致受到損傷，因此’在此處設置擺動時可防止擺動信號的品質.降低。 • 21 - 本紙張尺度適用中國S家標準(CNS) A4規格(21〇 X 297公爱) 565834 —--------------- B7 五、發明説明（19 ) - ^- 上述起杈時的損傷’於槽的深度較深時，如約在i〇〇 nm 以上時特別顯著，此時如上述的，配置擺勤的效果較大。如上所述，'本實施形態之光碟，包含用於在地面與槽内區分追蹤區域之深度不同的數種溝，較淺溝的側壁部不容易又到碟形基板成形時的損傷，在此處設置擺動時，可防止擺動信號的品質降低，此種於深度調制記錄佈局等之地面、槽祀圍内的一部分包含擺動的光學記錄媒體，係在製造處理上擺動經過適切處理者。本發明並不限定於上述的實施形態。例如，光學記錄層的層構造並不限定於實施形態中說明的構造，亦可因應記錄膜的材料等形成各種構造。、此外除相’文化型的光學記錄媒體之外，亦可適用於光磁s己錄媒體及使用有機色素材料的光碟媒體。此外，為製造碟形基板，係形成硬掩膜及母盤等數個中間性構件，不過亦可僅使用一個中間性構件，或是亦可使用上述K %形恕之說明以外之兩個以上的中間性構件。此外，在不改變本發明要旨的範圍内，可作各種改變。產業上利用的可行性

本發明可提供一種光學記錄媒體，其係在地面、槽記錄佈局及沬度5周制圮錄佈局等之地面與槽範圍内的一部分包含擺動·，其特徵為在製造處理上包含適切配置的擺動。L 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 裝訂 -22· 565834 A7 B7 五、發明説明（2Q ) 元件符號之說明 1…光碟 10…玻璃·基板 11，1 la…光阻膜 12…硬掩膜 13…母盤 14…原模 15…碟形基板 15a，15a卜 15a2···溝 16…光學記錄層 17…保護層 30···雷射光源 31a…半反射鏡 31b〜31f…反射鏡 32···聲光元件 3 3…光束組合器 34···光碟原盤 G，G1，G2 …槽 L…地面 LB，LB1，LB2···雷射光束〇L…對物透鏡 RG…槽形成區域 RL…地面形成區域 T…|巴子 W…擺動 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐）

Claims

C8 D8 六、申請專利範圍種光學§己錄媒體，包含：在表面形成有溝，包含被該溝就各追蹤區域區分成之凸部與凹部的概略圓盤狀碟形基板；形成於上述溝形成面上之上述碟形基板上，包含因應上述溝之凹凸形狀的光學記錄層；及形成於上述光學記錄層上的保護膜；構成上述溝之相對的一對側壁内，自上述凹部觀察為上述碟形基板的内周側，自上述凸部觀察，在上述碟形基板之外周側側壁部形成有擺動。如申請專利範圍第1項之光學記錄媒體，其中上述擺動至少提供時脈資訊或位址資訊。如申請專利範圍第1項之光學記錄媒體，其中就上述各追蹤區域區分成之凸部與凹部的上述光學記錄層均宜用作記錄區域使用。 4. 如申請專利範圍第1項之光學記錄媒體，其中上述碟形基板為自包含與被上凹部圖案相反圖案之凹凸原模轉製基板。述溝所區分之凸部與印該凹凸圖案的樹脂一種光學記錄媒體，包含：在表面上形成有深度不同的數種溝，並包含被該溝 :各追縱區域區分成之凸部與凹部的概略圓盤狀碟形基板，應形成於上述溝形成面上之上述碟形基板上，包含因上述溝之凹凸形狀的光學記錄層；及 •24·

565834 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍形成於上述光學記錄層上的保護膜；上述深度不同之數種溝内，在較淺之溝的側壁部形成有擺動。如申請專利範圍第5項之光學記錄媒體，其中上述碟形基板上作為溝形成有第一深度之第一溝與比第一深度較深之第二深度的第二溝，在上述第一溝的側壁部形成有上述擺動。如申請專利範圍第5項之光學記錄媒體，其中上述擺動至少提供時脈資訊或位址資訊。如申請專利範圍第5項之光學記錄媒體，其中就上述各追蹤區域區分成之凸部與凹部之上述光學記錄層内之任何一個區域用作記錄區域。如申請專利範圍第5項之光學記錄媒體，其中上述碟形基板為自包含與被上述溝所區分之凸部與凹部圖案相反圖案之凹凸原模轉印該凹凸圖案的樹脂製基板0 •25- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐）