JP5177087B2 - 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法、磁気記録媒体 - Google Patents
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Description
(1)アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板をラッピングするラッピング工程と、その後に、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いて研磨する酸化セリウム研磨工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
アルカリアルミノシリケートガラスにおけるSiO2含有量からAl2O3含有量を減じた差(SiO2−Al2O3)が62モル%以下であり、
酸化セリウム研磨工程に引き続いてガラス円板を、硫酸濃度20質量%以上80質量%以下、過酸化水素濃度1質量%以上10質量%以下である洗浄液を用いて50℃以上100℃以下の液温にて洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程の後にガラス円板の主表面を、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて研磨する仕上げ研磨工程と、を含むことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(2)アルカリアルミノシリケートガラスの組成が、SiO2:55〜75モル%、Al2O3:5〜17モル%、Li2O+Na2O+K2O(以下、R2Oと記す。):4〜27モル%、MgO+CaO+SrO+BaO(以下、R’Oと記す。):0〜20モル%で、かつ、SiO2+Al2O3+R2O+R’O:90モル%以上である(1)記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(3)アルカリアルミノシリケートガラスの組成において、SiO2が63モル%以上、R2Oが16モル%以上、R’Oが0〜10モル%である(2)記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(4)前記コロイダルシリカ砥粒の平均粒径が10nm以上50nm以下である(1)〜(3)の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(5)前記コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーのpHが2以上6以下である(4)記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(6)仕上げ研磨工程を前記洗浄工程に引き続いて行うことを特徴とする(1)〜(5)の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(7)アルカリアルミノシリケートガラスにおけるSiO2含有量からAl2O3含有量を減じた差(SiO2−Al2O3)が50モル%以上62モル%以下である(6)に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(8)アルカリアルミノシリケートガラスの組成が、SiO2:63〜71モル%、Al2O3:7〜12.5モル%、R2O:16〜24モル%、R’O:0〜10モル%で、かつ、SiO2+Al2O3+R2O+R’O:90モル%以上である(7)記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(9)前記洗浄工程と仕上げ研磨工程との間に、酸化セリウム砥粒を含むスラリーとショアA硬度が60°以下である発泡樹脂層を有する研磨パッドを用いてガラス円板の主表面を研磨する再研磨工程を含む(1)〜(5)の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(10)前記洗浄工程と仕上げ研磨工程との間に、平均粒径が50nm超100nm以下であるコロイダルシリカ砥粒を含みpHが8以上12以下であるスラリーを用いてガラス円板の主表面を研磨する工程を含む(1)〜(5)の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(11)アルカリアルミノシリケートガラスにおけるSiO2含有量からAl2O3含有量を減じた差(SiO2−Al2O3)が45モル%以上50モル%未満である(9)または(10)に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(12)アルカリアルミノシリケートガラスの組成が、SiO2:60モル%以上63モル%未満、Al2O3:12.5〜15モル%、R2O:18〜22モル%、R’O:0〜6モル%で、かつ、SiO2+Al2O3+R2O+R’O:90モル%以上である(11)記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(13)前記洗浄工程において、ガラス円板を、50℃以上60℃未満の洗浄液に25分以上30分以下、または60℃以上70℃未満の洗浄液に15分以上30分以下、または70℃以上100℃以下の洗浄液に5分以上30分以下浸漬することを特徴とする(1)〜(12)の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(14)仕上げ研磨工程において、ガラス円板の主表面の二乗平均粗さ(Rms)を0.15nm以下にすることを特徴とする(1)〜(13)の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(15)仕上げ研磨工程の後にpH10以上のアルカリ性洗浄剤を用いて行なう洗浄工程を含むことを特徴とする(1)〜(14)の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(16)前記(1)〜(15)の何れか1に記載の方法により情報記録媒体用ガラス基板を製造し、該情報記録媒体用ガラス基板その主表面に磁気記録層を設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
・SiO2:55〜75モル%
・Al2O3:5〜17モル%
・R2O:4〜27モル%
・R’O:0〜20モル%
・SiO2+Al2O3+R2O+R’O:90モル%以上
・(SiO2−Al2O3):62モル%以下
(試験1)
表1に記載の組成のガラス板A〜Hを用意した。表中の「Si+Al+R'+R」はSiO2+Al2O3+R2O+R’O、「α」は−50℃〜+70℃の範囲における平均線膨張係数(単位:10−7/℃)であり、また、ヤング率の単位はGPa、比弾性率の単位はMNm/kgである。また、各ガラス板のエッチングレート(nm/h;室温、pH2、硝酸)を測定した。結果を表1の「耐酸性」の欄に示すとともに、(SiO2−Al2O3)とこのエッチングレートとをプロットしたものを図1に示す。(SiO2−Al2O3)が小さくなるほど耐酸性に劣ることがわかる。ガラス板B以外は、本発明で用いるガラス板の組成を満足するが、何れもガラス板Bに比べて耐酸性に劣っている。
試験1と同様の加工条件にて、ガラス板Aからガラス円板を切り出し、内周面および外周面の研削加工、上下面のラッピング、内外周の面取り及び鏡面加工、酸化セリウム砥粒を含むスラリーによる上下主表面の研磨加工を行った。
試験1と同様の加工条件にて、ガラス板Aからガラス円板を切り出し、内周面および外周面の研削加工、上下面のラッピング、内外周の面取り及び鏡面加工、酸化セリウム砥粒を含むスラリーによる上下主表面の研磨加工を行った。
試験1と同様の加工条件にて、ガラス板Aからガラス円板を切り出し、内周面および外周面の研削加工、上下面のラッピング、内外周の面取り及び鏡面加工、酸化セリウム砥粒を含むスラリーによる上下主表面の研磨加工を行った。
試験2に従い、硫酸と過酸化水素との洗浄液に代えて、アルコルビン酸3質量%及び硝酸1質量%からなる液温60℃の洗浄液を用いて、洗浄を行った。酸化セリウム砥粒の残存状況を調べたところ、試験2の判定基準では「×」であった。
試験2に従い、硫酸と過酸化水素との洗浄液による洗浄後、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いた再研磨を行わずに酸化セリウム砥粒の残存状況を調べたところ、試験2の判定基準では「○」であった。但し、面荒れが見られた。
Claims (16)
- アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板をラッピングするラッピング工程と、その後に、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いて研磨する酸化セリウム研磨工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
アルカリアルミノシリケートガラスにおけるSiO2含有量からAl2O3含有量を減じた差(SiO2−Al2O3)が62モル%以下であり、
酸化セリウム研磨工程に引き続いてガラス円板を、硫酸濃度20質量%以上80質量%以下、過酸化水素濃度1質量%以上10質量%以下である洗浄液を用いて50℃以上100℃以下の液温にて洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程の後にガラス円板の主表面を、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて研磨する仕上げ研磨工程と、
を含むことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - アルカリアルミノシリケートガラスの組成が、SiO2:55〜75モル%、Al2O3:5〜17モル%、Li2O+Na2O+K2O):4〜27モル%、R’O(MgO+CaO+SrO+BaO):0〜20モル%で、かつ、SiO2+Al2O3+R2O+R’O:90モル%以上である請求項1記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- アルカリアルミノシリケートガラスの組成において、SiO2が63モル%以上、Li2O+Na2O+K2Oが16モル%以上、MgO+CaO+SrO+BaOが0〜10モル%である請求項2記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記コロイダルシリカ砥粒の平均粒径が10nm以上50nm以下である請求項1〜3の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーのpHが1以上6以下である請求項4記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 仕上げ研磨工程を前記洗浄工程に引き続いて行うことを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- アルカリアルミノシリケートガラスにおけるSiO2含有量からAl2O3含有量を減じた差(SiO2−Al2O3)が50モル%以上62モル%以下である請求項6に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- アルカリアルミノシリケートガラスの組成が、SiO2:63〜71モル%、Al2O3:7〜12.5モル%、Li2O+Na2O+K2O:16〜24モル%、MgO+CaO+SrO+BaO:0〜10モル%で、かつ、SiO2+Al2O3+Li2O+Na2O+K2O+MgO+CaO+SrO+BaO:90モル%以上である請求項7記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記洗浄工程と仕上げ研磨工程との間に、酸化セリウム砥粒を含むスラリーとショアA硬度が60°以下である発泡樹脂層を有する研磨パッドを用いてガラス円板の主表面を研磨する再研磨工程を含む請求項1〜5の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記洗浄工程と仕上げ研磨工程との間に、平均粒径が50nm超100nm以下であるコロイダルシリカ砥粒を含みpHが8以上12以下であるスラリーを用いてガラス円板の主表面を研磨する工程を含む請求項4または5に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- アルカリアルミノシリケートガラスにおけるSiO2含有量からAl2O3含有量を減じた差(SiO2−Al2O3)が45モル%以上50モル%未満である請求項9または10に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- アルカリアルミノシリケートガラスの組成が、SiO2:60モル%以上63モル%未満、Al2O3:12.5〜15モル%、Li2O+Na2O+K2O:18〜22モル%、MgO+CaO+SrO+BaO:0〜6モル%で、かつ、SiO2+Al2O3+Li2O+Na2O+K2O+MgO+CaO+SrO+BaO:90モル%以上である請求項11記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記洗浄工程において、ガラス円板を、50℃以上60℃未満の洗浄液に25分以上30分以下、または60℃以上70℃未満の洗浄液に15分以上30分以下、または70℃以上100℃以下の洗浄液に5分以上30分以下浸漬することを特徴とする請求項1〜12の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 仕上げ研磨工程において、ガラス円板の主表面の二乗平均粗さ(Rms)を0.15nm以下にすることを特徴とする請求項1〜13の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 仕上げ研磨工程の後にpH10以上のアルカリ性洗浄剤を用いて行なう洗浄工程を含むことを特徴とする請求項1〜14の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 請求項1〜15の何れか1項に記載の方法により情報記録媒体用ガラス基板を製造し、該情報記録媒体用ガラス基板の主表面に磁気記録層を設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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Families Citing this family (23)
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JP4858622B2 (ja) * | 2010-02-26 | 2012-01-18 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
KR20130072187A (ko) * | 2010-05-19 | 2013-07-01 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 화학 강화용 유리 및 디스플레이 장치용 유리판 |
JP2012169024A (ja) * | 2011-02-16 | 2012-09-06 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2012179680A (ja) * | 2011-03-01 | 2012-09-20 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス板の研磨方法 |
JP5168387B2 (ja) * | 2011-06-08 | 2013-03-21 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2013031909A (ja) * | 2011-08-03 | 2013-02-14 | Seiko Instruments Inc | ガラス基板の研磨方法、パッケージの製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器並びに電波時計 |
JPWO2013047246A1 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-03-26 | 旭硝子株式会社 | CdTe太陽電池用ガラス基板およびそれを用いた太陽電池 |
WO2013099148A1 (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-04 | コニカミノルタ株式会社 | Hdd用ガラス基板の製造方法 |
JPWO2013118648A1 (ja) * | 2012-02-06 | 2015-05-11 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
JP5849764B2 (ja) * | 2012-02-23 | 2016-02-03 | 旭硝子株式会社 | シリカ溶液調製方法、該シリカ溶液調製方法により調製されたシリカ溶液を含有する研磨液、及び該研磨液を用いた磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP5897959B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2016-04-06 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
MY181624A (en) * | 2012-06-29 | 2020-12-29 | Hoya Corp | Colloidal silica polishing composition and method for manufacturing synthetic quartz glass substrates using the same |
JP5983164B2 (ja) * | 2012-08-07 | 2016-08-31 | 旭硝子株式会社 | Ti膜付きガラス基板及びこれを用いた金属膜付きガラス基板、Ti膜付きガラス基板及びこれを用いた金属膜付きガラス基板の製造方法、ならびにガラス基板表面の平坦度評価方法 |
CN104508741A (zh) * | 2012-08-28 | 2015-04-08 | Hoya株式会社 | 磁盘用玻璃基板的制造方法 |
JP6015259B2 (ja) * | 2012-09-06 | 2016-10-26 | 旭硝子株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
JPWO2014080917A1 (ja) * | 2012-11-22 | 2017-01-05 | 株式会社パーカーコーポレーション | ガラス基板の洗浄方法 |
CN104798132B (zh) * | 2012-12-27 | 2019-05-10 | Hoya株式会社 | Hdd用玻璃基板及其制造方法以及信息记录介质的制造方法 |
JP6419578B2 (ja) * | 2012-12-27 | 2018-11-07 | Hoya株式会社 | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 |
CN111048122B (zh) * | 2013-09-30 | 2021-08-03 | Hoya株式会社 | 固定磨粒磨石以及基板的制造方法 |
JP6495095B2 (ja) * | 2014-05-20 | 2019-04-03 | 花王株式会社 | 磁気ディスク基板用研磨液組成物 |
CN106458734A (zh) * | 2014-05-20 | 2017-02-22 | 旭硝子株式会社 | 玻璃基板、玻璃基板的制造方法和黑矩阵基板 |
WO2016060169A1 (ja) * | 2014-10-14 | 2016-04-21 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
JP7011215B2 (ja) * | 2016-12-14 | 2022-02-10 | 日本電気硝子株式会社 | 支持ガラス基板及びこれを用いた積層体 |
Family Cites Families (12)
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---|---|---|---|---|
JPH1133905A (ja) * | 1997-07-18 | 1999-02-09 | Speedfam Co Ltd | 研磨システム及びその方法 |
JP3956587B2 (ja) * | 1999-11-18 | 2007-08-08 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の洗浄方法 |
JP3548548B2 (ja) * | 2000-06-29 | 2004-07-28 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用基板の製造方法、及び情報記録媒体の製造方法 |
JP4336524B2 (ja) | 2002-05-31 | 2009-09-30 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基材の製造方法 |
JP3801568B2 (ja) * | 2003-02-07 | 2006-07-26 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP5090633B2 (ja) * | 2004-06-22 | 2012-12-05 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の研磨方法 |
WO2005123857A1 (en) * | 2004-06-22 | 2005-12-29 | Asahi Glass Company, Limited | Polishing method for glass substrate, and glass substrate |
JP4041110B2 (ja) | 2004-09-29 | 2008-01-30 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP4557222B2 (ja) * | 2005-03-24 | 2010-10-06 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
US20070256703A1 (en) * | 2006-05-03 | 2007-11-08 | Asahi Glass Company, Limited | Method for removing contaminant from surface of glass substrate |
MY157202A (en) * | 2006-09-29 | 2016-05-13 | Hoya Corp | Method of manufacturing glass substrate for magnetic disk, method of manufacturing magnetic disk, and polishing apparatus of glass substrate for magnetic disk |
JP2008090898A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体の製造方法 |
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