CN1455920A - 光学记录介质 - Google Patents

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Abstract

提供一种光学记录介质，它具有按照生产过程需要安排于凸面和槽的一部分交接处的波纹。一种光学记录介质包括一个近似盘状的盘基片15，在其表面上具有斜槽面15a，并且具有由斜槽面15a为每个道区所划分的突出和凹陷部，在其上堆叠一层具有对应于斜槽面15a的突出形状的光学记录层16和一层保护膜17，其格式为突出(凸面L)和凹陷部(槽G)的区域两者都用作记录区等，其中在一对形成每个斜槽面15a的相对侧壁之间，及当从凹陷部(槽G)看在盘基片的内圆周侧的侧壁部分内以及当从突出(凸面L)看在盘基片的外圆周侧的侧壁部分内形成用于提供时钟信息或地址信息的波纹W。

Description

光学记录介质
技术领域
本发明涉及一种光学记录介质(以下也称为“光盘”)，更具体地涉及一种能够进行高密度记录的光学记录介质。
背景技术
近年来，随着将动画、静止画面和其他视频数据进行数字记录的技术的发展，对大量数据进行处理，CD或DVD和其他光盘设备现在成为大容量记录设备的注目中心。现在还在研究进一步提高容量。
图1是一个常规光盘的剖面图。
在一个其厚度大约为1.2mm的透光型盘基片15的一个表面上提供了槽面15a。在此表面上形成一层由例如一层绝缘膜、一层记录膜、另一层绝缘膜、一层反射膜等按此顺序堆叠而成的光学记录层16。根据记录材料的类型和设计，该膜的配置和层的数量可以不同。
在该光学记录层16之上形成一层保护层17。
当在光盘上记录或从它重现时，一个预定波长的激光束或其他光束从盘基片15一侧被聚焦于光学记录层16上。
当从光盘重现时，由一个光接收元件接收在光学记录层16处反射的返回光，由一个信号处理电路生成一个预定信号，并且一个重现信号被提取。
在如上所述的光盘上，光学记录层16也具有对应于被提供于盘基片15表面上的斜槽面15a的突出形状。这些斜槽面15a将道区进行划分。
下面把从盘基片15方向看伸出至保护层17的区域称为“凸面L”，而凹陷部的区域则称为“槽G”。
根据光盘的设计，以上划分的凸面L和槽G的一个或两者被选为记录区。
图1A是某种格式光盘的剖面图，在该格式中例如只有凸面L区用作记录区，而槽G区被提供为用于划分道区的区域。
此外，在其他光盘中还有一种格式，其中只有槽G区用作记录区，而凸面L区被提供为用于划分道区的区域。
还有，为改进表面记录密度，已经开发了一种凸面-槽记录格式，其中将凸面L和槽G的区域两者都用作记录区。
这涉及由光学MTF(调制传递函数)而引起的伺服信号衰减，这妨碍以下操作，即通过使用凸面L和槽G两者在生成跟踪误差信号的周期内获得双倍记录道即组间距而在道方向内获得更高密度从而增加记录密度。
此外，一种深度调制记录格式交替地安排具有不同深度的槽以便使生成跟踪误差信号的周期长度加倍从而扩展光学界限，因而增加记录密度。
另一方面，有可能让形成于盘基片15中的斜槽面15a的内表面成为波纹状，即形成所谓“波纹”。
例如，在MD(小型盘)的一种格式中，如图1B所示，只有凸面L区用作记录区，而槽G区则被提供为用于划分道区的区域，而有波纹W的槽G和没有波纹W但具有直线地伸展的内表面的槽G被交替地安排。
根据以上波纹W，一个预定波纹矩阵电路或类似装置检测各道的地址信息，一个用于控制盘的转速的时钟等。当用于记录波纹中的地址信息等，在凸面和槽中的光学记录层处，地址信息变为不必要，因而能够将记录密度提高这个数量。
也可将波纹应用于凸面-槽记录格式和深度调制记录格式。
然而，为防止由于光学MTF引起的相邻道信息的干扰，可以考虑在凸面-槽记录格式中在凸面-槽交接处的壁面的一侧形成波纹或者在深度调制记录格式中在类似于槽深度周期的预定周期内安排具有波纹的槽，但并不指定波纹的安排。目前尚不知道任何光盘具有为生产过程例如控制步骤、注模步骤和薄膜形成步骤的需要而安排的波纹。
发明内容
本发明是在考虑到以上环境而作出的。因此，本发明的一个目的是提供一种凸面-槽记录格式、深度调制格式等的光学记录介质，它具有安排于凸面和槽的一部分交接处的波纹，其中这些波纹按照生产过程所需图形进行安排、
为达到以上目的，本发明的光学记录介质包括一个近似盘状的盘基片，在其表面上具有斜槽面，并且具有为由斜槽面为每个道区所划分的突出和凹陷部，包括在该盘基片斜槽面的形成表面上形成的并且具有对应于斜槽面的突出形状的一层光学记录层，以及一层形成于光学记录层上的保护层，其中在一对形成每个斜槽面的相对侧壁之间，及当从凹陷部看在盘基片的内圆周侧的侧壁部分内以及当从突出看在盘基片的外圆周侧的侧壁部分内形成波纹。
在以上本发明的光学记录介质中，这些波纹优选地提供至少时钟信息或地址信息。
在以上本发明的光学记录介质中，光学记录层上为每个道区所划分的突出和凹陷部两者优选地用作记录区。
在以上本发明的光学记录介质中，该盘基片优选地是一个塑料基片，其中一种突出图形被从具有相反突出图形的模子中传递给它和给由斜槽面划分的突出和凹陷部的图形。
在以上本发明的光学记录介质中，在一个近似盘状盘基片的表面上形成斜槽面并且具有由斜槽面为每个道区划分的突出和凹陷部，在该盘基片上堆叠一层具有对应于斜槽面的突出形状的光学记录层和一层保护膜。在其中突出部(凸台)和凹陷部(槽)两者都用作记录区等的那种格式的光学记录介质中，在一对形成每个斜槽面的相对侧壁之间，及当从凹陷部(槽)看在盘基片的内圆周侧的侧壁部分内以及当从突出部(凸台)看在盘基片的外圆周侧的侧壁部分内形成波纹。
在记录格式等的光学记录介质中，在将盘基片模压而将一种突出图形从具有相反突出图形的模子中传递给它和给由斜槽面划分的突出和凹陷部的图形的时候，当从凹陷部(槽)看在盘基片的外圆周侧的侧壁部分内以及当从突出部(凸台)看在盘基片的内圆周侧的侧壁部分很容易被损坏，因此如果在该处提供波纹，则波纹信号的质量可能会下降。此外，如果在以上部分提供波纹，则串写的问题将会增加，即当在凸面处写入时槽的信号被擦除，反之亦然，当在槽处写入时凸面的信号被擦除。
另一方面，当从凹陷部(槽)看在盘基片的内圆周侧的侧壁部分内以及当从突出部(凸台)看在盘基片的外圆周侧的侧壁部分不易被损坏，因此如果在该处提供波纹，则能够防止波纹信号质量的下降，并且能够抑制串写问题的增加。
也即，提供一种凸面-槽记录格式等的光学记录介质，它具有安排于凸面和槽的一部分交接处的波纹，其中这些波纹按照生产过程所需图形进行安排。
此外，为达到以上目的，本发明的光学记录介质包括一个近似盘状的盘基片，在其表面上具有不同类型和不同深度的斜槽面，并且具有为由斜槽面为每个道区所划分的突出和凹陷部，包括在该盘基片的斜槽面形成表面上形成的并且具有对应于斜槽面的突出形状的一层光学记录层，以及一层形成于光学记录层上的保护层，其中在不同类型和不同深度的斜槽面中的较浅斜槽面的侧壁部分中形成波纹。
在以上本发明的光学记录介质中，该盘基片优选地被形成为具有第一深度的第一斜槽面和具有比第一深度更深的第二深度的第二斜槽面，并且波纹被形成于第一斜槽面的侧壁部分内。
在以上本发明的光学记录介质中，该波纹优选地提供至少时钟信息或地址信息。
在以上本发明的光学记录介质中，为光学记录层上的每个道区划分的突出和凹陷部中的一个优选地用作记录区。
在以上本发明的光学记录介质中，该盘基片优选地是一个塑料基片，其中一种突出图形被从具有相反突出图形的模子中传递给它和给由斜槽面划分的突出和凹陷部的图形。
在以上本发明的光学记录介质中，一个近似盘状的盘基片所形成的表面上具有不同类型和不同深度的斜槽面，并且具有为由斜槽面为每个道区所划分的突出和凹陷部，在该盘基片的斜槽面形成表面上堆叠一层具有对应于斜槽面的突出形状的光学记录层及一层保护层。在其中突出部(凸台)或凹陷部(槽)中的一个区域用作记录区等的格式的光学记录介质中，在不同类型和不同深度的斜槽面中的较浅斜槽面的侧壁部分中形成波纹。
例如，作为被提供于盘基片中的斜槽面，形成具有第一深度的第一斜槽面和具有比第一深度更深的第二深度的第二斜槽面，并且波纹被形成于第一斜槽面的侧壁部分内。
在深度调制记录格式等的光学记录介质中，在将盘基片模压而将一种突出图形从具有相反突出图形的模子中传递给它和给由斜槽面划分的突出和凹陷部的图形的时候，更深斜槽面的侧壁部分容易被损坏，因此如果在该处提供波纹，则波纹信号的质量可能会下降。
另一方面，在模压盘基片时较浅斜槽面的侧壁部分不易被损坏，因此如果在该处提供波纹，则能够防止波纹信号质量的下降。
也即，提供一种深度调制记录格式等的光学记录介质，它具有安排于凸面和槽的一部分交接处的波纹，其中这些波纹按照生产过程所需图形进行安排。
附图说明
图1A是一个根据常规例子的光盘的剖面图，而图1B是一个光盘的平面图，显示将凸面和槽划分的斜槽面的形状和安排。
图2A是一个根据第一实施例的光盘的透视图，而图2B是图2A中沿着X-X’所作剖面图。
图3A是一个用于显示对应于图2B中Y1部分的放大视图的剖面结构和将光聚集的方法的原理图，而图3B是一个光盘的平面图，显示将凸面和槽划分的斜槽面的形状和安排。
图4A至4H是用于显示一个根据第一实施例的光盘的生产步骤的剖面图，其中图4A显示形成一个原始盘的步骤之前的状态，图4B显示曝光和显影的步骤之前的状态，图4C显示形成一个金属主膜的步骤之前的状态，图4D显示形成一个母膜的步骤之前的状态，图4E显示形成一个模子的步骤之前的状态，图4F显示形成一个盘基片的步骤之前的状态，图4G显示形成一层光学记录层的步骤之前的状态，及图4H显示形成一层保护层的步骤之前的状态。
图5是一个根据第一实施例的曝光设备(剪裁机器)的配置的原理图。
图6A是当完成根据第一实施例的曝光过程时的状态的原理图，图6B是一个用于曝光过程的激光束的光强曲线，图6C是曝光和显影的步骤之后原始盘的剖面图，及图6D是盘基片的一个剖面图。
图7A是当完成根据第一实施例的光学记录层的形成薄膜过程时的状态的原理图，图7B是形成薄膜步骤之后的剖面图，及图7C显示相对于写入功率的抖动。
图8A是用于显示根据第一实施例的形成一个盘基片的步骤的原理剖面图，而图8B对应于图8A中模子分离时Y3部分的放大图。
图9A是一个根据第二实施例的光盘的剖面图，而图9B是一个光盘的平面图，显示将凸面和槽划分的斜槽面的形状和安排。
图10A是用于显示根据第二实施例的形成一个盘基片的步骤的原理剖面图，而图10B对应于图10A中模子分离时Y4部分的放大图。
具体实施方式
下面使用附图给出本发明实施例的详细说明。
第一实施例
图2A是一个根据本实施例的光盘的透视图，而图2B是图2A中沿着X-X’所作剖面图。
一个光盘1具有一个盘基片15、光学记录层16和保护层17的叠层，并且具有一个近似的盘形状模子，其中心处有一个开口。
图3A是一个用于显示对应于图2B中Y1部分的放大视图的剖面结构和将光聚集的方法的原理图。在此图中，右侧是盘的内圆周侧，而左侧是外圆周侧。
斜槽面15a被提供于具有1.1至1.2mm厚度D1的盘基片15的一面表面上。一层光学记录层16包括例如一层绝缘膜、记录膜、另一层绝缘膜和一层反射膜，它们按照这个顺序备堆叠于该表面上。膜的配置和层的数量随着记录材料和设计的类型的不同而不同。
保护层17形成于光学记录层16之上。
在以上光盘中，光学记录层16形成时具有对应于斜槽面15a的突出形状。道区被划分为当从盘基片15看时向外伸至保护层17的区域即凸面L以及凹陷部区即槽G。
在本实施例中，例如凸面L和槽G的区域两者都用作记录区。
图3B是一个光盘的平面图，显示以上光盘中将凸面和槽划分的斜槽面的形状和安排，并且对应于图3A中所示剖面图的光盘的平面图。在此图中，右侧是盘的内圆周侧，而左侧是外圆周侧。
在一对形成每个斜槽面15a的相对侧壁之间，用于提供时钟信息或地址信息的波纹W被形成于当从槽G看在盘基片的内圆周侧的侧壁部分内以及当从凸面L看在盘基片的外圆周侧的侧壁部分内。
本实施例的光盘能够由一个具有通常配置的光盘驱动器记录或重现。在记录或重现时，如图3A中所示，一个由物镜OL等聚焦的用于重现或记录的激光束LB穿过透光型盘基片15，并且打击在以上结构的光盘的光学记录层16上。
在重现时，在光学记录层处反射的返回光在一个光接收元件处被接收。一个预定信号被信号处理电路生成及重现信号被提取。
也即，根据通过接收反射光所获得的接收信号，不同预定矩阵电路等例如通过象散性方法检测一个聚焦误差信号，通过差动推拉方法检测一个跟踪误差信号，或者检测其他伺服误差信号、RF信号或波纹信号，用于完成与盘转动同步的时钟信号和地址等的检测。
以下将解释用于生产本实施例的光盘的方法。
首先，如图4A中所示，准备一个原始盘，它包括一个连同光刻胶膜11一起形成的玻璃基片10。
其次，如图中4B所示，一个激光束或电子束等用于以如下方法将光刻胶膜11曝光，即使用一个图形，用于暴露例如用于形成盘基片的斜槽面的区域，然后这被显影以便在用于形成盘基片的斜槽面的区域内形成一个开启图形的光刻胶膜11a。
在此曝光步骤中，光刻胶膜11a被形成图形以便最后获得一个图形，其中当从槽G看在盘基片的内圆周侧的侧壁部分内以及当从凸面L看在盘基片的外圆周侧的侧壁部分内形成波纹，如以上光盘结构中所描述的。
其次，如图中4C所示，例如镀银或其他薄膜形成过程用于在玻璃基片10上的光刻胶膜11a上形成一层金属主膜12。金属主膜12的表面已经将一个相反图形的突出传递至由玻璃基片10和光刻胶膜11a形成的图形。
其次，如图4D中所示，母膜13被形成于金属主膜12上。母膜13的表面已经将一个相反图形的突出传递至金属主膜12表面的突出。在图中，金属主膜12被画于底部并且相对于图4C被倒了过来。
其次，如图4E中所示，在母膜13上形成模子14。模子14的表面已经将一个相反图形的突出传递至母膜13表面的突出。在图中，母膜13被画于底部并且相对于图4D被倒了过来。
其次，如图4F中所示，例如压模、注模、2P(照相聚合)等用于在模子14的突出图形上形成一个聚碳酸酯或其他塑料基片，即盘基片15。盘基片15已经将用于形成一个相反图形的突出的斜槽面15a传递至模子14表面的突出。在此图中，模子14被画于底部并且相对于图4E被倒了过来。
通过以上步骤，该盘基片具有的斜槽面图形与图4B中所示步骤中形成的光刻胶膜11a所形成的开口图形相同，即在该斜槽面图形中，当从槽G看在盘基片的内圆周侧的侧壁部分内以及当从凸面L看在盘基片的外圆周侧的侧壁部分内形成波纹W。
其次，如图4G中所示，例如溅射用于形成一层光学记录层16，它具有例如一层绝缘膜、一层记录层、另一层绝缘膜和一层反射膜按照薄膜形成顺序堆叠而成。
其次，如图4H中所示，保护层17形成于光学记录层16之上。
通过以上操作，能够产生一个图2A、图2B、图3A和图3B中所示结构的光盘。
在以上光盘中，当从槽G看在盘基片的内圆周侧的侧壁部分内以及当从凸面L看在盘基片的外圆周侧的侧壁部分内，在形成斜槽面15a的各对相对壁之间形成用于提供时钟信息或地址信息的波纹W。
由于此，能够得到一种光盘，其中能够防止波纹信号质量的下降，能够抑制交叉写入问题的增加以及能够按照生产过程的需要安排波纹。下面将解释原因。
图5是一个显示于以上所述图4B的光刻胶膜的曝光步骤中所用曝光设备(剪裁机器)例子的配置的原理图。
从一个激光源30例如一个He-Cd激光器发射的激光束LB被一个半透镜31a分为第一激光束LB1和一个第二激光束LB2。
穿过半透镜31a的第一激光束LB1通过镜31b和镜31c打击一个光束合并器33。
另一方面，在半透镜31a处被反射的第二激光束LB2通过镜31d、光学声学元件32和镜31e打击光束合并器33。
第一激光束LB1和第二激光束LB2在光束合并器33处被合并，在镜31f处被反射，被引导至一个原始盘34，它包括一个与一层光刻胶膜11一起形成的玻璃基片10，准备用于曝光。
在以上配置中，光学声学元件32能够完成控制以便将第二激光束LB2的光轴抖动一个小角度。
图6A是当由第一激光束LB1和第二激光束LB2完成曝光过程时的状态原理图。
通过叠加第一激光束LB1和第二激光束LB2，一个用于在光刻胶膜上形成一个槽的区域RG被暴露，而一个用于形成一个凸面的区域RL被防止被激光束辐照。
此时光刻胶膜被曝光以便最后显示一个图案，其中在光盘基底中用于形成槽的区域RG和用于形成凸面的区域RL之间交接处，当从槽G看时，在盘基片的内圆周侧的侧壁部分内以及当从凸面L看时在盘基片的外圆周侧的侧壁部分内，形成了波纹W。
也即，第一激光束LB1扫过薄膜而不抖动，以便由第一激光束LB1光点的最末部分在不形成波纹的一侧形成用于形成槽的区域RG和用于形成凸面的区域RL之间的交接处，而第二激光束LB2则由安排于图5中所示曝光设备的第二激光束的光轴上的光学声学元件进行调制，并且在扫描时在垂直于前进方向的方向内稍微抖动，以便由第二激光束LB2光点的最末部分在准备形成波纹的一侧形成用于形成槽的区域RG和用于形成凸面的区域RL之间的交接处。
以此方式将曝光的光刻胶膜显影，能够形成一层如上所述具有波纹的光刻胶膜。
图6B显示如上所述的第一激光束LB1和第二激光束LB2的光强曲线，其中竖座标显示光强及横座标显示位置。
第二激光束LB2被调制并且具有由于它比第一激光束LB1更为倾斜而产生的慧形像差，具有由于它通过光学声学元件而产生的该元件的像差，因此它的束流截面的宽度比第一激光束LB1更宽。
由于在由曝光和显影所形成的光刻胶膜11a的剖面图形处第二激光束LB2的截面宽度比第一激光束LB1更宽，如图6C中所示，由每个激光束的最末部分所扫描而形成的对应于用于形成槽的区域RG和用于形成凸面的区域RL之间交接处的光刻胶膜11a的壁表面的倾斜度在两侧不同，在由第二激光束LB2扫描而形成波纹W的一侧的倾斜度比由第一激光束LB1扫描而不形成波纹W的一侧的倾斜度更为缓和。
由于此，在从以上原始盘获得的盘基片15的斜槽面15a中，如图6D中所示，在形成凸面L和槽G之间交接处的斜槽面15a的壁表面中，形成波纹W的一侧具有更为缓和的倾斜度。
考虑到在盘基片15的斜槽面15a中，在形成波纹W的一侧的壁表面具有更为缓和的倾斜度，当考虑光学记录层的形成薄膜步骤时，由于以下原因，优选的安排是当从槽G看在盘基片的内圆周侧的侧壁部分内以及当从凸面L看在盘基片的外圆周侧的侧壁部分内形成波纹W。
图7A是一个光学记录层的形成薄膜步骤中所用溅射设备的配置的原理图。
盘基片15面向一个靶T，它的斜槽面形成表面向上。
溅射步骤中从靶飞出的溅射粒子淀积于盘基片15的斜槽面形成表面上。
从靶T的整个表面飞出的溅射粒子被淀积，而由于溅射粒子部分主要偏斜地打击盘基片15，如图7B中所示(这对应于图7A中Y2部分的放大图)，斜槽面15a的突出的凹陷部(槽G)的内圆周侧落于突出(凸面L)的阴影中，因此所形成的光学记录层16的厚度变为更薄，因而出现薄膜形成的不均匀度。
也即，光学记录层16的厚度在盘基片15的凹陷部(槽G)的内圆周侧和在斜槽面15a的突出(凸面L)外圆周侧变为更薄，而相反，光学记录层16的厚度在凹陷部(槽G)的外圆周侧和在突出(凸面L)内圆周侧变为更厚。
在盘基片的中心，溅射粒子同等地从各个方向淀积，所以获得均匀厚度，但通常盘中心成为一个开口区，所以无法使用。
当如上所述的光学记录层16的膜厚度出现不均匀度时，将在串写中出现各向异性，其中当写入至一个凸面或槽内时，其他数据将被擦除。也即，在膜厚度大的部分能量传输也大，因此可能通过此厚的部分出现串写。因此，用于阻止串写的写功率的界限变窄了。
例如，图7C显示相对于写功率的抖动。实线“a”显示从外圆周侧上的凸面L串写至内圆周侧上的槽G的情况，而虚线“b”显示从内圆周侧上的凸面L串写至外圆周侧上的槽G的情况。
光学记录层在从外圆周侧上的凸面L向着内圆周侧上的槽G的方向变厚，因此能够抑制抖动的写功率区域(界限)相对地窄。另一方面，光学记录层在从内圆周侧上的凸面L向着外圆周侧上的槽G的方向变薄，因此能够抑制抖动的写功率区域(界限)相对地宽。
相对于以上所述的串写，当考虑到如上所述的由于波纹而使槽的壁表面的倾斜度变为缓和这一事实，光学记录层在由于形成波纹而使壁表面的倾斜度更为缓和的地方停止变厚，因此串写容易出现。
如上所述，由于光学记录层在盘基片15的斜槽面15a的突出的凹陷部(槽G)的内圆周侧处变薄而在凹陷部(槽G)的外圆周侧处变厚，如果波纹被提供于凹陷部(槽G)的外圆周侧，则薄膜将变为更厚，以及从外圆周侧上的凸面L串写至内圆周侧上的槽G的写功率界限将不断变窄。
相反，如果波纹被提供于凹陷部(槽G)的内圆周侧，则凹陷部(槽G)的内圆周侧处的光学记录层将变厚，但这只使从内圆周侧上的凸面L串写至外圆周侧上的槽G的写功率界限变窄，而写功率界限本来是宽的，因此这不会使整个光盘的写功率界限变为更窄。
也即，如果当从盘基片的凹陷部(槽)看在盘基片的内圆周侧以及当从突出部(凸台)看在盘基片的外圆周侧提供波纹W，则能够抑制串写问题的增加，并且能够按照生产过程的需要安排波纹。
此外，由于生产过程中的其他原因，波纹的以上安排是优选的。
图8A是一个用于显示在模子14的突出图形上形成一个聚碳酸酯或其他塑料基片，即盘基片15。图8B对应于在以上步骤中当将盘基片15从模子14中分离出来时图8A中Y3部分的放大图。
例如，如果压模、注模、2P(照相聚合)等用于在通常由金属制成的模子14的突出图形上形成一个聚碳酸酯或其他塑料的盘基片15并且使它冷却，则由于形成盘基片15的塑料的线性膨胀系数大于形成模子14的金属，因此向直径内侧收缩的量变为大于模子的收缩量。
由于这个原因，在模子分离时，如图8B中所示，盘基片15与模子14分离，而盘基片15的突出(凸面L)的内圆周侧被模子的突出挂住。当最后接触面积变小时，相当的应力作用于凸面L的内圆周侧壁表面处的角Z上，因此产生一个拉角并伴随着变形。
因此，由于以上原因，凸面L的内圆周侧壁表面容易受损。如果波纹被提供于此处，则有可能降低波纹信号的质量。
相反，在模子分离时凸面L的外圆周侧壁表面将不会受损。因此，如果波纹被提供于此处，则能够防止波纹信号质量的降低。
也即，如果当从盘基片的凹陷部(槽)看在盘基片的内圆周侧以及当从突出部(凸台)看在盘基片的外圆周侧提供波纹W，则能够防止由于模子分离时的损害而造成的波纹信号质量的降低。因此能够按照生产过程的需要安排波纹。
如上所述，在根据本发明的光盘中，当从盘基片的凹陷部(槽)看在盘基片的内圆周侧的侧壁部分以及当从突出部(凸台)看在盘基片的外圆周侧的侧壁部分不易在形成盘基片时受损，所以如果波纹被提供于此处，则能够防止波纹信号质量的降低，抑制串写问题的增加以及在一种在凸面和槽的一部分交接处具有波纹的凸面-槽记录格式的光学记录介质中，能够按照生产过程的需要安排波纹。
第二实施例
一种与图2中所示第一实施例相同方式的本发明的光盘具有盘基片、光学记录层和保护层的叠层，并且具有一个近似盘状，在其中心有开口部分。
图9是根据本实施例的光盘的平面图。
在一个其厚度为1.1至1.2mm的盘基片15的一个表面上交替地提供第一斜槽面15a1和比第一斜槽面15a1更深的第二斜槽面15a2。在此表面上形成一层由例如一绝缘膜、一记录膜、另一绝缘膜和一反射膜等按此顺序叠置而成的光学记录层。根据记录材料的类型和设计，该膜的配置和层的数量可以不同。
在该光学记录层16之上形成一层保护层17。
在如上所述的光盘上，光学记录层16具有对应于第一斜槽面15a1和第二斜槽面15a2的突出形状。道区被划分为以下区域：从盘基片15看伸出至保护层17的区域即凸面L，以及第一斜槽面15a1中的凹陷部区域即第一槽G1和第二斜槽面15a2中的凹陷部区域即第二槽G2。凸面L、第一槽G1和第二槽G2的平部分的宽度几乎相等。
在本实施例中，例如凸面L和槽(第一槽G1和第二槽G2)中的任何一个都可用作记录区。也可能使用两个区域为记录区。
在深度调制记录格式中各深度不同的槽被如上所述地交替安排，通过将生成跟踪误差信号的周期长度加倍而扩展光学界限。因此有可能增加记录密度。
图9B是一个光盘的平面图，显示将以上光盘中的凸面和槽(第一槽G1和第二槽G2)划分的斜槽面的形状和安排，它对应于图9A中所示剖面图的光盘的平面图。
用于提供时钟信息或地址信息的波纹W被形成于两种类型不同深度的槽(第一槽G1和第二槽G2)之间的较浅侧的槽即第一槽G1的侧壁部分处。
本实施例的光盘能够与根据第一实施例的光盘相同地由一个具有通常配置的光盘驱动器记录或重现。在重现时，在光学记录层处反射的返回光在一个光接收元件处被接收，并且一个预定矩阵电路等例如通过象散性方法检测一个聚焦误差信号，通过差动推拉方法检测一个跟踪误差信号，或者检测其他伺服误差信号、RF信号或波纹信号，用于完成与盘转动同步的时钟信号和地址等的检测。
以上所述本实施例的光盘是一个深度调制记录格式的光盘。由于生产过程的原因，以上波纹的安排是优选的。
图10A是用于显示在模子14的突出图形上形成一个聚碳酸酯或其他塑料基片，即盘基片15的步骤的原理剖面图，而图10B对应于当在以上步骤中将盘基片15从模子14中分离出来时图10A中Y4部分的放大图。
例如，如果压模、注模、2P(照相聚合)等用于在通常由金属制成的模子14的突出图形上形成一个聚碳酸酯或其他塑料的盘基片15并且使它冷却，则由于形成盘基片15的塑料的线性膨胀系数大于形成模子14的金属，因此向直径内侧收缩的量变为大于模子的收缩量。
由于这个原因，在模子分离时，如图10B中所示，盘基片15与模子14分离，而面向更深的第二槽G2的侧的凸面L的内圆周侧被模子的突出挂住。当最后接触面积变小时，相当的应力作用于面向第二槽G2的侧壁表面的内圆周侧的角Z上，因此产生一个拉角并伴随着变形。
因此，由于以上原因，面向第二槽G2的斜槽面的壁表面容易受损。如果波纹被提供于此处，则有可能降低波纹信号的质量。
相反，在模子分离时较浅斜槽面的壁表面将不会受损，因此，如果波纹被提供于此处，则能够防止波纹信号质量的降低。
当槽较深例如约为100nm或更深时，以上所述模子分离时的损害很明显。在此情况下，以上所述的波纹的安排的效果很大。
如上所述，根据本发明的光盘具有多种类型的不同深度的用于将道区划分为凸面和槽的斜槽面。较浅斜槽面的侧壁表面在形成盘基片时不易收到损害，所以如果波纹被提供于此处，则有可能防止波纹信号质量的降低，以及在一种在凸面和槽的一部分交接处具有波纹的深度调制记录格式的光学记录介质中，能够按照生产过程的需要安排波纹。
本发明不限于以上实施例。
例如，光学记录层的各层配置不限于各实施例中解释的配置。不同结构能够根据记录薄膜的材料等加以利用。
此外，除一种相位改变型光学记录介质外，本发明能够应用于一种磁光学记录介质或一种使用有机色素材料的光盘媒质。
还有，为生产盘基片，多个中间组件例如金属主膜或母膜被形成，但有可能只使用除以上实施例中解释过的组件以外的一种中间组件或可能使用两种或多种中间组件。
不止于此，能够在不越出本发明实质和范围的情况下作出不同修改。
工业可应用性
根据本发明的光学记录介质，有可能提供一种在凸面和槽的交接处部分处具有波纹的凸面-槽记录格式、深度调制记录格式的光学记录介质，其中能够按照生产过程的需要安排波纹。

Claims (9)

1.一种光学记录介质包括：
一个近似盘状的盘基片，在其表面上形成有斜槽面，并且具有由所述斜槽面为每个道区所划分的突出部和凹陷部，
在所述盘基片的所述斜槽面形成表面上形成的并且具有对应于所述斜槽面的凸凹部形状的一层光学记录层，以及
一层形成于光学记录层上的保护层，其中
在形成每个所述斜槽面的一对相对的侧壁之间，在当从所述凹陷部看时位于所述盘基片的内圆周侧处以及在当从所述突出部看时位于该盘基片的外圆周侧处的一个侧壁部分内形成有波纹。
2.如权利要求1中所提出的光学记录介质，其中所述波纹提供至少时钟信息或地址信息。
3.如权利要求1中所提出的光学记录介质，其中为光学记录层上的每个所述道区划分的突出部和凹陷部两者都被用作记录区。
4.如权利要求1中所提出的光学记录介质，其中所述盘基片是一个塑料基片，其中一种凸凹图案被从具有相反凸凹图案的模子中传递给它和给由所述斜槽面划分的突出部和凹陷部的图案。
5.一种光学记录介质包括：
一个近似盘状盘基片，在它的表面内形成不同类型和不同深度的斜槽面并且具有由斜槽面为每个道区划分的突出部和凹陷部，
一层形成于所述斜槽面形成表面上的所述盘基片上的光学记录层，它具有对应于斜槽面的凸凹形状，及
一层形成于所述光学记录层之上的保护膜，其中
波纹被形成于所述多种类型和不同深度的斜槽面中的较浅的斜槽面的侧壁部分中。
6.如权利要求5中所提出的光学记录介质，其中
所述盘基片被形成为具有用作斜槽面的第一深度的第一斜槽面和具有比第一深度更深的第二深度的第二斜槽面，及
所述波纹被形成于所述第一斜槽面的侧壁部分内。
7.如权利要求5中所提出的光学记录介质，其中所述波纹提供至少时钟信息或地址信息。
8.如权利要求5中所提出的光学记录介质，其中光学记录层上为每个所述道区所划分的突出部和凹陷部中的一个用作记录区。
9.如权利要求5中所提出的光学记录介质，其中所述盘基片是一个塑料基片，其中一种凸凹图案被从具有相反凸凹图案的模子中传递给它和给由所述斜槽面划分的突出部和凹陷部的图形。
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