TW563241B - Non-volatile semiconductor memory device - Google Patents

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TW563241B
TW563241B TW089115709A TW89115709A TW563241B TW 563241 B TW563241 B TW 563241B TW 089115709 A TW089115709 A TW 089115709A TW 89115709 A TW89115709 A TW 89115709A TW 563241 B TW563241 B TW 563241B
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TW
Taiwan
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memory cell
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voltage
write
word line
Prior art date
Application number
TW089115709A
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English (en)
Inventor
Koji Sakui
Kenichi Imamiya
Hiroshi Nakamura
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B69/00Erasable-and-programmable ROM [EPROM] devices not provided for in groups H10B41/00 - H10B63/00, e.g. ultraviolet erasable-and-programmable ROM [UVEPROM] devices
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/3436Arrangements for verifying correct programming or erasure
    • G11C16/3454Arrangements for verifying correct programming or for detecting overprogrammed cells

Description

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 563241 A7 B7 五、發明說明(1 ) [發明所屬之技術領域] 本發明係有關連接數個可以執行電子重寫的數個記憶 格,以構成記憶格單元的非揮發性半導體記憶裝置 (EEPROM)。 [先前技藝] 已知過去的NAND型EEPROM係具有電子重寫功能的 EEPROM。NAND型EEPROM的一個記憶格在半導體基板上 具有利用絕緣膜,將浮動閘(電荷堆積層)與控制閘疊層的 FETMOS結構。彼此相鄰的數個記憶格以共用源極與汲極 的形態串聯,構成NAND型記憶格單元(以下簡稱NAND)。 此種NAND格採矩陣排列構成記憶格陣列。 與記憶格陣列並列之NAND格一端的汲極,經由選擇閘 電晶體共同連接位元線,另一端的源極也是經由選擇閘電 晶體連接共用源極線。記憶格電晶體的字線及選擇電晶體 的閘極在記憶格陣列的行方向分別作爲字線(控制閘線)及 選擇閘線共同連接。 此種ΝΑΝΌ行EEPROM可參考以下的文獻①、②: ① 1995 年 11 月 IEEE J. Solid-State Circuits,第 30 卷 1149 到 1156 頁 MA 3.3V 32Mb NAND Flash Memory with Incremental Step Pulse Programming Scheme,"作者 K. -D. Suh et al·,, ② 1995 年 IEEE J· Solid-State Circuits,第 30 卷 1157 到 1164 頁。丨丨A 35ns Cycle Time 3.3V Only 32Mb NAND Flash EEPROM,·’作者 Y. Iwata et al.。
圖14顯示NAND格型EEPROM之記憶格陣列的一個NAND 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
--^--------- 線Φ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 563241 A7 ____________ B7 五、發明說明(2 ) 格區塊結構。數個記憶格Μ的源極與汲極相鄰,以共用的 形態串聯構成NAND格。NAND格的一端經由選擇電晶體 S1連接位元線BL,另一端也是經由選擇電晶體S2連接共 用地線。在圖上並列之記憶格Μ的控制閘共同連接字線 WL。選擇電晶體si、S2閘同樣的共同連接選擇閘線SSL、 GSL。在藉由一條字線來驅動之NAND格的範圍内構成 NAND格區塊。 通常是沿著位元線方向排列數個此種NAND格區塊來構 成記憶格陣列。各NAND格區塊成爲資料刪除的最小單 位,執行所謂的全部刪除。此外沿著NAND格區塊内所選 擇之一條字線的記憶格列,稱之爲1頁,頁爲資料讀出及 寫入的單位。 記憶格Μ在η通道(Channel)時,電子注入浮動閘的臨界 値爲正的狀態(E型狀態),浮動閘的電子被釋放的臨界値 爲負的狀% (D型狀態)時,藉由兩値對比來執行資料記 憶。例如定義成D型狀態的資料保留狀態爲"1”(刪除狀 態),E型狀態的資料保留狀態爲”〇”(寫入狀態)。此外保 留資料爲”1"之記憶格的臨界値改成正方向,保留資料狀 態轉變成"〇"的工作定義成「寫入工作」;保留資料爲”〇,, 之記憶格的臨界値改成負方向,保留資料狀態轉變成” Γ, 的工作定義成「刪瞭工作」。本文件依據該定義做以下的 説明。 圖15顯示所選擇之記憶格陣列NAND格區塊中之資料冊j 除、讀出及寫入工作的各部電壓關係。在刪除工作中,所 -5 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------------r---訂--------1 線·· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 563241 A7 B7 五、發明說明(3 ) 選擇之NAND格區塊内的全部字線爲0V,選擇閘線SSL、 GSL及位元線BL爲浮動(F),記憶格的P型井(Well)上賦予 高的正遮沒電壓Vera (如3ms、21V的遮沒脈衝)。導致選擇 區塊中的井與字線間存在遮沒電壓,浮動閘的電子藉由 FN隧道(Tunnel)電流釋放至井内。藉此,該NAND格區塊 内的記憶格變成”Γ'的刪除狀態。 此時,未選擇的NAND格區塊則藉由浮動狀態的字線與 井的容量匹配(Coupling),不受遮沒脈衝的影響。匹配比 以連接浮動狀態之字線的容量來計算。實際上,多晶矽的 字線與格區域的P井容量支配了整個容量,實際測試結果 所得到的匹配比高達0.9,會妨礙FN隧道電流的流動。刪 除查證則是判定選擇區塊内全部記憶格的臨界値電壓,如 是否在-IV以下。 資料讀出工作是賦予選擇字線爲0V,未選擇字線及選擇 閘線賦予固定的中間電壓Viread (不考慮臨界値,通過隧道 所需的電壓),藉由讀取所選擇之記憶格式否暢通之位元 線BL的電位變化來執行讀出工作。 資料寫入工作則是賦予選擇字線高的正寫入電壓 Vpgm,賦予未選擇字線中間電壓Vpass,賦予位元線之選 擇閘線SSL的Vcc及共用源極之選擇閘線GSL的Vss=0V,藉 由對應該寫入"0"的位元線BL賦予Vss,對禁止寫入(亦即 應該保持在”1"的刪除狀態)的位元線BL賦予Vcc來執行寫 入工作。此時,連接被賦予Vss之位元線的選擇記憶格 中,通道電位保持在Vss,控制閘及通道間存在較大的電 -6 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) :--------------------訂---------線# (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 563241 A7 B7 五、發明說明(4 ) 場,從通道至浮動閘,以隨道電流注入電子。同樣的,連 接位元線,被賦予Vpass的其他未選擇記憶格,因不具備 足夠寫入的電場,因此不執行寫入工作。 沿著被賦予Vcc之位元線的記憶格中,NAND格的通道預 充電Vcc或Vcc-Vth (Vth爲選擇電晶體的臨界値電壓),選 擇電晶體關閉。因而賦予寫入控制閘的電壓Vpgm及中間 電壓Vpass時,藉由結合浮動之NAND格的通道及被賦予 Vpgm或Vpass的控制閘的容量,使通道電位上昇,不產生 電子注入。 如上所述,僅被賦予Vss之位元線與被賦予Vpgm之選擇 字線之交叉部的記憶格執行電子注入,成爲”〇π寫入。選 擇區塊内之禁止寫入的記憶格中,如上所述,其通道電位 是由結合字線與通道的容量來決定,禁止寫入電壓極高, 因此通道必須實施足夠的初次充電,且字線與通道間的容 量匹配比亦須較大。 字線與通道之間的匹配比Β,由B = Cox/( Cox+Cj)來算 出。公式中的Cox及Cj分別爲字線與通道之間的閘容量總 和、記憶格電晶體之源極與汲極接合容量的總和。所謂的 NAND格通道容量,係合計這些閘容量之總和Cox與接合 容量之總和Cj。此外,由於其他容量之選擇閘線與源極重 疊容量、位元線與源極及汲極的容量等,與整個通道容量 相比非常小,因此可以忽略。 [希望解決的問題] 以上説明之NAND型EEPROM的比例(Scalling)問題,參 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------------^----訂--------- 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 563241 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___Β7___ 五、發明說明(5 ) 照圖16説明如下:圖16以記憶體容量作爲參數,顯示 NAND格内的記憶格數量及每1位元之有效記憶格面積/1個 記憶格面積之比的關係。NAND型EEPROM的特徵爲藉由 數個記憶格共用兩個選擇閘電晶體與位元線及源極線的容 量,來縮小有效的記憶格尺寸。 0.4 "m規格(Rule)的 64M Bit NAND型 EEPROM,其 NAND 格内有I6個記憶格,每1位元的有效記憶格面積/1個t己憶 格面積的比爲1.20,如圖16所示。而0·25" m規格(Rule)的 256M Bit NAND型EEPROM,其NAND格内若同樣有16個記 憶格,則每1位元的有效記憶格面積/1個記憶格面積的比 爲1.26。此外,0· 13 " m規格的1G,若同樣有16個記憶 格,則這個比可以預測是1.33。 隨著微細化與容量的增大,有效記憶格面積對實際記憶 格面積的比亦隨之變大的原因爲,字線間距(Pitch)(字線 寬度+空間)雖然可以配合設計規格縮小,但是在上方的 選擇電晶體與位元線及源極線的容量面很難縮小。而且微 細容量等的加工處理也具有困難性,爲了保留對寫入工作 的安全係數(Margin),也限制了縮小設計。無論如何,當 NAND格内的記憶格數量限定在16個時,有效記憶格的尺 寸’若以64M Bit爲基準,則256M Bit需要增大5 % ( 1.12/1.20 = 1.05),1GBit則須增大 11〇/。( 1.33/1.20=1.11)。 另外,若1G Bit NAND型EEPROM的NAND格内有32個記 憶格時,每1位元的有效記憶格面積/1個記憶格面積的比 則縮小至1.17,晶片尺寸爲88%,不過這是假定記憶格陣 -8 - 本紙張尺度過用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) "—" ------------------r---訂--------1 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 563241
五、發明說明(6 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 列的所有晶片佔有率爲60%。但是,若NAND格内的記憶 格數量增加’則又會引起其他的問題。 第一個問題是資料全部刪除的區塊尺寸倍增。不過這主 要疋規格上的問題,還可以解決。例如,30萬個像素之數 位相機的1個鏡頭(Shot)所需的容量约爲〇 5M Bit,相當於 四個16k位元組的區塊。但是當數位相機的容量增大到 萬個像素或是200萬個像素時,若區塊尺寸固定在i6k位元 組時,1個鏡頭上就需要增加區塊數。區塊數量的增加會 造成延緩1個鏡頭重窝速度的問題。因此EE]PR〇M有時也 隨著其容量增加而增加某種择度的區塊尺寸。 第二個問題是因記憶格數量倍增而造成記憶格電流衰 減。記憶格電流衰減時,讀出時的位元線感測時間,亦即 從字線選擇時起到啓動感測放大器爲止的時間倍增。若 NAND格内有16個記憶格,1G Bi_,位元線容量將爲 3.4PF,位元線振幅爲〇.7V,記憶格電流爲〇5" a,此時位 元線感測時間將爲4.76 " s。假設在不改變位元線容量的 條件下,使NAND格内的記憶格數量從16個增加到32個 時,位元線感測時間則變成9.52 a s。 位元線感測時間的增加、,不僅是增加隨機讀出的時間, 同時也會增加寫入時間。隨機讀出時間的規格包括指令及 位址輸入時間、字線選擇時間、資料輸出時間及這些時間 的安全係數加上位元線感測時間,通常約爲位元線感測時 間的兩倍。NAND格内設計成16個記憶格時,隨機讀出時 間爲10 " S。由於寫入脈衝約爲20 // s,寫入的週期時間則 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) . ------—訂--------1 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 563241 A7 B7 五、發明說明(7) 爲30" s( 10从s +20" s)。因此,若以6個寫入週期完成寫 入時,寫入時間則變成30;usx6 = 18〇as。但是,NAND格 内若設計成32個記憶格,隨機讀出時間變爲20 a s,因此 寫入週期時間約爲4 0 " s,窝入時間則變成4 0 " s X 6 = 2 5 0 μ s ° 因此,規格設定成寫入時間爲200 μ s時,寫入週期必須 限定在5個以下。如此,則須抑制記憶格匹配比的偏差, 而增加處理上的負擔。若是無法提高處理效率,寫入時間 的規格就必須從200 a s延緩至300 a s。這對提昇NAND型 EEPROM的高速度重寫性能是一大障礙。 NAND型EEPROM藉由如NOR型EEPROM的熱電子(Hot Electron)注入來寫入,與利用帶間隧道效應(Tunnelling) 的源極刪除不同,是藉由整個隧道的FN隧道效應來執行 資料重寫。因此數個記憶格可以同時重寫。因而,寫入的 頁規格隨著從512位元組增加到lk位元組,再增加到2k位 元組,若不考慮窝入的資料載入時間,寫入的通量 (Throughput)可以達到兩倍,乃至四倍。NAND型EEPROM 運用此種高速度重寫的性能,可以廣泛運用在語音(Voice Recoder)、影像(Digital Still Camera)、音響、動晝上。但 是,因格電流的衰減而延緩資料寫入後的查證讀出工作, 以致延緩頁窝入速度時,則會限制NAND型EEPROM的應 用範圍。 此外,隨機讀出時間,即使從10 // s增加到20 " s,也不 會產生問題。這是因爲NAND型EEPROM並非針對隨機位 -10 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) -----·------Φ裝----l·---訂--------·-線拳 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 563241 A7 B7 五、發明說明(8
I 元處理來設計,而是針對區塊資料處理而設計的,初期的 速度不會成爲問題。例如,讀出i 6頁塊的資料時,在讀出 第一頁時’因初期的時間造成隨機讀出時間較慢,但是從 第2頁起’執行連續讀頁(執行前一頁之串列(Serial)讀出 的同時,進行次頁感測(Sense)工作的模式),頁次的切換 不會增加隨機讀出時間。 本發明的目的,在針對上述情況,提供一種對一般的資 料漬出,加大寫入查證讀出的記憶格電流,可以高速度重 寫的非揮發性半導體記憶裝置。 ^發二具體的目的,是提供一種增加NAND格的記憶格 數量,縮小每1位元有效記憶格面積時,可以抑制寫入速 訂 度惡化的非揮發性半導體記憶裝置。 [解決問題的手段] 線 本發明之非揮發性半導體記憶裝置係由以下各部分所構 成· $己憶格陣列,其係由可以執行電子重寫的記憶格構成 數個記憶格單元,並排列成矩陣;解碼電路,其係將位址 解碼,並選擇前述記憶格陣列的記憶格;感測放大器電 :前==前述記憶格陣列所讀出的資料, =則述⑽袼_的資料;讀出控料段,其 則述解碼電路所選擇之記憶格 的〃曰 料·官入扒A ¥ α 平π τ破選擇的死憶袼資 ⑽格輩:! 其係賦予藉由前述解碼電路所選擇之 單7"中被選擇之記憶格的窝入用電壓,執行資料宫 入;及寫入查證讀出控制手段, ”,、 手段確認資料寫入狀態,在對所選擇 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準1^4規格⑵〇 χ 297公髮Γ 563241 五、發明說明(9 憶格電流比藉由前述讀出控制 條件下,執行資料讀^ ^ ♦料時爲大的偏差 i具體而言,本發明之非揮發性半 下各邵分所構成:#憶格陣匕裝置係由以 勃并+早舌合 具係猎由竽線驅動,可以 執仃电子重寫之記憶格,構成數 位址解碼,並選擇前述記憶格陣列的字線及1 —、咸 放大器電路,其係檢測從前述記憶格陣列之:二丄;: =的資枓,並鎖存^前述記憶㈣列的資料;讀出控制 :段:其:在藉由前述解碼電路所選擇之職0型記憶格 ^中被選擇H線上賦予讀出用電壓,在未選擇字線上 賦予使記憶格電導的第一個通過電壓,來執行資料讀出; 窝入控制手段’其係在藉由前述解碼電路所選擇之财腳 型記憶格單s中被選擇之字線域予寫人用電壓,在未選 擇字線上賦予較前述寫入用電壓爲低的第二個通過電壓, 來執行資料寫入;及寫入查證讀出控制手段,其係爲了藉 由該寫入控制手段確認資料寫入狀態,在所選擇之ΝΑΝ^ 型記憶格單元中所選擇之字線上賦予查證讀出用電壓, 未選擇字線上賦予使記憶格電導的第三個通過電壓,被 擇之NAND型記憶格單元與電導時的電流比藉由前述讀 控制手段讀出資料時爲大的條件下,執行資料讀出。 上述之寫入查證漬出控制手段從其他觀點來説明,係在 所選擇之NAND型記憶格單元中被選擇的字線上賦予查證 讀出用電壓,在未選擇字線上賦予使記憶格電導的第三個 -12 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -------------r---訂--------1 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在 選 出 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 563241 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(10) 通過電壓’在藉由未選擇字線所驅動之記憶格的電等比資 料讀出時爲大的條件下執行資料讀出。 此外’本發明還可以具有資料刪除控制手段,其係將共 用則述兄憶格陣列中字線之NAND型記憶格單元的區域作 爲資料刪除最小單位的格區塊,在被選擇之格區塊的基板 區域上賦予刪除用電壓,全部刪除其格區塊内之全部記憶 格的資料。 本發明較佳的實施例爲設定第二個及第三個通過電壓高 於第一個通過電壓,且第二個通過電壓與第三個通過電壓 可以相同或是不同。 此外,本發明的一般NAND型記憶格單元,在數個記憶 格的一端與位元線之間具有藉由第一條選擇閘線來驅動的 第一個選擇電晶體,另一端與共用源極線之間具有藉由第 二條選擇閘線來驅動的第二個選擇電晶體。當藉由讀出控 制手段讀出資料時,在被選擇之NAND型記憶格單元的^ 一及第二條選擇閘線上賦予第一個通過電壓,當藉由寫入 查證讀出控制手段執行寫入查證讀出時,在被選擇之 NAND型記憶格單元的第一及第二條選擇閘線上賦予第一 或第三個通過電壓。 次外,本發明也可以(a)於寫入工作完成時,暫時在接 地電位上重設(Reset)寫入工作中所賦予未選擇字線之 二個通過電壓,於繼續窝人查證讀出工作中,在其未 字線上賦予第三個通過電壓;或是也可以(b)於窝入工释 完成時,不重設寫入工作中所賦予未選擇字 -工作 、、水'^弟二個通 -13 - 表紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21G X 297公髮) ---------^-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 563241 A7 B7 五、發明說明(11) 過電壓,而於寫入查證讀出工作中繼續在前述未選擇字線 上賦予。 本發明藉由寫入查證讀出時,流入記憶格電流大於一般 資料讀出時所獲得的偏差條件,可以抑制記憶格陣列容量 變大時所增加的資料寫入時間,EEPROM可以執行高速度 重寫。 更具體而言,本發明具有於NAND型EEPROM中增加 NAND型記憶格單元(以下簡稱爲NAND格)内的記憶格數 量,減少每1位元之記憶格面積的效果。於寫入查證讀出 工作中的記憶格電流大於一般讀出時的條件下,可以彌補 因記憶格電流的減少造成重寫速度的惡化,因而可以同時 兼顧節約NAND型EEPROM的位元成本及高速度的重寫性 能。 ’此外,由於寫入查證讀出時賦予未選擇字線的通過電壓 高於一般讀出時,雖然記憶格電流增大,但是也會擴大寫 入安全係數。亦即,寫入狀態是在超過寫入查證讀出時賦 予選擇字線之查證讀出電壓的臨界値電壓。因此,在寫入 查證讀出時是流入較大的記憶格電流,並藉由判定π〇”、 ΠΓ,將臨界値電壓遠大於查證讀出電壓的狀態判定爲寫 入,擴大臨界値電壓安全係數,以提高可靠度。 [具體實施例] 圖1顯示本發明實施例之NAND型EEPROM之記憶格陣列 其中一個NAND格區塊1的等價電路。本例中的位元線BL 爲528位元組(( 512+16) X 8 = 4224條)。本實施例中,一個 -14 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------------r---訂--------'線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 563241 A7 ___B7__ 五、發明說明(12 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) NAND格由32個記憶格電晶體MCO〜MC31所構成。記憶格 電晶體MCO〜MC31在位元線BL與源極線SL之間_聯。位元 線BL與記憶格電晶體MCO之間設有選擇電晶體SST,在源 極線SL與$己憶格電晶體MC3 1之間同樣設有選擇電晶㉒ GST 〇 圖2爲NAND格區塊1的配置,圖3及圖4分別顯示圖2之A_ A’與B-B’的剖面。在p型矽基板10的記憶格陣列區域内形 成η型井11,該n型井u内形成p型井12,該p型井12中藉由 元件分離絕緣膜13來區隔元件區域。元件區域内藉由隧道 氧化膜14,在各?己憶格電晶體上形成浮動閘i 5,並藉由層 間閘絕緣膜16,在其上形成控制閘17。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 &制閘17按如圖2所示的行方向連續配置,形成字線 WL (WLO,WL1,···,WL31)。藉由將控制閘17作爲遮罩 (Mask)注入離子,形成源極、汲極擴散層21。圖3的選擇 %日曰體SST及GST結構雖然與記憶格電晶體MC相同,但是 對應於圖4剖面之剖面上,對應於浮動閘15的層及對應於 控制閘17的層,是在指定位置共用連接,連續配置,形成 選擇閘線SSL及STL。源極端的選擇電晶體GST亦同,其閘 係連續配置,形成選擇閘線GSL。此處之選擇電晶體 SST、GST及記憶格電晶體MC的閘氧化膜厚度也可以不 同0 圖5爲具有頁窝入/讀出功能之ΝΑΝ〇型EEpR〇M的全部區 塊結構。如圖所tf,其具有記憶格陣列5丨;行解碼器52, 其係依據外邵輸入的位址,選擇驅動記憶格陣列51的字 15 - 563241 A7 五、發明說明(13 ) 經 濟 部 智 慧 財 產 局 消 費 合 作 社 印 製 線;及感測放大器電路53,並從命—& ^ 、 其係與圮憶格陣列51的位元線 BL連接’具有輸入輸出資料的姑六 J琪貧种的鎖存功能。感測放大器電 路53連接欄閘55,藉由糰鰛民笼 田襴解碼器54,並依據外部所輸入的 位址控制欄閘5 5,來選握卢斤料豳A — 不碾擇所對應的位疋線及感測放大器電 路0 感測放大器電路53經由欄閘55,連接資料輸入輸出(ι/〇) 缓衝器58。,設置昇壓電路%,用於供應窝人工作及刪除 工作所需的高電壓,還設有控制電路W,產生對記憶格陣 列51寫入、刪除及讀出資料的控制信號,控制晶片内部, 同時構成與外部的介面。 行解碼器52在資料窝入、刪除及讀出時,分別依據位址 信號,選擇驅動數個字線WL,並供應該字線驅動器所需 要的電壓。感測放大器電路53,具有讀出時感測位元線資 料的功能、寫入時保留從外部載入之資料的資料鎖存功 能、及在寫入及刪除時,分別選擇性的供應位元線BL所 需要電壓的功能。 控制電路57包含程序(Sequence)控制手段(如可程式邏輯 陣列(Programmable Logic Array)),其係用於控制對 NAND 格刪除/刪除查證、寫入/寫入查證及讀出工作。 圖6顯示感測放大器電路53其中一個感測放大器的結 構。感測放大器以反並聯之反向器II、Π所構成的資料鎖 存電路61爲主體。該鎖存電路61的節點q、Qb分別經由 NMOS電晶體M5、M6,連接感測用NMOS電晶體M7的汲 極。感測用NMOS電晶體M7的源極接地,其閘極爲感測節 請 先 閱 讀 背 面 之 注 意 事 項 再 填 寫 本 頁 I I訂 線 -16 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 563241 A7 _B7 五、發明說明(14) 點Nsense。感測節點Nsense經由傳送閘NMOS電晶體M3及 Ml連接位元線BLi。NMOS電晶體Ml爲資料删除時的緩衝 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 器用耐高屡電晶體。 此外,鎖存電路61的節點Q經由用於傳送寫入資料至位 元線BLi的NMOS電晶體M2,連接NMOS電晶體Ml。鎖存 電路61的節點Q、Qb分別經由欄選擇NMOS電晶體M8、M9 連接資料缓衝器。感測節點Nsense上設置用於將其預充電 的NMOS電晶體M4。 其次依序説明本實施例之NAND型EEPROM的資料刪 除、寫入及讀出工作。 圖7顯示資料刪除工作時,各部的偏差電壓關係。本實 施例之NAND型EEPROM是以1個NAND格區塊作爲刪除單 位。開始執行刪除工作時,選擇刪除之區塊中的全部字線 WL0〜WL3 1上外力a Vss( =0V),未選擇區塊的全部字線 WL0〜WL31及選擇閘線SSL、GSL形成浮動狀態。在該狀態 下刪除電壓Vei:a(=20V)外加在記憶格陣列的P井(P-well) 上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此時,未選擇區塊的字線WL0〜WL31及選擇閘線SSL、 GSL藉由與P井的容量結合,昇壓至從X Vera。因從約爲 0.9,因此昇壓至18V左右。此外,位元線BL0、BL1及源 極線SL,其P井與位元線接觸部之n+型擴散層及源極線SL 部之n+型擴散層的PN接合呈現順偏差狀態,並上昇至 Vera-Vf。Vf爲 PN接合的内建電位(Built in Potential),約 爲0.7V,因此位元線BLO、BL1及源極線SL約達19.3V。因 -17 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 563241 A7 B7 五、發明說明(15) 此,沿著未選擇區塊之字線WLO〜WL3 1的記憶格電晶體不 會執行刪除工作。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 沿著選擇區塊之字線WLO〜WL31的記憶格電晶體,因在 基板區域外加Vera,在控制閘上外加Vss,因而浮動閘的 電子藉由隧道電流釋放至基板區域(P井),記憶格電晶體 所記憶的資料全部被刪除。 圖8顯示資料寫入工作中各部的偏差電壓關係。圖8中的 内容顯示被全部刪除之選擇區塊内的字線WL17執行寫入 工作。並假設位元線BLO執行"0"資料寫入,位元線BL1執 行Π1Π資料寫入(亦即,保持"Γ資料之刪除狀態的禁止寫 入)〇 圖9顯示從圖1中僅取出兩條位元線BL0及BL1的電壓關 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在該資料寫入中,首先分別賦予位元線BLO、BL1的寫 入用接地電位Vss及禁止寫入用電源電位Vcc (=3.3V)。之 後,源極線的選擇閘線GSL保持在Vss,其他字線及選擇 閘線上則賦予比Vcc稍高的通過電墨Vpassl (約3.5V)。藉 此將寫入用Vss傳送至連接位元線BL0的NAND格通道中。 雖然在與位元線BL1連接的NAND格通道中傳送禁止寫入 用Vcc,不過其通道電位上昇至僅低於Vpassl-Vth (選擇電 晶體或是記憶格電晶體的臨界値電壓内,高臨界値電壓) 的値時,選擇電晶體SST關閉,通道變成浮動。 在此狀態下,於選擇NAND格區塊的字線内,不執行寫 入之未選擇字線WL0〜WL16及WL18〜WL31中,分別外力口比 -18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 563241 A7 B7 五、發明說明(16) 通過電壓Vpassl高的通過電廢Vpass2(約8〜10V)及執行寫入 之選擇字線WL17中更高的寫入電壓Vpgm(約16V)。汲極端 的選擇閘線SSL仍然保持Vpassl。 此時,選擇NAND格區塊内之位元線BL1的通道區域, 藉由與從初期狀態之Vpassl-Vth上昇至Vpass2及Vpgm之字 的容量結合而上昇至 x(Vpass2-Vpassl) + ( Vpassl-Vth) 。由於一條字線被賦予寫入電壓Vpgm,而有3 1條字線被 賦予通過電壓Vpass2,因此,幾乎是由Vpass2來決定上述 的通道電位。此處的是字線與通道區域的容量匹配比, 約爲0.5。 另外,被賦予Vss的位元線BL0方面,藉由從位元線BL0 傳送的Vss,將Vss傳送至被選擇之記憶格電晶體MC170的 通道。結果,以被賦予寫入電壓Vpgm之選擇字線WL17所 驅動的記憶格電晶體MC170上,藉由隧道注入開始執行寫 入工作。其他同樣沿著位元線BL0的記憶格,由於未被賦 予較大的電場,因此不執行寫入。 資料寫入時,需要考慮對禁止寫入之NAND格通道預充 電功能及關閉電晶體SST的功能,來指定賦予汲極端選擇 閘線SSL之通過電壓Vpassl的電平。前者的功能需要較高 的電平,而後者的功能則以低電平爲宜。因此,賦予選擇 閘線SSL的電壓,在最初的通道預充電時,使用昇壓的通 過電壓Vpassl,在選擇字線及未選擇字線上,分別賦予寫 入電壓Vpgm及通過電壓Vpass2時,選擇電晶體SST使用足 夠關閉的電平,也可以降低至電源Vcc。或是不使用從最 -19 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------裝-----r---訂--------.線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 563241 A7
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 初昇歷的通過電壓Vpassl,而使用電源電位Veee 此外,實際的資料窝入工作, ^ r 疋猎由圖5中之控制電路 57^序㈣,反覆檢查寫人讀脈衝外加及寫入後之臨 界貝的查證工作,執行將i頁部 : r囹由从r座丨^ 刀的资料放入指定臨界値 Γ 工〜11 ’通常是1條字線範ϋ的位元線數 ^不㈣頁緩衝科的㈣,切以將i條字線的範圍 疋爲兩頁。 以下説明此種以頁爲單位的資料窝人週期,首先在圖5 的感測放大器電路53的資料鎖存中載人連續窝人的資料。 此時’ "〇"是執行窝人工作的格資料,"”是禁止寫入的格 資料。寫入週期由以下步驟構成: (1) 依據鎖存在感測放大器内的資料,將位元線電平設定 爲 Vss或 Vcc。 (2) 在選擇字線上外加窝入電壓脈衝。 (3) 使選擇字線放電。 (4) 執行寫入查證讀出。 在查氙工作中,對應於足夠執行寫入之記憶格之資料鎖 存的資料,從〇變成"1 ",不執行其他的寫入工作。開始 查證讀出時,位元線預充電成初期狀態的vbl(約丄5V)。 之後,執行選擇格區塊寫入的字線WL17上,除賦予查證 讀出電壓Vref(約0.7V)之外,還在格區塊内的其他未選擇 字線及選擇閘線上,賦予使記憶格及選擇電晶體電導的通 過電壓Vpass3。該通過電壓Vpass3高於以後會説明之一般 資料讀出時,賦予選擇格區塊之未選擇字線的通過電壓 -20 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------裝---------訂--------••線 f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 563241 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ______B7 _ 五、發明說明(18 )
Vpassl(约3.5V),如Vpass3 =約8V。該通過電壓Vpass3低於 資料窝入時的通過電壓Vpass2,可確保資料保留的可靠 性0 但疋’實際在資料窝入時,窝入電壓Vpgm及通過電壓
Vpass2 ’均在各寫入週期中,分別使用iv、〇.5V的階段性 步升(Step up)方式。此因記憶格在處理上有偏差,有時匹 配比大’窝入快’有時匹配比小,寫入慢。例如,在寫入 的第一個週期,爲Vpgm=15V,Vpass2=8V,在第二個週 期,爲Vpgm=16V,Vpass2=8.5V,如此執行數次寫入週 期。因此也可能出現Vpass2〉Vpass3的情況。 以上的結果與一般資料讀出時,在選擇字線以外的通過 字線及選擇閘線上賦予通過電壓Vpassl時比較,記憶格電 晶體及選擇閘電晶體的電導變大,記憶格電流比一般讀出 時大。藉此,讀出”0”資料(該臨界値超過Vref,成爲寫入 狀的$己憶格資料)的位元線,保持Vb 1,讀出” 1"資料(刪 除狀態的記憶格資料)的位元線從Vbl變成Vss。該位元線 電位的變化與一般讀出時同樣的以檢測感測放大器來判定 ,,〇’,,"1” 〇 此外,在圖10及圖11的範例中,未選擇字線WL0〜WL16 、WL18〜WL31及選擇閘線SSL、GSL,雖然同樣的賦予了 通過電壓Vpass3,但是未選擇字線與選擇閘線的電壓並不 需要相同。亦即所賦予的通過電壓Vpass3對未選擇字線 WL0〜WL16、WL1S〜WU1,與後述的一般讀出時賦予未選 擇字線之通過電壓Vpassl的關係,只要滿足Vpassl < -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)~ ' -----Γ---^-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 563241 A7 B7 五、發明說明(19)
Vpass3即可,只要賦予選擇閘線SSL、GSL的通過電壓與 一般讀出時同樣的爲Vpassl即可。或是,反之,賦予選擇 閘線SSL、GSL的通過電壓爲Vpass3,賦予未選擇字線的 通過電壓也可以與一般讀出時同樣的爲Vpassl。NAND格 中之寫入查證讀出時的記憶格電流,在任何時候均比一般 讀出時爲大,可以發揮縮短寫入時間的效果。 在實際使用時,賦予選擇閘線SSL、GSL的通過電壓極 可能比Vpass3爲低。此因目前的NAND型EEPROM中,選 擇閘電晶體與記憶格電晶體均使用隧道氧化膜(約9 nm)。 兩者的差異在於,雖然記憶格中外加在浮動閘上的電壓概 爲控制閘的電壓X匹配比,但是約1/2附加在控制閘上的 電壓覆蓋隧道氧化膜。而在選擇閘電晶體上,外加電壓則 完全覆蓋隧道氧化膜。 此外,資料寫入時賦予未選擇字線的通過電壓Vpass2, 也可以於轉移至寫入後查證讀出時,暫時重設接地電位, 以查證讀出工作重新賦予通過電壓Vp as s3。或是也可以於 寫入後轉移至查證讀出時,不重設資料寫入時賦予未選擇 字線的通過電壓Vpass2,直接連續賦予查證讀出工作。 僅採用以上之寫入查證讀出工作判定寫入不足的記憶 格,在下一個週期,再度重複寫入工作。 圖12及圖13顯示一般資料讀出工作中的各部電壓關係。 開始讀出時,位元線預充電成初期狀態的Vbl (約1.5V)。 除了讀出選擇區塊之選擇字線(圖12及圖13中,爲WL17)的 電壓爲Vss之外,並將通過電壓Vpassl賦予選擇NAND格内 -22 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------------^----訂--------·-線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 563241 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(2〇) 的全部選擇閘線及未選擇字線。藉此,讀出"0"資料(寫入 狀態的記憶格)的位元線保持Vbl,讀出” 1 ”資料(刪除狀態 的記憶格)的位元線從VBbl變成Vss。該位元線電壓的變 化,與過去同樣的藉由感測放大器來判定"0",π 1"。 依據以上的實施例,NAND型EEPROM於寫入查證讀出 時,藉由獲得比一般資料讀出時爲大之記憶格電流的偏差 條件,可以縮短資料窝入時間。因此,增加NAND格内的 記憶格數量,刪減每1位元的記憶格面積時,可以彌補因 記憶格電流減少造成重寫速度的惡化,因而可以兼顧節約 NAND型EEPROM的位元成本及快速重窝性能。 [發明之效果] 如上所述,本發明在寫入查證讀出時,藉由獲得比一般 資料讀出時爲大之記憶格電流的偏差條件,可以抑制記憶 格陣列容量變大時所增加的資料寫入時間,EEPROM可以 執行快速重寫。 [圖式概述] 圖1爲本發明實施例之NAND型EEPROM的記憶格陣列等 價電路。 圖2爲該記憶格陣列的配置。 圖3爲圖2的A-A’面圖。 圖4爲圖2的B-B’剖面圖。 圖5顯示該NAND型EEPROM的區塊結構。 圖6顯示該NAND型EEPROM的感測放大器結構。 圖7顯示該NAND型EEPROM資料刪除工作的偏差關係。 -23 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------------r---訂--------.·線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 563241 A7 _B7_ 五、發明說明(21 ) 圖8顯示該NAND型EEPROM資料寫入工作的偏差關係。 圖9將圖8的偏差關係顯示在記憶格陣列上。 圖10顯示該NAND型EEPROM寫入後之查證讀出工作的 偏差關係。 圖11將圖10的偏差關係顯示在記憶格陣列上。 圖12顯示該NAND型EEPROM資料讀出工作的偏差關 係。 圖13將圖12的偏差關係顯示在記憶格陣列上。 圖14顯示過去之NAND型EEPROM的記憶格陣列。 圖15顯示過去之NAND型EEPROM資料刪除、讀出及寫 入的偏差關係。 圖16顯示NAND型EEPROM的NAND格内記憶格數量與每 1位元有效記憶格面積的關係。 [符號説明]1…NAND格區塊,MC…記憶格電晶體, SST、GST···選擇電晶體,WL···字線,BL…位元線,SL… 源極線,SSL、GSL、STL···選擇閘線,51···記憶格陣列, 52···行解碼器,53···感測放大器電路,54···攔解碼器, 55···欄閘,56···昇壓電路,57···控制電路。 -----------裝-----r---訂--------·線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 24 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. 5 63 Mo、8%號專利申請案 A8 中文申請專利範圍替換本⑽年1〇月) g
    f> 1. 一種非揮發性半導體記憶裝置,其包括: -、有可包子重寫記憶格之矩陣配置的記憶格陣列, 孩寺記憶格會構成數個各包含數個該等記憶格的記憶格 單元; 〜0 解碼電路,用以將一位址解碼,並且選擇該記憶格 陣列之記憶格; " 一感測放大器電路,用以檢測從該記憶格陣列讀出的 貧料,並且鎖存寫入該記憶格陣列的資料; 一讀出控制手段,用以從該解碼電路所選擇的記憶格 單元中選擇出來的記憶格中讀出資料; 一寫入控制手段,用以藉由賦予寫入電壓,將資料寫 入該解碼電路所選擇的記憶格單元中選擇出來的記憶 格;以及 一寫入查證讀出控制手段,用以在確保流入其導通狀 毖的記憶格電流大於該讀出控制手段的資料讀出工作期 間的電導的偏差條件下,從所選擇的記憶格中讀出資 料,以確認該寫入控制手段的資料寫入狀態。 2 · —種非揮發性半導體記憶裝置,其包括: 一具有由字線來驅動的可電子重窝記憶格之矩陣配置 的記憶格陣列,該等記憶格會構成數個N A N D型記憶格 單元’其各包含與一位元線_聯的數個該等記憶格; 一解碼電路’用以將一位址解碼,並且選擇該記憶格 陣列之字線及位元線; 一感測放大詻電路,用以檢測從該記憶格陣列之一位 O:\65\65707-921006 DOC 5 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公«) 5
    兀線中讀出的資料,並且鎖存寫入該記憶格陣列的資 料; /、 一讀出控制手段,用以藉由賦予一讀出電壓給從該解 碼電路所選擇的NAND型記憶格單元中所選擇出來的字 線,並且賦予一第一個通過電壓給未被選擇的字線,以 讀出資料,該第一個通過電壓係設定成使記憶格電導; 一寫入控制手段,用以藉由賦予一寫入電壓於該解碼 電路所選擇的NAND型記憶格單元中所選擇出來的字 線,並且施加一低於該寫入電壓的第二個通過電壓給未 被選擇的字線,以將資料寫入;以及 一寫入查證讀出控制手段,用以在確保流入該所選擇 的NAND型記憶格單元之導通狀態的電流大於該讀出控 制手段的資料讀出工作期間的電導的條件下,藉由賦予 一查證讀出電壓至該所選擇的NAND型記憶格單元中所 選擇的字線,並且施加一第三個通過電壓給未被選擇的 字線(該第三個通過電壓係設定成使記憶格電導),讀出 資料以確認該寫入控制手段的資料寫入狀態。 •如申請專利範圍第2項之非揮發性半導體記憶裝置,進 一步包括: 一資料刪除控制手段,藉由賦予一刪除電壓給該格區 塊的基板區域,將被選擇的格區塊中的所有記憶格内的 資料照射刪除,該被選擇格區塊係共用該記憶格陣列中 共同字線之NAND型記憶格單元的範圍中,且形成最小 的資料刪除單元。 O:\65\65707-921006 DOC 5 -2 - 563241
    4 ·如申請專利範圍第2項夕韭播机以1 ,非揮發性半導體記憶裝置,其 中该弟二個通過電壓係設 ,,,^ ^ 叹疋风同於孩罘一個通過電壓。 5 .如申請專利範圍第2項乏韭姑我α丄、, 士、、斤 非揮發性半導體記憶裝置,其 弟二個通過電壓係設定成高於該第一個通過電壓。 6·=專利,,2項之非揮發性半導體記憶裝置,其 中^亥弟一及弟二個通過兩民士 = 1 冰l 、^壓中至少一個係設定成高於該 弟一個通過電壓。 ^專la m第6喝之非揮發性半導體記憶裝置,其 母個d NAND型死憶格單元都包括一第一個選擇電晶 其係位於記憶格其中—端與—位元線之間,並且由 矛:條選擇閘線來驅動;以及一第二個選擇電晶體,其 係位万、3夕卜一崎與一共用源極線之間,纟且由第二條選 擇閘線來驅動; 、 當琢碩出控制手段進行資料讀出工作時,會在該被選 擇的N A N D型冗憶格單元的該第一及第二條選擇問線中 賦予該第一個通過電壓, 當該寫入查證讀出控制手段進行寫入查證讀出工作 時,會在Μ被選擇的NAND型記憶格單元的該第一及第 一知選擇閘線中賦予該第一或第三個通過電壓。 •如申叫專利範圍第2項之非揮發性半導體記憶裝置,其 中在寫入工作期間賦予至未被選擇的字線的該第二個通 過電壓’在完成寫入工作之後便會被重置成接地電位, 並且在下個寫入查證讀出工作中,將該第三個通過電壓 賦予在該等未被選擇的字線中。 3 - O:\65\65707-921006 DOC 5 本紙張尺度適用中國國家檩準(CNS) A4規格^297巧---—— 563241
    9 ·如申請專利範圍第2項之非揮發性半導體記憶裝置,其 中在ί入工作期間賦予至未被選擇的字線的該第二個通 過包壓,在完成寫入工作之後,在下個寫入查證讀出工 作中s、%s續賦予在該等未被選擇的字線中,不必重置。 10·—種非揮發性半導體記憶裝置,其包括: 一具有由字線來驅動的可電子重寫記憶格之矩陣配置 的记fe格陣列,該等記憶格會構成數個N A N D型記憶格 早疋,其各包含與一位元線串聯的數個該等記憶格; -解碼電路,用以將位址解碼,並且選擇該記憶格陣 列之字線及位元線; 一感測放大器電路,用以檢測從該記憶格陣列之一位 元線中讀出的資料,並且鎖存窝入該記憶格陣列的資 一讀出㈣手段’用以藉由賦予—讀出電壓至從該解 碼電路所選擇的NAND型記憶格單元中選擇出來的字線 中’並且賦予-第-個通過電壓給未被選擇的字線,以 讀出資料’該第-個通過電壓係設定成使記憶格電導· :寫入控制手段,用以藉由賦予-寫入電壓於該解碼 -路所選擇的NAND型記憶格單元中選擇出來的 中,並且施加一低於該寫入電壓的第二個通過電壓給: 被選擇的字線,以將資料寫入;以及 土、口 用以在確保由未被選擇的 大於資料讀出工作期間的 查證讀出電壓至該所選擇 一寫入查證讀出控制手段, 字組線所驅動記憶格的電導值 電導值的條件下,藉由賦予一 4 - O:\65\65707-921006 I 本紙張尺度適用中國國家標準(簡)A4規格TiT0x297公釐)_ 563241 六、申請專利範圍 的NAND型記憶格單元中所選擇的字線,並且賦予一第 一個通過包壓給未被選擇的字線(該第三個通過電壓係設 疋成使口己[思格電導),讀出資料以確認該窝入控制手段的 資料寫入狀態。 11·如申請專㈣目第1G项之非揮發性半導體記憶裝置,進 一步包括: 貝料刪除控制手段’藉由賦予—刪除電壓給該格區 塊的基板區域,將被選擇的格區塊中的所有記憶格内的 資科照射刪除,㈣選料區制位於共用該記憶格陣 列中共同竽線之NAND型記憶格單元的範圍中,且 最小的資料刪除單元。 12. 如申請專利範圍第10項之非揮發性半導體記憶裝置,立 中㈣二及第三個通過電壓中至少一個係設定成高於該 弟一個通過電壓。 13. 如申請專利範圍第12項之非揮發性半導體記憶裝置,並 中每個孩NAND型記憶格單元都包括—第—個 /曰、 體’其係位於記憶格其中—端與—位元線之間,、並= 矛了條選擇閘線來驅動;以及一第二個選擇電晶體,其 係位於另外一端與一共用源極岭 擇閘線來驅動;用原…間,並且由第二條選 當該讀出控制手段進行資料讀出工作時,會在該被選 擇的NAND型記憶格單元的該第—及第二條選擇閑 賦予該第一個通過電壓; 當該寫入查證If出控制手段進行寫人查證讀出工作 5 - O:\65\65707-921006 DOC 5 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格ΤΓ10Χ297公釐) 563241
    時’會在該被選擇的NAND型記憶格單元的該第一及第 一备、選擇閑線中賦予該第一或第三個通過電壓。 14·如專利範圍第1 〇項之非揮發性半導體記憶裝置,其中在 寫入工作期間賦予至未被選擇的字線的該第二個通過電 ^ 在70成寫入工作之後便會被重置成接地電位,並且 在下個寫入查證讀出工作中,將該第三個通過電壓賦予 在孩等未被選擇的字線中。 15·如申請專利範圍第1 〇項之非揮發性半導體記憶裝置,其 中在寫入工作期間賦予至未被選擇的字線的該第二個通 過電墨’在完成寫入工作之後,在下個寫入查證讀出工 作中會繼續賦予在該等未被選擇的字線中,不必重置。 16.一種非揮發性半導體記憶裝置,其包括: 一由數個可電子重寫之記憶格所構成的記憶格單元; 用以與該記憶格單元交換資料的位元線; 連接至形成該記憶格單元之記憶格的控制閘極的字 線;以及 一用以賦予預設電壓給該等字線的列解碼器, 違列解碼器會賦予一預設電壓給該等字線,確保在用 以判斷預設的資料是否被寫入形成該記憶格單元的其中 一個記憶格之中的讀出工作中,流入該導通的記憶格單 元的格電流會大於在用以指定寫入該記憶格中的資料的 謂出工作中,流入該導通的記憶格單元的格電流。 17.—種非揮發性半導體記憶裝置,其包括: 一由數個可電子重寫之記憶格所構成的記憶格單元; -6 - O:\65\65707-921006 DC)C 5 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 563241
    一連接在該記憶格單元其中一端與該位元線之間的選 擇電晶體; 與忒圮憶格單元交換資料的位元線;
    O:\65\65707-921006 D0C 5 分別連接至形成該記憶格單元之記憶格的控制閘極及 邊選擇電晶體的閘極的字線及選擇鬧線;以及 一用以賦予預設電壓給該等字線及該選擇閘線的列解 碼器, 在1買出工作期間,該列解碼器會赋予一第一個通過電 壓給連接至形成該記憶格單元之數個記憶格之間未被選 擇的記憶格的字線,用以判斷預設的資料是否被窝入形 成琢記憶格單元的其中一個記憶格之中,並且在讀出工 作期間,該列解碼器會賦予一低於該第一個通過電壓的 昂二個通過電壓給連接至形成該記憶格單元之數個記憶 袼之間未被選擇的記憶格的字線,用以指定窝入該記憶 格單元的資料。 P〜 18·如專利範圍第i 7項之非揮發性半導體記憶裝置,其中在 讀出工作期間,亦會賦予該第一個通過電壓給連接至該 選擇電晶體的該選擇閘線,用以判斷預設的資料是否被 寫入形成該記憶格單元的記憶格之中。 ㈣專利範圍第17項之非揮發性半導體記憶襞置,其中在 讀出工作期間,為判斷預設的資料是否被寫入形成該記 憶格單元的記憶格之中而賦予給連接至該選擇電晶=的 孩選擇閘線的電壓,不同於該第一個通過電壓。 ' 20.—種非揮發性半導體記憶裝置,其包括: 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇X297公釐)'— -----: 563241 A8 B8
    -8 - 七:具有可電子重寫記憶格之矩陣配置的記憶格陣列, f寺i己憶格會構成數個各包含數個該等記憶格的記憶格 單元 I ^ -解碼器,用以將一位址解碼,並且選擇該記憶格 列之記憶格; 、,—感測放大器器,用以檢測從該記憶格陣列讀出的資 料並且鎖存寫入該i己憶格陣列的資料; 、 一讀出控制器,用以從該解碼器所選擇的記憶格單元 中選擇出來的記憶格中讀出資料; 一寫入控制器,用以藉由賦予寫入電壓,將資料寫入 該解碼器所選擇的記憶格單元中選擇出來的記憶格;以 及 一寫入查證讀出控制器,用以在確保在用以判斷預設 的貝料疋否被寫入形成該記憶格單元的其中一個記憶格 之中的碩出工作中’泥入該導通的記憶格單元的格電 流’會大於在用以指定寫入該記憶格中的資料的讀出工 作中’流入該導通的記憶格單元的格電導的偏差條件 下’從所選擇的記憶格中讀出資料,以確認該寫入控制 器的資料寫入狀態。 21·如申請專利範圍第2 0項之非揮發性半導體記憶裝置,其 中當格數量增加時,該寫入查證讀出控制器會在實質相 同的時間中控制該寫入查證時間。 22·—種非揮發性半導體記憶裝置,其包括: 一具有由字線來驅動的可電子重寫記憶格之矩陣配置 0:\65\65707-921006 DOC 5 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X 297公 裝 η 線 563241 A8 B8 - C8 ~' --------- —__D8 六、申請專利範圍 一 ---- 憶格陣列,該等記憶格會構成數個NAND型記憶格 早疋,其各包含與一位元線串聯的數個該等記憶格,每 個該NAND型記憶格單元都包括—第—個選擇電晶體, 其係位於記憶格其中一端與一位元線之間,並且由第一 選擇閘線來驅動,以及一第二個選擇電晶骨豊,其係位 另外‘與共用源極線之間,並且由第二條選擇閘 線來驅動; 一解碼電路,用以將一位址解碼,並且選擇該記憶格 陣列之字線及位元線; 一感測放大器電路,用以檢測從該記憶格陣列之一位 元線中讀出的資料,並且鎖存寫入該記憶格陣列的資 料; ' 一讀出控制手段,用以藉由賦予一讀出電壓給從該解 碼電路所選擇的NAND型記憶格單元中所選擇出來的字 線,並且賦予一第一個通過電壓給未被選擇的字線,以 讀出資料,該第一個通過電壓係設定成使記憶格電導; 一寫入控制器,用以藉由賦予一寫入電壓於該解碼電 路所選擇的NAND型記憶格單元中所選擇出來的字線, 並且施加一低於該寫入電壓的第二個通過電壓給未被選 擇的字線,以將資料寫入;以及 一寫入查證讀出控制器,用以在確保流入該所選擇的 N AN D型記憶格單元之導通狀態的電流大於該讀出控制 器的資料讀出工作期間的電導的條件下,藉由賦予一查 證讀出電壓至該所選擇的N AN D型記憶格單元中所選擇 O:\65\65707-921006 DOC 5 本紙張尺度適用中國國豕標準(CNS) A4規格(210X 297公爱)""" '—— ______ 563241 A8 B8 C8
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    線來驅動; 記憶袼障 列之一位 陣列的資 一解瑪電路,用以將位址解碼 列之字線及位元線; ^擇孩 -感測放大器電路’用以檢測從該記憶格陣 疋線中讀W f料,並且鎖存窝入該記憶格 -謂出控制器,用以藉由料—讀出電壓 :路所選擇的NAND型記憶格單元中所選擇出來^ 、.泉,並且賦予-第—個通過f壓給未被選擇的字線,以 項出資料,該第-個通過電壓係設定成使記憶格電導. -寫入控制器,用以藉由賦予一寫入電壓於該解碼電 路所選擇的NAND型記憶格單元中所選擇出來的字線, 並且施加一低於該寫入電壓的第二個通過電壓給未被選 擇的字線,以將資料寫入;以及 寫入查證碩出控制器,用以在確保流入該所選擇的 N AND型記憶格單元之導通狀態的電流大於該讀出控制 态的資料謂出工作期間的電導的條件下,藉由賦予一查 證讀出電壓至該所選擇的N AN D型記憶格單元中所選擇 的字線’並且施加一第三個通過電壓給未被選擇的字線 (該第三個通過電壓係設定成使記憶格電導),讀出資料 以確認該窝入控制手段的資料寫入狀態, 其中,當該讀出控制器進行資料讀出工作時,會在該 被選擇的N AND型記憶格單元的該第一及第二條選擇閘 線中賦予該第一通過電壓, -11 - O:\65\65707-921006.DOC 5 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 563241 A8 B8 C8 D8 六 申請專利範圍 當孩寫入查證讀出控制器進行寫入查證讀出工作時, 會在該被選擇的NAND型記憶格單元的該第一及第二條 選擇閘線中賦予該第一或第三個通過電壓,以及 其中’孩寫入查證1買出控制器會賦予該第三個通過電 壓給未被選擇的字線(該第三個通過電壓高於正常讀出工 作的第一個通過電壓),以及賦予該第一個通過電壓給該 第一及第二條選擇閘線。 25·—種非揮發性半導體記憶裳置,其包括: 一具有由字線來驅動的可電子重寫記憶格之矩陣配置 的€ fe、格陣列’該等記憶袼會構成數個N an D型記憶格 單兀,其各包含與一位元線串聯的數個該等記憶格,每 個该N A N D型1己憶格單元都包括一第一個選擇電晶體, 其係位於記憶格其中一端與一位元線之間,並且由第一 條選擇閘線來驅動,以及一第二個選擇電晶體,其係位 於另外一端與一共用源極線之間,並且由第二條選擇閘 線來驅動; 一解碼電路,用以將位址解碼,並且選擇該記憶格陣 列之字線及位元線; 一感測放大器電路,用以檢測從該記憶格陣列之一位 凡線中讀出的資料,並且鎖存寫入該記憶格陣列的資 料; 一謂出控制器,用以藉由賦予一讀出電壓給從該解碼 電路所選擇的N AN D型記憶格單元中所選擇出來的字 線,並且賦予一第一個通過電壓給未被選擇的字線,以 O:\65\65707-921006.DOC 5 _ 1 2! 本紙張尺度適财關家鮮(CNS) A4規格7^1QX297^JJ 563241 as B8 C8 D8 六、申請專利範圍 讀出資料,該第一個通過電壓係設定成使記憶格電導; 一窝入控制器,用以藉由賦予一寫入電壓於該解碼電 路所選擇的N AND型記憶格單元中所選擇出來的字線, 並且施加一低於該寫入電壓的第二個通過電壓給未被選 擇的字線,以將資料寫入;以及 一寫入查證讀出控制器,用以在確保流入該所選擇的 N AND型記憶格單元之導通狀態的電流大於該讀出控制 器的資料讀出工作期間的電導的條件下,藉由賦予一查 證讀出電壓至該所選擇的NAND型記憶格單元中所選擇 的字線,並且施加一第三個通過電壓給未被選擇的字線 (該第三個通過電壓係設定成使記憶格電導),讀出資料 以確認該寫入控制手段的資料寫入狀態, 其中,當該讀出控制器進行資料讀出工作時,會在該 被選擇的N AND型記憶格單元的該第一及第二條選擇閘 線中賦予該第一個通過電壓, 當該寫入查證讀出控制器進行寫入查證讀出工作時, 會在該被選擇的NAND型記憶格單元的該第一及第二條 選擇閘線中賦予該第一或第三個通過電壓,以及 其中,該寫入查證讀出控制器會賦予該第一個通過電 壓給未被選擇的字線,以及賦予該第三個通過電塵或更 低的電壓給該第一及第二條選擇閘線。 O:\65\65707-921006 DOC 5 - 13 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
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