TW508702B - Semiconductor device and method of fabricating the same - Google Patents

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TW508702B
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TW
Taiwan
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lead
semiconductor wafer
aforementioned
leads
support
Prior art date
Application number
TW088113382A
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English (en)
Inventor
Yoshinori Miyaki
Kazunari Suzuki
Daisuke Omoda
Original Assignee
Hitachi Ulsi Sys Co Ltd
Hitachi Ltd
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    • H01L2924/15738Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950 C and less than 1550 C
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Description

508702 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(1 發明之背景 本發明係關於-種半導體裝置,特別是關於一種適用灰 使用由銅系金屬材料構成的引線框架所製造的半導體裝置 有效的技術。 以樹I曰岔封體密封在電路形成面(一主面)形成電路系統 及少數電極的半導體晶片的半導體裝置__般由使用引線框 木的组合製程所製造。具體而言,準備引線框架,該引線 框架具有小晶片接塾(亦稱爲翼片):透過支持引線支持於 框to,及,多數引線:支持於框體且爲連接條(亦稱爲堤 條)所互相連結,其後在引線框架之小晶片接塾之晶片裝 載面塗佈膏狀黏接劑,例如使銀(Ag)粉末混入熱硬化性環 氧樹如的銀T材料’其後透過黏接劑在小晶片接塾之晶片 裝載面上以和其電路形成面對向的背面(另外主面)爲下裝 載半導體晶片,其後使黏接劑硬化而在小晶片接墊黏接固 足半導體晶片,其後以導電性細線電氣連接形成於半導體 晶片之電路形成面的電極和引線框架之引線之内部引線 邵,其後以樹脂密㈣㈣半導體晶片、料之内部引線 邵、小晶片接塾、支持引線及細線等,其後從引線框架之 框體切斷引線之外部引線部’同時切斷連結引線間的連接 條,其後將引線之外部引線部形成預定形狀,其後 框架之框體切斷支持引線,由以上組合製程所製造。 且説在QFP (Quad £latpack £ackage,四排平裝封裝體) ^等表面安裝型半導體裝置,如何抑制因製品完成後的環 W驗的溫度周期試驗時的熱或安裝於安裝基板的焊 ^ ^ --- (請先閱讀背面之1十一、!¥、〕 · 線· -4- 508702 A7 五、發明說明(2 ) 流時的熱而產生的樹脂密封體龜裂(package crack)成爲重要 課題。就產生封裝體龜裂的歷程(mechanism)而言,主要已 知兩個歷程。 第一歷程是因溫度周期時或焊劑回流時的熱產生的内部 應力而在小晶片接墊和樹脂密封體的界面產生剝離,被樹 脂密封體吸收的水分氣化膨脹而產生封裝體龜裂。 第二歷程是被黏接劑吸收的水分因溫度周期時或焊劑回 流時的熱而氣化膨脹,在小晶片接整和半導體晶片的界面 產生剝離而產生封裝體龜裂。 於是,作爲解決這種課題的技術,例如在特開昭Μ — 204753號公報揭示-種使小晶片接塾面積比半導體晶片面 積縮小的技術(小翼片構造)。根據此技術,由於缩小小曰 片接塾和樹脂密封體的接觸面積,所以可抑制因被樹二 封體吸收的水分氣化膨脹而產生的封裝體龜裂。此外,由 於縮小介於小晶片接塾和丨導體晶片之間的黏接劑塗佈面 積,所以可抑制因被黏接劑吸收的水分氣化膨脹而產生的 封裝體龜裂。 此外,例如在特開+ 8_2〇41〇7 f虎公報揭示__種使部份支 持半導體晶片背面的兩條支持引線交叉而形成乂字形狀小 晶片接墊的技術(交叉翼片構造)。在此技術亦可抑制因被 樹脂密封體吸收的水分氣化膨脹而產生的封裝體龜裂及因 被黏接劑吸收的水分氣化膨脹而產生的封裝體龜裂。 發明之概述 在半導體裝置製造方面,雖然使用由鐵(Fe)_錄⑽系 ----j----------裝--- (請先閱讀背面之注意事員卜ί二 . .線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7
合金材料構成的引 合金材料構成的W 近幾年卻有使用由銅(Cu)系 況比使用鐵架的趨勢,銅系引線框架的情 鎳系引線框架的情況,可製造散熱性及高速 性佳的半導體奘 m 衮置。然而,由於銅系引線框架比鐵— 引線框架熱膨脹佴备 ^ ; σ + ' 一保數大,所以即使使小晶片接墊成爲小翼 S人叉翼片構造,因溫度周期時或焊劑回流時的熱 纟内4應力而在小晶片接塾和半導體晶片的界面容易 屋生剥離,對於封裝體龜裂的可靠性變低。 、疋在使用鋼系引線框架時,爲了縮小和半導體晶片 的黏接面積,在使引線寬度盡量狹窄的支持引線黏接固定 t導體晶片的方法有效m支持引線的引線寬度狹 乍時,產生新的問題。 1伟万;支持引線(晶片裝載部的黏接劑厚度随著支持引 線的引線寬度變t而變薄。另—方面,雖然起因於支持引 、’泉和半導體晶片的熱膨脹係數差的應力可用黏接劑吸收, 但黏劑的應力吸收隨著黏接劑厚度變薄而變小。即,在加 煞支持引線及半導體晶片的搭接(bonding)製程或模塑 製程,用黏接劑吸收起因於支持引線和半導體晶片的熱膨 脹係數差的應力困難。因此,容易產生支持引線和半導體 晶片的剝離,小晶片搭接製程後發生半導體晶片從支持^ 線脱落這種缺陷等,所以半導體裝置在组合製程的良率降 低。 本發明之目的在於提供一種可提高半導體裝置在組合製 程的良率的技術。 508702 Α7
W及新穎特徵根據本説 附圖當可明白。 在本案所揭示的私日0 A 要,則如下述:* ’若簡單説明代表性發明的棚 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 ⑴係-種半導體裳置,其特徵在 片:在一主面形成多數啦 ’、百丰導組曰日 體晶片;多㈣線:電;二:树脂密封體:密封前述半導 遍及前述樹脂密封體内:m導體晶片之電極, 持和前述半導體晶片—主面:二二持引線:部分地支 曰片谈仍膠懲力^、 向的,、他王面’前述半導體 4透過MIM㈣定於前述支持引線者。 (2)係一種半導體裝罢 片:以方形狀形成;面在其特徵在於:具有半導體晶 封體:以方形狀形成平面,4::多數電心樹脂密 線:電氣連接於前述半導體導體晶m引 封體内外延伸;及,支持引/^極,遍及前述樹脂密 晶片一王面對向的其他主面,如橫過前述半導 對向的兩個角部般地延伸 “θ相 固定於前述支持引線者。、+^“日片透過膠帶黏接 ⑺係-種半導體裝置,其特徵在於:具有半導體晶 片.以方形狀形成平面,在—*品 封體:以方形狀形成平面,贫封:成多數電極;樹脂密 地^ 在封可述半導體晶片;多數引 料於前述半導體晶片之電極,遍及前述樹脂密 曰:一夕延伸’及’支持引線:部分地支持和前述半導體 曰日-王面對向的其他王面,如橫過前述半導體晶片互^ (請先閱讀背面之注意事項 本頁) 裝 訂. -線· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 /uz A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(5 ) 對向的兩個邊般地延伸,前述半導體晶片透過膠帶黏接固 定於前述支持引線者。 (4) 係一種半導體裝置,其特徵在於:具有半導體晶 片:以方形狀形成平面,在一主面形成多數電極;樹脂密 封體:以方形狀邶成平面,密封前述半導體晶片;多數引 線··電氣連接於前述半導體晶片之電極,遍及前述樹脂密 封内外延伸,及,支持引線··部分地支持和前述半導體 to片主面對向的其他主面,前述樹脂密封體在第一角部 有樹脂注入邵,前述支持引線從前述樹脂密封體之第一角 4向其相反側i第二角部延伸,前述半導體晶片透過膠帶 黏接固定於前述支持引線者。 (5) 係一種半導體裝置,其特徵在於:具有半導體晶 片.以方形狀形成平面,在一主面形成多數電極;樹脂密 封體:以方形狀形成平面,密封前述半導體晶片;多數引 線··電氣連接於前述半導體晶片之電極,遍及前述樹脂密 封月丘内外延伸,及,支持引線:部分地支持和前述半導體 晶片一王面對向的其他主面,前述樹脂密封體在第—邊中 央部有樹脂注入部,前述支持引線在連結前述樹脂密封, 之第-邊中央部和其相反侧之第二邊中央部的假想線上= 伸,前述半導體晶片it過膠帶黏接固定於前述支持巧線 者。 、’ 根據上述機構,膠帶不受支持引線的引線寬以丄響,可 加厚厚度。因此’可按照起w支持引線和半導體晶片^ 皇膨脹係數差的應力設定膠帶厚度,所以小晶片搭接製程 _____ -8- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格⑵〇 x 297公爱「 ( ----j----------裝--- (請先閱讀背面之注意事項本頁) 訂: -線· A7 B7 發明說明( 經濟部智慧財.產局員工消費合作社印製 後可抑制半導體晶片 結果, 义支持引線脱落這種缺陷等發生。此 "问〜導體裝置在組合製程的良率。 附圖之簡單説明 二成去Α本發明實施形態1的半導體裝置之樹脂密 封組上邵的狀態的平面圖。 圖2爲沿著圖i之Α_Α線的截面圖。 圖3爲沿著圖mB線的截面圖。 圖4爲沿著圖1之。C線的截面圖。 圖5爲前述半導體裝置的要部透視圖。 圖6爲圖3的要部擴大截面圖。 圖7爲用万、㈤逑半導體裝置製造的^線框架平面圖。 圖8爲顯示樹脂薄膜加工狀態的典型平面圖。 圖9爲沿著圖8之D_D線的典型截面圖。 圖10爲顯示樹脂薄膜加工狀態的典型平面圖。 圖11爲説明前述半導體$置製造方法的平面圖。 圖12爲説明前述半導體裝置製造方法的截面圖。 圖13貞言兑明前述半導體$置製造方法的截面圖。 圖14爲顯π樹脂薄膜第一變形例的要部平面圖。 圖15爲顯tf樹脂薄膜第二變形例的要部平面圖。 圖16爲顯示樹脂薄膜第三變形例的要部平面圖。 圖17爲用於前述半導體裝置製造的其他引線框架平面 圖。 圖18爲用於前述半導體裝置製造的其他引線框架平面 圖0
I ;----------裝--- (請先閱讀背面之注意事項
J-IT 丨線· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公复 508702 B7五、發明說明(7 ) 圖19爲用於前述半導體裝置製造的其他引線框架平面 圖。 圖20爲用於前述半導體裝置製造的其他引線框架平面 圖。 圖21爲除去爲本發明實施形態2的半導體裝置之樹脂 密封體上部的狀態的平面圖。 圖22爲沿著圖21之E-E線的截面圖。 圖23爲用於前述半導體裝置製造的引線框架平面圖。 [元件編號之説明] 1 ···半導體裝置、2…引線、3…支持引線、4…輔助 引線、5…交叉部、6…連接條、7 ···框體、8…膠帶、 9…樹脂注入部、10…半導體晶片、11…電極、12…細 線、13 ··.樹脂密封體、20…成型模具、LF1-LF6…引線 框架。 (請先閱讀背面之注意事項 本頁) 裝 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以下’參照圖面詳細説明本發明之實施形態。又,在爲 了説明發明實施形態的全圖中,有同—功能的附上同一符 號’其反覆的説明省略。 (實施形態1 ) 在本實施形態,就將本發明適用於爲四方向引線排列構 造的QFP (Quad £latPack package)型半導體裝置之例加以説 明。 首先,就半導體裝置的概略結構用圖1至圖6加以説 明。圖1爲除去爲本發明實施形態1的半導體裝置之樹脂 -10- 本紙^尺度_中關家標準(CNS)A4規格(21G X 297公爱) 線 508702 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ----— _B7^___ 五、發明說明(8 ) 密封體上部的狀態的平面圖,圖2爲沿著圖1之Α·Α線的 截面圖,圖3爲沿著圖i之Β-Β線的截面圖,圖4爲沿著 圖1 I C-C線的截面圖,圖5爲前述半導體裝置的要部透 視圖’圖6爲圖3的面部擴大截面圖。 如圖1、圖2、圖3及圖4所示,本實施形態之半導體 裝置1係下述結構;在支持引線3和輔助引線4交叉的交 叉部5裝載半導體晶片1〇,以樹脂密封體13密封此半導 體晶片10。 半導體晶片10的平面形狀以方形狀形成,在本實施形 態例如以由9 [mm] X 9 [mm]的外形尺寸構成的正方形形 成,。半導體晶片10係下述結構:例如以由單晶矽構成的 半導體基板及形成於此半導體基板上的配線層爲主體。這 種情況的半導體晶片10有3 χ 1〇-6[irc]程度的熱膨脹係 在半導體晶片10之電路形成面(一主面)1〇χ作爲電路 系統,例如形成邏輯電路系統或使邏輯電路系統和記憶電 路系統混在一起的混合電路系統等電路系統。這些電路系 統馬形成於半導體基板的半導體元件及電氣連接此此半導 to凡件間的配線等所構成。此外,在半導體晶片忉之電 各形成面10Χ,沿著其電路形成面1〇χ各邊形成多數電杨 (搭接接墊)11 。多數電極Π各肩透過配線電氣連接二^ Τ體元件,該半導體元件形成於半導體晶片10配線層中 最上層的配線層,主要是構成電路系統。多數電極u各 自例如以銘(A1)或銘合金等金屬膜形成。 中國國家標準(CI\TS)A4 規格(21〇 X 观--一 — -----一----------裝---- (請先閱讀背面之注一‘一||一,1__ n n i ϋ -線· 508702 經濟部智慧財產局員Η消費合作社印製 A7 B7_ _五、發明說明(9 ) 樹脂密封體13的平面形狀以方形狀形成,在本實施形 態例如以由14 [mm] X 14 [mm]的外形尺寸構成的正方形形 成。樹脂密封體13作爲謀求低應力化的目的,例如以添 加苯酚系硬化劑、矽及填料等的聯苯系或鄰甲酚酚醛清漆 系樹脂形成。這種情況的樹脂密封體13有13 X l〇_6[l/°C] 程度的熱膨脹係數。 樹脂密封體13的形成使用適合大量生產的傳邊模塑 (transfer moulding)法。傳邊模塑法係一種使用具備槽(p〇t) 部、流道(runner)部、樹脂注入澆口部及模穴部等的成型 模具,從槽部通過流道部及樹脂注入澆口部,將樹脂加壓 注入模穴内而形成樹脂密封體的方法。 在半導體晶片10外周圍外側,沿著樹脂密封體13各邊 排列多數引線2。多數引線2各自係下述結構:遍及樹脂 密封體13内外延伸,具有内部引線部2A :位於樹脂密封 體13内部;及,外部引線部2B :位於樹脂密封體13外 部。 多數引線2各自之内部引線部2a透過導電性細線12電 氣連接於半導體晶片10之電極丨丨,多數引線2各自之外 邵引線部2B例如形成鷗形翼(guU〜叫)形狀作爲表面安裝 引、、泉形狀。就細線12而言,例如使用金(Au)線。就細線 2的連接方法而言,例如使用將超音波振動併用於熱壓 接的搭接(bonding)法。 支持引、、泉3 、輔助引線4、細線等和半導體晶片1〇 共同以樹脂密封體13密封。 ^標準----—-- (請先閱讀背面之注意事項再^^頁) i裝 訂: ;線- 508702 五、發明說明(10 ) ^持引線3如圖!及圖3所示,從樹脂密封體η之第 2部以向其相反側之第二角部⑽延伸,同時如棒過 晶片1〇互相對向的第一角部、第二角部議 =地延伸。即,本實施形態之支持引線
岔封體13之第一角部13A釦m —含、 W 伸。 F A和弟—角邵13B的對角線上延 2持引線3如圖3所示,係具有引線部^和引線部3B 的:構。引線部3八在其板厚方向(上下方向)配置於和圖 2所示的引線2之内部引線部2Α相同的位置。引線部沾 在其板厚万向(上下方向)配置於比圖2所示的引線2之内 部引線部2Α下方的位置。 彳助引線4如圖1及圖4所示,從樹脂密封體13之第 ^ F 13C向其相反側四角部13D延伸,同時如橫過 +導體晶片1〇互相對向的第三角部i〇c、第四角部· ^自般地延伸。即,本實施形態之輔助引線4在連結樹脂 *封把13心第二角邵13C和第四角部13〇的對角線上延 伸。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 i Μ--- (請先閱讀背面之注意事項再本頁) .線· 輔助引線4如圖4所示,係具有引線部4八和引線部犯 的結構。引線部4A在其板厚方向(上下方向)配置於和圖
。所不的支持引線3之引線部3A相同的位置。引線部4B 在其板厚方向(上下方向)配置於和圖3所示的支持引線3 之引線部3A相同的位置。 在樹脂密封體13之第-角部UA如圖5所示,留下声 口斷開痕跡13X。洗口斷開痕赫13χ因分離連結於樹脂: i紙張尺國家標準(CNS)A4規格(21Q x -13- 508702 A7 B7 五、發明說明(11 ) 封體13的澆口流道樹脂而產生。因此,本實施形態之半 導體裝置1係下述結構:在樹脂密封體13之第一角部 13A有樹脂注入部。 半導體晶片10如圖3所示,透過膠帶8黏接固定於支 持引線3之引線部3B。膠帶8以沿著支持引線3長度方 向的形狀形成。在本實施形悲’膠帶8在將一部位拉出於 半導體晶片10外側的狀態貼在支持引線3之引線部3B 上。此外,膠帶8如在支持引線3長度方向連續般地貼在 支持引線3之引線部3B上。即,本實施形態之半導體晶 片10透過沿著支持引線3長度方向延伸的長形膠帶8黏 接固定於支持引線3之引線部3B。
膠帶8不限於此,如圖6所示,係下述結構〆例如在樹 脂基材8A兩主面(正反面)有黏接層8B。樹脂基材8A例 如以有2·5 X 10-5[irC]程度的熱膨脹係數的聚醯亞胺 (polyimide)系樹脂形成。黏接層例如以有5 X 程度的熱膨脹係數的聚醚氨基亞胺系或環氧系熱可塑性樹 脂或熱硬化性樹脂形成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 膠帶8厚度因在支持引線3黏接固定半導體晶片時的熱 壓接而少許變薄。在熱壓接半導體晶片1〇之前,膠帶8 厚度爲約0.061 [mm]程度,樹脂基材8A厚度爲約〇 〇25 [腿]程度,黏接層犯厚度爲約〜〇〇18[叫程度。在熱壓 接半導體晶片10後的膠帶8厚度爲約〇 〇5 [mm]程度。 膠帶8不雙支持引線3的引線寬度影響,可加厚厚度。 因此,可按照起因於支持引線3和半導體晶片ι〇的熱臉 A7 B7 12 五、發明說明( 脹係數差的應力設定膠帶8厚度。 •---”----------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 支持引線3例如以0.3〜0.5 [mm]程度的引線寬度形成。 即’支持引線3以部分地支持和半導體晶片10之電路形 成面1〇X對向的背面(其他主面)10Y的形狀形成。 又’在本實施形態之説明,係以支持引線3 、輔助引線 4各自爲一條引線加以説明,但以交叉部$爲界,也可以 將支持引線3、輔助引線4各自看作二條引線。 其次’就用於前述半導體裝置1製造的引線框架概略結 構使用圖7加以説明。圖7爲引線框架平面圖。 如圖7所示’引線框架LF1係下述結構:在以平面方形 狀的框體7蚊的區域内具有| 了進行電氣導通仲介的多/ 數引、泉2爲了支持半導體晶片1〇的支持引線3 、爲了 彌補支持引線3機械強度的輔助引線4等。引線框架 係下述結構:在框體7之第—角部7A_脂注人部。 •線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制π 多數引線2分割成四個引線群,框體7之各框部配置四 個引線群各自。各引線群之引線2沿著框體7之各框部排 列。各引線群之引線2係下述結構:具有内部引線部 2A :配置於樹脂密封體内部;及,外部引線部2B :配置 於樹脂密封體外部。各引線群之引線2爲連接條6所互相 連結而一體化,該連接條6係防止形成樹脂密封體時的樹 脂溢出。各引線群之引線2之外部引線部2b與框體7 一 體化。 支持引線3從框體7之第-角部7A向其相反側之第二 角部7B延伸。支持引線3 —端側連結於框體7之第—角 -15 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X ) 508702 A7 B7 &^部智慧財產局員工消費合作社印#,';々 五、發明說明(、13 ^ 支持引線3他端側連結於連接條6。即,支持引 線3在引線框架LF1 ,在連結框體7之第一角部7A和第 二角部7B的對角線上延伸。 輔助引線4從框體7之第三角部7C向其相反側之第四 角邵7D延伸。輔助引線4 一端側及他端側連結於連接條 6 °即’輔助引線4在引線框架LF1 ,在連結框體7之第 二角邵7C和第四角部7〇的對角線上延伸。 支持引線3和輔助引線4在以框體7規定的區域的中央 #人叉’互相連結。在支持引線3、輔助引線4各自施以 爲了比連接細線(Wire)的引線2連接面使半導體晶片1〇背 面更加偏於其背面側的彎曲加工。 膠帶8貼在支持引線3之晶片裝載部上。膠帶8以沿著 支持引線3長度方向的形狀形成。在本實施形態,膠帶8 如在支持引線3長度方向連續般地貼在支持引線3之引線 部3B上。此外,㈣8以和支持引線3的引線寬度大致 同樣的寬度形成。 引線框架LF1例如以有17 χ 1〇-δ[ιΑ:]程度的熱膨脹係數 的銅系合金材料形成。引線框架LF1係對金屬板施以蝕刻 1或冲壓加工,形成引線2、支持引線3、輔助引線4 等’其後對支持引線3、輔助以綠j々a ^ 補助線4各自施以沖壓加工, 其後將膠帶8貼在支括q 、 夂待?丨線3 I晶片裝載部上而形成。 又’由鐵-錄(例如鍊本右盘心+ 果。有羊42或5〇 [%])系合金材料構 成的引線框架有4·3 X 1〇-6「1/〇门 ]“度的熱衫脹係數。 膠帶8如圖8 (顯示膠帶加姑 V刀狀怨的典型平面圖)及圖9 丨 — J!! -裝 i . ί < (請先閱讀背面之注意事項本頁) 訂- -參 -16- 508702 A7 五、發明說明( (沿考圖8之D_D線的典型截面圖)所示,係使用加工夾具 6切斷加工預疋寬度的窄帶材⑽b 忪㈣η而形成。通 常,切斷加工係物帶材15長邊(長度方向)切口成爲 直角,地配置t帶材15而進行,但如圖iq (顯示膠帶加 工狀悲的典型平面圖)所示,藉由對於_帶材15長邊切口 成爲銳角般地配置窄帶材15而進行,可從同—窄帶材Η =成長度不同的膠帶S。這種情況,膠帶8的平面形狀成 爲平行四邊形。 其次,/尤前述半導體裝置1之製造方法使用圖u至圖 13加以况明。圖u爲顯示製程到細線搭接製程結束的狀 態的平面 ',目12及圖13爲説明模塑製程的截面圖。 又^圖12爲在和圖丨之A-A、線對應的位置的截面圖,圖 13爲在和圖1 < C-C線對應的位置的截面圖。 首先,準備圖7所示的引線框架LF1 ,同時準備圖12 及圖13所示的成型模具2〇 。成型模具2〇係下述結構: 具有杈穴邵21 :以上模2〇A和下模2〇B形成;樹脂注入 此口邵22 :連結於模穴部21 ;流道部23 :連結於樹脂 /入此口 4,及,槽邵:未圖示,但連結於流道部Μ。 其/人,在支持引線3之晶片裝載部透過膠帶8黏接固定 半導體晶片10 。以熱壓接進行半導體晶片1〇的黏接固 疋。在此製程雖然加熱支持引線3 、半導體晶片1〇各 自,但因按照起因於支持引線3和半導體晶片1〇的熱膨 脹係數差的應力設足膠帶8厚度,所以不發生半導體晶片 10從支持引線3脱落這種缺陷。 ;---一----------裝—— (請先閱讀背面之注意事項卜ί二 訂· 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
(210x297 公釐) 508702 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(15 其次,以導電性細線u雷 ,τ 乳連接半導體晶片10之電極 11和引線2之内部引線部2A。 厭拉从π V1 以知超晋波振動併用於熱 壓接的格接(bonding)法進行細線 ατ 戈12的連接。在此製程雖然 加煞支持引線3 、半導體晶片 .^ 巧10各自,但因按照起因於 支持引線3和半導體晶片1〇 々為膨脹係數差的應力設定 膠V 8厚度’所以不發生丰壤鱗曰 —^ 導叫片10從支持引線3脱 洛這種缺陷。圖11顯示到此的製程。 其次,如圖12及圖13蛴一 ,, 所π,如框體7之第一角部7A (樹脂注入部)位於成型模具 谢 <樹〗日 >王入兜口部22般地 配置於成型模具20之上模20A 4 丁 π 上筷20Α和下模2〇Β之間,在模穴 邵22内配置半導體晶片1〇 ^ 引線2 <内邵引線部、支持 引線3、輔助引線4、細線12等。 其次,從槽部通過流道部23及樹脂注入洗口部22將樹 脂加壓注入模穴部21 Θ,樹脂密封半導體晶片10、引線 2之内部引線部、支持引線3、輔助引線4、細線12等。 在此製程,由於半導體晶片1〇黏接固定於從樹脂注入澆 口部22向反澆口側延伸的支持引線3 ,所以可抑制因加 壓注入模穴邵21内的樹脂流動而產生的半導體晶片上 下方向的變動。此外,支持引線3連結於輔助引線4,支 持引線3的機械強度爲輔助引線4所彌補,所以可抑制因 加壓注入模穴邵21内的樹脂流動l而產生的半導體晶片j 〇 上下方向的變動。 其次,從成型模具20取出引線框架LF1 ,其後分離連 結於樹脂密封體13之第一角部13Α的澆口流道樹脂,其 -18 - ---一---1 I I I I I I · I I (請先閱讀背面之注意事項再本頁) · •線· 木纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 508702 A7 B7 五、發明說明(16 ) 後切斷連結引線2間的連接條6,其後從框體7切斷引線 2之外邵引線部2B,其後將引線2之外部引線部2B例如 形成鷗形翼(gull wing)形狀作爲表面安裝型形狀,其後從 框體7切斷支持引線3及輔助引線4,圖1至圖6所示的 半導體裝置1大致完成。 此後,半導體裝置1施以溫度周期試驗,作爲製品出 貨。作爲製品出貨的半導體裝置〗裝在安裝基板上。溫度 周期試驗側如以在-55[。〇]溫度下1〇分鐘、在15〇rc]溫度 下10分鐘爲一周期,在此條件下進行1000周期。即使施 以這種溫度周期試驗,本實施形態之半導體裝置丨在樹脂 密封體13也不產生龜裂。 如此,根據本實施形態,可得到以下效果: ⑴半導體晶片10透過膠帶8黏接固定於支持引線3。 由此,膠帶8不受支持引線3的引線寬度影響,可加厚厚 度。因此’可按照起因於支桂括, 狩? I、,泉J和半導體晶片10的 熱膨脹係數差的應力設定膠帶8 ^ ’ /f /子度,所以小晶片搭接製 程後可抑制半導體晶片10從彡 々炎持引線3脱落這種缺陷等 發生。此結果,可提高半導靜磬 q干爷把裝置1在組合製程的良率。 此外,由於可按照起因於去 、叉待引線3和半導體晶片10 的熱膨脹係數差的應力設定膠 ^ ^ 帶厚度,所以可提高使用 由銅系a至材料構成的引線框架 人& 木丄F1的半導體裝置1在組 合製程的艮率。 (2)半導體晶片10黏接固金、人〜 万;從樹脂注入澆口部向反澆 口側延伸的支持引線3 0由 ’可抑制因加壓注入模穴部 ___- 19 度適用中國國家標準 , 1 裝--- (請先閱讀背面之注意事項再本頁) · •線. 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 ^m/ΌΖ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明(17 21内的樹脂流動而產生的半 ^ 7牛導植印片W上下方向的變 動,所以可抑制半導體晶片10、 而 、,,田、,泉12寺從樹脂密封體 路出的缺陷。此結果,可提 程的良率。 導-裳置i在組合製 二?於可抑制半導體晶片10、細線12等從樹脂密 封月豆路出的缺陷,所以可使樹脂密封體13厚度變薄, 可謀求半導體裝置〗薄型化。 (:)支:引線3連接於輔助引線4。由此,支持引線3的 機械強度爲輔助引線4所彌補 、二 η用所以可抑制因加壓注入模 八部21内的樹脂流動而產生的半導曰& 變動。 〕牛導缸叩片10上下方向的 (4)半導體晶片10從相 相對向的弟一角部10A遍及第二 角部廳黏接固定於支持引線3。由此,比黏接固定半導 體晶片1〇中央部的情況,可抑制因加壓注入模穴部21内 的树脂流動而產生的支持引線3上下方向的變動。 ⑺支持引線3如橫過半導體晶片1Q互相對向的兩個角 部般地延伸,輔助引線4如橫過半導體晶片 1〇互相對向的其他兩個角部(⑽、_)般地延伸。由 此,在半導體晶片1〇和引岣乂、山、 51、·泉2則鲕邵之間支持引線3及 輔助引線4不存在,所以即使細線12中間部下垂,也可 抑制支持引線3及輔助引轉4 $ 拥助W,、、泉4和加線12的接觸。細線12 中間邵下垂是細線12長度越長越顯著。 此外’即使縮小丰壤㈣曰 九猫』十導肢叩片10的外形尺寸,在半導體 晶片10和引線2前端部> pEj 士 P <間支持引線3及輔助引線4也 — —--------------------------------—-- - 20 衣紙張尺/£適时目國家標準(CNS)A4 (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 裝 •線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(is ) 不存在,即使細線12中間部下4 ,支持引線3及輔助引 、.泉4和細線12也不接觸,所以 曰#1Π , 裝載外形尺寸不同的4 導《豆日日片10 。此結果,可謀求可裝都从# 裝載外形尺寸不同的專 導胆:晶片10的引線框架標準化。 又,在本實施形態係就使膠帶 ^ ^ ^ s的寬度和支持引線3的 引4寬度相同之例加以説明,但如圖14所示,也可以比 支持引線3的引線寬度W1,縮小膠帶8的寬度W2。 此外,在本實施形態係就膠帶 V S如在支持引線3長度方 向連續般地貼在支持引線3 f夕心丨上 抒卜果上〈例加以説明,但膠帶8如 圖15所示,也可以如在支持引 行5丨、,泉3長度万向散佈般地貼 上。這種情況,膠帶8的貼上作業容易。 此外,在本實施形態係就使膠帶8的寬度和支持引線3 的引線寬度相同之例加以説明,但如圖16所示,也可以 比支持引線3的引線寬度W1增大膠帶8的寬度—。 此外,也可以使用圖17所示的引線框架—製造半導 體裝置。引線框架LF2係廢除輔助引線4的結構。即使使 用此引線框架LF2的情況,也可以得到和前述實施形態同 樣的效果。此外,絲輔助引線4可擴大引線2的排列間 距,所以可抑制因形成樹脂密封體時的樹脂流動而產生的 細線間短路。 此外,也可以使用圖18所示的引線框架lF3製造半導 體裝置。引線框架LF3係下述結構:在支持引線3和輔助 引線4的乂叉邵形成比支持引線3、輔助引線4各自的引 線寬度寬的接墊25 。即使使用此引線框架LF3的情況, -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱)
(請先閱讀背面之注意事項本頁) 508702 A7 B7 五、發明說明(l9 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 也了以侍到和纟!I述實施形態同樣的效果。此外,支持引線 3對於彎曲的強度變高,所以可更加抑制因形成樹脂密封 體時的樹脂流動而產生的支持引線3上下方向的變動。 此外,,也可以使用圖19所示的引線框架LF4製造半 導體裝置。引線框架LF4係下述結構:在支持引線3和輔 助引線4的交叉部形成接墊25 ,再在接墊25周圍形成比 支持引線3 、辅助引線4各自的引線寬度少許寬的小接塾 即使使用此引線框架LF4的情況,也可以得到和前 述實施形態同樣的效果。 此外,也可以使用圖20所示的引線框架LF5製造半導 體裝置。引線框架LF5係下述結構:在支持引線3和輔助 引線4的交叉部形成接墊25 ,再如離開接墊25般地在支 持引線3 、輔助引線4各自的中途部形成小接墊26 。即 使使用此引線框架LF5的情況,也可以得到和前述實施形 態同樣的效果。 此外,雖然未圖示,但也可以使用比拉出到半導體晶片 10外側的支持引線3邰分的引線寬度加粗和半導體晶片 10重®的支持引線3部分的引線寬度之引線框架製造半 導體裝置。 此外’在本實施形態係就在支持引線3透過膠帶8黏接 固足半導體晶片1 〇之例加以說0,但根據本發明者等的 研討,若有30 [μιη]以上的厚度,則也可以用黏接劑進行 支持引線3和半導體晶片1 〇的黏接固定。 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱 請 先 閱 讀· 背 之 注 意 事 項 4 i 裝 訂 線 A7 B7 五、發明說明(2〇 ) 經 濟 部 智 慧 財 產 局 消 費 合 社 印 製 (實施形態2 ) 在本實施形態,就將本發明適用於爲二方向引線排列構 埏的SOP (Small Qut七ne £ackage)型半導體裝置之例加以説 明。 首先,就半導體裝置的概略結構用圖21及圖22加以説 明。圖21爲除去爲本發明實施形態2的半導體裝置之樹 脂密封體上部的狀態的平面圖,圖22爲沿著圖21之 線的截面圖。 如圖21及圖22所示,本實施形態之半導體裝置%係 下述、〜構,在支持引線3之晶片裝載部裝載半導體晶片 10,以樹脂密封體I3密封此半導體晶片1〇。 半導體晶片10的平面形狀以方形狀形成,在本實施形 態例如以長方形形成。在半導體晶片1〇之電路形成面 ,沿著與其電路形成面互相對向的長邊形成多數 %極11 。树脂抵封體13的平面形狀以方形狀形成,在本 貫施形態例如以長方形形成。 在半導體晶片10外周圍外侧,沿著樹脂密封體13互相 對向的兩個長邊排列多數引線2。多數引線2各自係下述 結構:遍及樹脂密封體13内外延伸,具有内部引線部 2A :位於樹脂密封體13内部;及,外部引線部2B :位 於樹脂密封體13外部。 ^ 多數引線2各自之内部引線部2A透過導電性細線12電 氣連接於半導體晶片10之電極η,多數引線2各自之外 部引線部2Β例如形成鷗形翼(guUwmg)形狀作爲表面安裝 ---”----------裝·—— 請先閱讀背面之注意事項再本頁) 訂· -線·
五、發明說明(u ) ,狀支持引線3、細線12等和半導體晶片丨〇共同 以樹脂密封體13密封。 支持引線3在連接樹脂密封體13之第一邊13X中央部 和,、相反側之第二邊13γ巾央部的假想線上延#,同時如 杈過半導體晶片10背面互相對向的第一邊⑽、第二邊 10T各自般地延伸。 在樹脂密封體13之第一邊13X雖然未圖示,但留下澆 開痕跡/九口所開痕跡因分離連結於樹脂密封體13 的% 口流道樹脂而產生。因此,本實施形態之半導體裝置 3〇係下述結構··在樹脂密封體13之第一邊ΐ3χ中央部有 樹脂注入部。 半導體晶片10透過膠帶8黏接固定於支持引線3之引 線部3Β。膠帶8以沿著支持引線3長度方向的形狀形 成。在本實施形態,膠帶8在將一部分拉出於半導體晶片 10外側的狀態貼在支持引線3之引線部3Β上。此外,膠 帶8如在支持引線3長度方向連續般地貼在支持引線3之 引線部3Β上。即,本實施形態之半導體晶片ι〇透過沿著 支持引線3長度方向延伸的長形膠帶8黏接固定於支持引 線3。 、 膠帶8不文支持引線3的引線寬度影響,可加厚厚度。 因此,可按照起因於支持引線3〜和半導體晶片1〇的^膨 脹係數差的應力設定膠帶8厚度。 支持引線3例如以程度的?丨線寬度形成。即, 支持引線3以部分地支持和半導體晶片1〇之電路形成面 -24- 508702 A7 B/ 五、發明說明(22 ) 10X對向的背面(其他主面)10Y的形狀形成。 其次,就用於前述半導體裝置30製造的引線框架概略 結構使用圖23加以説明。圖23爲引線框架平面圖。 如圖23所示,引線框架LF6係下述結構:在以平面方 形狀的框體7規定的區域内具有爲了進行電氣導通仲介的 多數引線2 、爲了支持半導體晶片10的支持引線3等。 引線框架LF1係下述結構:在框體7之第一框部7χ有樹 脂注入部。 多數引線2分割成兩個引線群,兩個引線群各自配置於 框體7互相對向的兩個框部。各引線群之引線2沿著框體 7之各框部排列。各引線群之引線2係下述結構:具有内 邵引線邵2Α :配置於樹脂密封體内部;及,外部引線部 2Β :配置於樹脂密封體外部。各引線群之引線2爲連接 條6所互相連結而一體化,該連接條6係防止形成樹脂密 封體時的樹脂溢出。各引線群之引線2之外部引線部π 與框體7 —體化。 支持引線3從框體7之第一框部7 、| 甲夬#向其相反側 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制π 之弟二框部7Υ中央部延伸。支持引線3 一端側連社於框 體7之第-框部7Χ,支持引 '線3他端側連結於連接修 6。即’支持引線3在引線框架咖,在連結框 一框邵7X和第二框部7γ的對角線上延伸。 膠帶8貼在支持引線3之晶片裝載部上。膠帶m 支持引線3長度方向的形狀形成。在本實施㈣8 如在支持引線3長度方向連續般地貼在支持引線3之^ 508702 A7 B7 五、發明說明(23 ) 部3B上。此外,膠帶8以和支持引線3的引線寬度大致 同樣的寬度形成。 其次,就前述半導體裝置30之製造方法加以説明。 首先’準備圖23所示的引線框架LF6 ,同時準備成型 模具。成型模具偉下述結構:具有模穴部:以上模和下模 形成;樹脂注入澆口部··連結於模穴部;流遒部··連結於 樹脂注入澆口部;及,槽部··連結於流道部。 其次,在支持引線3之晶片裝載部透過膠帶8黏接固定 半導體晶片10 。以熱壓接進行半導體晶片1〇的黏接固 定。在此製程,雖然加熱支持引線3 、半導體晶片ι〇各 自,但因按照起因於支持引線3和半導體晶片1〇的熱膨 脹係數差的應力設定膠帶8厚度,所以不發生半導體晶片 10從支持引線3脱落這種缺陷。 其次,以導電性細線I2電氣連接半導體晶片1〇之電極 η和引線2之内部引線部2A。以將超音波振動併用:: 壓接的搭接法進行細線12的連接。在此製程,雖然力、 支持引線3、半導體晶片H)各自,但因按^因;^ = 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 引線3和半導體晶片1〇的熱膨脹係數差的應力設定膠册、 厚度,所以不發生半導體晶片1〇從φ ^ 缺陷。 …引線3脱落這種 其次,如框體7之樹脂注入部拉於成型模且之樹卜、 澆口部般地配置於成型模具之上模和 广玉入 内配置半導體晶片10 、引線2之内 吴八邱 3、細線12等。 待引轉 508702 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 _B7 五、發明說明(24 ) 其次,從槽部通過流道部及樹脂注入澆口部而將樹脂加 壓注入模穴部内,樹脂密封半導體晶片10 、引線2之内 部引線部、支持引線3 、細線12等。在此製程,由於半 導體晶片1 〇黏接固定於從樹脂注入洗口部向反洗口側延 乂 伸的支持引線3 ,,所以可抑制因加壓注入模穴部内的樹脂 流動而產生的半導體晶片10上下方向的變動。 其次,從成型模具取出引線框架LF6,其後分離連結於 樹脂密封體13之第一邊13X的澆口流道樹脂,其後切斷 連結引線2間的連接條6,其後從框體7切斷引線2之外 部引線部2B,其後將引線2之外部引線部2B例如形成鷗 形翼(gull wing)形狀作爲表面安裝型形狀,其後從框體7 切斷支持引線3 ,圖21及圖22所示的半導體裝置30大 致完成。 如此,即使在本實施形態,也可以得到和前述實施形態 1同樣的效果。 以上,根據前述實施形態具體説明了由本發明者所完成 的發明,但本發明並不限於前述實施形態,當然可在不脱 離其要旨的範圍作各種變更。 例如本發明可適用於爲一方向引線排列構造的SIP (盔ingle In-line Eackage)型、ZIP (Zigzag In-line £ackage)型等半 導體裝置。 - 此外,本發明可適用於爲二方向引線排列構造的S〇J (盔mall Q_ut-line 工-leaded Package)型、TSOP (工hin Small Q_ut-line package)型等半導體裝置。 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) ---P----------裝.— (請先閱讀背面之注意事項本頁) 訂: •線 508702 A7 _B7_ 五、發明說明(25 ) 此外,本發明可適用於爲四方向引線排列構造的QFJ (Quad Flatpack J-leaded Package)型等半導體裝置。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -28- HI iBJ i_l— n al·— §mm§ n in n I ^1^^^· _§§ an J汁4 (請先閱讀背面之注意事項本頁) .線 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. 508702
    修止/更正/補羌 罘88113382號專利申請安 中文申凊專利範圍修正本(9〇年7⑴ 申請專利範圍 1. 一種半導體裝置, -主…夕心 具有半導體晶片··在 王面开y成多數電極;傲 a 曰片·夕盤 、曰达、封體:密封前述半導體 朽^ ^ + 乱連接於前述半導體晶片之電 極,遍及則述樹脂密封體 且門外延伸;及,支持引線: I分地支持和料半導心片—主㈣向的其他主 如述半導體晶片透過膠德 運幻胗T黏接固定於前述支持引線 者0 2. -種半導體裝置’其特徵在於:具有半導體晶片:以 万形狀形成平面,在一主面形成多數電極:樹脂密封 體··以方形狀形成平面,穸 ^ 在封則述+導體晶片;多數 引線:電氣連接於前述半導體晶片之電極’遍及前述 樹脂密封體内外延伸…支持引線:部分地支持和 前述半導體晶片-主面對向的其他主面,如橫過前述 半導體晶片互相對向的兩個角部般地延伸, 前述半導體晶片透過膠帶黏接固定於前述支持引線 者。 3. 經濟、部中央樣隼局員工消費合作社印製 一種半導體裝置,其特徵在於:具有半導體晶片:以 方形狀形成平面,在一主面形成多數電極;樹脂密封 體·以方形狀形成平面,密封前述半導體晶片;多數 引線:電氣連接於前述半導體晶片之電極,遍及前述 樹脂密封體内外延伸;及,支持引線:部分地支持和 前述半導體晶片一主面對向的其他主面,如橫過前述 半導體晶片互相對向的兩個邊般地延伸, 木紙浪尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4規格(2i〇X297公瘦) 508702六、申請專利範圍 ABCD 者 前述半導fl晶片透過膠帶黏接固定於前述支持引線 4. 5. 經濟部中央標準局員工消費合作社印策 了種半導^裝置,其特徵在^:I有半導體晶片:以 方形狀形成平自’在-主面形成多數電極;樹脂密封 體·以万形狀形成平面,密封前述半導體晶片:多數 引線:電氣連接於前述半導體晶片之電極,遍及前述 樹脂密封體内外m支持引線:部分地支持和 煎述+導體晶片一主面對向的其他主面,前述樹脂密 封體在第一角部有樹脂注入部, 前述支持引線從前述樹脂密封體之第一角部向其相 反側之第二角部延伸, 前述半導體晶片透過膠帶黏接固定於前述支持引線 者。 了種半導體裝置,其特徵在於:具有半導體晶片··以 万形狀形成平面,纟一主面形成多數電極;樹脂密封 體:以方形狀形成平面,密封前述半導體晶片;多數 引線:電氣連接於前述半導體晶片之電極,遍及前述 樹脂密封體内外延伸;&,支持引線:部分地支持和 前述半導體晶片-主面對向的其他主面,前述樹脂密 封體在第一邊中央部有樹脂注入部, 山 則述支持引線在連結前述樹脂密封體之第一邊中央 邛和其相反側之第一邊中央部的假想線上延伸, 則述半導體晶片透過膠帶黏接固定於前述支持引線 者。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 ΦΙ. -2 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公董—
    申請專利範
    申Μ專利範圍第1至5項中任一項之半導體裝置, 7其中可述膠帶係在樹脂基材兩主面有黏接層的結構。 申叫專利範圍第1至5項中任一項之半導體裝置, 、中則述膠帶以沿著前述支持引線長度方向的形狀形 成。 申叫專利範圍第1至5項中任一項之半導體裝置, /、中則逑膠帶在將一部分拉出到前述半導體晶片外側 的狀怨貼在前述支持引線上。 9·如申請專利範圍第!至5項中任一項之半導體裝置, 其中前述膠帶如在前述支持引線長度方向連績般地貼 在前述支持引線上。 10·如申清專利範圍第i至5項中任一項之半導體裝置, 其中前述膠帶如在前述支持引線長度方向散佈般地貼 在前述支持引線上。 11.如中請專利範圍第i至5項中任—項之半導體裝置, 其中如述支持引線由銅或銅系材料構成。 12_ —種半導體裝置之製造方法,其特徵在於:係具有半 導體晶片··在一主面形成多數電極;樹脂密封體:密 封前述半導體晶片;多數引線:電氣連接於前述半導 體晶片之電極,遍及前述樹脂密封體内外延仲;及, 支持引線··部分地支持和前述半導體晶片一主面對向
    本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(
    210X297公釐) 508702 ABCD 六 圍範利專請中 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 製程: 卞備引線框架’該引線框架具有以方形狀形成平面 7框體、支持於前述框體的多數引線、支持於前述框 體的支持引線及貼在前述支持引線上的膠帶,前述框 體在第一角部有樹脂注入部,前述引線有内部引線部 及外部引線部,前述支持引線從前述框體之第一角部 向其相反側之第二角部延伸,同時準備成型模具,該 成型杈具具有以上模和下模形成的模穴部及連結於前 述模穴部的樹脂注入澆口部的製程; 在前述支持引線透過前述膠帶黏接固定半導體晶片 的製程; 以導電性細線電氣連接前述半導體晶片之電極和前 述引線之内部引線部的製程;及 如前述框體之樹脂注入部位於前述樹脂注入繞口部 般地在如述成型模具之上模和下模之間配置前述引線 框架,其後通過樹脂注入澆口部將樹脂注入前述模穴 部内而密封前述半導體晶片、引線之内部引線部、支 持引線及細線的製程者。 14. 一種半導體裝置之製造方法,其特徵在於:具備下述 製程: 準備引線框架’該引線框架具有以方形狀形成平面 的框體、支持於前述框體的多數引線、支持於前述框 體的支持引線及貼在前述支持引線上的膠帶,前述框 體在第一框邵中央部有樹脂注入部,前述引線有内部 -4- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -I I ? 訂 争· 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ^U8/U2 經濟部中央榡隼局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 引泉部及外部引線邵,前述支持引線在連結前述框體 之第框部中央邵和其相反側之第二框部中央部的假 想線上延伸,同時準備成型模具,該成型模具具有以 上模和下模形成的模穴部及連結於前述模穴部的樹脂 注入澆口部的製程; 在丽述支持引線透過前述膠帶黏接固定半導體晶片 的製程; 以導電性細線電氣連接前述半導體晶片之電極和前 述引線之内部引線部的製程;及 如蚰述框體之樹脂注入部位於前述樹脂注入澆口部 叙地在前述成型模具之上模和下模之間配[前述引線 框架,其後通過樹脂注入澆口部將樹脂注入前述模穴 部内而密封前述半導體晶片、引線之内部引線部、支 持引線及細線的製程者。 15.如申請專利範圍第12至14項中任一項之半導體裝置 <製造方法,其中前述膠帶係在樹脂基材兩面有黏接 層的結構。 w如申請專利範圍第12至14項中任一項之半導體裝置之 製造方法,其中前述膠帶以沿著前述支持引線長度方 向的形狀形成。 17·如申請專利範圍第丨2至14項中任一項之半導體裝置之 製造方法,其中前述膠帶如在前述支持引線長度方向 連續般地貼在前述支持引線上。 18·如申請專利範圍第12至14項中任一項之半導體裝置之 本紙張 家標準(CNS) Α4· ( (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
    508702 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 製造方法,其中前述膠帶如在前述支持?I線長度方向 散佈般地貼在前述支持引線上。 19·如申請專利範圍第12至14項中任一項之半導體裝置之 製造方法,其中前述引線框架由銅或銅系材料構成。 20· 一種半導體裝置,其特徵在於,具有: 半導體晶片,其具有主面及與前述主面對向之背 面’並於前述主面上形成有半導體積體電路及多數個 接墊; 第1支持引線’其支持前述半導體晶片,於第i方 向延伸; 第2支持引線,其支持前述半導體晶片,於與前述 第1万向相異之第2方向延伸,且與前述第i支持引 線交又而形成; 多數個引線,其配置成包圍前 、f M ? 士… 。園月』述弟1支持引線與前 述罘2支持引線之交又部, 二 刀另J具有内部引線部及 與W述内邵引線部一體形成之外部引線部; 多數個導電性細線,其係電, 括、〜、 孔連接於前述多數個引 線t内邵引線部及前述多數個接墊之各者· :脂:封體’其密:前述半導體晶片、前述多數個 點接引線部、前述第1及第2支持引線、前述 黏接層、及前述多數個導電性細線; ^述半導體晶片係配置於第1 叉部上, 及弟2支持引線之交 前述第1㈣2支持料其料料_晶片於平 -6 _ 本紙張尺度適用中關家標準(CNS ) M規格(21G><297公董) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 ΦΙ. )⑽ 702 )⑽ 702 經濟部中夬橾隼局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 面上重璺又部分的面積,係小於前述半導體晶片的面 積, 則述半導體晶片,係藉由於前述半導體晶片之背面 及則述第1及第2支持引線間所形成之黏接層所固 定, 刖述黏接層,係包含作為基材之絕緣膠帶,及於> 述絕緣膠帶兩面所形成之黏接劑。 21·如申請專利範圍第2〇項之半導體裝置,其中前述第i 方向及前述第2方向大致成直角交叉。 22.=申請專利範圍第21項之半導體裝置,其中前述樹脂 密封體係四角形,前述多數個引線之外部引線係由前 述樹脂密封體之4邊向外突出,前述第丨及第2支持 引線係由前述交又部向前述樹脂密封體之4個角部延 伸。 23·如申請專利範圍第2〇項之半導體裝置,其中前述半導 體晶片之背面之一部分係與前述第丨及第2支持引線 之父叉部黏接,前述半導體晶片之背面之其他部分係 與前述樹脂密封體直接接觸。 24. 如申請專利範圍第23項之半導體裝置,其中前述半導 體晶片係四角形,前述交叉部附近之前述第1及第2 支持引線之寬度,係較前述半導體晶片之外側部分之 前述第1及第2支持引線之寬度為寬。 25. —種半導體裝置,其特徵在於,具有: 半導體晶片,其具有主面及與前述主面對向之 本紙張尺度適用中國國家樣準(CNS ) A4規格(210X297公釐 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 f 申請專利範圍 並万、一述主面上形成有半導體積體電路及多數個 接墊; :片裝載部,其裝載前述半導體晶片; 夕數個支持引線,其係與前述晶片裝載部一體形 成; 夕數個引線’其配置成包圍前述晶片裝載部,且分 別具有内部引線部及與前述内部引線部一體形成之外 部引線部; 夕數個導電性細線,其以電氣連接前述多數個引線 之内部引線部及對應之前述多數個接墊; 樹脂密封體’其密封前述半導體晶片、前述多數個 引線足内部引線部、前述多數個支持引線、及前述多 數個導電性細線; 前述晶片裝載部係具有於第i方向延伸之第丨部 分,及於與前述第丨方向相異之第2方向延伸且與前 述第1部分交又而形成之第2部分, 丽述晶片裝載部其第丨部分及第2部分各自之寬 度,係較前述多數個支持引線之各自寬度為寬, 前述晶片裝載部其第1部分及第2部分各自之兩端 部分’係連接於前述多數個支持引線, 前述晶片裝載部其第丨部分及第2部分之交又部 分,係配置於前述半導體晶片之中央部分, 前述半導體晶片,於前述中央部份及前述周圍部分 處’係由黏接層固定於前述晶片裝載部, -8 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 508702 A8 B8 C8 D8 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 前述黏接層,係包含作為基材之絕緣膠帶,及於前 述絕緣膠帶兩面所形成之黏接劑。 26. 如申請專利範圍第25項之半導體裝置,其中前述第1 方向及前述第2方向大致成直角交又。 27. 如申請專利範圍第26項之半導體裝置,其中前述樹脂 密封體係四角形,前述多數個引線之外部引線係由前 述樹脂密封體之4邊向外突出’前述多數個支持引線 係由前述晶片裝載部之第丨部分及第2部分各自之兩 端部分向前述樹脂密封體之4個角部延伸。 28·如申請專利範圍第25項之半導體裝置,其中前述半導 體晶片之背面之一部分係與前述晶片裝載部之第丨部 分及第2部分黏接,前述半導體晶片之背面之其他部 分係與前述樹脂密封體直接接觸。 29·如申叫專利範圍第28項之半導體裝置,其中前述半導 體晶片係四角形,前述晶片裝載部之第丨部分及第2 部分各自之兩端部分,係配置於前述半導體晶片背面 之4個角部之附近。 30· —種半導體裝置,其特徵在於,具有: 半導體晶片,其具有主面及與前述主面對向之背 面’並於前述主面上形成有半導體積體電路及多數個 接墊; 第1支持引線,其支持前述半導體晶片,於第1方 向延伸; 第2支持引線,其支持前述半導體晶片,於與前述 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁}
    -9- 第丨方向不同之第2方向 線交又而形成; 且與…1支持引 多數個引線,其gpr蓄士,、,甘 ^ 置成以其一端包圍前述第1支持 線與前述第2支持引線之交又部; , 夕數個導電性細線,並得雷洛 二 /、係屯乳連接於前述多數個引 7 —袖及則述多數個接墊之各個; :脂密封體’其密封前述半導體晶[前述多數個 部分、前述第1及第2支持引線、及前述多 歎個導電性細線; 前述多數個引線之另端部分係從前述樹脂密封體露 出, 前述半導體晶片係配置於第i及第2支持之交 又部上, 則述半導體晶片之背面,係由黏接層固定於前述交 又部附近之前述第1及第2支持引線上, 可述黏接層,係包含作為基材之絕緣膠帶,及於述 &緣膠帶兩面所形成之黏接劑。 31·如申請專利範圍第30項之半導體裝置,其中所形成之 前述交又部附近之前述第丨及第2支持引線各個之寬 度,係較位於前述半導體晶片外側之前述第丨及第2 支持引線各個之寬度為寬。 32·如申請專利範圍第31項之半導體裝置,其中前述第i 方向及前述第2方向大致成直角交叉。 33·如申請專利範圍第32項之半導體裝置,其中前述樹脂 本紙張尺度適用中國國家榡準(CNS )以規格(2丨〇χ297公慶) 508702 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 密封體係四角形,前述第1及第2支持引線係由前述 交叉部向前述樹脂密封體之4個角部延伸。 34.如申請專利範圍第30項之半導體裝置,其中前述半導 體晶片之背面之一部分係與前述第1及第2支持引線 之交叉部黏接,前述半導體晶片之背面之其他部分係 與前述樹脂密封體直接接觸。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
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