TW561135B

TW561135B - Method for the production of glass substrates for magnetic recording mediums

Info

Publication number: TW561135B
Application number: TW090112472A
Authority: TW
Inventors: Akio Fujimura; Daisaku Kobayashi
Original assignee: Mitsui Mining & Smelting Co
Priority date: 2000-05-26
Filing date: 2001-05-24
Publication date: 2003-11-11
Also published as: KR100532159B1; US6668587B2; CN1337675A; US20020000098A1; JP2001335344A; KR20010107669A; CN1204547C; MY126084A; JP3377500B2

Description

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五、發明說明（1 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製【發明領域】本發明係關於一磁性記錄媒體用玻璃基板之製造方法，尤關於一種可抑制在玻璃基板的表面上形成任何針狀凸起物（該凸起物含有鹼金屬碳酸鹽）的磁性記錄媒體用破璃基板之製造方法，【習知技術】長期以來，因為磁性磁碟記錄裝置的儲存容量持續地增大，故業者一直想要降低磁性磁碟記錄裝置的磁頭之浮動高度，以提升磁性記錄磁碟的記錄密度。欲降低磁頭的浮動高度，即需開發磁性記錄媒體用的基板，而該基板必須具有極佳的的表面平滑度，同時，在其表面僅可有少量的沈積物且在實質上只存在著少量的表面瑕疵。就具有極佳表面平滑度的磁性記錄媒體用之習知基板而言，業者一直以來所使用的主要基板，係以在鋁合金的金屬板上鑛上一層鎳-磷（Ni_P)的方式來加以製備，並隨即在多重的步驟程序中，將鍍過鎳_構之金屬板的主要表面予以磨光。然而，磁性磁碟記錄裝置近來甚至被用在如筆記型個人電腦的手提式個人電腦十，同時，該磁性記錄媒體應該以不小於10,000 rpm的高轉速來轉動，以便改善該磁性磁碟兄錄裝置的反應速度。職是之故，業者一直欲開發具有高耐受力的磁性磁碟記錄媒體用基板，以承受此等嚴苛的狀況。對於可以滿足上述要求的基板而言，玻璃基板一直是業者所採用的材質。 —7---------------訂--------- (靖先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） 1 312646 561135 A7 _ B7 五、發明說明（2 ) (請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) 舉例而言’此等吾人所主要採用的磁性記錄媒體用玻璃基板係包括一化學強化玻璃或一結晶玻璃基板，前者的強度係藉由化學強化處理來加以改良，而後者的製備則是藉由將玻璃予以熔化和鑄模以形成玻璃基板，並將該玻璃基板長時間維持在6〇〇。(：到8〇(rc的高溫，以部分地隔離出該基板中的結晶面。舉例而言，該化學強化玻璃基板係藉由以下步驟而得·將玻璃材料予以熔化，並將該熔化物塑造成為化學強化玻璃基板用的玻璃基板，接著，對該玻璃基板施行研磨和磨光處理’並將其浸入如硝酸鈉或硝酸鉀的溶鹽中，俾使在該基板的表面上形成一壓縮的緊壓層，藉以改良其碎裂強度，因此’該所形成的基板之表層必然有高含量的鹼金屬。另外’一些結晶玻璃基板也包含有鹼金屬，尤以鋰為甚。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製大體上而言，磁性記錄媒體用玻璃基板的製造，和如磁性記錄層和保護層的形成，係在不同地點或不同工廠中來進行。因此，磁性記錄媒體用玻璃基板係藉由眾人所熟决的β洗方法（例如’包含有刷洗組合的清洗方法）來加以清洗’而該方法係利用一海綿滚筒和超音波潔淨法來進行 /月洗並在该玻璃基板被運送到另一地點或工廠之前即令其乾燥。因此，該玻璃基板在運送之前和/或之後必須暫時貯存一段時間。上述之磁性記錄媒體用玻璃基板可包括化學強化玻璃 ^如含有鐘的結晶玻璃基板，然而，在該案例中，於本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格⑵G X 297公爱） 2 312646 561135 經濟部智慧財產局消費合作社印製 3 A7 B7 五、發明說明（3 ) 進行上述清洗操作之後的二十四小時内會有無數個針狀凸起物在玻璃基板的表面上形成。如果利用原子力顯微鏡 (AFM，atomic force microscope)在縱向以擴大倍率來觀察玻璃表面，這些凸起物看起來就像是釘鞋的鞋釘。如果磁性記錄媒體是利用具有此等針狀凸起物的磁性記錄媒體用玻璃基板來加以製備，該所形成的磁性記錄媒體即可能在進行寫入和/或讀取時，因為這些針狀凸起物的存在而和磁性記錄裝置的磁頭有所接觸（其接觸程度係以凸起物的高度而定），因此，這種情形則會和業者欲減少磁頭浮動高度的目的有所抵觸。根據元素分析結果可確定，該針狀凸起物主要包含有鹼金屬（例如，鈉、鉀、和鋰）的碳酸鹽，而這些物質可能本來就存在玻璃中’或是透過化學強化程序而被導入玻璃基板中。更具體而言，一般可以瞭解，在完成清洗後之位於玻璃基板表面附近的金屬離子，會隨著時間過去而朝向表面而移動，然而，這些移至表面的金屬離子會和空氣中所存在的二氧化碳作用而產生碳酸鹽，同時，這些碳酸鹽會繼續生長，並以針狀凸起物的型態而沈積於基板的表面。在製備玻璃基板的習知方法中，有附加一個酸類清洗步驟到該清洗程序中，以便消除上述的問題。舉例而言，對於在該酸類清洗步驟中的酸類而言，可以列舉出來的有.無機酸，例如，氫氟酸、鹽酸、硫酸、和磷酸；及有機酸’例如’甲酸、草酸、擰檬酸、酒石酸、及羥基乙酸。因此，添加此等酸類清洗步驟可以降低接近玻璃基板表面本紙張&度適用中關家標準（CNS)A4規格⑵G x 297公f-------- 312646 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 561135

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 曰驗金屬離子之濃度，進而可以降低此等碳酸鹽的沈積量0 、然而，欲it到有效的酸類清洗必須具有相當嚴苛的環境’例如’高溫和很高的酸性濃度。職是之故，此等酸頬清洗步驟必須使用對酸類具有高耐受力的昂貴裝置，在坟同時，在整個清洗流程中也必須採取充分的保護措施以= 保安全。【發明之綜合說明】依據上述，到目前為止，業者一直希望能開發出較簡單的清洗方法，而此清洗方法係得以抑制主要成分為驗金屬碳酸鹽的針狀凸起物之生長。因此，本發明的一目的即是提供一磁性記錄媒體用玻璃基板之製造方法，該方法可以抑制主要成分為鹼金屬碳酸鹽的針狀凸起物在該玻璃基板之表面上形成。本發明的發明人已經進行各種研究而意圖解決關於上述之習知方法的問題，發明人已經發現，在進行下述的清洗步驟之後，如果將一玻璃基板在空氣中留置48小時，使其表面充分地形成包含有鹼金屬碳酸鹽的針狀凸起物，再隨即施行刷洗（其係利用海綿滾筒或其它類似工具來清洗）和施行浸泡清洗後，就再也不會從玻璃基板滋生任何新的針狀凸起物，因此，就可以達到本發明的目的。而這些清洗步驟的情況可為··根據一普遍習知的方法來對一玻璃基板進行磁碟處理、研磨、磨光、及後續的清洗步驟以及施行一化學強化步驟，而該化學強化步驟係在研磨和磨光步巧張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格⑵Gx 297公f -- 312646 —-----------------訂---------. rtf先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 561135

五、發明說明（5 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製驟之間、或第-和第二磨光階段（當該磨光步驟係以兩個階段來逐步實施時）之間、或磨光和後續的清洗步驟之間來實施；或者，對玻璃基板進行冑光和清洗步驟之間的化學強化步驟；或者，對-結晶玻璃基板進行磁碟處理、研磨、磨光、及後續的清洗步驟。根據本發明，即可提供一磁性記錄媒體用玻璃基板之製造方法，其中，最後的清洗步驟係以兩個階段來實施，對其第二清洗階段而言，刷洗和浸泡清洗步驟係在完成第一清洗階段，並且在該包含有鹼金屬碳酸鹽的針狀凸起物在玻璃基板的表面上生長後方可實施。【發明之詳細說明】根據本發明而實施之磁性記錄媒體用玻璃基板的製造方法將在以下更加詳細的說明之。本發明的製造方法尤其可適當地應用到化學強化玻璃基板的製造，但也可有效地應用到含有如鋰的鹼金屬之結晶玻璃基板的製造。根據本發明的第一實施例’提供了一磁性記錄媒體用之化學強化玻璃基板的製造方法，其係包括磁碟處理、研磨、磨光、和後續清洗步驟，以及在研磨和磨光步驟之間、或第一和第二磨光階段之間（當磨光步驟係以兩個階段來逐步實施時），或磨光和後續清洗步驟之間所施行的化學強化步驟，本發明的主要特徵為在該方法中，更包括在完成^ 上述清洗步驟以及在包含有鹼金屬碳酸鹽的針狀凸起物於玻璃基板的表面生長之後，再進行刷洗和浸泡清洗玻璃基板，並隨即使其乾燥的步驟。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公餐） 5 312646 —r---------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 561135 A7 B7 五、發明說明（6 ) (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 根據本發明的第一實施例’提供了一磁性記錄媒體用之結晶玻璃基板的製造方法，其係包括磁碟處理、研磨、磨光、和後續清洗的步驟，本發明的主要特徵為在該方法中，更包括在完成上述清洗步驟以及在包含有驗金屬碳酸鹽的針狀凸起物於玻璃基板的表面生長後，再進行刷洗和浸泡清洗玻璃基板，並隨即使其乾燥的步驟。舉例而S ’上述的磁碟處理、研磨、磨光、和清洗步驟係揭露於已審查之日本專利公告案號—平成3_5213〇，以及尚未審查之日本專利公告案號一平成7-134823和平成 8-124153中，同時這些普遍為人所知的技術可在沒有任何修改的情況下，用於根據本發明而實施之製造方法中。另外，即使化學強化步驟在前述三個階段中的任何階段實施，亦即，化學強化步驟係在研磨和磨光步驟之間、或在第一和第二階段之間（當磨光步驟以兩個階段來實施時）、或在磨光和後續的清洗步驟之間來實施，幾乎都可以確保具有相同的效果。經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣已經根據例行技術而施行過如磁碟處理、研磨、磨光、和化學強化步驟的磁性記錄媒體用玻璃基板，必須要進行刷洗步驟，而該刷洗步驟係利用一海綿滚筒或一海綿圓盤來施行，且其為磁性記錄媒體用玻璃基板的例行清洗步驟，接下來，該玻璃基板即在施加超音波的情況下，分成數個階段而浸泡於超純淨的水浴中，以便移除玻璃基板表面上的污染物，最後，該玻璃基板即利用酒精來使其乾燥。如果根據這些通用之清洗步驟而清洗過的玻璃基板本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） ' ' 6 312646 561135 A7 五、發明說明（8 =因此’有—小部分的凸起物可能會殘留在玻璃基板的衣面上0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 同樣地，在較佳狀況下，使用海韓滾筒或海絲圓盤來，仃的清洗’係協同少量的細粒研㈣來共同作用以改 1洗的效果，同_，在這個案例中，業者可觀察到其效果有顯著的改良。舉例而言，在此可用的此等細粒研磨料之材料可為‘·氫氧化鎂，以及如氧化鎮、氧化鈽、和碳酸每的無機氧化物和碳酸鹽。本發明將參照以下的實施例和比較實施例而更詳細地加以說明’但本發明絕非侷限於這些特定實施例所限定的範圍内。

較實施例I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製一可進行化學強化的鋁矽酸鹽玻璃基板（ΑΗ^，八以以技術玻璃股份有限公司有售）係根據磁性記錄媒體用之化學強化玻璃基板的一般製造程序來實行内部直徑和外部直徑的處理，並接著進行一拍打步驟（研磨步驟）以形成大量的圈餅狀基板，該圈餅狀基板係具有65 mm的外部直徑， 20 mm的内部直徑，同時其厚度為〇·68 mm。接著，將這些玻璃基板浸入一混合的溶鹽中，而該溶鹽包含了硝酸鉀 (佔總質量的70%)和硝酸鈉（佔總質量的3〇0/〇)，而在其中的這些玻璃基板係維持在38〇aC的狀態下一個小時的時間，以對這些玻璃基板實施化學強化，而使得強化層的厚度可達 60 // m。本紙張义度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐Υ 該化學強化玻璃基板00片）隨即被安裝到一 16B雙 312646 561135 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 9 A7 五、發明說明（9 面磨光的機器（Hamai股份有限公司有售）中，隨即使用 Mltsul採礦和精煉股份有限公司的Mirek 801(氧化鈽的研磨料’·平均粒子大小D5G= 1.5 // m)為研磨料，並使用R〇del Nitta股份有限公司的MHC 15A(泡沫型態的聚氨酯）為擦布來將這些玻璃基板予以磨光，俾使玻璃基板的縮小厚度在每一側或每一面為1 5 # m(第一磨光階段）。上述經過磨光的玻璃基板（1 0 0片）隨即也被裝設到一 16B雙面磨光的機器（jjamai股份有限公司有售）中，同時使用Mitsui採礦和精煉股份有限公司之質量比為〇5 % cep 的研磨液（其為一固態溶液’其成分之組成為：1⑽份質量的氧化鈽混合一份質量的氧化石夕；平均粒子大小為d5〇= 〇·2 " m)為研磨料，並使用R〇del Nitta股份有限公司的 MHC 14E(泡沫型態的聚氨酯）為擦布，在研磨壓力為6〇 g/cm2，轉數為30 rpm以及研磨時間為20分鐘的狀況下，來對這些基板的雙面進行磨光作業（第二磨光階段）。上述之經過磨光的玻璃基板係用一玻璃基板用之清洗裝置（Speed Pham股份有限公司有售）和佳麗寶（Kaneb〇)股份有限公司的海綿圓盤來進行三步驟的刷洗（每個步驟三秒鐘）。接著，這些玻璃基板即使用Kyodo油脂股份有限公司的SPC 397(弱驗清洗劑）為清潔劑來進行浸泡清洗作業’並隨即在施加超音波的狀況下，將這些基板在五次超純淨水的水浴中依序沖洗。接著，將這些玻璃基板浸入異丙醇中，並隨後使其在異丙醇蒸汽中乾燥。實施清洗彳呆作過後的化學強化玻璃基板，係在進行清 ^氏張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 312646 -------It--1------· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 561135 A7

五、發明說明（1〇 ) 洗過後，以及在室内（溫度從2〇到25°C ;濕度從50到7〇0/〇) 分別留置12小時、24小時、和48小時過後，立即利用 AFM而針對2//mx 2/zm的區域來決定其表面粗糖值（算數平均粗糙度Ra和最大高度Ry)。所得到的結果係總結於以下的表1中。表1

Ra (A) Ry (A) 緊接著在清洗過後 1.8 25 清洗後12小時 2.7 100 清洗後24小時 5.4 135 清洗後4 8小時 6.6 130 實施例1 將一鋁矽酸鹽玻璃基板（AH-1，Asahi技術玻璃股份有限公司有售）進行與比較實施例1所用的程序相同之磁碟處理、研磨、化學強化、磨光、以及清洗步驟。在清洗步驟過後，並且將這些玻璃基板留置在室内（溫度從20°C到 2 5°C ;濕度從50到70 %)48小時過後，這些玻璃基板必須再次利用Speed Pham股份有限公司的玻璃基板用清洗裝置和佳麗寶（Kanebo)股份有限公司的海綿圓盤，來進行三階段的刷洗（每個階段3秒鐘）。接著，這些基板則使用rbS 為清潔劑來進行浸泡清洗，並隨即在施加超音波的狀況下，將這些基板在五次超純淨水的水浴中依序沖洗。接著，將這些玻璃基板浸入異丙醇中，並隨後使其在異丙醇蒸汽中乾燥。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） 312646 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁，>

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 11 再次清洗過後的化學強化玻璃基板，係在緊接著進行清洗過後，以及在室内（溫度從20到25°C ;濕度從5〇到 70%)分別留置12小時、24小時、和48小時過後，立即利用AFM而針對2//mx 2//m的區域來決定其表面粗韃值 (Ra和Ry)。所得到的結果係總結於以下的表2中。表2

Ra (A) Ry (A) 緊接著在清洗過後 2.7 60 清洗後12小時 3.0 65 清洗後24小時 3.4 65 清洗後4 8小時 3.2 63 實施例2 將一銘石夕酸鹽玻璃基板（AH-1，Asahi技術玻璃股份有限公司有售）進行與比較實施例1所用的程序相同之磁碟處理、研磨、化學強化、磨光、以及清洗步驟。在清洗步驟過後’並且將這些玻璃基板留置在室内（溫度從20。(：到 25°C ;濕度從50到70 %)48小時過後，這些玻璃基板必須再次利用Speed Pham股份有限公司的玻璃基板用清洗裝置、和佳麗寶（Kanebo)股份有限公司的海綿圓盤、以及 Mitsui採礦和精煉股份有限公司之質量比為〇 5〇/〇 CEP的研磨液，來進行三階段的刷洗（每個階段3秒鐘）。接著，這些基板則使用RBS為清潔劑來進行浸泡清洗，並隨即在施加超音波的狀況下，將這些基板在五次超純淨水的水浴中依序沖洗。接荖，將這些玻填基板浸入異丙醇中，並隨各，.代張&度過用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 x 297公釐） 312646 « — — — — — — — — — — — — — I— --— — — — — — Γ%先閱讀背面之注杳？事項再填寫本頁} 561135 A7 B7 五、發明說明（12 ) 後使其在異丙醇蒸汽中乾燥。再次清洗過後的化學強化玻璃基板，係在緊接著進行清洗過後，以及在室内（溫度從20到25°C ;濕度從50到 70%)分別留置12小時、24小時、和48小時過後，立即利用AFM而針對2//mx 2//m的區域來決定其表面粗糙值 (Ra和Ry)。所得到的結果係總結於以下的表3中。表3

Ra (A)

Ry (A) 緊接著在清洗過後 1.6 26 -------------·# f靖先閱讀背面之注意事項再填寫本頁，> 清洗後12小時 1.6 24 清洗後24小時 2.0 25 清洗後48小時 1.8 24 訂實施例3 將一紹石夕酸鹽玻璃基板（AH-1，As ahi技術玻璃股份有限公司有售）進行與比較實施例1所用的程序相同之磁碟處理、研磨、化學強化、磨光、以及清洗步驟，然而，其化學強化步驟並非在研磨和磨光步驟之間進行，而是在第一和第二磨光階段之間施行。在清洗步驟過後，並且將這些玻璃基板留置在室内（溫度從2(TC到25°C ;濕度從50到 70 %)48小時過後，這些玻璃基板必須再次利用Speed Pham股份有限公司的玻璃基板用清洗裝置、和佳麗寶 (Kanebo)股份有限公司的海綿圓盤、以及Mitsui採礦和精煉股份有限公司之質量比為0.5% CEP的研磨液，來進行三階段的刷洗（每個階段3秒鐘）。接著，這些基板則使用本紙張&度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐) " '一--- 12 312646 % 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 561135 A7 ------ B7 五、發明說明（13 ) RB S為清潔劑來進行浸泡清洗，並隨即在施加超音波的狀況下’將這些基板在五次超純淨水的水浴中依序沖洗。接 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 著’將這些玻璃基板浸入異丙醇中，並隨後使其在異丙醇蒸汽中乾燥。再次清洗過後的化學強化玻璃基板，係在緊接著進行清洗過後，以及在室内（溫度從20到25°C ;濕度從50到 70%)分別留置12小時、24小時、和48小時過後，立即利用AFM而針對2//mx 2//m的區域來決定其表面粗輪值 (Ra和Ry)。所得到的結果係總結於以下的表4中。表4

Ra (A) Ry (A) 緊接著在清洗過後 1.6 25 清洗後12小時 1.7 25 清洗後2 4小時 2.0 26 清洗後4 8小時 1.9 27 實施例4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製將一紹石夕酸鹽玻璃基板（AH-1，Asahi技術玻璃股份有限公司有售）進行與比較實施例1所用的程序相同之磁碟處理、研磨、化學強化、磨光、以及清洗步驟，然而，其化學強化步驟並非在研磨和磨光步驟之間進行，而是在第二磨光階段和清洗步驟之間施行。在清洗步驟過後，並且將這些玻璃基板留置在室内（溫度從20°C到25°C ;濕度從 50到70 %)48小時過後，這些玻璃基板必須再次利用Speed Pham股份有限公司的玻璃基板用清洗裝置、和佳麗寶本紙張尺度過用〒國國豕標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 13 312646 561135 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

l紙張尺度適时關家標準（CNS)A4規格⑵〇 X 297公复Y 五、發明說明（14 ) (Kanebo)股份有限公司的海綿圓盤、以及Mitsui採礦和精煉股份有限公司之質量比為〇 5〇/〇 CEP的研磨液，來進行三階段的刷洗（每個階段3秒鐘）。接著，這些基板則使用 RBS為清潔劑來進行浸泡清洗，並隨即在施加超音波的狀況下’將這些基板在五次超純淨水的水浴中依序沖洗。接著，將這些玻璃基板浸入異丙醇中，並隨後使其在異丙醇蒸汽中乾燥。再次清洗過後的化學強化玻璃基板，係在緊接著進行清洗過後’以及在室内（溫度從2〇到251 ;濕度從5〇到 70%)分別留置12小時、24小時、和48小時過後，立即利用AFM而針對2 // mx 2//m的區域來決定其表面粗輪值 (Ra和Ry)。所得到的結果係總結於以下的表5中。

Ra (A) Ry (人）緊接者在清洗過後 1.7 28 清洗後12小時 1.8 27 清洗後24小時 2.1 27 清洗後48小時 2.0 26 實施例5到22 將紹梦酸鹽玻璃基板（AH-1，Asahi技術玻璃股份有限a司有口）進行與比較實施例丨所用的程序相同之磁碟處理、研磨、化學強化、磨光、以及清洗步驟。在清洗步驟過後，以及將這些玻璃基板在利用以下表6所指定之溫度…/燕·:^一和—氧化碳濃度而維持的大氣中予以留置一段 312646 --- I------·1111111 ^ · I I I I I--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 561135 A7 __B7______ 五、發明說明（l5) 時間（其留置時間也同樣由表6來指定）過後，這些玻璃基板必須再次利用Speed Pham股份有限公司的玻璃基板用清洗裝置、和佳麗寶（Kanebo)股份有限公司的海綿圓盤、以及Mitsui採礦和精煉股份有限公司之質量比為05〇/〇 CEP的研磨液，來進行三階段的刷洗（每個階段3秒鐘）。接著，這些基板則使用RBS為清潔劑來進行浸泡清洗，並隨即在施加超音波的狀況下，將這些基板在五次超純淨水的水浴中依序沖洗。接著，將這些玻璃基板浸入異丙醇中，並隨後使其在異丙醇蒸汽中乾燥。再次清洗過後的化學強化玻璃基板，係在緊接著進行清洗過後，以及在室内（溫度從2〇到25〇c ;濕度從5〇到 7〇%)留置48小時過後，立即利用AFM而針對mx 2以 m的區域來決定其表面粗糙值（Ra* Ry)。所得到的結果係總結於以下的表6中。 (請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公餐） 15 312646 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 16 561135 A7 _____________ _ 五、發明說明（ι〇表6 實施例編號溫度濕度二氧化碳濃度 (以體積百分比計) 時間 (小時） Ra A Ry A 5 50°C 50 % 0.5 1 2.0 29 6 5〇t 80 % 0.5 10 1.9 27 7 80°C 50 % 0.5 1 1.9 28 8 80°C 80 % 0.5 10 1.8 27 9 50°C 50 % 5 1 1.8 25 10 50°C 80 % 5 10 1.7 24 11 80°C 50 % 5 1 1.7 25 12 80°C 80 % 5 10 1.6 23 比較竇施例2 在此比較實施例中，除了用矽酸鋰結晶玻璃基板（TS_ 10SX ’ κ· Κ· OHARA公司有售；其包含有7〇到8〇 0/〇的石英-方英石，而其餘部分則由非晶矽玻璃面所組成）來取代鋁矽酸鹽玻璃基板，以及未實施任何化學強化步驟之外，係重複進行著與比較實施例丨相同的程序。而經過清洗過後的玻璃基板，係在緊接著進行清洗過後，以及分別在室内（溫度從20到25 °C ;濕度從50到70%)留置12小時、24 小時、和48小時過後，立即利用AFM而針對2以mx 2 " in的區域來決疋其表面粗糙值（Ra和尺丫）。所得到的結果係總結於以下的表7中。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 312646 —----------------tr--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 561135 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 17 i、發明說明（π) 表7

Ra (A) Ry (A) ，接著在清洗過後 2.4 23 清洗後12小時 2.6 38 _清洗後24小時 3.0 52 清洗後48小時 3.2 54 實施例13 在此實施例中，除了用矽酸鋰結晶玻璃基板（丁3-10SX，Κ· Κ· OHARA公司有售；其包含有70到80 %的石英-方英石，而其餘部分則由非晶矽玻璃面所組成）來取代鋁矽酸鹽玻璃基板，以及未實施任何化學強化步驟之外，係重複進行著與實施例2中相同的程序。經過再次清洗過後的玻璃基板，係在緊接著進行清洗過後，以及在室内（溫度從20到25°C ;濕度從50到70%) 留置48小時過後，立即利用AFM而針對2/zmx 的區域來決定其表面粗糙值（Ra和Ry)。所得到的結果係總結於以下的表8。表8

Ra (A) Ry (A) 緊接著在清洗過後 2.5 35 清洗後4 8小時 2.7 33 如以上之詳細說明，根據本發明而實施之磁性記錄媒體用玻璃基板之製造方法並不需要使用具有強抗酸性的昂 1裝置。另外，藉由本發明的方法而製造之磁性記 ‘紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公f 1----—卞m 312646 -------------------訂--------- ί請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 18 561135 A7 _B7__ 五、發明說明（18) 用玻璃基板，即使在其暫時貯存的期間内，也能抑制包含有驗金屬碳酸鹽的針狀凸起物在該玻璃基板的表面上生長。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 312646 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

Claims

条年 M z日 1 90112472號專利申申請專利範圍修正本 1 _接、（92年5月12曰）磁性圮錄媒體用玻璃基板之製造方法，在該方法中\最後清洗步驟係分成兩個階段來實施，而在第二清洗階段中，刷洗和浸泡清洗步驟係在以下狀況發生之後而實施’亦即’在完成第—清洗階段之後、將玻璃基板留置於工乳㈠至％小時，使包含有鹼金屬碳酸鹽的複數個針狀凸起物形成於玻璃基板表面之後，再進行第二階段清洗。經濟部中央標準局員工福利委員會印製申μ專利範圍第1項之磁性記錄媒體用玻璃基板之製法，其包括一磁碟處理、一研磨、一磨光、和一後續清洗步驟，以及在該研磨和該磨光步驟之間、或第一和第二磨光階段之間（當該磨光步驟係以兩個階段來逐步實施時），或該磨光和該後續清洗步驟之間所施行的化學強化步驟，該方法更包括在完成上述清洗步驟以及在包含有驗金屬碳酸鹽的該些針狀凸起物於該玻璃基板的表面生長後，再進行刷洗和浸泡清洗該玻璃基板，並隨即使該玻璃基板乾燥的複數個步驟。 3·如申請專利範圍第1項之磁性記錄媒體用結晶玻璃基板之製造方法’其係包括一磁碟處理、一研磨、一磨光、和一後續清洗的步驟，該方法更包括在完成上述清洗步驟以及在包含有鹼金屬碳酸鹽的複數個針狀凸起物於玻璃基板的表面生長後，再進行刷洗和浸泡清洗該玻璃本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210 X 297公釐） 1 312646 561135 基板，並隨即使該玻璃I板乾燥的複數個步驟。 4.如申請專利範圍第i項到第3項中之—的磁性記錄媒體用結晶玻璃基板之製造方*，其中，該些針狀凸起物的生長係以加速方式進行。 5·如申請專利範圍第i項到第3項中之—的磁性記錄媒體用結晶玻璃基板之製造方法，纟中，如該第二清洗階段所實施的該刷洗程序係在有細粒研磨漿存在的狀況下來進行。 6.如申請專利範圍第4項之磁性記錄媒體用結晶玻璃基板之製造方法，其中，如該第二清洗階段所實施的該刷洗程序係在有細粒研磨漿存在的狀況下來進經濟部中央標準局員工福利委員會印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210 x297公爱） 2 312646