CN1304528A - 光盘及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

一种能达到15GB或更高的高密度记录的光盘及其制造方法,它具有:根据记录信号形成了凹坑列的光盘基片3、在该光盘基片3的已形成了凹坑列2的面上形成的反射膜4;以及在该反射膜4上形成的透光层5,该记录的读出即再生是从表面的透光层5侧照射波长350nm～420nm的短波长激光,读出以凹坑列形式记录的信号。并且,在该光盘上,从该再生激光所照射的透光层侧看,凹坑列包括长和宽为80nm～250nm的凹坑在内,反射膜的厚度设定为20nm以下,例如8nm以上。

Description

光盘及其制造方法
本发明涉及一种能提高记录密度的光盘及其制造方法。
过去的光盘，例如DVD(数字可视光盘)，其概要断面图如图6所示，在具有一种形成了一系列小坑的信号记录部100的透光性光盘基片101上形成厚数十nm(毫微米)，例如厚度50nm的反射膜102，在其表面上被覆形成一种例如厚度约10μm的有机材料的保护膜103而制成光盘。
从该DVD中读出信号的方法是：从透光性的光盘基片101侧通过物镜104把再生激光105射入，利用其返回光来检测信号记录部100的小坑，也就是读出记录数据。
通常的DVD，其基片厚度为0.6mm，因为透过该基片101来进行信号再生，所以，再生拾波(传感)器的物镜的数值孔径N.A.被限制在0.6左右。
但是，再生光点的尺寸与再生用激光105的波长λ和物镜104的N.A.之比λ/N.A.成正比。过去在通常的DVD中，再生波长为650nm,N.A.(数值孔径)为0.6，光盘单面的记录容量为4.7GB(千兆位)。
现假定光盘利用例如波入λ为400nm的再生激光，利用0.85的数值孔径N.A.的物镜进行再生，那么，该光盘的记录容量，若单纯地根据上述过去的DVD按比例进行计算，则该记录容量单面为25GB。
然而，这是仅仅考虑了再生用拾波器的特性，实际上还伴随进行光盘的小坑尺寸微细化和高精度化。
通常的光盘的制造方法如图7所示，首先在直径约200mm、厚度为数mm的、表面被精密研磨的玻璃圆盘106上形成一种光致抗蚀剂层107，该光致抗蚀剂对激光切割装置的记录用激光光源107的波长有充足的灵敏度，其膜层均匀，厚度约为0.1μm，是用旋转方法涂敷的。
对该光致抗蚀剂层107进行曝光处理。曝光方法是：例如利用从Kr激光器的记录用激光源108等发出的413nm的激光109，通过声光调制器、即AOM(Acausto-Optic Modulator)110按照记录信号进行通断调制，再通过扩大器111和物镜112而聚光照射到光致抗蚀剂层107上，使该激光点沿螺旋状轨迹对光致抗蚀剂层107进行扫描，形成小坑和沟槽的潜像。
然后，利用碱性显影液来对该光致抗蚀剂层107进行显影，从而把被曝光的部分溶解掉，如图8所示，在圆盘106上的光致抗蚀剂层107上形成小坑或沟槽，其结果制成原盘121，其上面形成了凹凸图形120。
并且，在该原盘121的凹凸图形120上，如图8所示，为了填埋小坑(凹坑)和沟槽，依次进行非电解镀镍(Ni)和电解镀镍，被覆形成一种厚度约300μm的金属膜122。然后，把该金属膜122从原盘121上剥离下来，利用剥离下来的金属膜112来转印原盘121的凹凸图形120，以此取得具有凹凸图形的光盘制造模123。
把该光盘制造模123放置在例如注射成形模具内，进行注射成形，如图9所示即可制作出由聚碳酸酯(PC)等构成的光盘基片101。
在该光盘基片101上形成一种转印了光盘制造模120的凹凸图形、即与底盘的凹凸图形相对应的凹坑、沟槽，形成图6的信号记录部100。
在该光盘基片101的，形成了信号记录部100的面上，如图9所示，例如利用铝(Al)靶124进行溅射，形成图6所示的反射膜102，进一步在其上面形成保护膜103。
该保护膜103是在反射膜102上通常用高速旋转涂敷法来涂敷紫外线固化树脂使其形成均匀的膜厚，然后用紫外线对其进行照射，使其硬化而形成膜。
其中，物镜112的数值孔径，通常的极限约为0.9，所以，这样，用波长413nm的激光进行图形曝光来制作原盘，在所得到的光盘上形成最短凹坑长度0.4μm和轨迹间距0.74μm的一系列凹坑。而且，凹坑的宽度、即在光盘半径方向的长度约为轨迹间距的一半即0.35μm。
这样，由于凹坑尺寸微细化和高精度化受到限制，所以利用过去的波长413nm的激光进行图形曝光，不能减小凹坑尺寸和提高其精度，制成的光盘的记录容量不能提高，例如达不到15GB以上，尤其达不到25GB。
本发明提供一种光盘及其制造方法，其记录容量可高达15GB或者更高的25GB。
本发明的光盘包括：
光盘基片，其上形成了与记录信号相对应的一系列凹坑；
反射膜，它形成在该光盘基片的已形成了凹坑的面上；以及
透光层；它形成在该反射膜上。
并且，该光盘中，对其记录进行读出、即再生是：从表面的透光层一侧照射波长350nm～420nm的短波长激光，读出以许多凹坑形式而记录的信号。
再者，该光盘，从被再生激光照射的透光层一侧来看，凹坑列中包括80nm～250nm长和宽的凹坑，反射膜的厚度为20nm以下，例如为8nm以上。
并且，本发明的光盘制造方法是按照上述的本发明来制造光盘的方法，其工艺过程如下：
光盘制造用原盘的制作步骤，这是利用波长200nm～370nm的激光根据记录信号进行曝光，形成一系列凹坑；
基片制作步骤，这是对上述原盘的一系列凹坑进行转印，形成的凹坑列中包括长和宽均为80nm～250nm的凹坑，以此制成光盘基片；以及
反射膜步骤，这是在上述光盘基片的已形成了一系列凹坑的面上被覆一层厚度为20nm以下的反射膜。
附图的简单说明
图1是本发明的光盘示例之一的概要断面图。
图2是本发明的光盘的凹坑放大断面图。
图3是表示以铝反射膜的厚度为参数的再生信号的最低晃动值的图。
图4是激光切割装置的一例的构成图。
图5是表示激光切割装置的一侧的自动聚焦光学系统的光路图。
图6是过去的光盘的断面图。
图7是过去的光盘制造用原盘制作激光切割装置的构成图。
图8是从光盘制造用原盘上制作一种制造模的状态说明图。
图9是光盘制造方法的说明图。
最佳实施例
在图1中，如其一例的概要断面图所示，本发明的光盘1，其构成部分有：
光盘基片3，其厚度为例如1.1mm，其上面形成了一系列凹坑，其中包括与记录信号相对应的凹坑2；
反射膜4，它形成在该光盘基片3的已形成了凹坑2的面上；以及
透光层5，它形成在上述反射膜4上。
并且，在该光盘1中从构成来看，其记录的读出、即再生是从表面的透光层5一侧利用波长350nm～420nm的短波长激光6来照射以许多凹坑的形式而记录的信号，并将其读出。
再者，在该光盘中，从被上述再生激光照射的透光层5一侧来看，一系列的凹坑中包括长和宽为80nm～250nm的凹坑2，反射膜4的形成材料是铝(Al)、银(Ag)、金(Au)、中的一种以上的材料或2种以上的合金材料，其厚度为20nm以下，例如8nm以上，其反射率为15％以上。
透光层5的厚度t设定为10μm～177μm，例如100μm(0.1mm)，再生激光采用短波长，例如波长350nm～420nm的例如GaN系激光器的兰紫色激光，物镜的数值孔径N.A设定为高值，例如0.85。在这样一种拾波器中能够确保光盘的倾斜允许值、即所谓倾斜安全系数。
换言之，若按照本发明的光盘，则不是像过去那样，光盘的构成是从较厚的例如0.6mm光盘基片一侧进行再生激光照射，而是从非常薄的例如0.1mm的透光层5一侧进行再生激光照射。因此，可以使用数值孔径N.A.例如为0.85的物镜，能使激光束点达到微小化和高密度化。
但是，如上所述，若使凹坑微细化，则在和过去通常的方法一样进行反射膜形成时，不能再生出良好的信号。
例如，按照最短凹坑长220nm、轨迹间距410nm的EFM(Eight toFourteen Modulation：八比十四调制)信号进行记号，设定为光盘单面记录容量15GB左右的一系列凹坑的情况下，若形成像过去那样例如30nm左右的Al反射膜，则凹坑内部被填埋的尺寸相当于该反射膜的厚度，因此，不能把从透光层5一侧来看的凹坑尺寸设定到上述目的尺寸。
例如，如图2所示，相对于光盘基片3的形成凹坑2的主面3a，出现了具有角度θ的锥度的断面形状，反射膜5例如通过溅射在凹坑2的壁面、底面和主面上形成均匀厚度T的膜层的情况下，由于反射膜4的厚度T和凹坑底面的长度A产生影响，反射膜4形成后利用再生激光对凹坑进行照射，从透光层5一侧来看，凹坑的有效长度B如下式所示。
B=A-2·T·tan(θ/2)
倾斜角θ通常约为40°～80°。并且，凹坑底面的长度A受倾斜角θ的影响，对最短的凹坑来说该A值大大减小，例如若凹坑深度为90nm,θ为60°，则在轨迹方向上A为120nm，在光盘半径方向上A为100nm。
所以，当反射膜为30nm以上时，有效凹坑尺寸B值，在轨迹方向上为85nm，在光盘半径方向上为65nm，将减小到上述正常凹坑尺寸的约三分之一。
另一方面，即使相当于最短凹坑长度的约3.7倍的最长凹坑，也出现同样的凹坑缩小效果，轨迹方向的凹坑长度的缩小率约为正常凹坑长度的75％。若产生这种凹坑长度相对于正常尺寸的偏差、最短、最长凹坑长度的不均衡，则再生信号受其影响，跳动严重恶化。
与此相比，在上述本发明的光盘中通过将其反射膜4的厚度控制在20nm以下，即可避免跳动恶化。
也就是说，本发明的光盘，从在信号凹坑上形成的反射膜4一侧照射再生激光进行记录数据的再生(读出)时，能避免由于反射膜4填埋而形成250nm以下的微小尺寸的凹坑系列，从而造成再生信号质量恶化。
图3是在形成了实际相当于15GB密度的EFM信号凹坑列的光盘上，以其Al反射膜厚度为参数分别设定为15nm、20nm、30nm时的再生信号的最低跳动值测量结果。
这时的光盘结构是在从透光层5一侧照射激光，进行信号读取的情况，透光层5的厚度定为100μm。这时，再生光学系统是在波波长为532nm，但N.A.为0.94时。并且图3的横坐标是再生信号不对称性，纵坐标是跳动值。
从图3中可以看出：Al反射膜的厚度为过去的30nm时，最低跳动值增加到接近10％，信号质量欠佳，但厚度为20nm以下时最低跳动值接近8％，厚度为15nm以下时跳动值约为6％，达到了良好的要求。
然而，为了防止最短凹坑被反射膜填埋，若单纯减小该膜厚，则光盘基片3的反射率降低，所以再生信号的S/N比(信噪比)变坏。因此，最好使膜厚为8nm以上。
表1表示读取用激光器(波长407nm)在Al反射面上的反射率对Al反射膜厚度的依存性。
表1
 Al反射膜厚度(nm) 40  30  20  15  8  5
反射率(％) 88  82  67  43  15  8
从上述情况中可以看出：当采用膜厚8nm～20nm、反射率为15％以上的构成时，在15GB以上的大记录容量光盘上可以获得优质的再生信号。
并且，本发明的光盘的反射膜4，除了广泛利用的Al以外，如上所述，还可以采用膜的厚度小、反射率高的金属Au(金)和Ag(银)等金属材料、或者其两种以上的合金材料、或者在这些材料中添加Ti(钛)等的金属(合金)材料。
并且，本发明的光盘可以在反射膜4和透光层5之间形成例如采用GeSb、Te等的相变膜等信号记录膜，构成所谓能反复记录数据的光盘。
本发明的光盘也还可以使反射膜4和信号记录膜二者均形成2层以上，或者在本发明中仅使信号记录膜形成2层以上，制成所谓多层结构的光盘。
例如，具有凹坑列的信号记录膜分别通过具有规定反射率的反射膜来进行积层，通过采用这种结构，即可构成这样一种光盘：即利用在再生时把再生激光聚焦到各个信号记录膜上等方法，从各信号记录膜中再生出记录信号。
以下详细说明本发明的光盘制造方法。利用这种制造方法，可以制造出凹坑长和宽为80nm～250nm的凹坑列的光盘。
本发明的光盘制造方法包括以下步骤：
光盘制造用原盘的制作步骤，利用波长200nm～370nm的激光根据记录信号进行曝光，形成凹坑列；
制作光盘基片的步骤，对该原盘的凹坑列进行转印，形成一种凹坑列，其中的凹坑长和宽均为80nm～250nm；以及
成膜步骤，在该光盘基片的已形成了凹坑列的面上形成厚度为20nm以下的反射膜。
在本发明的制造方法的原盘制作曝光步骤中，利用所谓激光切割装置来进行曝光。现参照图4的概要构成图，详细说明该激光切割装置的一例。
该激光切割装置采用短波长的记录用激光。但其基本构成通常可以按照过去的激光切割装置。
在该装置中，设置了一种产生波长266nm的激光的记录用激光源20。该记录用激光源20由固体激光器21、相位调制器22、外部谐振器23和变象光学系统24构成。
固体激光器21具有例如YAG(钇铝柘榴石)激光器(波长1064nm)、以及将其激光变换成二倍频的532nm的SHG(二次谐波发生器)。并且，把来自该固体激光器21的激光经过相位调制器22引入到外部谐振器23内。该外部谐振器23具有以下波长变换光学晶体25和光谐振器；该波长变换光学晶体25利用透光性很高，达到这紫外区的例如BBO(β-BaB2O4)晶体进一步变换成2倍频，定为266nm；该光谐振器例如利用反射镜M1～M4形成所需的谐振器波长。在图中，反射镜M1和M2由具有所需反射率和透过率的反射镜构成，反射镜M3和M4例如由具有几乎100％的反射率的反射镜构成。并且，一个反射镜，例如M3可以利用所谓VCM(音圈马达)构成的电磁驱动机构26来进行移动调整，能控制谐振波长。并且，利用光电二极管PD等光检测器27从该谐振器中检测出例如透过反射镜M1的光，利用该输出来控制驱动机构26，进行伺服控制，以便形成最佳谐振波长，取得一种由高输出时稳定的连续振荡波长所决定的266nm的激光。并且，利用变象光学系统24来对由外部谐振器26取出的激光进行光束整形。这样，可以从记录用激光源20中引出波长266nm的数十mW的高输出稳定的连续振荡激光50。
并且，从该记录用激光源20中取出的激光50例如由分光束镜28进行分离，一部分激光由光电二极管等光检测器29来监视激光50的功率等。
再者，由分光束镜28分离出的其他激光被聚光镜30将其会聚到例如采用AOM(声光调制器)的调制器31内，这样根据记录信号进行调制，被调制后的激光被引向准直透镜32、分光束镜33、以及由透镜34和35构成的光束扩展器36，利用该光束扩展器36进行扩大，作为该入射光瞳径的数倍的束径而射入到物镜39内。40是把从光束扩展器36来的激光对准到物镜37上的反射镜。
被物镜37聚光后的激光被照射到涂有感光膜的圆盘39上，该圆盘用于制作光盘制造用原盘，它被安装在高精度旋转的空气轴的旋转台38上。
该涂胶圆盘39利用旋转台38的旋转以其中心轴为中心进行旋转。该圆盘39的构成是：在构成圆盘的基板，例如玻璃圆盘上预先涂敷一种对激光50的波长有感光性的感光胶层。
并且，利用上述调制器31根据记录信号进行通断的曝光的激光50以0.3μm以下的光点尺寸照射到上述已涂感光胶的圆盘39上。
另一方面，设置一种沿旋转台31的半径方向移动的移动光学台41，其上配置例如光束扩大器36以及图中未示出的以后待叙的自动聚焦光学系统。
这样，利用该移动光学台41的移动和旋转台38的旋转，使曝光用的激光在圆盘39的感光胶层上扫描成例如螺旋状或环状。
另一方面，通过上述准直透镜32来到分光束镜33，由此被分离的一部分激光被光电二极管等光检测器42检测出来，对调制激光进行监视。
并且，对圆盘39的曝光激光，其返回光透过分光束镜33，例如用反射镜43、44、45等来延长光路长度，用聚光透镜46进行聚光，利用曝光激光的监视用的例如CCD(电荷耦合器件)型监视相机47来对曝光激光进行监视。
并且，物镜37，其焦点平时通过聚焦伺服而对准到圆盘39的感光胶层上。
进行聚焦的自动聚焦伺服装置的光学系统被配置在上述移动光学台41上。该自动聚焦伺服装置的光学系统一例的概要构成示于图5。物镜37例如由VCM构成的驱动机构60进行支承，以便在光轴方向上进行微小移动。
在此情况下，上述光学系统由自动聚焦用的激光源61、光学透镜62、63、反射镜64、65、位置检测元件(PSD)66构成。
激光源61可以由例如频率400MHz、脉冲能率50％的高频叠加的波长680nm的半导体激光器构成。
从该激光源61来的激光67对透镜62、63的光学系统光轴倾斜，通过物镜37向圆盘39上照射，其返回光通过反射镜65，由位置检测元件(PSD)检测出来，利用该检测输出来控制驱动机构60，使物镜向该光轴方向移动，进行聚焦控制。
这种构成的聚焦伺服装置的光学系统，因为不使用过去通常的聚焦伺服中的偏振光分光束镜PBS和1/4波长板QWP等偏振光光学系统，所以，不受这些光学零件的孔径的限制，能充分增大向物镜37的入射激光倾斜角。也就是说，从射入到物镜37内的激光源61来的前进路的激光67a、和通过物镜37，从圆盘39的感光胶表面上返回来的光，即返回路的激光67b之间，能形成很大的孔径角，能把这些前进路和返回路的激光67a和67b完全分离开，能利用位置检测元件66准确地检测出聚焦状态，即能准确地获得聚焦伺服信号。
通过采用这种所谓无偏振光自动聚焦光学系统构成，能尽量扩大向物镜37的入射激光67a的倾斜角，物镜入射高度也能达到足够大的值。所以，利用与上述物镜入射高度成比例的式子来表示的光学增益，与过去的自动聚焦光学系统相比，也能大大提高，非常有助于改善自动聚焦光学系统的伺服特性。
也就是说，在自动聚焦光学系统中，在位置检测元件上，除了在曝光感光胶层表面上反射，通过物镜返回来的本来应当检测的曝光激光外，还存在一种未到达感光胶层表面，而在物镜背面、即物镜与感光胶层的对置面的反面上进行反射，直接返回来的、稍被扩展的激光(以下简称为杂波激光)，该杂波激光作为位置检测元件的检测输出的背景杂波成分对自动聚焦伺服动作产生不良影响。
并且，若该杂波激光对本来应当检测出的从感光胶层来的返回光产生干扰，生成干涉条纹，则伺服特性将大大下降，所以这种干涉条纹将产生严重的影响。通常不加高频重叠的激光，可干涉距离为数十cm，所以，其本来应当检测的从感光胶层来的返回激光、和从物镜背面来的反射光所造成的杂波激光的光路差大致上在该范围内。因此，很难避免产生位置检测元件中的干涉条纹。
并且，该干涉条纹随着物镜光轴上的微动而移动，在位置检测元件上流动，结果，造成本来的返回激光的位置检测信号不准确。实际上，若在产生干涉条纹的状态下使自动聚伺服进行动作，则伺服频繁地进行振荡，很难保持正常的自动聚焦动作。
与此相反，当利用上述加上了例如400MHz的高频重叠的激光源61时，其可干扰距离大大减小，所以，能够避免本来的返回(返回路)激光67b受到从物镜背面来的反射光所造成的杂波激光的干扰。也就是说，只有本来应当检测的激光67b被投射到位置检测元件66上，所以，能够准确地检测出切割用激光点在感光胶层上的位置。实际上，已经证明，采用这种构成时，自动聚焦伺服几乎没有振荡，能保持正常的自动聚焦伺服动作。
采用上述图5所示的自动聚焦光学系统的激光切割装置，能实现极稳定的高精度自动聚焦伺服动作，能非常稳定地、高效率地进行高记录密度的光盘切割。
所以，利用该激光切割装置能制作出这样的光盘制造用原盘，即利用该原盘能制成具有15GB密度的凹坑列的光盘基片。
以下详细说明利用上述激光切割装置来制作该原盘的方法的一例。
首先，准备一种直径约200nm、厚度为数mm、表面经过精密研磨的原盘制作用基板玻璃圆盘，准备这样一种已涂胶原盘39，即在上述精密研后面上形成一种感光胶层，其方法是通过高速旋转而均匀地形成一种厚度约0.1μm的膜层，该感光胶对上述记录用激光50的远紫外区的波长(波长266nm)的激光有很高的灵敏度。
然后，利用图4和图5所说明的激光切割装置，把记录用激光50照射到已涂胶的圆盘39上，该激光被约0.9的高N.A物镜37会聚成0.3μm以下的光点尺寸。这时，激光50例如用AOM调制器31根据记录信号使激光束通断，同时如上所述在圆盘39上按螺纹状或环状轨迹进行扫描，形成一种凹坑列的凹坑图形潜像，其中包括扫描轨迹方向的长度和光盘半径方向的宽度均为80nm～250nm的凹坑(曝光步骤)、该凹坑列的轨迹间距为150nm～450nm。
这样，已形成了凹坑或沟槽状图形的潜像的涂胶圆盘39若被浸渍到碱性显影液内，使感光胶的例如已被曝光的部分进行溶解，则在圆盘39上可以得到一种凹坑列的凹凸图形，其中包括扫描轨迹方向长度和光盘半径方向宽度均为80nm～250nm的凹坑(显影步骤)。
这样即制成一种光盘制造用的原盘，其上利用感光胶层的图形而形成了凹凸图形。
并且，在该原盘上利用溅射法或非电解镀法淀积一层厚度为数百埃的Ni(镍)薄膜，将其作为导电膜，在其上面，通过电镀而形成像图8所示的金属层，并且通过对该金属层的剥离而制作成厚度约300μm的Ni光盘制造模。对该Ni制造模进行背面研磨和端面处理等(光盘制造模制作步骤)。
然后，把该Ni模布置在模具内，例如用聚碳酸酯(PC)等进行注塑成形，制造成作为Ni模的复制品的例如直径120mm的图1所示的塑料光盘基片3。
在这样制成的光盘基片3的信号记录部上转印出一种由凹坑列和沟槽形成的凹凸图形，其中包括通过上述切割而记录的、扫描轨迹方向长度和半径方向宽度均为80nm～250nm的凹坑(转印步骤)。
接着，用溅射设备在光盘基片3上形成了凹坑或沟槽状图形的信号记录部侧的面上淀积一层厚度为20nm以下，例如15nm的Al反射膜4(反射膜形成步骤)。
再者，在该金属反射膜4上例如旋转涂敷一层紫外线硬化树脂并用紫外线照射使其硬化，形成厚度约为0.1mm的透光层5(透光层形成步骤)。这样一来，就制成了图1所示的本发明的光盘1。
上述利用本发明制造方法来制造的本发明的高记录密度的光盘3的再生用激光6的束点直径最好为200nm～500nm。
而且，在上述实施例中所示的各部分的具体形状和结构只不过是表示本发明实施例的一个示例，不能将其用来解释和限定本发明的技术范围。
如上所述，本发明的光盘具有：形成了与记录信号相对应的凹坑列的光盘基片、在光盘基片的形成了凹坑列的面上淀积的反射膜、以及在反射膜上形成的透光层，从透光层一侧照射激光，读出以上述凹坑列形式记录下来的信号。在这种光盘中，从透光层来看的凹坑列包括长和宽为80nm～250nm的凹坑，反射膜的厚度为20nm以下，所以，当切割250nm以下的微小尺寸凹坑列时，也不会由反射膜来填埋凹坑，使再生信号质量变坏，所以，能获得质量良好的高密度记录光盘。
并且，因为利用铝、银、金中的一种以上的材料、或者包含其在内的合金材料来形成反射膜，所以，对激光进行反射的反射膜材质采用最佳材料，这样，高密度记录的光盘反射膜可以达到良好的反射特性。
并且，通过把反射膜的反射率控制在15％以上，即可准确地读出凹坑列上记录的信息。
再者，本发明的光盘制造方法，是把根据记录信号在原盘上曝光形成的凹坑列转印到光盘基片上，该制造方法具有：
曝光步骤，利用波长为200nm以上的激光，曝光形成包括长和宽均为80nm～250nm的凹坑在内的凹坑列；
转印步骤，把在原盘上形成的凹坑列转印到光盘基片上；以及
成膜步骤，在光盘基片的转印了凹坑列的面上形成厚度为20nm以下的反射膜，所以，在切割250nm以下的微小尺寸的凹坑列时，也不会由反射膜把凹坑填埋，造成再生信号质量下降，所以，能制造出高密度记录光盘。
并且，利用铝、银、金中的一种以上的材料、或者其合金材料来形成反射膜，所以对激光进行反射的反射膜材料采用最佳材料，即可制造出反射膜具有良好反射特性的高密度记录光盘。
再有，通过把反射膜的反射率控制在15％以上，即可制造出能准确地读出凹坑列上记录的信息的高密度记录光盘。

Claims (15)

1．一种光盘，包括：
光盘基片，其上面形成了与记录信号相对应的凹坑列；
反射膜，它形成在上述光盘基片的已形成了凹坑列的面上；以及
透光层，它形成在上述反射膜上，
从透光层侧照射波长350～420nm的激光，读出上述凹坑列形式记录的信号，
其特征在于
从上述透光层侧看的凹坑列中包括长和宽为80nm～250nm、的凹坑；
反射膜的厚度在20nm以下。
2．如权利要求1所述的光盘，其特征在于：在反射膜和透光膜之间具有相变膜等信号记录膜。
3．如权利要求2所述的光盘，其特征在于：反射膜和/或信号记录膜形成2层以上。
4．如权利要求1所述的光盘，其特征在于：反射膜是利用铝、银、金中的一种以上材料或2种以上的合金材料形成的。
5．如权利要求2所述的光盘，其特征在于：反射膜由铝、银、金中的一种以上材料或2种以上的合金材料形成。
6．如权利要求3所述的光盘，其特征在于：反射膜由铝、银、金中的一种以上材料或2种以上的合金材料形成。
7．如权利要求1所述的光盘，其特征在于：反射膜的反射率为15％以上。
8．如权利要求2所述的光盘，其特征在于：反射膜的反射率为15％以上。
9．如权利要求3所述的光盘，其特征在于：反射膜的反射率为15％以上。
10．如权利要求4所述的光盘，其特征在于：反射膜的反射率为15％以上。
11．如权利要求5所述的光盘，其特征在于：反射膜的反射率为15％以上。
12．如权利要求6所述的光盘，其特征在于：反射膜的反射率为15％以上。
13．一种光盘制造方法，其特征在于包括：
光盘制造用原盘的制作步骤，利用波长200nm～370nm的激光根据记录信号进行曝光，在原盘上形成凹坑列；
光盘基片制作步骤，转印该原盘的上述凹坑列，在基片上形成一种包括长和宽均为80nm～250nm的凹坑在内的凹坑列；以及
成膜步骤，在该光盘基片的已形成了上述凹坑列的面上形成厚度为20nm以下的反射膜。
14．如权利要求13所述的光盘制造方法，其特征在于：利用铝、银、金中的一种以上的材料或含有它的合金材料来形成反射膜。
15．如权利要求13所述的光盘制造方法，其特征在于反射膜的反射率被设定为15％以上。
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