JPH10291837A - 磁気ディスク用ガラス基板の表面処理方法 - Google Patents
磁気ディスク用ガラス基板の表面処理方法Info
- Publication number
- JPH10291837A JPH10291837A JP11620897A JP11620897A JPH10291837A JP H10291837 A JPH10291837 A JP H10291837A JP 11620897 A JP11620897 A JP 11620897A JP 11620897 A JP11620897 A JP 11620897A JP H10291837 A JPH10291837 A JP H10291837A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- glass substrate
- hydrofluoric acid
- dipping
- equal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
Abstract
(57)【要約】
【目的】 複雑な装置及び特別な技術も要することな
く、簡単にディスクエッジ部分の表面粗さを低下させる
事が可能であり、従来の研磨によるマイクロクラックを
減少させることにより、アルカリ溶出量を低減化するも
のである。 【構成】 磁気ディスク用ガラス基板をフッ酸含有液に
１０秒以内浸漬した後速やかに１０℃〜９０℃の洗浄用
温水に浸漬する工程、を少なくとも２回以上行うことを
特徴とするものである。
く、簡単にディスクエッジ部分の表面粗さを低下させる
事が可能であり、従来の研磨によるマイクロクラックを
減少させることにより、アルカリ溶出量を低減化するも
のである。 【構成】 磁気ディスク用ガラス基板をフッ酸含有液に
１０秒以内浸漬した後速やかに１０℃〜９０℃の洗浄用
温水に浸漬する工程、を少なくとも２回以上行うことを
特徴とするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板の表面平滑
化に関するもので、特には、ディスクの内外端面のエッ
ジ部を平滑化するものである。
化に関するもので、特には、ディスクの内外端面のエッ
ジ部を平滑化するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来磁気ディスク用基板として使用され
てきたのは、アルミニウム基板が一般的であったが、近
年、このアルミニウム基板と比較して、平滑性及び硬度
の面で優れているガラス基板が注目され始めている。し
かし、ガラス基板は脆性特性を示すものであるため、取
り扱い時に破損する等の問題を有している。そこで、さ
らにガラス基板の強度を向上させるために、イオン交換
法等により化学強化したり、材料として様々な組成によ
る結晶化ガラスなどが用いられることになる。
てきたのは、アルミニウム基板が一般的であったが、近
年、このアルミニウム基板と比較して、平滑性及び硬度
の面で優れているガラス基板が注目され始めている。し
かし、ガラス基板は脆性特性を示すものであるため、取
り扱い時に破損する等の問題を有している。そこで、さ
らにガラス基板の強度を向上させるために、イオン交換
法等により化学強化したり、材料として様々な組成によ
る結晶化ガラスなどが用いられることになる。
【０００３】この他に、機械的強度を向上させるため
に、ガラス基板を円状に加工した後、ラッピング処理と
呼ばれる工程が行われる。これは、金属定盤に遊離砥粒
を用いて研磨する方法のことであるが、円状の内外端面
のエッジ部は、曲面であるために、この工程だけでは加
工が行いにくく、またそのための従来の別工程方法では
加工コストも非常に高くなってしまうので、適切な方法
がないのが現状であった。このエッジ部分の平滑化をチ
ャンファリングと呼び、その一般的方法として挙げられ
るのが、細かい粒径の砥石を使って研磨処理を行い、更
に細かい砥石を用いて段階的に研磨加工を行うという方
法である。しかし、この方法では工程数が多くなること
や、砥石の種類が多く必要となるなどの煩わしさがあ
り、鏡面仕上げにするまでに多大な時間が必要となって
いた。加えて、上記研磨処理によるマイクロクラックに
より、アルカリ溶出が発生し、磁気膜に悪影響が発生す
ることがあった。
に、ガラス基板を円状に加工した後、ラッピング処理と
呼ばれる工程が行われる。これは、金属定盤に遊離砥粒
を用いて研磨する方法のことであるが、円状の内外端面
のエッジ部は、曲面であるために、この工程だけでは加
工が行いにくく、またそのための従来の別工程方法では
加工コストも非常に高くなってしまうので、適切な方法
がないのが現状であった。このエッジ部分の平滑化をチ
ャンファリングと呼び、その一般的方法として挙げられ
るのが、細かい粒径の砥石を使って研磨処理を行い、更
に細かい砥石を用いて段階的に研磨加工を行うという方
法である。しかし、この方法では工程数が多くなること
や、砥石の種類が多く必要となるなどの煩わしさがあ
り、鏡面仕上げにするまでに多大な時間が必要となって
いた。加えて、上記研磨処理によるマイクロクラックに
より、アルカリ溶出が発生し、磁気膜に悪影響が発生す
ることがあった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した従来
の問題点を解決して、複雑な装置及び特別な技術も要す
ることなく、簡単にディスクエッジ部分の表面粗さを低
下させる事が可能であり、従来の研磨によるマイクロク
ラックを減少させることにより、アルカリ溶出量を低減
化するものである。
の問題点を解決して、複雑な装置及び特別な技術も要す
ることなく、簡単にディスクエッジ部分の表面粗さを低
下させる事が可能であり、従来の研磨によるマイクロク
ラックを減少させることにより、アルカリ溶出量を低減
化するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めになされた本発明の磁気ディスク用ガラス基板の表面
処理方法は、磁気ディスク用ガラス基板をフッ酸含有液
に１０秒以内浸漬した後速やかに１０℃〜９０℃の洗浄
用温水に浸漬する工程、を少なくとも２回以上行うこと
を特徴とするものであり、さらには、フッ酸含有液がＨ
2 Ｏ−ＨＦ−Ｈ2 ＳＯ4 混合液であることを特徴とする
ものである。
めになされた本発明の磁気ディスク用ガラス基板の表面
処理方法は、磁気ディスク用ガラス基板をフッ酸含有液
に１０秒以内浸漬した後速やかに１０℃〜９０℃の洗浄
用温水に浸漬する工程、を少なくとも２回以上行うこと
を特徴とするものであり、さらには、フッ酸含有液がＨ
2 Ｏ−ＨＦ−Ｈ2 ＳＯ4 混合液であることを特徴とする
ものである。
【０００６】本発明では、処理液（フッ酸含有液）の短
時間浸漬、引き上げ、温水洗浄工程を繰り返すことによ
って、ディスク基板エッジ部の表面粗さを低下させる。
即ち、ガラス表面の凸部分と凹部分では、幾何学的立体
障害が生じるため、プロトンの攻撃に時間差が生じる。
このことに注目して、本発明は、ガラス表面の凸部分の
みを効率的に平滑化することに成功した。詳しくは、処
理液に浸漬し続けると、Ｒａ値向上は見られないばかり
でなく、ガラス表面層が不均一に剥離する現象が起こる
が、浸漬洗浄工程を繰り返すことによって、凸部分を効
率的にエッチングすることが可能となることを見いだ
し、結果的にガラス表面剥離現象を発生させずに、平滑
度を向上させ、表層付近のアルカリをプロトンが引き抜
き、アルカリ溶出量を減少させることが可能となり、さ
らに、凸部分の欠けによるクラック発生を減少させるこ
とになる。
時間浸漬、引き上げ、温水洗浄工程を繰り返すことによ
って、ディスク基板エッジ部の表面粗さを低下させる。
即ち、ガラス表面の凸部分と凹部分では、幾何学的立体
障害が生じるため、プロトンの攻撃に時間差が生じる。
このことに注目して、本発明は、ガラス表面の凸部分の
みを効率的に平滑化することに成功した。詳しくは、処
理液に浸漬し続けると、Ｒａ値向上は見られないばかり
でなく、ガラス表面層が不均一に剥離する現象が起こる
が、浸漬洗浄工程を繰り返すことによって、凸部分を効
率的にエッチングすることが可能となることを見いだ
し、結果的にガラス表面剥離現象を発生させずに、平滑
度を向上させ、表層付近のアルカリをプロトンが引き抜
き、アルカリ溶出量を減少させることが可能となり、さ
らに、凸部分の欠けによるクラック発生を減少させるこ
とになる。
【０００７】ガラス基板のフッ酸含有液による浸漬時間
は、１０秒以内としなければならない。１０秒を越える
と、ガラス表面の凸部分のみを効率的に平滑化すること
ができなくなるからである。
は、１０秒以内としなければならない。１０秒を越える
と、ガラス表面の凸部分のみを効率的に平滑化すること
ができなくなるからである。
【０００８】この工程後、速やかに温水による洗浄工程
を行う必要がある。この時の洗浄用温水温度は１０℃〜
９０℃とする。１０℃以下では、洗浄工程本来の目的を
達しえないものであり、逆に９０℃以上では、浸漬時間
を長くする場合と同様に、ガラス表面の凸部分のみを効
率的に平滑化することができなくなるからである。さら
に好ましくは、５０℃〜７０℃がよい。
を行う必要がある。この時の洗浄用温水温度は１０℃〜
９０℃とする。１０℃以下では、洗浄工程本来の目的を
達しえないものであり、逆に９０℃以上では、浸漬時間
を長くする場合と同様に、ガラス表面の凸部分のみを効
率的に平滑化することができなくなるからである。さら
に好ましくは、５０℃〜７０℃がよい。
【０００９】そして、これらの工程を２回以上繰り返す
必要がある。１回の浸漬のみでは、十分な表面処理を行
い得なく、ガラス表面の凸部分のみを効率的に平滑化す
ることが困難であり、洗浄工程と合わせて、２回以上行
うことで、十分な表面処理を行うことができるものであ
る。
必要がある。１回の浸漬のみでは、十分な表面処理を行
い得なく、ガラス表面の凸部分のみを効率的に平滑化す
ることが困難であり、洗浄工程と合わせて、２回以上行
うことで、十分な表面処理を行うことができるものであ
る。
【００１０】さらに、ここで、使用するフッ酸含有液
は、フッ酸溶液を含むものであれば、特には限定される
ものではないが、本発明では、Ｈ2 Ｏ−ＨＦ−Ｈ2 ＳＯ
4 混合液であることが最も好ましい。
は、フッ酸溶液を含むものであれば、特には限定される
ものではないが、本発明では、Ｈ2 Ｏ−ＨＦ−Ｈ2 ＳＯ
4 混合液であることが最も好ましい。
【００１１】
（実施例１）フッ酸処理によるガラス表面粗さの変化を
調べるために、表１、表２に示す浸漬秒数と、浸漬洗浄
回数の差によるＲａ（μｍ）値変化を測定した。なお、
フッ酸溶液は、ＨＦ：４７％含有液及びＨ2 ＳＯ4 ：９
８％溶液を使用し、表１は、Ｈ2 Ｏ：ＨＦ：Ｈ2 ＳＯ4
＝１：２：１（容積比）となるように調整したものを用
い、表２は、Ｈ2 Ｏ：ＨＦ：Ｈ2 ＳＯ4 ＝１：１：１
（容積比）となるように調整したものを用いたものであ
る。また、いずれも用いた洗浄用温水温度は、６０℃で
行った。
調べるために、表１、表２に示す浸漬秒数と、浸漬洗浄
回数の差によるＲａ（μｍ）値変化を測定した。なお、
フッ酸溶液は、ＨＦ：４７％含有液及びＨ2 ＳＯ4 ：９
８％溶液を使用し、表１は、Ｈ2 Ｏ：ＨＦ：Ｈ2 ＳＯ4
＝１：２：１（容積比）となるように調整したものを用
い、表２は、Ｈ2 Ｏ：ＨＦ：Ｈ2 ＳＯ4 ＝１：１：１
（容積比）となるように調整したものを用いたものであ
る。また、いずれも用いた洗浄用温水温度は、６０℃で
行った。
【００１２】
【表１】
【００１３】
【表２】
【００１４】（実施例２）フッ酸処理後のガラスディス
ク全体のアルカリ溶出量（Ｎａ溶出量、Ｌｉ溶出量）変
化を調べた。その結果を表３に示す。なお、本実施例
は、２．５インチＢ／Ｈを使用して行った。
ク全体のアルカリ溶出量（Ｎａ溶出量、Ｌｉ溶出量）変
化を調べた。その結果を表３に示す。なお、本実施例
は、２．５インチＢ／Ｈを使用して行った。
【００１５】
【表３】
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気ディ
スク用ガラス基板の製法は、ガラス表面の凸部のみを効
率的に平滑化するため、結果的にガラス表面剥離現象を
発生させずに、平滑度を向上させ、表層付近のアルカリ
をプロトンが引き抜き、アルカリ溶出量を減少させるこ
とが可能となり、さらに、凸部分の欠けによるクラック
発生を減少させることになる。よって本発明は従来の問
題点を一掃した磁気ディスク用ガラス基板の表面処理方
法として極めて大きい意義がある。
スク用ガラス基板の製法は、ガラス表面の凸部のみを効
率的に平滑化するため、結果的にガラス表面剥離現象を
発生させずに、平滑度を向上させ、表層付近のアルカリ
をプロトンが引き抜き、アルカリ溶出量を減少させるこ
とが可能となり、さらに、凸部分の欠けによるクラック
発生を減少させることになる。よって本発明は従来の問
題点を一掃した磁気ディスク用ガラス基板の表面処理方
法として極めて大きい意義がある。
Claims (2)
- 【請求項１】 磁気ディスク用ガラス基板をフッ酸含有
液に１０秒以内浸漬した後速やかに１０℃〜９０℃の洗
浄用温水に浸漬する工程、を少なくとも２回以上行うこ
とを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の表面処理方
法。 - 【請求項２】 フッ酸含有液がＨ2 Ｏ−ＨＦ−Ｈ2 ＳＯ
4 混合液であることを特徴とする請求項１に記載の磁気
ディスク用ガラス基板の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11620897A JPH10291837A (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 磁気ディスク用ガラス基板の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11620897A JPH10291837A (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 磁気ディスク用ガラス基板の表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10291837A true JPH10291837A (ja) | 1998-11-04 |
Family
ID=14681524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11620897A Pending JPH10291837A (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 磁気ディスク用ガラス基板の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10291837A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100532159B1 (ko) * | 2000-05-26 | 2005-11-30 | 미츠이 긴조쿠 고교 가부시키가이샤 | 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법 |
| JP2013170088A (ja) * | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Asahi Glass Co Ltd | 防汚膜付き基体 |
-
1997
- 1997-04-18 JP JP11620897A patent/JPH10291837A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100532159B1 (ko) * | 2000-05-26 | 2005-11-30 | 미츠이 긴조쿠 고교 가부시키가이샤 | 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법 |
| JP2013170088A (ja) * | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Asahi Glass Co Ltd | 防汚膜付き基体 |
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