TWI292910B - - Google Patents

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TWI292910B
TWI292910B TW091112359A TW91112359A TWI292910B TW I292910 B TWI292910 B TW I292910B TW 091112359 A TW091112359 A TW 091112359A TW 91112359 A TW91112359 A TW 91112359A TW I292910 B TWI292910 B TW I292910B
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TW
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recording
recording medium
substrate
groove
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Sabi Yuichi
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Description

1292910 A7
’現已廣泛使用功能性有 生產作為追記式光碟(CD- 後術領域 本發明係關於一種光記錄 nm〜㈣—㈤ 系體特別疋使用波長λ 380 細伽⑽範圍的照射光進 去分粗从* 4 j丨〜丹生,使用有機色 /、材料作為其έ己錄膜的具有 -V' 4, ^ Λ. „ 優良再生輪出特性的相位調變 式光冗錄媒體。 背景技術 就追記式光碟用記錄材料而言 機色素材料,特別是廉價的大量 R) 〇 、此外,DVD(數位影音光碟)的光學系統也作為只寫一次 式DVD-R,匯集追記式規格,已在市面出售。 再者,作為謀求高記錄容量化,即高記錄密度化的現在 稱為所謂次世代光記錄媒體的光碟,正在研究從形成於記 錄面上的光透過性保護膜側對於記錄面通過數值孔徑N. A. 0·85的物鏡照射綠紫色光的短波長照射光的規格化。 且說在進行這種高Ν.Α.化和再生照射光短波長化,從光 透過性保護膜側形成對於記錄面的再生照射光的光記錄媒 體(以下將此光記錄媒體為了方便起見稱為D VR)方面,亦 可進行以所謂存檔(archive)記錄為目的之一次追加記錄, 並不可消除該記錄而多年穩定保持的追記式光記錄媒體 (DVR)的必要性提高。 進行這種規格化研究的光記錄媒體(DVR)雖然其記錄膜 以相變材料為基礎,但在此光記錄媒體形成追記式結構 時’其記錄膜在製造簡易化、成本低廉化方面也希望使用 「淨紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公爱) 裝 訂
線 1292910
CD-R之類的有機色素材料。 然而’在上述短波長、高N A.的追記式光記錄媒體 (DVR)方面,要適用習知追記式cd-R或DVD-R的見解有 問題。 即,在因谋求南記錄密度化,即高解析度化而適用波長 380 nm〜450 nm,例如405 土 5 nm這種短波長綠紫色光源的 光記錄媒體方面,利用有機色素材料構成其記錄膜時,構 成其記錄膜的有機色素材料特性和CD-R或DVD-R不同, 光學特性、光學條件不同,要適用通常的cd_r*dvD_r 的見解有問題。 例如考慮照射光波長的不同,變更形成於光記錄媒體基 板的例如追記用槽等凹部深度這種對應,不能進行得到優 良再生特性的最佳化。 此外,在上述光s己錄媒體(D V R )方面,軌道間距比習知 光記錄媒體的軌道間距格外小。例如C 〇的執道間距為丨6 //m,與其相比為例如〇· 3 “瓜程度。這種情況,成為問題的 是形成於光碟基板的追記用槽側壁的傾斜。 通常的CD等的槽或坑等細微凹凸的形成在製作光碟基板 方面,係藉由使用具有與槽對應的細微凹凸圖案的壓印模 (stamper)的射出成型、2P法(光聚合法)等形成。 此壓印模的製作雖然藉由母盤製作,即使用光阻的母盤 製作(mastering),此母盤製作的對於光阻的圖案曝光通常 使用藍色光、紫外光,但如上述DVR,在窄小的軌道間距 方面’若是藉由上述光的圖案曝光,則槽側壁面變成平緩 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 1292910 A7 B7 五、發明説明(3 ) 的傾斜面。 於是,謀求藉由電子束緣圖進行對於光阻的圖案曝光或 在光學系統方面,藉由將聚㈣鏡接近配置於曝光面,形 成所謂近場(near fleld)結構,謀求光點系統縮小化等使槽 側壁面陡峭化的方法等改善化,但對於槽側壁最佳化的研 究亦不足,尚未謀求足夠再生輸出的改善。 發明之揭示 本發明在於上述現在作為所謂次世代光記錄媒體的進行 再生照射光短波長化,從光透過性保護膜側形成對於記錄 面的再生照射光的追記式光記錄媒體,提供一種可得到高 再生輸出、具有優良再生特性的光記錄媒體。 即,本發明之光記錄媒體係通過數值孔徑n a 〇 85士〇仍 範圍的光學系統,藉由照射波長λ38〇 nm〜45〇nmg圍的光 進行記錄部再生之相位調變式光記錄媒體,具有在形成凹 部的基板上形成至少一層以上的記錄膜和一層以上的金屬 膜的結構。其記錄膜的一層以上係包含可吸收雷射光分解 而折射率變化的有機物質而成的結構。 再者’在此結構特別是以基板凹部寬度為〇 i 以上 〇 · 2 1 //m 以下。 此外,此結構在於在基板凹部上進行金屬膜成膜的結 構’以在金屬膜表面形成的凹部寬度為〇 1〇#m以上〇 15//m 以下。 此外’本發明之光記錄媒體係藉由照射波長λ 380 nm〜450 nm範圍的光進行記錄部再生之相位調變式光記錄媒 ί ί本紙紅度適财a國家標準(CNS) χ 297公复) 1292910 A7
體,在形成其凹部的基板上具有至少一層以上的記錄膜和 一層以上的金屬^成,其記錄膜的一層以上具有包含吸 收分解雷射光、折射率變化的有機物質的結構。而且,以 此基板凹部深度為4〇 nm以上65 nm以下,記錄膜的折射率 變化的有機物質係其記錄前的折射率具有14以下的特性的 有機物質。 —此外,本發明之光記錄媒體係使用波長;1 380 nm〜450 nm 範圍的照射光進行記錄部再生之相位調變式光記錄媒體, 在幵成/、凹邛的基板上具有至少一層以上的記錄膜和一層 以上的金屬膜而成,記錄膜的一層以上具有包含吸收雷射 光分解,而作折射率變化的有機物質的結構。而且,以此 基板凹部深度為75 nm以上115 nm以下,用作記錄膜的折射 率變化的有機物質係其記錄前的折射率具有1 · 6以上的特性 的有機物質。 此外,上述各本發明之光記錄媒體以其基板凹部侧壁的 傾斜tan Θ為2 (但是θ為側壁面和凹部底面形成之角)以上。 上述各本發明之光記錄媒體在於被高記錄密度化的由相 位調變方式進行再生的光記錄媒體,如從後述之處明白, 可得到最佳的信號輸出。 附圖之簡單說明 圖1為顯示本發明光記錄媒體基本構造的截面圖,圖2為 本發明光記錄媒體的模式平面圖,圖3為本發明光記錄媒體 凹部側壁傾斜的說明圖,圖4A及圖4B為顯示供作本發明說 明的§己錄則及記錄後的光學特性變化的特性圖,圖5 a及圖 务紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 1292910
5B為顯示供作本發明說明的記錄前及記錄後的光學特性變 化的特性圖,圖6為顯示本發明光記錄媒體的再生信號波形 之圖,圖7為顯不關於槽長方向的再生信號立準之圖,圖8 為顯示再生信號振幅槽寬相關性之圖,圖9為顯示以槽寬為 大時的關於槽長方向的再生信號位準之圖,圖1〇為顯示光 記錄媒體的再生信號振幅的槽深度相關性之圖,圖〗丨為顯 示供作本發明說明的光記錄媒體的氮化矽膜厚和調變度及 反射率的關係之圖,圖1 2為顯示供作本發明說明的再生信 號振幅的槽深度相關性之圖,圖丨3為顯示供作本發明說明 的光ό己錄媒體的槽深度和調變度及反射率的關係之圖,圖 1 4為顯示供作本發明說明的再生信號振幅的槽深度相關性 之圖,圖1 5為顯示供作本發明說明的光記錄媒體的氮化石夕 膜厚和調變度及反射率的關係之圖,圖1 6為顯示供作本發 明說明的光記錄媒體的槽深度和調變度及反射率的關係之 圖’圖1 7為顯示供作本發明說明的再生信號振幅的斜坡傾 斜寬度相關性之圖,圖18為顯示供作本發明說明的調變度 及反射率的斜坡傾斜寬度相關性之圖,圖1 9為顯示供作本 發明說明的再生信號振幅的槽寬相關性之圖,圖2 0為顯示 供作本發明說明的光記錄媒體的槽寬和調變度及反射率的 關係之圖。 實施發明之最佳形態 本發明之追記式光記錄媒體的實施形態為追記式光碟, 採取物鏡的數值孔徑Ν.Α. 0.85土0.05、波長久380 nm〜450 nm (以下稱此N . A.及;I為D V R參數)的綠紫色區域的雷射 ί:茶紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 1292910 A7 B7 警 五、發明説明(6 ) 的再生形態或者再生及記錄形態。 然而,本發明並不限於光碟,按照使用形態可採取例如 卡片等形態。 本發明之光記錄媒體,例如光碟之記錄膜係其至少一層 由例如因上述波長的光照射記錄而折射率變化的有機物 質’具體而言有機色素材料構成。 圖1顯示本發明之光記錄媒體ίο ,例如光碟基本結構的 概略戴面圖,圖2為模式顯示形成記錄記號M的狀態的要部 平面圖。 此光記錄媒體1 0在凹部2,例如追記用的連續槽或斷續 槽等凹部2形成於至少一主面的基板丨上形成金屬膜3、記 錄膜4、介質膜5,在其上貼面形成以旋塗形成有例如厚度 〇·1 mm的光透過性樹脂膜的光透過性保護膜6。 記錄膜4的有機色素膜由例如旋塗所形成。 此有機色素膜的色素使用如在圖4A及圖4B顯示記錄前及 δ己錄後的光學常數(折射率n、吸收率k)的光諸圖般地顯示 舌己錄則的折射率比記錄後的折射率高的值的特性(以下稱為 L-edge特性)’或者如在圖5 Α及圖5 Β顯示記錄前及記錄後 的光學常數的光譜圖般地顯示記錄前的折射率比記錄後的 折射率低的值的特性(以下稱為S - e d g e特性)的有機色素。 有機色素膜在波長400 nm附近吸收光譜不存在時,如在 圖4B或圖5B顯示光學常數的光譜圖,成為折射率^ 15、 吸收係數k接近0的值。而且,為了得到再生信號,需要記 錄前’即有機色素熱分解前和記錄後,即熱分解後的折射
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線 K淹紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 1292910 A7 B7 五、發明説明(7 ) 率η變化’此記錄前和記錄後的折射率差a η最好是〇.丨以 上。 由具有L· edge特性的有機色素材料構成有機色素膜,該 有機色素材料具有例如從在圖4 A所示的記錄前的折射率比 1.5咼的值’具體而言顯示1 6以上的狀態,在熱分解後, 即記錄後,如圖4B所示,降低到接近1.5的值的特性。 或者可由具有S-edge特性的有機色素材料構成,該有機 色素材料係從在圖5 A所示的記錄前的折射率比丨5低的 值’具體而έ顯示1 · 4以下的狀態,在記錄後如圖5 b所 示,顯示高的值。 在本發明之光記錄媒體10,基板的凹部2,即槽2形成在 基板1側凹下的形狀,稱這些槽間為小島(1 a n d)部7。 在本發明之光記錄媒體,記錄膜4的有機色素膜藉由選定 旋塗的塗佈量、轉數、溫度、濕度,以凹部2内,即槽内的 膜厚為大,小島部7上的膜厚形成壁薄。 而且,以此凹部2内,即槽内為記錄部。即,在此凹部2 内形成記錄記號Μ。 如此,藉由以記錄部為槽内,謀求記錄執道間的互寫 (cross write)減低化。 這是因為有機色素膜的記錄係記錄由光學常數(η,“變 化產生的光通路長度變化作為信號,若其膜厚薄,則調變 度降低,U凹部2内為記錄料,在壁薄的小島部因其調變 度低而幾乎無助於檢測信號。 在本發明光記錄媒體10的實施形態例,適用前述DVR參 -10 - :淨紙張通用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公董) 1292910 A7 ___ _____B7 五、發明説明(8 ) 數的光學系統,從其光透過性保護膜6側以物鏡丨丨會聚照 射雷射光9。 圮錄膜4由至少一層以上的構成膜構成,其至少一層以上 由及收刀解上述雷射光、因上述L-e(jge特性或特性而 折射率變化的有機物質膜,具體而言有機色素膜構成,在 凹邛2,即槽内藉由此折射率變化進行記錄記號M的寫入。 具有凹部2的基板丨的形成係準備與凹部2的圖案對應的 凸部,即對於凹部2的圖案具有反轉圖案的壓印模 (stamper),為藉由使用將此壓印模配置於模槽内的金屬膜 的射出成型構成的例如聚碳酸酯(p C )樹脂等所形成。 或者可用2P法製作具有凹部2的基板1。 即,這種情況係在具有平坦面的基板上以旋塗等塗佈紫 外線硬化樹脂,藉由在此樹脂層推壓上述壓印模,形成凹 邓2,藉由照射紫外線加以硬化而形成具有所需圖案的凹部 2的基板1。 在上述結構,將凹部2的平均寬度WG( =(底部側寬度 w〗+開口側寬度w2)/2 :以下同樣)選定在〇1〇#m〜〇 2i# m(參考圖3)。 或者將在形成於基板1上的金屬膜表面所形成的凹部2的 寬度W G選定在0.1 〇 〜0.15//m。 凹部2的冰度D在於其記錄膜的有機色素膜具有記錄前的 折射率1.4以下的S-edge特性的結構,定為40llm〜65nm。 或者凹部2的深度D在於其記錄膜的有機色素膜具有記錄 前的折射率1.6以上的L_edge特性的結構,定為75 nm〜U5 -11 - : 紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) " " ---- 1292910
nm ° 再者,如圖3所示,凹部2的側壁以的斜率以此側壁以和 凹部2底面形成之角為㊀時,定為Un0 。 此外,為了減低互寫,最好凹部2的寬度WG,即槽寬狹 乍。這疋因為槽寬狹窄時,在於一定的軌道間距下,因照 射光光點的光分佈的光量小的部分來到鄰接槽的部分變少 而可實質謀求互寫的減低化。 附帶一提,此互寫的減低化係關於相位調變方式的以有 機色素膜為記錄膜的結構的情況的特徵,和以相變材料為 記錄膜,直接讀出記錄部反射率變化的反射率調變方式的 光s己錄媒體的情況不同。 其次,說明本發明光記錄媒體的實施例。 【實施例1】 在此實施例,凹部2係成為追記導溝的槽,此槽係其深度 1 0 0 nm、槽寬0 · 1 2 /zm、間隔0 · 6 、槽侧壁的傾斜在圖 3形成tan0 =2的情況。 而且’在此實施例使用此凹部2,即槽形成於一主面的聚 碳酸酯(PC)樹脂的基板1,在形成此槽的面形成以錢鍍形 成厚度20 nm的銀的金屬膜3 ’在其上貼面形成有機色素膜 的記錄膜4、厚度10 nm的氮化矽的介質膜5、光透過性保 護膜6,製作相位調變方式的光碟。 有機色素膜以旋塗形成。這種情況,其厚度在槽内為 1 70 nm,在小島部上為70 nm。 此外,在此實施例使用有機色素膜具有上述L-edge特 -12 - 紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公A) 1292910 A7 B7
五、發明説明(10 性’光學常數在波長4〇5 nm在記錄前(n,k)二(2.0,〇 〇5), 在記錄膜後變成(η,k) = (1.5,0)的有機色素材料的三苯胺 衍生物。 附帶一提,此膜結構為了容易發生相位調變,如記錄前 和記錄後的折射率是仍然高的狀態般地進行膜設計。即, 槽内的記錄前的反射率為2 6 %,記錄後的反射率為3 2 〇/〇。 此外,小島部的反射率成為32%。 對於此光§己錄媒體’在其槽内記錄〇 · 6 9 /πη記號和〇 . 6 9 //m空間重複的記錄記號μ。這種情況,如圖2模式地顯 示’記號寬度遍及槽寬的大致整個區域形成。 圖ό顯示此實施例丨的光記錄媒體的記錄記號%的再生波 形’即返回光量的波形。 再者,將此實施例1選定與其對應的參數而藉由電腦模擬 更進一步研究。這種情況的計算方法使用所謂夫琅和費 (Fraunhofer)衍射理論。此計算結果和實驗結果極為非常一 致。此外’為了與槽形狀的微妙變化亦可對應,使計算表 數成為高分解,光碟上的解析度定為1〇11111。藉此,此使實 驗結果和計算結果忠實地一致。 此外,用於計异的具體參數設定成以作為光源的半導體 雷射的擴展角為40及20,將2倍的變形棱鏡配置於平行光 管透鏡的後段,和全向40°的擴展角成為等效。平行光管透 鏡的焦點距離定為10 mm。物鏡的半徑(孔徑半徑)為i 3 mm,數值孔徑ν·Α·為0.85。傅里葉(F〇urier)變換在孔徑 面上的分佈,投影於由透鏡的Ν· A.及波長所規格化的光碟 -13 - 香紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 1292910 A7 B7 五、發明説明(11 ) 上,將考慮溝形狀、膜結構而所給與的複反射率以上述1 〇 n m的解析度和入射光量相乘,藉由傅里葉逆變換,得到回 到物鏡孔徑的光量。然後,使回到此物鏡孔徑的光量全部 回到信號檢測用的檢測器上而算出檢測信號。 然而’監視0 · 6 9 /zm記號和0.6 9 //m空間重複的載波,觀 察振幅、調變度。 5己錄於此槽2内的s己5虎Μ的形狀係如圖2模式所示的所謂 運動%形’記號寬度為0.12 //m。此外,和實施例1同樣, 槽深度100 nm、槽寬度0· 12 /zm、槽間隔〇.6 //m。此外, 以和實施例1對應的側壁斜坡傾斜寬度d(投影到圖3所示的 侧壁2a的槽底面的延長水平面的寬度d)為40 nm。 圖7顯示在選定此參數的計算結果。得知圖6所示的實施 例1的波形與此圖7完全對應。 【實施例2】 圖8顯示在實施例1的光記錄媒體方面改變其槽寬而測量 各個再生信號振幅,即返回光量的結果。如由此明白,得 知若超過某種程度增大槽寬,則信號振幅降低。這是因為 右槽寬度比記號寬度大,則再生光光點來到記號的中心 時’記號寬度在再生光的光點内所佔的比率變大,和小島 部的干擾變少而反射率變高。 即,圖9顯示以槽寬為大的0.28 /zm時的關於槽長方向的 再生信號位準。據此得知,在記號的中心附近反射率上 升。 根據圖8得知,槽寬在〇. 1 μιη〜〇· 15 /zm之間可得到最佳 -14 - 二以夺紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 裝 訂
線 1292910 A7 -------B7 五、發明説明(Π ) 的結果。此槽寬是在金屬膜3表面測量到的,以濺鍍形成此 金屬膜3時,在此例以最大2〇 nm的膜厚在基板凹部2的槽 侧面也形成金屬膜3。因此,以3 〇 nm的厚度形成金屬膜3 時,在此金屬膜表面的槽寬若在〇15 //m,則基板凹部2的 槽寬成為0.2 1 /zm。 然而,形成30 nm以上厚度的金屬膜3在基板凹部2的槽不 月b進行均勻的成膜,引起雜訊上升,所以金屬膜3的厚度以 30 nm為上限,基板的槽寬,即基板凹部2的寬度以〇 21 為上限。 即,若基板凹部2為0.21//m的槽寬,則在其上形成金屬 膜可得到良好的結果。 此外,以濺鍍形成金屬膜3時,可形成不在槽的垂直側面 黏附金屬膜的結構,這種情況即使是01〇/zm的寬度,亦可 得到良好的結果。 由上述,基板凹部2考慮形成於其上的金屬膜3的容差, 若是0.10/zm〜0.21/zm的範圍,則可構成具有高調變度的 光記錄媒體,而在形成金屬膜狀態的表面凹部的寬度在 〇· 10//m〜0.15//m可得到良好的結果。 其次,就基板凹部2的基板槽深度舉實施例3加以說明。 此槽深度不取決於物鏡的N.A.。 【實施例3】 在此實施例3也和實施例1同樣,形成槽作為凹部2,使 用其侧壁形成大致垂直側面形狀的聚碳酸酯(pc)樹脂的基 板1,在形成此槽的面濺鍍厚度20 nm的銀而形成金屬膜3, -15 - (多紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公复] --------- 1292910 A7 ^_____B7 發0化兑 ~~) — 在其上貼面形成有機色素膜的記錄膜4、厚度10 nm的氮化 石夕的介質膜5 '光透過性保護膜6,製作相位調變方式的光 碟。 關於基板凹部2的槽寬,可得到如前述的效果,所以在此 實施例,以此凹部2寬度,即槽寬為〇·14 # m。此外,小島 寬度也和槽寬同一寬度。物鏡為N.A. = 0.85 然後,在此實施例製作使基板凹部2的基板槽深度變化的 各光碟。 有機色素膜以旋塗形成,如埋入槽内表面成為平坦的厚 度且小島7和槽2的有機色素膜的厚度平均值成為12〇 nm般 地形成。 即’例如槽深度40 nm時,在槽部分的有機色素膜厚度為 140 nm ’在小島部分的有機色素膜厚度為1〇〇 nm。 此外’此有機色素膜由顯示S - e d g e特性的有機色素材料 構成時,使用在405 nm,光學常數在記錄前(n,k)= (1.2,0·05),在記錄後變成(η,k) = (1·5,0)的有機色 素材料。此有機色素材料由花青k色素的1-丁基- 2- [5-(-1-丁基_3,3 -二甲基苯[e]吲嗓滿-2·茚)-1,3 -戊二烯基]-3,3-二甲基-1 Η -苯并[e ] 4丨嗓♦過氣酸構成。 在此實施例3 ’記錄記號長度為〇 · 6 9 //m,在此情況也是 其寬度遍及槽的全寬被記錄。 在此情況,關於使槽深度變化的各光碟,圖1 〇顯示再生 信號振幅的的變化。利用此S - e d g e特性時,槽深度在1 〇 〇 n m附近其振幅變成負。即,這種情況,記錄前的檢出光量 -16 - $痛紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 1292910 A7 _B7 五、發明説明(Μ ) 低’由槽不能取出追記伺服器,在記錄、再生成為問題。 若是相位調變用的膜結構,即使改變有機色素膜的膜厚 或氮化砍膜的膜厚,槽深度在1〇〇 nm附近,再生信號的振 幅也顯示負,若是5 0 nm深度則成為正。 即,利用此S-edge特性的有機色素膜時,基板的槽深度 在50 nm程度適當。然而,根據圖1〇,定為此5〇 nm的槽 深度時,不能得到充分的信號振幅。 於是,槽深度設定在50 nm,藉由選定膜結構提高信號 振幅。即,以槽内的有機色素膜的膜厚為7〇 ,以小島 部的膜厚為20 nm,使氮化矽介質層5的膜厚變化,測量此 4的调變度(化^虎振幅/ 3己號間的空間部的輸出)。圖1 1中曲 線21顯示此調變度的氮化矽膜厚相關性。此外,圖1丨中曲 線22顯示空間部的反射率的氮化矽膜厚相關性,得知可謀 求最佳值化。又,即使使有機色素膜的膜厚從7〇 nm起變 化’亦同樣顯出氮化矽膜的膜厚相關性,最佳值分別存 在,可得到充分的信號振幅。 而且,在實際的光記錄媒體,例如光碟,希望調變度的 〇·6以上,所以得知氮化矽膜厚藉由幾乎不形成或形成 nm左右,槽深度在50 nm附近可得到良好的結果。 而且,就此實施例3的槽深度偏離5〇 nm時的容差加以研 究。 膜結構基本上是和實施例3同樣的結構,但以氮化碎膜的 厚度為100 nm,以槽内的有機色素膜的膜厚為7〇 nm。 而且,使基板的槽深度變化。此時,此深度從2〇 到 -17 -
1292910 A7 _____B7 五、發明説明(15 ) 5〇 rnn,如有機色素膜表面成為平坦般地設定小島部的膜 厚’深度60 mm,在小島部的膜厚為1〇 nm,深度70 nm, 在小島部的膜厚為20 nm,在有機色素膜表面產生階差。 此時的再生信號振幅的槽深度相關性如圖1 2所示,雖然 槽深度在40 nm顯示峰值,但顯示平坦的特性,在槽深度 在5 0 nm附近的槽深度相關性小。 此外’圖1 3的曲線3 1及3 2分別顯示調變度和反射率的槽 深度的各個相關性。得知調變度在6〇 nm成為最大值,反 之反射率係槽越淺越高。而且,雖然調變度〇 6以上的區域 為槽深度40 nm〜70 nm的範圍,但若是7〇 nm則振幅及反 射率都降低,所以40 nm〜65 nm作為S-edge特性的有機 色素膜的基板成為適當。 又,在以氮化石夕膜的膜厚為〇或使有機色素膜的膜厚變化 的情況,亦可得到大致同樣的結果。 【實施例4】 在此實施例形成和實施例3同樣的有機色素膜厚、基板形 狀、ό己號形狀’但在此實施例利用l - e d g e特性的有機色素 膜的在實施例1使用的三苯胺衍生物構成有機色素膜。 圖14顯示這種情況的再生信號振幅的槽深度相關性。 得知這種情況和S-edge特性的有機色素膜的情況相反, 在槽冰度50 nm成為負的振幅,在1〇〇 nm的深度可得到最 大的振幅。 而且,即使使有機色素膜的厚度、氮化矽膜的厚度變 化,在5 0 n m程度的深度也不能得到良好的結果。圖1 5係 -18 - 紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) ' -- 1292910 A7 發明説明(16 在槽深度50 nm顯示再生信號振幅的氮切厚度相關性, 其振幅顯示負。 即此L_edSe特性顯示和S-edge特性的情況不同的性 狀,得知此L-edge特性的有機色素膜,槽深度1〇〇 nm附 近適當。 圖16的曲線41顯示在槽深度100 urn附近的調變度,曲 線42顯示反射率。 由此,與槽冰、有機色素膜厚對應可大幅取得調變度, 但對於槽深度的容差變小,在75 nm〜n5 nm的範圍可得 到良好的凋、交度。而且,在此範圍外如圖丨4所示,信號振 中田急劇變成負,廷種情況的適當槽深度的範圍極為明顯。 以上,在DVR參數,就凹部2的寬度及深度,即槽寬及 冰度舉實施例加以敘述,其次將就此凹部2,具體而言係槽 侧壁的傾斜加以研究。 貝際上槽侧壁若成為槽深度1〇〇 nm、槽寬度〇 l5 程 度’則此側壁的傾斜不能忽視。 【實施例5】 此實轭例係為了研究基板的槽,即凹部2側壁傾斜的實施 例,在此實施例係形成和實施例!同樣的膜結構的^以訌 特性的有機色素材料膜結構的情況。 而且,以基板的槽深度為明顯產生槽侧壁傾斜效果的 1 0 0 n m。槽見根據岫述結果定為〇 1 4 ,在側壁中心位 置保持此寬度而使側壁傾斜變化。 此外,有機色素膜的厚度在槽内定為17〇 nm,在小島部
1292910 A7 ____ B7 五、發明説明(n ) 上定為70 nm,使基板各平坦面的有機色素膜表面成為大 致平坦。而且,在槽傾斜側壁面的有機色素膜的膜厚定為 上述表面成為平坦時所得到的膜厚。 圖1 7顯示在此結構記錄於有機色素膜後的再生信號振幅 的槽2側壁面的斜坡傾斜寬度以投影到前述圖3所示的側壁 2 a的槽底面的延長水平面的寬度)相關性。根據此圖1 7, 因傾斜而單純振幅降低。 此外’在圖1 8中曲線5 1及5 2分別顯示調變度及反射率的 斜坡傾斜寬度d相關性。如從圖1 7及圖1 8得知,隨著斜坡 傾斜寬度d增加,和振幅同時反射率降低,所以調變度在某 範圍被保持,但實際上d在5 nm以上成為反射率丨5 %以 下,反射率變成過低,所以若是tan0=l的d=.l〇〇 nm,則 低於10%,不能供作實用,tan0 -2在實用上較佳。 附帶一提,即使將在圖3所示的斜坡傾斜寬度d固定在反 射率過低的d = 6 0 nm,使槽寬(平均寬度,即在侧壁中心的 槽寬)變化的情況,其振幅也成為圖19,圖17的d = 6 0 nm 的位置相當於圖19的槽寬140 nm的位置。據此,在槽側壁 面有傾斜時,若使槽寬稍微寬一點,則振幅的上升稍微看 得見,但此上升部分只是大約10%〜2 0%程度,不能成為根 本的改善。 此外,圖2 0的曲線6 1及6 2分別顯示調變度和反射率的槽 寬相關性,反射率也只不過是緩慢上升。因此,基本上側 壁有傾斜時,得知反射光量單純降低,信號位準降低。 此外,得知在圖1 9的槽寬2 0 0 nm,振幅已降低,即使傾 -20 - ί在紙張尺度適用中S Η家標準(CNS) A4規格(210 X 297公I) ' " -- 1292910 A7 B7
斜存在於側壁的情況,也不會阻礙前述在圖8所說明的本發 明特定槽寬的妥當性。 X 此外,此關於前述本發明特定凹部2深度也同樣,這些凹 部2的寬度及深度無直接關係,由側壁的斜率tan0 ^ 2可得 到優良的信號特性 此外’實施例5雖然是使用L_edge特性的有機色素膜的 情況,但在使用S-edge特性的有機色素膜的情況也同樣。 在上述本發明之實施例雖然是記錄膜形成單層有機色素 膜結構的情況,但也可以形成多層構造。此外,雖然是在 基板1的一主面形成細徵凹凸及記錄膜的情況,但也可以是 接合在基板1的兩面或一主面形成細微凹凸及記錄膜的兩片 基板的結構等,在本發明結構當然可採取各種變形變更。 如上述,本發明之追記式光記錄媒體在於採取光源波長 λ 3 80 nm到45 0 nm的範圍,所謂綠紫色區域的雷射再生 或記錄再生形態的情況,並在DVR參數調變相位之光記錄 媒體’藉由特定槽寬,可得到優良的再生信號輸出。 而且,本發明關於凹部的深度,不管透鏡的N A ,使用 綠紫色雷射時,在有機色素膜的光學常數,例如記錄前的 折射率1.4以下的s-edge特性或記錄前的折射率丨6以上的 L-edge特性方面,藉由分別以其深度為5〇 左右或1〇〇 n m左右,可得到優良的再生輸出特性。 此外,藉由形成記錄前的返回光比記錄後高,所謂高到 低(High to Low)記錄,在記錄前,即未記錄部可得S充 分的光量,所以可確實取出聚焦伺服(f〇cus serv〇)信號、追
1292910 A7 B7 五、發明説明(19 ) 記伺服(tracking servo)信號,可確實良好進行光記錄媒體的 追加記錄或再生。 如上述,根據本發明,在從光透過性保護膜側照射綠紫 色光的光記錄媒體,藉由分別特定基板上的細微凹凸的凹 部寬度及/米度、側壁傾斜,在有機色素膜的記錄膜結構, 可確實構成具有優良再生輸出特性的追記式光記錄媒體。 而且,藉由形成有機色素膜的記錄膜結構,可廉價、量 產地製造此追記式光記錄媒體,在工業上取得巨大的效 果。 i 元件編號之說明 1 …· 基板 2 ---- 凹部 2 a ---- 側壁 3 ---- 金屬膜 ij 4 ____ 記錄膜 5 —--— 介質膜 \( 6 ---- 光透過性保護膜 k 7 ____ 小島部 9 ____ 雷射光 10 ---- 光記錄媒體 • · 11 ---- 物鏡 Μ ---- 記錄記號 • 22 - ^夺紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

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•種光記錄媒體,其特徵在於··係通過數值孔徑N. A . 〇·85±〇·〇5範圍的光學系統照射波長λ38〇 nm〜450 nm 祀圍的光,藉此進行記錄部再生之相位調變式光記錄媒 體; 在形成有凹部的基板上具有至少一層以上的記錄膜和 一層以上的金屬膜而成; 上述記錄膜的一層以上係包含吸收雷射光而分解,作 折射率變化的有機物質而成;、 上述基板凹部寬度為〇 · 1 〇 以上0 2 1 以下者。 2 ·如申請專利範圍第1項之光記錄媒體,其中在上述基板凹 部上形成有上述金屬膜,在該金屬膜表面所形成的凹部 寬度為0 · 1 〇 以上0 · 1 5 //m以下。 3 · 一種光記錄媒體,其特徵在於:係照射波長λ 3 8〇 nm〜4 50 nm範圍的光,藉此進行記錄部再生之相位調變 式光記錄媒體, 在形成有凹部的基板上具有至少一層以上的記錄膜和 一層以上的金屬膜而成, 上述δ己錄膜的一層以上係包含吸收雷射光而分解作折 射率變化的有機物質而成, 上述基板凹部深度為40 nm以上65 nm以下,用作上 述兄錄膜的上述折射率變化的有機物質記錄前的折射率 為1 · 4以下者。 4 · 一種光記錄媒體’其特徵在於:係使用波長X 3 § 〇 nm〜45 0 nm範圍的照射光進行記錄部再生之相位調變式 -23 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 2
光記錄媒體, 在形成凹部的基板上具有至少―層以上的記錄膜和一 層以上的金屬膜, 上述記錄膜的一層以上係包含吸收雷射光而分解作折 射率變化的有機物質而成, 、、,述基板凹部深度為75 nm以上115 nm以下,用作上 述α己錄膜的上述折射率變化的有機物質記錄前的折射率 為1 · 6以上者。 •如申請專利範圍第!、2、3或4項之光記錄媒體,其中上 述基板凹部侧壁的斜率tan0為2(θ為側壁面和凹部底面形 成之角)以上。 乂 -24 - J #紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐)
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