JP2001335344A - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法Info
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C23/0075—Cleaning of glass
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ガラス基板の表面におけるアルカリ金属の炭酸
塩を含む針状突起物の生成が抑制された磁気記録媒体用
ガラス基板の製造方法を提供すること。 【解決手段】本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の製造
方法においては、最終洗浄を二段階に分けて実施し、そ
の第一段目の洗浄後で該ガラス基板の表面にアルカリ金
属の炭酸塩を含む針状突起物が成長した後に、第二段目
の洗浄としてスクラブ洗浄及び浸漬洗浄を実施する。
塩を含む針状突起物の生成が抑制された磁気記録媒体用
ガラス基板の製造方法を提供すること。 【解決手段】本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の製造
方法においては、最終洗浄を二段階に分けて実施し、そ
の第一段目の洗浄後で該ガラス基板の表面にアルカリ金
属の炭酸塩を含む針状突起物が成長した後に、第二段目
の洗浄としてスクラブ洗浄及び浸漬洗浄を実施する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用ガラ
ス基板の製造方法に関し、より詳しくは、ガラス基板表
面におけるアルカリ金属の炭酸塩を含む針状突起物の生
成が抑制された磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法に
関する。
ス基板の製造方法に関し、より詳しくは、ガラス基板表
面におけるアルカリ金属の炭酸塩を含む針状突起物の生
成が抑制された磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク記録装置の大容量化に伴っ
て、記録密度向上のために磁気ヘッド浮上量の低減が図
られており、その低減のためには表面平滑性に優れてお
り、しかも表面への付着物が少なく、表面欠陥の少ない
磁気記録媒体用基板が必要とされている。表面平滑性に
優れた磁気記録媒体用基板としては、従来は、アルミニ
ウム合金にＮｉ−Ｐメッキを施し、そのメッキした主表
面を多段階で研磨して得た基板が主として使用されてい
る。
て、記録密度向上のために磁気ヘッド浮上量の低減が図
られており、その低減のためには表面平滑性に優れてお
り、しかも表面への付着物が少なく、表面欠陥の少ない
磁気記録媒体用基板が必要とされている。表面平滑性に
優れた磁気記録媒体用基板としては、従来は、アルミニ
ウム合金にＮｉ−Ｐメッキを施し、そのメッキした主表
面を多段階で研磨して得た基板が主として使用されてい
る。
【０００３】しかし、近年は、ノート型パソコン等の携
帯できるパソコンにも磁気ディスク記録装置が採用され
てきており、また、磁気ディスク記録装置の応答速度を
高めるために磁気記録媒体を１００００ｒｐｍ以上で高
速回転させる必要から高強度な磁気記録媒体用基板が必
要とされてきており、これらの必要性を満たすものとし
てガラス基板が用いられて来ている。
帯できるパソコンにも磁気ディスク記録装置が採用され
てきており、また、磁気ディスク記録装置の応答速度を
高めるために磁気記録媒体を１００００ｒｐｍ以上で高
速回転させる必要から高強度な磁気記録媒体用基板が必
要とされてきており、これらの必要性を満たすものとし
てガラス基板が用いられて来ている。
【０００４】このような磁気記録媒体用ガラス基板とし
て、化学強化によって強度アップした化学強化ガラス基
板、及び溶融成形して得られたガラス基板を６００〜８
００℃の高温に長時間保持することによって結晶相を部
分的に析出させた結晶化ガラス基板が主として採用され
ている。
て、化学強化によって強度アップした化学強化ガラス基
板、及び溶融成形して得られたガラス基板を６００〜８
００℃の高温に長時間保持することによって結晶相を部
分的に析出させた結晶化ガラス基板が主として採用され
ている。
【０００５】化学強化ガラス基板は、例えば、溶融成形
して得られた化学強化性ガラス基板を研削、研磨加工し
た後、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム等の溶融塩中に浸
漬することにより表面に圧縮応力層を形成して破壊強度
を高めた化学強化ガラス基板であり、この表面層には必
然的にアルカリ金属が多く含まれている。また、結晶化
ガラスについてもアルカリ金属、特にリチウムを含むも
のがある。
して得られた化学強化性ガラス基板を研削、研磨加工し
た後、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム等の溶融塩中に浸
漬することにより表面に圧縮応力層を形成して破壊強度
を高めた化学強化ガラス基板であり、この表面層には必
然的にアルカリ金属が多く含まれている。また、結晶化
ガラスについてもアルカリ金属、特にリチウムを含むも
のがある。
【０００６】一般的には、磁気記録媒体用ガラス基板の
製造と、磁気記録媒体の製造のための磁気記録層、保護
層等の形成とは別の場所、別の工場で実施されるので、
磁気記録媒体用ガラス基板はスポンジローラー等を用い
たスクラブ洗浄と超音波洗浄とを組み合わせた洗浄方法
等の周知の洗浄方法で洗浄し、乾燥した後に、別の場
所、別の工場に搬送され、その搬送の前及び／又は後に
一時的に保管されることになる。
製造と、磁気記録媒体の製造のための磁気記録層、保護
層等の形成とは別の場所、別の工場で実施されるので、
磁気記録媒体用ガラス基板はスポンジローラー等を用い
たスクラブ洗浄と超音波洗浄とを組み合わせた洗浄方法
等の周知の洗浄方法で洗浄し、乾燥した後に、別の場
所、別の工場に搬送され、その搬送の前及び／又は後に
一時的に保管されることになる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような化学強化ガラス基板やリチウム等を含む結晶化ガ
ラス基板からなる磁気記録媒体用ガラス基板において
は、上記のような洗浄の後２４時間以内にガラス表面に
無数の針状突起物が成長する。そのガラス表面をＡＦＭ
で縦倍率を拡大して観察すると、あたかもスパイクシュ
ーズの釘のように見える。このような針状突起物を有す
る磁気記録媒体用ガラス基板を用いて磁気記録媒体を製
造すると、この針状突起物の高さに起因して、書き込み
時、読み込み時に磁気ヘッドが磁気記録媒体と接触する
可能性があり、ヘッドの浮上量低下を阻害することにな
る。この針状突起物は、分析の結果、もともとガラスに
含有されていたか、又は化学強化で導入されたＮａ，
Ｋ，Ｌｉ等のアルカリ金属の炭酸塩を主成分とするもの
であることが確認されている。即ち、洗浄の終了後にガ
ラス基板中の表面近傍に存在するこれらの金属イオンが
時間の経過と共に表面に移動し、空気中のＣＯ2 と反応
して炭酸塩を生成し、表面に針状突起物として析出した
ものと考えられる。
ような化学強化ガラス基板やリチウム等を含む結晶化ガ
ラス基板からなる磁気記録媒体用ガラス基板において
は、上記のような洗浄の後２４時間以内にガラス表面に
無数の針状突起物が成長する。そのガラス表面をＡＦＭ
で縦倍率を拡大して観察すると、あたかもスパイクシュ
ーズの釘のように見える。このような針状突起物を有す
る磁気記録媒体用ガラス基板を用いて磁気記録媒体を製
造すると、この針状突起物の高さに起因して、書き込み
時、読み込み時に磁気ヘッドが磁気記録媒体と接触する
可能性があり、ヘッドの浮上量低下を阻害することにな
る。この針状突起物は、分析の結果、もともとガラスに
含有されていたか、又は化学強化で導入されたＮａ，
Ｋ，Ｌｉ等のアルカリ金属の炭酸塩を主成分とするもの
であることが確認されている。即ち、洗浄の終了後にガ
ラス基板中の表面近傍に存在するこれらの金属イオンが
時間の経過と共に表面に移動し、空気中のＣＯ2 と反応
して炭酸塩を生成し、表面に針状突起物として析出した
ものと考えられる。
【０００８】これらの問題を回避するために洗浄工程に
酸洗浄を追加している。この酸洗浄に用いられる酸とし
てはフッ化水素酸、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸、蟻
酸、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、ヒドロキシ酢酸等の
有機酸がある。このような酸洗浄を追加することにより
ガラス基板の表面近傍のアルカリ金属イオン濃度を低下
させて、炭酸塩の析出を低下させることができる。
酸洗浄を追加している。この酸洗浄に用いられる酸とし
てはフッ化水素酸、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸、蟻
酸、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、ヒドロキシ酢酸等の
有機酸がある。このような酸洗浄を追加することにより
ガラス基板の表面近傍のアルカリ金属イオン濃度を低下
させて、炭酸塩の析出を低下させることができる。
【０００９】しかしながら、酸洗浄を効果的に実施する
ための条件は高濃度、高温等の過酷な条件であり、その
ような条件下での実施のためには、耐酸性の高い高価な
装置を用いかつ安全に十分に配慮する必要がある。従っ
て、アルカリ金属の炭酸塩を主成分とする針状突起物の
成長を抑制し得るもっと簡便な洗浄方法が求められてい
るのが現状であり、本発明は、ガラス基板の表面におけ
るアルカリ金属の炭酸塩を含む針状突起物の生成が抑制
された磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する
ことを課題としている。
ための条件は高濃度、高温等の過酷な条件であり、その
ような条件下での実施のためには、耐酸性の高い高価な
装置を用いかつ安全に十分に配慮する必要がある。従っ
て、アルカリ金属の炭酸塩を主成分とする針状突起物の
成長を抑制し得るもっと簡便な洗浄方法が求められてい
るのが現状であり、本発明は、ガラス基板の表面におけ
るアルカリ金属の炭酸塩を含む針状突起物の生成が抑制
された磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する
ことを課題としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
について鋭意検討した結果、従来周知の方法に従って円
盤加工、研削加工、研磨加工及びその後の洗浄の諸工程
を実施し且つ研削加工と研磨加工との間、研磨加工を２
段階で実施する場合の第１段階の研磨加工と第２段階の
研磨加工との間、又は研磨加工とその後の洗浄との間で
化学強化加工を実施したその洗浄後に、或いは結晶化ガ
ラス基板について円盤加工、研削加工、研磨加工及びそ
の後の洗浄の諸工程を実施したその洗浄後に、４８時間
大気中に放置し、表面にアルカリ金属の炭酸塩を含む針
状突起物を十分に形成させた後、スポンジローラ等によ
るスクラブ洗浄及び浸漬洗浄を実施したところ、洗浄後
のガラス基板からはもはや新たな針状突起物は発生しな
いことを突き止め、本発明を完成した。
について鋭意検討した結果、従来周知の方法に従って円
盤加工、研削加工、研磨加工及びその後の洗浄の諸工程
を実施し且つ研削加工と研磨加工との間、研磨加工を２
段階で実施する場合の第１段階の研磨加工と第２段階の
研磨加工との間、又は研磨加工とその後の洗浄との間で
化学強化加工を実施したその洗浄後に、或いは結晶化ガ
ラス基板について円盤加工、研削加工、研磨加工及びそ
の後の洗浄の諸工程を実施したその洗浄後に、４８時間
大気中に放置し、表面にアルカリ金属の炭酸塩を含む針
状突起物を十分に形成させた後、スポンジローラ等によ
るスクラブ洗浄及び浸漬洗浄を実施したところ、洗浄後
のガラス基板からはもはや新たな針状突起物は発生しな
いことを突き止め、本発明を完成した。
【００１１】即ち、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板
の製造方法は、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法に
おいて、最終洗浄を二段階に分けて実施し、その第一段
目の洗浄後で該ガラス基板の表面にアルカリ金属の炭酸
塩を含む針状突起物が成長した後に、第二段目の洗浄と
してスクラブ洗浄及び浸漬洗浄を実施することを特徴と
する。
の製造方法は、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法に
おいて、最終洗浄を二段階に分けて実施し、その第一段
目の洗浄後で該ガラス基板の表面にアルカリ金属の炭酸
塩を含む針状突起物が成長した後に、第二段目の洗浄と
してスクラブ洗浄及び浸漬洗浄を実施することを特徴と
する。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の磁気記録媒体用
ガラス基板の製造方法について詳細に説明する。本発明
の製造方法は化学強化ガラス基板の場合に特に好適であ
るが、Ｌｉ等のアルカリ金属を含有する結晶化ガラス基
板の場合にも有効である。
ガラス基板の製造方法について詳細に説明する。本発明
の製造方法は化学強化ガラス基板の場合に特に好適であ
るが、Ｌｉ等のアルカリ金属を含有する結晶化ガラス基
板の場合にも有効である。
【００１３】本発明の製造方法の第１の実施態様は、円
盤加工、研削加工、研磨加工及びその後の洗浄の諸工程
を含み、且つ研削加工と研磨加工との間、研磨加工を２
段階で実施する場合の第１段階の研磨加工と第２段階の
研磨加工との間、又は研磨加工とその後の洗浄との間で
実施する化学強化加工を含む磁気記録媒体用化学強化ガ
ラス基板の製造方法において、該洗浄後で該ガラス基板
の表面にアルカリ金属の炭酸塩を含む針状突起物が成長
した後にスクラブ洗浄、浸漬洗浄及び乾燥を実施するこ
とを特徴とする。
盤加工、研削加工、研磨加工及びその後の洗浄の諸工程
を含み、且つ研削加工と研磨加工との間、研磨加工を２
段階で実施する場合の第１段階の研磨加工と第２段階の
研磨加工との間、又は研磨加工とその後の洗浄との間で
実施する化学強化加工を含む磁気記録媒体用化学強化ガ
ラス基板の製造方法において、該洗浄後で該ガラス基板
の表面にアルカリ金属の炭酸塩を含む針状突起物が成長
した後にスクラブ洗浄、浸漬洗浄及び乾燥を実施するこ
とを特徴とする。
【００１４】本発明の製造法の第２の実施態様は、円盤
加工、研削加工、研磨加工及びその後の洗浄の諸工程を
含む磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法におい
て、該洗浄後でガラス基板の表面にアルカリ金属の炭酸
塩を含む針状突起物が成長した後にスクラブ洗浄、浸漬
洗浄及び乾燥を実施することを特徴とする。
加工、研削加工、研磨加工及びその後の洗浄の諸工程を
含む磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法におい
て、該洗浄後でガラス基板の表面にアルカリ金属の炭酸
塩を含む針状突起物が成長した後にスクラブ洗浄、浸漬
洗浄及び乾燥を実施することを特徴とする。
【００１５】上記したような円盤加工、研削加工、研磨
加工、化学強化加工等については、例えば特公平３−５
２１３０号、特開平７−１３４８２３号、特開平８−１
２４１５３号等の公報に開示されており、本発明の製造
方法においてはそれらの周知の技術をそのまま用いるこ
とができる。また、化学強化加工を研削加工と研磨加工
との間、研磨加工を２段階で実施する場合の第１段階の
研磨加工と第２段階の研磨加工との間、又は研磨加工と
その後の洗浄との間の何れで実施した場合にも全く同様
な効果が達成される。
加工、化学強化加工等については、例えば特公平３−５
２１３０号、特開平７−１３４８２３号、特開平８−１
２４１５３号等の公報に開示されており、本発明の製造
方法においてはそれらの周知の技術をそのまま用いるこ
とができる。また、化学強化加工を研削加工と研磨加工
との間、研磨加工を２段階で実施する場合の第１段階の
研磨加工と第２段階の研磨加工との間、又は研磨加工と
その後の洗浄との間の何れで実施した場合にも全く同様
な効果が達成される。
【００１６】通常の技術に従って円盤加工、研削加工、
研磨加工、化学強化加工等を実施した磁気記録媒体用ガ
ラス基板について、磁気記録媒体用ガラス基板の通常の
洗浄であるスポンジローラもしくはスポンジディスクを
使用するスクラブ洗浄を実施し、その後、多段の超純水
超音波槽に浸漬して表面の汚れを除去し、最後にアルコ
ールを用いて乾燥させる。
研磨加工、化学強化加工等を実施した磁気記録媒体用ガ
ラス基板について、磁気記録媒体用ガラス基板の通常の
洗浄であるスポンジローラもしくはスポンジディスクを
使用するスクラブ洗浄を実施し、その後、多段の超純水
超音波槽に浸漬して表面の汚れを除去し、最後にアルコ
ールを用いて乾燥させる。
【００１７】これらの通常の洗浄工程で洗浄されたガラ
ス基板（特に化学強化ガラス基板）を２４時間程度大気
中に放置しておくと、ガラス基板表面にアルカリ金属の
炭酸塩を含む針状突起物が成長してくる。更に時間が経
過するとその針状突起物の密度は高くなり、大気温度、
湿度にも影響されるが４８時間程度で針状突起物の成長
が飽和するようである。
ス基板（特に化学強化ガラス基板）を２４時間程度大気
中に放置しておくと、ガラス基板表面にアルカリ金属の
炭酸塩を含む針状突起物が成長してくる。更に時間が経
過するとその針状突起物の密度は高くなり、大気温度、
湿度にも影響されるが４８時間程度で針状突起物の成長
が飽和するようである。
【００１８】従って、針状突起物の成長を促進させて早
く飽和させ、その後のスクラブ洗浄、浸漬洗浄及び乾燥
を早期に実施し、磁気記録媒体用ガラス基板の製造に要
する時間を大幅に短縮することが望ましい場合には、洗
浄後のガラス基板を高温高湿下で炭酸ガス濃度が数％の
環境中に保持することが好ましい。
く飽和させ、その後のスクラブ洗浄、浸漬洗浄及び乾燥
を早期に実施し、磁気記録媒体用ガラス基板の製造に要
する時間を大幅に短縮することが望ましい場合には、洗
浄後のガラス基板を高温高湿下で炭酸ガス濃度が数％の
環境中に保持することが好ましい。
【００１９】アルカリ金属の炭酸塩を含む針状突起物の
成長が飽和した後、ガラス基板を再度スクラブ洗浄し、
浸漬洗浄し、乾燥させると、その再洗浄ガラス基板を大
気中に長時間放置しても再洗浄ガラス基板からは針状突
起物が新たに出現することはない。その理由は、ガラス
基板の表面近傍に存在していたＮａ，Ｋ，Ｌｉ等のアル
カリ金属が表面に移動し、空気中のＣＯ2 と反応して炭
酸塩を生成し、表面に針状突起物として析出してしま
い、再洗浄によりそれらが除去された後は、再析出する
アルカリ金属が表面近傍に存在しなくなったためである
と考えられる。
成長が飽和した後、ガラス基板を再度スクラブ洗浄し、
浸漬洗浄し、乾燥させると、その再洗浄ガラス基板を大
気中に長時間放置しても再洗浄ガラス基板からは針状突
起物が新たに出現することはない。その理由は、ガラス
基板の表面近傍に存在していたＮａ，Ｋ，Ｌｉ等のアル
カリ金属が表面に移動し、空気中のＣＯ2 と反応して炭
酸塩を生成し、表面に針状突起物として析出してしま
い、再洗浄によりそれらが除去された後は、再析出する
アルカリ金属が表面近傍に存在しなくなったためである
と考えられる。
【００２０】なお、通常のスクラブ洗浄では、針状突起
物を完全に取り除くことが出来ず、表面に若干の突起物
が残存する。そこで、スクラブ洗浄の効果を高めるため
に、スポンジローラもしくはスポンジディスクとガラス
基板との間に、微粒研磨材スラリーを少量存在させるこ
とが好ましく、この場合に著しい効果が認められる。こ
の微粒研磨材の材質として水酸化マグネシウム、酸化マ
ンガン、酸化セリウム、炭酸カルシウム等の無機酸化
物、炭酸塩等を用いることができる。
物を完全に取り除くことが出来ず、表面に若干の突起物
が残存する。そこで、スクラブ洗浄の効果を高めるため
に、スポンジローラもしくはスポンジディスクとガラス
基板との間に、微粒研磨材スラリーを少量存在させるこ
とが好ましく、この場合に著しい効果が認められる。こ
の微粒研磨材の材質として水酸化マグネシウム、酸化マ
ンガン、酸化セリウム、炭酸カルシウム等の無機酸化
物、炭酸塩等を用いることができる。
【００２１】以下に、実施例及び比較例によって本発明
を更に具体的に説明する。 比較例１ 通常の磁気記録媒体用化学強化ガラス基板の作製手順に
従って、化学強化可能なアルミノシリケートガラス基板
（旭テクノグラス株式会社製：ＡＨ−１）を内外径加工
し、ラッピング加工（研削加工）して、外径６５ｍｍ、
内径２０ｍｍ、板厚０．６８ｍｍの多数のドーナツ状基
板を作製した。その後、それらのガラス基板を３８０℃
の硝酸カリウム（７０質量％）と硝酸ナトリウム（３０
質量％）との混合溶融塩に１時間浸漬し、強化層が６０
μｍとなるように基板に化学強化処理を施した。
を更に具体的に説明する。 比較例１ 通常の磁気記録媒体用化学強化ガラス基板の作製手順に
従って、化学強化可能なアルミノシリケートガラス基板
（旭テクノグラス株式会社製：ＡＨ−１）を内外径加工
し、ラッピング加工（研削加工）して、外径６５ｍｍ、
内径２０ｍｍ、板厚０．６８ｍｍの多数のドーナツ状基
板を作製した。その後、それらのガラス基板を３８０℃
の硝酸カリウム（７０質量％）と硝酸ナトリウム（３０
質量％）との混合溶融塩に１時間浸漬し、強化層が６０
μｍとなるように基板に化学強化処理を施した。
【００２２】その化学強化処理したガラス基板１００枚
を浜井株式会社製の１６Ｂ両面研磨機にセットし、研磨
材として三井金属鉱業株式会社製のミレーク８０１（Ｃ
ｅＯ 2 系研磨材、平均粒径Ｄ50＝１．５μｍ）を用い、
研磨布としてロデールニッタ製のＭＨＣ１５Ａ（発泡ウ
レタン）を用いて削減厚さが片面１５μｍとなるように
研磨した（第１段階の研磨加工）。
を浜井株式会社製の１６Ｂ両面研磨機にセットし、研磨
材として三井金属鉱業株式会社製のミレーク８０１（Ｃ
ｅＯ 2 系研磨材、平均粒径Ｄ50＝１．５μｍ）を用い、
研磨布としてロデールニッタ製のＭＨＣ１５Ａ（発泡ウ
レタン）を用いて削減厚さが片面１５μｍとなるように
研磨した（第１段階の研磨加工）。
【００２３】上記で研磨したガラス基板１００枚を浜井
株式会社製の１６Ｂ両面研磨機にセットし、研磨材とし
て三井金属鉱業株式会社製のＣＥＰ（酸化セリウム１０
０質量部と酸化ケイ素１質量部とからなる固溶体、平均
粒径Ｄ50＝０．２μｍ）を用い、この研磨材を０．５質
量％含有する研磨液を用い、研磨布としてロデールニッ
タ製のＭＨＣ１４Ｅ（発泡ウレタン）を用い、研磨圧力
６０ｇ／ｃｍ2 、回転数３０ｒｐｍ、研磨時間２０分間
の研磨条件で化学強化ガラス基板の両面を研磨した（第
２段階の研磨加工）。
株式会社製の１６Ｂ両面研磨機にセットし、研磨材とし
て三井金属鉱業株式会社製のＣＥＰ（酸化セリウム１０
０質量部と酸化ケイ素１質量部とからなる固溶体、平均
粒径Ｄ50＝０．２μｍ）を用い、この研磨材を０．５質
量％含有する研磨液を用い、研磨布としてロデールニッ
タ製のＭＨＣ１４Ｅ（発泡ウレタン）を用い、研磨圧力
６０ｇ／ｃｍ2 、回転数３０ｒｐｍ、研磨時間２０分間
の研磨条件で化学強化ガラス基板の両面を研磨した（第
２段階の研磨加工）。
【００２４】上記で研磨したガラス基板について、スピ
ードファム（株）製のガラス基板用洗浄装置を用い、鐘
紡（株）製のスポンジディスクを用いて１ステップ３秒
で３ステップのスクラブ洗浄を実施した。次いで洗剤と
して協同油脂（株）製のＳＰＣ３９７（弱アルカリ洗
剤）を用いて浸漬洗浄を実施し、その後超純水、超音波
の条件下５槽で順次濯いだ。次いでイソプロピルアルコ
ール中に浸漬し、その後イソプロピルアルコール蒸気中
で乾燥した。
ードファム（株）製のガラス基板用洗浄装置を用い、鐘
紡（株）製のスポンジディスクを用いて１ステップ３秒
で３ステップのスクラブ洗浄を実施した。次いで洗剤と
して協同油脂（株）製のＳＰＣ３９７（弱アルカリ洗
剤）を用いて浸漬洗浄を実施し、その後超純水、超音波
の条件下５槽で順次濯いだ。次いでイソプロピルアルコ
ール中に浸漬し、その後イソプロピルアルコール蒸気中
で乾燥した。
【００２５】洗浄後の化学強化ガラス基板の表面の表面
粗さ（算術平均粗さＲa 及び最大高さＲy ）を、洗浄直
後、並びに洗浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０
〜７０％）に１２時間、２４時間及び４８時間放置した
後に、ＡＦＭで２μｍ×２μｍの面積で測定した。その
結果は第１表に示す通りであった。
粗さ（算術平均粗さＲa 及び最大高さＲy ）を、洗浄直
後、並びに洗浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０
〜７０％）に１２時間、２４時間及び４８時間放置した
後に、ＡＦＭで２μｍ×２μｍの面積で測定した。その
結果は第１表に示す通りであった。
【００２６】
【００２７】実施例１ アルミノシリケートガラス基板（旭テクノグラス株式会
社製：ＡＨ−１）を用い、比較例１と同様にして円盤加
工、研削加工、化学強化加工、研磨加工及び洗浄を実施
した。洗浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７
０％）に４８時間放置した後、再度、スピードファム
（株）製のガラス基板用洗浄装置を用い、鐘紡（株）製
のスポンジディスクを用いて１ステップ３秒で３ステッ
プのスクラブ洗浄を実施した。次いで洗剤としてＲＢＳ
を用いて浸漬洗浄を実施し、その後超純水、超音波の条
件下５槽で順次濯いだ。次いでイソプロピルアルコール
中に浸漬し、その後イソプロピルアルコール蒸気中で乾
燥した。
社製：ＡＨ−１）を用い、比較例１と同様にして円盤加
工、研削加工、化学強化加工、研磨加工及び洗浄を実施
した。洗浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７
０％）に４８時間放置した後、再度、スピードファム
（株）製のガラス基板用洗浄装置を用い、鐘紡（株）製
のスポンジディスクを用いて１ステップ３秒で３ステッ
プのスクラブ洗浄を実施した。次いで洗剤としてＲＢＳ
を用いて浸漬洗浄を実施し、その後超純水、超音波の条
件下５槽で順次濯いだ。次いでイソプロピルアルコール
中に浸漬し、その後イソプロピルアルコール蒸気中で乾
燥した。
【００２８】再度洗浄した後の化学強化ガラス基板の表
面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄直後、並びに洗
浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に
１２時間、２４時間及び４８時間放置した後に、ＡＦＭ
で２μｍ×２μｍの面積で測定した。その結果は第２表
に示す通りであった。
面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄直後、並びに洗
浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に
１２時間、２４時間及び４８時間放置した後に、ＡＦＭ
で２μｍ×２μｍの面積で測定した。その結果は第２表
に示す通りであった。
【００２９】
【００３０】実施例２ アルミノシリケートガラス基板（旭テクノグラス株式会
社製：ＡＨ−１）を用い、比較例１と同様にして円盤加
工、研削加工、化学強化加工、研磨加工及び洗浄を実施
した。洗浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７
０％）に４８時間放置した後、再度、スピードファム
（株）製のガラス基板用洗浄装置を用い、鐘紡（株）製
のスポンジディスクを用い、三井金属鉱業株式会社製の
ＣＥＰを０．５質量％含有する研磨液を用いて１ステッ
プ３秒で３ステップのスクラブ洗浄を実施した。次いで
洗剤としてＲＢＳを用いて浸漬洗浄を実施し、その後超
純水、超音波の条件下５槽で順次濯いだ。次いでイソプ
ロピルアルコール中に浸漬し、その後イソプロピルアル
コール蒸気中で乾燥した。
社製：ＡＨ−１）を用い、比較例１と同様にして円盤加
工、研削加工、化学強化加工、研磨加工及び洗浄を実施
した。洗浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７
０％）に４８時間放置した後、再度、スピードファム
（株）製のガラス基板用洗浄装置を用い、鐘紡（株）製
のスポンジディスクを用い、三井金属鉱業株式会社製の
ＣＥＰを０．５質量％含有する研磨液を用いて１ステッ
プ３秒で３ステップのスクラブ洗浄を実施した。次いで
洗剤としてＲＢＳを用いて浸漬洗浄を実施し、その後超
純水、超音波の条件下５槽で順次濯いだ。次いでイソプ
ロピルアルコール中に浸漬し、その後イソプロピルアル
コール蒸気中で乾燥した。
【００３１】再度洗浄した後の化学強化ガラス基板の表
面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄直後、並びに洗
浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に
１２時間、２４時間及び４８時間放置した後に、ＡＦＭ
で２μｍ×２μｍの面積で測定した。その結果は第３表
に示す通りであった。
面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄直後、並びに洗
浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に
１２時間、２４時間及び４８時間放置した後に、ＡＦＭ
で２μｍ×２μｍの面積で測定した。その結果は第３表
に示す通りであった。
【００３２】
【００３３】実施例３ アルミノシリケートガラス基板（旭テクノグラス株式会
社製：ＡＨ−１）を用い、比較例１と同様にして円盤加
工、研削加工、化学強化加工、研磨加工及び洗浄を実施
したが、化学強化加工を研削加工と研磨加工との間では
なく、第１段階の研磨加工と第２段階の研磨加工との間
で実施した。化学強化ガラス基板を洗浄後に室内（温度
２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に４８時間放置した
後、再度、スピードファム（株）製のガラス基板用洗浄
装置を用い、鐘紡（株）製のスポンジディスクを用い、
三井金属鉱業株式会社製のＣＥＰを０．５質量％含有す
る研磨液を用いて１ステップ３秒で３ステップのスクラ
ブ洗浄を実施した。次いで洗剤としてＲＢＳを用いて浸
漬洗浄を実施し、その後超純水、超音波の条件下５槽で
順次濯いだ。次いでイソプロピルアルコール中に浸漬
し、その後イソプロピルアルコール蒸気中で乾燥した。
社製：ＡＨ−１）を用い、比較例１と同様にして円盤加
工、研削加工、化学強化加工、研磨加工及び洗浄を実施
したが、化学強化加工を研削加工と研磨加工との間では
なく、第１段階の研磨加工と第２段階の研磨加工との間
で実施した。化学強化ガラス基板を洗浄後に室内（温度
２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に４８時間放置した
後、再度、スピードファム（株）製のガラス基板用洗浄
装置を用い、鐘紡（株）製のスポンジディスクを用い、
三井金属鉱業株式会社製のＣＥＰを０．５質量％含有す
る研磨液を用いて１ステップ３秒で３ステップのスクラ
ブ洗浄を実施した。次いで洗剤としてＲＢＳを用いて浸
漬洗浄を実施し、その後超純水、超音波の条件下５槽で
順次濯いだ。次いでイソプロピルアルコール中に浸漬
し、その後イソプロピルアルコール蒸気中で乾燥した。
【００３４】再度洗浄した後の化学強化ガラス基板の表
面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄直後、並びに洗
浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に
１２時間、２４時間及び４８時間放置した後に、ＡＦＭ
で２μｍ×２μｍの面積で測定した。その結果は第４表
に示す通りであった。
面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄直後、並びに洗
浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に
１２時間、２４時間及び４８時間放置した後に、ＡＦＭ
で２μｍ×２μｍの面積で測定した。その結果は第４表
に示す通りであった。
【００３５】
【００３６】実施例４ アルミノシリケートガラス基板（旭テクノグラス株式会
社製：ＡＨ−１）を用い、比較例１と同様にして円盤加
工、研削加工、化学強化加工、研磨加工及び洗浄を実施
したが、化学強化加工を研削加工と研磨加工との間では
なく、第２段階の研磨加工と洗浄との間で実施した。化
学強化ガラス基板を洗浄後に室内（温度２０〜２５℃、
湿度５０〜７０％）に４８時間放置した後、再度、スピ
ードファム（株）製のガラス基板用洗浄装置を用い、鐘
紡（株）製のスポンジディスクを用い、三井金属鉱業株
式会社製のＣＥＰを０．５質量％含有する研磨液を用い
て１ステップ３秒で３ステップのスクラブ洗浄を実施し
た。次いで洗剤としてＲＢＳを用いて浸漬洗浄を実施
し、その後超純水、超音波の条件下５槽で順次濯いだ。
次いでイソプロピルアルコール中に浸漬し、その後イソ
プロピルアルコール蒸気中で乾燥した。
社製：ＡＨ−１）を用い、比較例１と同様にして円盤加
工、研削加工、化学強化加工、研磨加工及び洗浄を実施
したが、化学強化加工を研削加工と研磨加工との間では
なく、第２段階の研磨加工と洗浄との間で実施した。化
学強化ガラス基板を洗浄後に室内（温度２０〜２５℃、
湿度５０〜７０％）に４８時間放置した後、再度、スピ
ードファム（株）製のガラス基板用洗浄装置を用い、鐘
紡（株）製のスポンジディスクを用い、三井金属鉱業株
式会社製のＣＥＰを０．５質量％含有する研磨液を用い
て１ステップ３秒で３ステップのスクラブ洗浄を実施し
た。次いで洗剤としてＲＢＳを用いて浸漬洗浄を実施
し、その後超純水、超音波の条件下５槽で順次濯いだ。
次いでイソプロピルアルコール中に浸漬し、その後イソ
プロピルアルコール蒸気中で乾燥した。
【００３７】再度洗浄した後の化学強化ガラス基板の表
面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄直後、並びに洗
浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に
１２時間、２４時間及び４８時間放置した後に、ＡＦＭ
で２μｍ×２μｍの面積で測定した。その結果は第５表
に示す通りであった。
面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄直後、並びに洗
浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に
１２時間、２４時間及び４８時間放置した後に、ＡＦＭ
で２μｍ×２μｍの面積で測定した。その結果は第５表
に示す通りであった。
【００３８】
【００３９】実施例５〜１２ アルミノシリケートガラス基板（旭テクノグラス株式会
社製：ＡＨ−１）を用い、比較例１と同様にして円盤加
工、研削加工、化学強化加工、研磨加工及び洗浄を実施
した。洗浄後に第６表に示す温度、湿度、ＣＯ2 濃度か
らなる雰囲気中第６表に示す時間放置した後、再度、ス
ピードファム（株）製のガラス基板用洗浄装置を用い、
鐘紡（株）製のスポンジディスクを用い、三井金属鉱業
株式会社製のＣＥＰを０．５質量％含有する研磨液を用
いて１ステップ３秒で３ステップのスクラブ洗浄を実施
した。次いで洗剤としてＲＢＳを用いて浸漬洗浄を実施
し、その後超純水、超音波の条件下５槽で順次濯いだ。
次いでイソプロピルアルコール中に浸漬し、その後イソ
プロピルアルコール蒸気中で乾燥した。
社製：ＡＨ−１）を用い、比較例１と同様にして円盤加
工、研削加工、化学強化加工、研磨加工及び洗浄を実施
した。洗浄後に第６表に示す温度、湿度、ＣＯ2 濃度か
らなる雰囲気中第６表に示す時間放置した後、再度、ス
ピードファム（株）製のガラス基板用洗浄装置を用い、
鐘紡（株）製のスポンジディスクを用い、三井金属鉱業
株式会社製のＣＥＰを０．５質量％含有する研磨液を用
いて１ステップ３秒で３ステップのスクラブ洗浄を実施
した。次いで洗剤としてＲＢＳを用いて浸漬洗浄を実施
し、その後超純水、超音波の条件下５槽で順次濯いだ。
次いでイソプロピルアルコール中に浸漬し、その後イソ
プロピルアルコール蒸気中で乾燥した。
【００４０】再度洗浄した後の化学強化ガラス基板の表
面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄後に室内（温度
２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に４８時間放置した
後に、ＡＦＭで２μｍ×２μｍの面積で測定した。その
結果は第６表に示す通りであった。
面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄後に室内（温度
２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に４８時間放置した
後に、ＡＦＭで２μｍ×２μｍの面積で測定した。その
結果は第６表に示す通りであった。
【００４１】
【００４２】比較例２ アルミノシリケートガラス基板の代わりにリチウムシリ
ケート結晶化ガラス板（株式会社オハラ製：ＴＳ−１０
ＳＸ、石英・クリストバライトが７０〜８０％、残りが
アモルファス）を用い、化学強化処理を実施しなかった
以外は、比較例１と同様に実施した。洗浄後のガラス基
板の表面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄直後、並
びに洗浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７０
％）に１２時間、２４時間及び４８時間放置した後に、
ＡＦＭで２μｍ×２μｍの面積で測定した。その結果は
第７に示す通りであった。
ケート結晶化ガラス板（株式会社オハラ製：ＴＳ−１０
ＳＸ、石英・クリストバライトが７０〜８０％、残りが
アモルファス）を用い、化学強化処理を実施しなかった
以外は、比較例１と同様に実施した。洗浄後のガラス基
板の表面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄直後、並
びに洗浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７０
％）に１２時間、２４時間及び４８時間放置した後に、
ＡＦＭで２μｍ×２μｍの面積で測定した。その結果は
第７に示す通りであった。
【００４３】
【００４４】実施例１３ アルミノシリケートガラス基板の代わりにリチウムシリ
ケート結晶化ガラス板（株式会社オハラ製：ＴＳ−１０
ＳＸ、石英・クリストバライトが７０〜８０％、残りが
アモルファス）を用い、化学強化処理を実施しなかった
以外は、実施例２と同様に実施した。
ケート結晶化ガラス板（株式会社オハラ製：ＴＳ−１０
ＳＸ、石英・クリストバライトが７０〜８０％、残りが
アモルファス）を用い、化学強化処理を実施しなかった
以外は、実施例２と同様に実施した。
【００４５】再度洗浄した後の化学強化ガラス基板の表
面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄直後、並びに洗
浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に
４８時間放置した後に、ＡＦＭで２μｍ×２μｍの面積
で測定した。その結果は第８表に示す通りであった。
面の表面粗さ（Ｒa 及びＲy ）を、洗浄直後、並びに洗
浄後に室内（温度２０〜２５℃、湿度５０〜７０％）に
４８時間放置した後に、ＡＦＭで２μｍ×２μｍの面積
で測定した。その結果は第８表に示す通りであった。
【００４６】
【００４７】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の磁気記
録媒体用ガラス基板の製造方法は耐酸性の高い高価な装
置を用いる必要がなく、また本発明の製造方法によって
製造される磁気記録媒体用ガラス基板は一時的な保管中
においてもガラス基板表面におけるアルカリ金属の炭酸
塩を含む針状突起物の生成が抑制される。
録媒体用ガラス基板の製造方法は耐酸性の高い高価な装
置を用いる必要がなく、また本発明の製造方法によって
製造される磁気記録媒体用ガラス基板は一時的な保管中
においてもガラス基板表面におけるアルカリ金属の炭酸
塩を含む針状突起物の生成が抑制される。
Claims (5)
- 【請求項１】磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法にお
いて、最終洗浄を二段階に分けて実施し、その第一段目
の洗浄後で該ガラス基板の表面にアルカリ金属の炭酸塩
を含む針状突起物が成長した後に、第二段目の洗浄とし
てスクラブ洗浄及び浸漬洗浄を実施することを特徴とす
る磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項２】円盤加工、研削加工、研磨加工及びその後
の洗浄の諸工程を含み、且つ研削加工と研磨加工との
間、研磨加工を２段階で実施する場合の第１段階の研磨
加工と第２段階の研磨加工との間、又は研磨加工とその
後の洗浄との間で実施する化学強化加工を含む磁気記録
媒体用化学強化ガラス基板の製造方法において、該洗浄
後で該ガラス基板の表面にアルカリ金属の炭酸塩を含む
針状突起物が成長した後にスクラブ洗浄、浸漬洗浄及び
乾燥を実施することを特徴とする請求項１記載の磁気記
録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項３】円盤加工、研削加工、研磨加工及びその後
の洗浄の諸工程を含む磁気記録媒体用結晶化ガラス基板
の製造方法において、該洗浄後でガラス基板の表面にア
ルカリ金属の炭酸塩を含む針状突起物が成長した後にス
クラブ洗浄、浸漬洗浄及び乾燥を実施することを特徴と
する請求項１記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方
法。 - 【請求項４】針状突起物の成長を促進させて実施する請
求項１〜３の何れかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板
の製造方法。 - 【請求項５】第二段目のスクラブ洗浄を微粒研磨材スラ
リーの存在下で実施する請求項１〜４の何れかに記載の
磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000156429A JP3377500B2 (ja) | 2000-05-26 | 2000-05-26 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
| KR10-2001-0028304A KR100532159B1 (ko) | 2000-05-26 | 2001-05-23 | 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법 |
| TW090112472A TW561135B (en) | 2000-05-26 | 2001-05-24 | Method for the production of glass substrates for magnetic recording mediums |
| US09/863,297 US6668587B2 (en) | 2000-05-26 | 2001-05-24 | Method for the production of glass substrates for magnetic recording mediums |
| MYPI20012509A MY126084A (en) | 2000-05-26 | 2001-05-25 | Method for the production of glass substrates for magnetic recording mediums. |
| CNB011216115A CN1204547C (zh) | 2000-05-26 | 2001-05-26 | 生产磁记录介质玻璃基体的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000156429A JP3377500B2 (ja) | 2000-05-26 | 2000-05-26 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001335344A true JP2001335344A (ja) | 2001-12-04 |
| JP3377500B2 JP3377500B2 (ja) | 2003-02-17 |
Family
ID=18661224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000156429A Expired - Fee Related JP3377500B2 (ja) | 2000-05-26 | 2000-05-26 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6668587B2 (ja) |
| JP (1) | JP3377500B2 (ja) |
| KR (1) | KR100532159B1 (ja) |
| CN (1) | CN1204547C (ja) |
| MY (1) | MY126084A (ja) |
| TW (1) | TW561135B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN107511043A (zh) * | 2016-07-15 | 2017-12-26 | 缪琼华 | 一种去除石化工业废气中苯系物的处理系统 |
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| JPH0352130A (ja) | 1989-07-20 | 1991-03-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 対物レンズ駆動装置 |
| JP3162558B2 (ja) | 1993-11-11 | 2001-05-08 | 日本板硝子株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH08124153A (ja) | 1994-10-24 | 1996-05-17 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 磁気記録媒体用ガラス基板、その製造方法及び磁気記録媒体 |
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| JP2951571B2 (ja) * | 1995-07-04 | 1999-09-20 | ホーヤ株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
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-
2000
- 2000-05-26 JP JP2000156429A patent/JP3377500B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-05-23 KR KR10-2001-0028304A patent/KR100532159B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-05-24 TW TW090112472A patent/TW561135B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-05-24 US US09/863,297 patent/US6668587B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-05-25 MY MYPI20012509A patent/MY126084A/en unknown
- 2001-05-26 CN CNB011216115A patent/CN1204547C/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN107511043A (zh) * | 2016-07-15 | 2017-12-26 | 缪琼华 | 一种去除石化工业废气中苯系物的处理系统 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6668587B2 (en) | 2003-12-30 |
| MY126084A (en) | 2006-09-29 |
| US20020000098A1 (en) | 2002-01-03 |
| TW561135B (en) | 2003-11-11 |
| CN1337675A (zh) | 2002-02-27 |
| JP3377500B2 (ja) | 2003-02-17 |
| CN1204547C (zh) | 2005-06-01 |
| KR100532159B1 (ko) | 2005-11-30 |
| KR20010107669A (ko) | 2001-12-07 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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