498418 A7 ______B7___ 五、發明説明（！） 本發明係關於利用在接近大氣壓力之壓力下產生之電 漿蝕刻、質化、改質或成膜被處理材之表面而進行處理之 方法及其裝置•本發明尤關於使用在液晶顯示裝置之彩色 濾片及其製造方法*及具有定向膜之液晶面板及其製造方 法。 彩色液晶顯示裝置大多採用在構成液晶面板之透明電 極基板之各像素電極上分別形成R (紅）、G (綠）、 B (藍）等3原色之微彩色濾片，以液晶做爲光轉換器將 穿透該彩色濾片之色光混合而進行多色顯示或全色顯示之 方式。通常彩色濾片係堆叠顔料粒子，或由顔料粒子與樹 脂之混合物所形成，故其表面具有極大之凹凸•尤其 STN方式之液晶面板必須在彩色濾片上形成I TO ( Indium Tin Oxide)之膜，並且形成其圖型而形成透明電 極•因此*通常係以透明保護膜披覆彩色減片以達成其保 護及平坦化· 好浐部中央iri?->PJh工消費合作拉印^ (请先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 例如第2 1圖所示之構造之彩色濾片1 0 0在由透明 玻璃板所製成之支持體101上具有由3原色之像素集合 而成之著色層1 0 2，並在其上面形成有透明保護層 1 0 3 *在透明保護厝1 0 3上形成有由I TO膜製成之 透明電極1 0 4做爲液晶之驅動電極•透明保護層1 0 3 係將有機樹脂材料予以旋轉塗敷而印刷’形成於支持體 101及著色層102之全面上•在透明電極104之端 子部1 0 5上*於完成液晶面板後，將另外設置之帶載體 包封（T C P )或裝載於基板上之液晶鼴動電路，以各向 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS M4規格（210X297公釐） 498418 A7 ____B7___ 五、發明説明（2 ) 異性導電膜或各向異性黏著劑連接*但因爲端子部1 0 5 在其下方具有較軟之有機樹脂層，故容易因連接驅動電路 時產生之壓力而破裂*在將裝設之驩動電路因修補而取出 時，透明保護層1 0 3容易剝離· 爲了解決上述問題*第2 2圖所示之彩色濾片1 0 0 之透明保護層10 3係局部的形成*以便只披覆在透明支 持體1 0 1上之著色層1 0 2，並且於其上面形成透明電 極1 04 *因此，透明電極1 04之端子部1 05係直接 形成於支持體1 0 1上•第2 3圖所示之彩色濾片1 0 0 係在透明支持體1 0 1上直接形成透明電極1 0 4，以便 容易形成I T 0膜之圖型。這種型式之彩色濾片因爲在形 成於透明電極1 0 4上之著色層1 0 2之表面具有凹凸， 故在其上面同樣的披覆透明保護層1 0 3而將之平坦化* 以便容易放入液晶*而且防止發生液晶之定向不良。透明 保護層10 3係局部的形成，以便使透明電極1 0 4之端 子1 0 5露出。 如第2 2圖，2 3圖所示的局部的形成透明择護層 1 0 3時，係利用旋轉塗敷或印刷等在支持體1 0 1及著 色層1 0 2之全面形成有機樹脂材料之膜後，局部的去除 端子部10 5之方法*或開始即去除端子部1 0 5之部分 ，利用偏置印刷等將有機樹脂材料局部的成膜之方法•局 部去除有機樹脂膜之局部去除時*通常係使用光學石版印 刷技術或雷射· 在形成有液晶面板之電極圖型之透明電極基板表面設 本紙張尺度適用中國國家禚準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ........ - I-II ! riv^IH ill · In m ϋ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) --訂 Τ 498418 好浐部中吹il.卒而κX消費合作妇印裝 A7 B7 五、發明説明（3 ) 置定向膜•通常定向膜係與上述之彩色濾片之透明保護層 相同的，在基板全面上塗敷聚醯亞胺等有機樹脂材料後， 從透明電極之端子部上局部的去除，或利用印刷法將有機 樹脂材料從基板之端子部上去除而局部的印刷而形成· 然而，利用光學石版印刷技術形成透明保護層1 0 3 時，因爲必_須使用感光性材料*故含於其中之光反應開始 材在成膜後殘留於透明保護層1 0 3中•可能降低其耐熱 性。因此，可使用於透明保護層之樹脂材料受到限制•又 因爲透明保護層1 0 3之邊緣部1 0 6係如第2 2圖所示 的成爲垂直，故形成於其上之膜之I TO之覆蓋範圍不佳 *形成圖型後發生透明電極之斷線· 利用雷射局部的去除有機樹脂材料之方法其透明保護 層1 0 3之邊緣部容易受到損傷而剝落*使得耐久性降低 。在透明電極1 0 4上形成透明保護層1 0 3之膜時，不 容易.保留下層之I TO膜而只選擇性的去除上層之有機樹 脂材料*端子1 0 5容易受到損傷·尤其受激準分子雷射 時，裝置之價格髙，而且確保安全性所需之成本髙· 利用局部印刷形成透明保護層1 0 3時，必須使用適 合於這種圖型印刷之材料，必須使用揮發性少之溶劑，及 具有最佳粘性等條件*故能使用之材料受到限制*尤其在 該圖型印刷時，如第2 4圖所示，透明保護層1 0 4之邊 緣部10 6因樹脂材料之表面張力而鼓起，其膜厚成爲其 他部分之2倍以上*若鼓起部分之厚度t之尺寸大於液晶 面板之晶胞間隙時，必須研磨透明保護層1 0 3 ·即使厚 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 丁， -Φ 498418 A7 ________ B7五、發明説明（4 ) 度a小於晶胞間隙，該部分不能進行密封印刷•此外，整 個玻璃基板之尺寸變大，不能縮小液晶顯示裝置之形狀。 此外，在局部印刷法中，不容易確實而且充分的確保透明 保護層1 0 4之平坦度，而且基板表面受到樹脂材料熱硬 化時放出之有機物之污損· 尤其利用將顔料粒子進行膠體分散之膠束水溶液之電 解形成著色層之所謂膠束彩色濾片時，因爲著色層具有導 電性，故必須將形成於其上之透明保護層形成爲薄於通常 之彩色濾片之膜厚（1#ιη以上），最好爲〇· 1〜 0. 4左右之膜厚，故技術上不容易採用局部印刷法 〇 另一方面，目前已在各種領域中利用以電漿處理被處 理材表面之技術·利用這種電漿表面處理亦可將該透明保 護層所使用之有機樹脂材料之薄膜灰化而去除*然而，習 用之電漿表面處理方法通常係在真空中或減壓之環境下進 行電漿放電，使用因此而產生之活性種，故需要使用真空 室等特別裝置及設備，其處理能力低，而且不容易處理大 面積*成本增髙•又因爲在真空中*產生之基（Radical )之平均自由過程較長，擴散較大*故不適合於形成上述 彩色濾片之透明保護層時等只進行限定之領域之局部表面 處理· 最近已開發出一種利用在接近大氣壓力附近之壓力下 進行電漿放電而產生之激起活性種處理被處理材表面之技 術。在大氣壓力下進行電漿表面處理時，不必使用真空設 本纸張尺度適用中國國家^準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ~ mi 11% —ϋ IP ϋϋ HI —^ϋ nn n (誚先閱讀背面之注意事項再硪寫本頁) 訂 498418 好浐部中央ii.^*>TJh工消费合作妇卬¾ A7 ___ _B7__五、發明説明（5 ) 備*可簡化及縮小裝置之形狀，可實現線上化及連績處理 ，可提髙生產性*降低成本·例如在特開平6 - 2 1 49 號中揭示之表面處理裝置係在柑隔一定距離對向配置之一 對圓板狀電極間進行放電，將放電氣體經由多孔質介電質 分散於全部放電領域，一次處理配置在電極間之被處理物 之廣大表面？特願平7 — 1 0 7 1 0 7號中掲示之其他習 用表面處理裝置係具有細長直線狀電極之所謂之線型，係 掃描在其正下側相對的移動之被處理材之表面進行處理。 爲了防止異常放電而在由介電質包圍之該電極與被處理材 之間進行放電，從該電極之下面開口使放電氣體噴出於放 電領域，利用其激起活性種連績的處理被處理材表面· 然而，習用之大氣壓電漿表面處理方法及裝置之主要 目的係如上所述，在短時間內進行較大面積之表面處理， 不能局部的，選擇性的處理被處理物表面*因此，若將習 用之利用大氣壓電漿之表面處理應用於彩色濾片之透明保 護層之形成時，則將玻璃板之全面予以表面處理，將透明 保護層全部灰化而去除· _ 形成液晶面板之定向膜時，若在液晶面板全面形成定 向膜，則因爲定向膜與密封劑之密接性不佳，可能降低液 晶面板之可靠性•若從液晶面板之密封部分局部的去除定 向膜時*若使用光學印刷技術，則可使用之感光性材料受 到限制•若使用雷射•則不但去除定向膜*連透明電極亦 被去除•其他有在裝組液晶面板後進行該電漿處理，將露 出於外部之定向膜之部分灰化而去除之方法•但通常其生 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 498418 A7 B7 五、發明説明（6 ) 產性皆不佳*而且電漿可能損傷液晶面板之其他部分•定 向膜之局部印刷限定可使用之材料· 本發明之目的爲提供一種可解決上述問題》可利用在 接近大氣壓之壓力下產生之電漿局部而選擇性的處理被處 理物之表面之表面處理方法及其裝置· 本發明之其他目的爲提供一種利用以大氣壓電漿進行 之局部表面處理從透明電極之端子部局部的去除透明保護 層，具有髙度平坦性•容易形成透明電極，不容易發生斷 線，可造性髙之彩色濾片*及不限制透明保護層之材料* 可低成本的而且簡單的製造彩色濾片之方法· 本發明之另一目的爲利用以大氣壓電漿進行之局部表 面處理，從透明電極之端子部局部的去除定向膜*具有髙 度平坦性，可確保液晶定向性之均勻性之液晶面板，及不 限定定向膜之材料可低成本而且簡易的製造這種液晶面板 之方法· 好浐部中央41準而β工消费合作ii卬« (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) Φ 本發明之表面處理方法可達成上述目的•其特徵爲包 括：在大氣壓及其附近之壓力下，於電極與被處理材之間 產生氣體放電，利用該氣體放電產生一定之氣體之激起活 性種*將被處理材表面曝露於該激起活性種而進行表面處 理之過程；及在該被處堙材表面上設置掩罩裝置而限制處 理領域之過程· 在接近大氣壓力之壓力下時，與在真空中或減壓環境 下比較，電子之平均自由過程較短*而且容易由一定之氣 體之分子妨礙激起活性種之運動•因此•激起活性種之移 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 9 好浐部中央iT.率而於工消費合作扣印$» 498418 A7 _ B7__ 五、發明説明（7 ) 動容易受掩罩裝置之限制*可選擇性的只處理被處理材表 面之所需領域•又適當的選擇而且適當的設定該一定氣體 之放電條件》即可進行蝕刻，灰化*濕潤性改善等表面改 質*薄膜之形成等各種表面處理•在此》所謂蝕刻係指去 除金靥及無機物，所謂灰化係指利用氧化去除有機物· 在某一實施例中，係使掩罩裝置接觸被處理材表面設 置•如此，被處理材表面與掩罩裝置所接觸之領域及其外 側之領域與該氣體之激起活性種完全隔離，故可以髙精確 度選擇性的只在需要處理之領域上進行表面處理•在其他 實施例中*將掩罩裝置設置在與被處理材表面之間*與其 保持微小間隙•將該間隙設定爲激起活性種不能浸入或通 過其中擴散至外部之程度，即可進行被處理材表面之選擇 性局部處理，而且可防止掩罩上之污損轉印至其上，或損 傷被處理材表面等問題•可對付各種材質之被處理材。 在被處理材表面與掩罩裝置之間設置間隙時，可將該 一定之氣體噴出至該間隙內供給於氣體放電之產生領域* 如此，不但可防止大氣混入放電領域內，又可防止激起活 性種侵入間隙內及擴散至外部•因此，可以更髙之精確度 及髙效率穩定的處理被處理材表面之所需領域· 在某一實施例中，該間隙係預先決定對放置被處理材 之台架之掩罩裝置之髙度位置，而以機械方式決定掩罩裝 置之位置而形成•此時*不必使用複雜之定位機構，可簡 單的形成間隙•在其化實施例中，以光學方式檢測掩罩裝 置與被處理材表面之距離，即可決定該間隙•如此，不受 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ▼裝· 訂 -10 - 498418 經浐部中央榀準而公h消费合作扣卬繁 A7 ___B7五、發明説明（8 ) 被處理材厚度》形狀之不均勻之影響，可經常形成一定之 間隙*確保均勻之表面處理•又如上所述，經由間隙供給 該一定之氣體時，檢測噴出於間隙內之氣體壓力即可決定 間隙之大小•如此，不但可防止激起活性種侵入間隙中· 同時可對應於被處理材之厚度及形狀之不均勻經常形成一 定之間隙· _ 依照本發明之另一側面，可提供一種具有在大氣壓力 及其附近之壓力下*與被處理材之間產生氣體放電之電極 ，及將一定之氣體供給於該氣體放電之產生領域中之裝置 ，又具有用來限制曝露於由該氣體放電而產生之該氣體之 激起活性種之該被處理材表面之領域之掩罩裝置爲特徵之 表面處理裝置。該裝置可利用該掩罩裝置只在被處理材表 面之被限制之領域內選擇性的進行利用在接近大氣壓力附 近之壓力下產生之電漿之表面處理· 掩罩裝置與被處理材之表面接觸，或與被處理材表面 之間保持微小間隙配置•使掩罩裝置接觸時•將其前端部 形成爲細楔狀*減小與被處理材表面之接觸面稹·則可減 少掩罩裝置上之污損轉印至被處理材表面之問題•掩罩裝 置通常係以絕緣體材料，例如矽橡膠、鐵弗龍、玻璃等介 電質形成，以防止其對氣體放電之產生造成影響· 在另一實施例中，以金靥等導電體形成掩罩裝置之全 部或一部分，做爲接地電極使用•如此*可將氣體放電之 範圍控制於掩罩附近之領域*故可提髙局部表面處理能力 *尤其在非接觸型掩罩裝置時，可控制氣體放電不擴散至 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (请先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -11 - 498418 A7 ____B7^_五、發明説明（9 ) 掩罩裝置與被處理材間之間隙中· 非接觸型掩罩裝置上設置開口於間隙之氣體噴出口， 即可將一定之氣體從該氣體供給裝置經由該間隙供給於放 電領域•如此，與氣體噴出口開口於放電領域之構造比較 ，不但可有效的阻止激起活性種侵入間隙內，而且無面向 放電領域露出之角之部分*故可減少放電所造成之顆粒之 產生，及因而污損被處理材之問題·可提髙局部表面處理 能力。 另一實施例中，可具有使掩罩裝置與放置被處理材之 台架之接近與離開之驅動機構•預先設定掩罩裝置之髙度 位置，配合該位置移動掩罩裝置，即可機械式的決定與被 處理材表面之間隙*故重視性佳*而且構造及操作簡單· 可降低成本。若設置偵測器而測定掩罩裝置與被處理材表 面之間隔時，不會受到被處理材之厚度及形狀之不均勻之 左右，可經常維持一定之間隙，可確保均句之表面處理· 非常有利。將上述氣體供給裝置一體化之該非接觸型掩罩 裝置中，可設置用來檢測噴射於間隙內之氣體Μ力之壓力 偵測器，以取代該光學偵測器•該壓力偵測器係利用對應 於間隙之大小發生變化之該氣體之壓力決定所需之間隙· 此時，因爲可用1個結構同時進行對放電領域之氣體供給 及適當之間隙之形成· 將該電極形成爲細長直線狀，而且將該掩罩裝置沿著 該電極延長的設在其全部長度上，即可將被處理材表面分 隔成直線狀而進行所需之處理•若沿著電極兩側設置這種 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 零裝· 訂 Φ -12 - 498418 A7 — _B7 五、發明説明（10 ) 掩罩裝置•即可將被處理材表面限定爲細長直線狀領域進 行處理· (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 該電極之外面以介電質披覆》即可防止發生異常放電 *及因此而造成之被處理材或台架之破壞或損傷·將掩罩 裝置與該介電質形成爲一體後，即可與該電極成爲一體化 *可將有關被處理材之電極及掩罩裝置之位置同時設定於 適當位置•若以多孔質體形成面向氣體放電之產生領域之 該介電質部分*而且經由該多孔質導入一定之氣體時，該 氣體均勻的分配於放電領域，故激起活性種之分布及因此 而造成之表面處理成爲更均勻· 若在該電極兩旁設置掩罩裝置及在相反側開設排氣口 *則可強制的從放電領域排出已使用之氣體，可防止從被 處理材表面去除之物質等再附著，可正確的表面因放電而 產生之臭氧，非常理想· 好浐部中央ir^-而h工消合作杉印黧 依照本發明之另一側面，可提供一種由透明支持體， 設在該支持體上之著色層，及透明保護層及透明電極所構 成之液晶面板之彩色濾片之製造方法•其特徵爲包括：將 掩罩裝置配置成將對應於該透明電極之端子部之位置之透 明保護層之邊緣部分與該透明保護層之其他部分分隔之狀 態，在大氣壓及其附近之壓力下，於電極與該透明保護層 之間產生氣體放電，利用該氣體放電產生一定之氣體之激 起活性種•將透明保護層之該周邊部分選擇性的曝露於該 激起活性種而去除之過程· 如此，使用材料不會受到限制*可利用旋轉塗敷，輥 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公嫠） ' -13 - 498418 A7 _ B7 五、發明説明（n ) 塗敷，印刷法等將透明保護層之膜形成於支持體之全面， 故可解決上述問題而形成平坦之透明保護層*而且可髙精 確度的去除局部透明保護層*又可簡化全部過程，降低成 本*而且，在透明保護層上形成透明電極之彩色濾片中， 由於大氣壓電漿之表面處理*透明保護層之邊緣部成爲圓 弧狀，故容易形成透明電極，其覆蓋範圍良好，故形成圖 型後亦不容易發生斷線，可製成可靠性髙之彩色濾片· 因此•依照本發明，可提供一種以具有透明支持體， 及形成於該支持體上之著色層*透明保護層，及透明電極 ，該透明保護層係將掩罩裝置配置成將對應於該透明電極 之端子部之周邊部分與其他部分分隔之狀，而且在大氣® 力及接近大氣壓力之壓力下在電極與該透明保護層之間產 生氣體放電*選擇性的曝露於因氣體放電而產生之一定之 氣體之激起活性種而去除，藉此去除透明電極之端子部的 局部形成爲特徵之彩色濾片· 好浐部中夹柊率/;B-T消费合作私印^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 因此*在設置於支持體上之著色層上形成透明保護層 ，而且在其上面形成透明電極之彩色濾片中，只有透明電 極之端子部直接在支持體上成膜•在支持體上直接形成透 明電極而且在設置於其上之著色層上形成透明保護層之彩 色濾片中，只有直接成膜之透明電極之端子部露出於支持 體上•任何狀態下*皆可簡易在液晶面板上裝配及拆除驅 動電路· 依照本發明•可提供一種在設有透明電極之透明基板 上全面形成定向膜*將掩罩裝置配置成將對應於該透明電 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -14 - 498418 好浐部中央柊苹乃只工消費合作私印絮 A7 __B7五、發明説明（12 ) 極端子之位置之定向膜之部分與該定向膜之其他部分隔離 之狀態，在大氣壓力及接近大氣壓力之壓力下，於電極與 該定向膜之間產生氣體放電，利用氣體放電產生一定氣體 之激起活性種*將定向膜之該部分選擇性的曝露於該激起 活性種而去除之過程所構成爲特徵之液晶面板之製造方法 0 如此，所使用之材料不受到限制•可利用旋轉塗敷* 輥塗敷，印刷法等在透明基板全面形成平坦之定向膜，而 且可以髙精確度局部的*不損傷液晶面板之其他部分的從 透明電極之端子部容易的去除定向膜•因此，可簡易而且 以低成本製造確保液晶之定向性之均勻性之液晶面板· 依照本發明，可提供一種以具有透明電極，及設在其 上之透明電極及定向膜，將定向膜局部的形成*以便將掩 罩配置成將對應於該透明電極之端子部之周邊部分與其他 部分隔離之狀態，而且在大氣壓力及其附近之壓力下，於 電極與該定向膜之間產生氣體放電，將該周邊部分擇擇性 的曝露於因氣體放電而產生之一定之氣體之激起活性種而 去除，藉此使透明電極之端子部露出爲特徵之液晶面板· 以下說明本發明之實施型態•第1圖表示本發明之表 面處理裝置之較佳實施例·表面處理裝置1具有連接於支 流電源2之立方體型之細長電極3·在電極3下面之長度 方向之全長位置突設有朝向下方成爲平行之同一形狀及尺 寸之2個放電產生部4，5 ·在電極3之下部之全長位置 裝設有介電質6 ·兩個放電產生部4，5之間•由該介電 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -15 - 498418 A7 B7 五、發明説明（13) 質分隔中空室7 »而且連通於開口在電極3上面之氣體導 入口 8 ·在介電質6之中央，電極3之全長位置形成有從 中間空室7朝向下方開口之細直線狀氣體噴出口9· 在介電質6之下面，沿著氣體噴出口 9，於電極3之 全長位置突設有延長成直線狀之掩罩10·本實施例之掩 罩1 0之下面成爲與介電質下面平行之矩形斷面，而且由 石英玻璃形成•掩罩10可與介電質6形成爲一體9亦可 將分別形成之個體結合成一體•掩罩10之材料只要是配 合目的之表面處理而對放電時產生之激起活性種之耐久性 髙之材料，則可使用石英玻璃以外之玻璃材料》絕緣體材 料，例如矽橡膠•氟樹脂*陶瓷材料等介電質* 在表面處理裝置1之下方設置被處理材料，例如電路 基板或晶圓。如第2圖所示，電極3係配置成掩罩1 0之 下面接觸被處理材1 1表面，以掩罩爲分界將被處理材表 面之需要處理之領域11A與其他領域完全隔離至電極側 。在此狀態下*將適合進行所需表面處理之一定之氣體從 外部氣體供給源經由氣體導入口8供給於中間空室7內， 從氣體噴出口 9噴出至被處理材表面•在此同時·從交流 電源2施加一定電壓於電極3·在該兩個放電產生部與被 處理材1 1之間產生氣體放電*在介電質6下面與被處理 材表面之間隙內產生因該放電而產生之電漿所造成之一定 氣體之激起活性種•被處理材表面因該激起活性種被掩罩 1 0妨礙而不能流出於外側，只有其內側之領域1 1 a選 擇性的曝露而被處理•此時*因爲掩罩1 0對電極3或放 本紙張尺度通用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） —.—.----— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -16 - 498418 A7 B7 五、發明説明（14) 電產生部4之位置因爲使用之氣體種類，其流量，電壓等 之放電條件而放電領域之範圍及處理能力不同，故配合其 條件適當的設定· 第3圖所示之變更例中，掩罩1 0成爲楔狀形斷面， 而且其前端10A朝向下方設在介電質6下面•掩罩10 係將前端10A接觸被處理材1 1表面配置，以便將領域 1 1 A從其他領域隔離•此時，掩罩1 0與被處理材表面 之接觸面積較第2圖所示顯著的減小*因此，附著於掩罩 上之灰麈及污損不容易轉印至被處理材表面·如此，可減 小與被處理材表面之接觸面積之掩罩之形狀不限制於上述 之楔狀，亦可形成爲薄板狀分隔壁，或將掩罩前端形成爲 圓弧狀以免損傷被處理材表面》可使其稍微具有寬度* 利用第1圖所示之表面處理裝置進行從被處理材表面 局部的灰化亞克力樹脂薄膜之實驗•被處理材係使用蘇打 玻璃表面形成厚度0. 2 之亞克力樹脂（日本合成橡 好浐部中夹桴率而只工消費合作ii卬繁 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 膠公司製SS1121)之材料•掩罩10係以矽橡膠形 成，如第4圖所示，使其與被處理材1 1之亞克力樹脂膜 1 2表面接觸•從該外部氣體供給源供給每分鐘2 0公升 之氦，及每分鐘2 0毫公升之氧之比率之放電氣體’產生 氣體放電· 結果，只在3 0秒內即可從被處理材1 1表面之領域 1 1 A局部的灰化亞克力樹脂膜1 2 ·結果可局部灰化成 亞克力樹脂膜12之較掩罩10更內側之部分完全被去除 ，而且如第4圖所示*掩罩1 0正下方之部分之角部彎曲 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 一 -17 - 498418 好浐部中决«.準而：^工消赍合作^印« A7 B7五、發明説明（15) 成凸狀之傾斜狀•本發明中，因爲在大氣壓力下或其附近 之壓力下進行氣體放電，故與在真空中或減壓狀態下進行 氣體放電比較，電子之平均自由行程短，而且該激起活性 種之運動容易被氣體分子阻礙•該傾斜狀部分可能係激起 活性種之運動較真空或減壓時緩和而形成•傾斜部分12 A之寬度大約爲4 0 0 ，可以極髙之精確度進行灰化 〇 如第5圖所示*使用第1實施例之表面處理裝置之其 他實施例中，將電極3配置成掩罩1 0之下面不接觸被處 理材1 1之表面，在與該表面之間保持微小間隙1 3，而 且將所需之領域11A與其他領域隔離至電極側·將一定 氣體從氣體噴出口 9噴出至被處理材1 1表面》同時在電 極3上施加一定之電壓，在放電產生部4，5與被處理材 1 1之間產生氣體放電*產生該一定氣體之激起活性種· 如上所述*本發明因爲在大氣壓力或其附近之壓力下 進行氣體放電，故與在真空中或減壓下進行氣體放電比較 ，電子之平均自由行程較短》而且電漿之密度小，而且激 起活性種之運動被氣體分子阻礙•因此，本實施例中，將 該間隙之大小a當的設定爲較小，即可有效的阻止激起活 性種侵入間隙1 3中，及從該間隙擴散至外部•被處理材 1 1表面不會意外的被處理至掩罩1 0之下側部分，而且 不會降低處理速度，可選擇性的而且髙效率的只處理所 需之領域11A* 第5圖中，將掩罩1 0與被處理材1 1表面之間隙量 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ).A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -18 - 498418 A7 B7 五、發明説明（16) a，掩罩1 〇之髙度b，介電質6下面與被處理材1 1之 距離c設定爲各種不同數值*利用第1實施0!|之表面處理 裝置進行局部灰化實驗•放電氣體係與第3圖相同的*使 用每分鐘2 0公升之氦，每分鐘2 0 0毫公升之氧之比率 •第1表中表示其結果•表1中，以符號〇表示傾斜部 1 2 A之寬度爲7 0 0 以下，灰化之直線性爲3 0 0 从m以下，亦即局部灰化精確度爲1 mm以下之狀態之氣 體•所謂灰化直線性係以產生於灰化部分之長度1 5 c m 之範圍內之波浪狀之大小表示·局部灰化之精確度爲1 mm以下係指在液晶面板之製造時，可充分滿足面板組立 所需之精確度2mm之數值，在實用上表示髙精確度· (諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) MM部中央犹卑而只X消費合作ii卬繁 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -19 - 498418 A7 B7 五、發明説明（17) 好浐部中央极窣而h-T消资合作沿印掣 AP實驗（非連接型掩覃） 表1 蝕刻 時間 (秒） He置 (1/nin) 〇2置 (nl/nin) 尺寸（) 蝕刻 位準 傾斜度 (μ) 直線性不均勻R(m) /直線距離（cm) (a) (b) (c) 180 20 200 0.4 2.0 2.4 〇 0.55 0.10/15 t t t t t t 〇 0.68 0.08/15 t t t 0.2 t 2.2 〇 0.53 0.12/15 t t -t 0.6 t 2.6 〇 0.58 0.27/15 t t t 0.8 个 2.8 X 一 26/15 t t t 1.0 t 3.0 X — 30/15 个 t t 0.7 t 2.7 X 一 25/15 t t t 0.4 t 2.4 〇 0.54 0.09/15 个 个 t 0.55 个 2.55 〇 0.42 0.10/15 45 t t 0.6 t 2.6 〇 0.51 0.03/15 30 t t t 个 t 〇 0.59 0.02/15 45 t t 0.4 个 2.4 〇 0.42 0.05/15 30 t t t t t 〇 0.51 0.07/15 45 t t t 4.0 4.4 X t t 个 t 3.0 3.4 〇 0.65 0.10/15 个 个 个 个 1.1 1.5 X 30/15 (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T ♦ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -20 - 498418 好浐部中央«.準而只工消費合作；^印^ A7 B7五、發明説明（18) 由表1中可知，若掩罩1 0之高度b，介電賢下面與 被處理材之距離c爲可放電之適當大小時*將掩罩與被處 理材表面之間隙13之大小a設定爲0. 6 mm以下，即 可由掩罩1 0有效的阻止氣體之激起活性種*只有被處理 材表面之所需領域曝露於該氣體之激起活性種，結果可進 行高精確度之局部灰化· 第6圖表示本發明表面處理裝置之第2實施例•該表 面處理裝置1 4具有垂直的立設於金靥板上之電極1 5， 及包覆其下部之介電質1 6。在介電質1 6之包覆電極 1 5而相對之一部分1 7之下面*沿著其全長突設有與該 電極平行之掩罩18·本實施例之掩罩18與第1實施例 之掩罩1 0相同的成爲矩形斷面狀，而且以石英玻璃與介 電質1 6形成一體·在該一方之相對部分1 7及掩罩1 8 之中央形成有沿著該電極朝向下方開口之細直線狀噴氣口 1 9。在相對部分1 7之上部之全長位置裝設有分隔連通 於該氣體噴出口之中間空室2 0之金屬塊2 1 ·在金屬塊 2 1上面設有從外部氣體供給源將一定氣體導入中間空室 20內之氣體導入口22。 如第7圖所示*表面處理裝置1 4係由掩罩將該被處 理材之所需處理領域1 1 A與其他領域隔離至電極側，而 在配置於其正下方之被處理材11表面與掩罩18下面之 間保持微小之間隙2 3 ·間隙2 3之大小與第5圖相同的 設定爲0. 6 mm以下較佳·從該外部氣體供給源供給之 一定之氣體從氣體噴出口 1 9通過間隙2 3被導入由該掩 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2ωχ297公釐） — -.I—.--,I — •裝--I (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 .•Ί. -21 - 498418 A7 ___ ___B7 五、發明説明（19) 罩隔離之電極15與被處理材之領域11A之間之空隙中 • 一部分氣體從間隙2 3流出至與電極1 5相反側· 在電極1 5上施加一定電壓而在與被處理材11之間 產生氣體放電後，由於電漿，使得放電領域2 4內產生該 氣體之激起活性種•本實施例中，該激起活性種受到噴出 於間隙2 3內之該氣體阻礙，可如第5圖所示的確實阻止 其侵入該間隙中*或從間隙搶散至外部•因此*該被處理 材只有所需領域11A被選擇性的處理•本實施例之介電 質1 6因爲經由間隙2 3導入氣體，故不必設置第1實施 例中之氣體噴出口 9等面對放電領域2 4直接開口而尖銳 之角之部分*而可減少產生因放電而造成之顆粒，故可顯 著的減少其所造成之被處理材之污染及表面處理裝置之污 損· 經浐部中央扰挲而Ρ工消於合作衫卬裝 (誚先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 第8圖表示第2實施例之表面處理裝置14之變更例 。該變更例中1至少在氣體噴出口附近與電極側成爲傾斜 的設置連通氣體噴出口 1 9與中間空室2 0之氣體通路 25。如此，從間隙23將氣體導入放電領域2 4中時， 可更順利的髙效率的導入•此外，從間隙流出於外部之氣 體量減少*因此，可更精確的而且簡單的控制放電所使用 之氣體流量· 第9圖所示之其他變更例中，在介電質16上*與掩 罩1 8相反側之相對部分2 6內設置開口於其下面之排氣 通路2 7 ·從氣體噴出口 1 9通過間隙2 3導入放電領域 2 4內之氣體在流出該放電領域後，不會擴散至大氣中， 冢紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格(210Χ297公釐） -22 - 498418 A7 B7 五、發明説明（20) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 而從排氣通路2 7強制的被排出•排氣通路2 7例如沿著 第7圖所示之介電質16之與掩罩18相反側之側面相距 一定間隔配設介電質之分隔板即可簡易的形成· 依照本實施例，將排氣構造設置成與表面處理裝置成 爲一體化而且從放電領域附近排氣之狀態，故可縮小全部 裝置之形狀，而且可防止放電時產生之臭氧放出至大氣中 •又因可防止大氣從與掩罩1 8相反側侵入放電領域2 4 中，故可提髙放電之穩定性* 第10圖第示第6，7圖所示之第2實施例之表面處 理裝置之其他變更例•該實施例之介電質16亦在電極 1 5兩旁之相反側之相對部分2 6上突設與相對部分1 7 之掩罩1 8相同之掩罩2 8 ·該兩個掩罩形成爲同一形狀 而且相距間隔d成爲平行•掩罩2 8之下面設有與掩罩 1 8相同之氣體噴出口 2 9 »而該噴出口開口於與被處理 材 1 1表面之間之間隙3 0內·兩口氣體噴出口內從外部氣 體供給源分別供給一定氣體· 好浐部中夾ir卑>PJoi消費合作妇卬$1 本實施例中，如第1 0圖所示，將電極1 5配置成以 掩罩1 8 * 2 8從兩側限制被處理材1 1表面之所需領域 11A之狀態•在電極15上施加一定電壓而進行氣體放 電，同時從各該氣體噴出口經由間隙2 3，3 0將氣體導 入放電領域2 4中•本實施例中•雖然從氣體噴出口噴出 之一部分氣體從該間隙流出於外部，但因爲放電領域2 4 從外部由2個掩罩隔離，故可極精確地而且髙效率地進行 本紙張尺度適月Γ中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -23 - 498418 妗浐部中决«.卑而力工消費合作ίι印繁 A7 B7五、發明説明（21) 表面處理，將領域1 1 A處理成由距離d決定之所需寬度 之直線狀β 2個掩罩1 8，2 8間之距離d可配合需要進行表面 處理之領域1 1 A之寬度適當的設定•亦可將本實施例與 第9圖所示之實施例組合*將一方之氣體噴出口（例如1 9 )直接用爲氣體導入用，而將另一方之氣體噴出口（例 如2 9 )變更成氣體排出用*此時，與第9圖所示之實施 例比較*因爲排氣側由掩罩與外部隔離，故可確實防止排 氣污染大氣及大氣混入放電領域中· 本實施例中，爲了處理一定寬度之直線狀領域1 1 A ，只在該領域兩側配置掩罩，但在其他實施例中*亦可用 掩罩包圍處理領域之全周•著配合掩罩及視需要將電極之 平面形狀配合處理領域之外周形狀變更時，不只可進行上 述直線狀表面處理，在處理廣大面積時亦可進行有效之表 面處理· 第11圖表示本發明之表面處理裝置之第3實施例* 第3實施例之表面處理裝置31與第6圖之第2實施例比 較，在電極3 2下部裝設介電質3 3，而且其中之一方之 相對部分3 4之下面設置掩罩3 5之處相同*但掩罩3 5 係由接地之導電體形成，而具有對電源電極3 2之接地電 極之功能之處不相同•在掩罩3 5之下面形成有氣體噴出 口 3 6，將經由介電質之相對部分3 4及設在掩罩內之通 路供給之一定之氣體噴出至掩罩3 5與被處理材1 1間之 間隙3 7中· (誚先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 好浐部中央414^而h工消費合作ίι印^ 498418 A7 B7 五、發明説明（22) 在實施例中，在該電源電極上施加一定之電壓後•氣 體放電發生於電源電極3 2與被處理材1 1表面之間*尤 其集中發生於該電極與掩罩3 5之間*可將放電領域3 8 限制在較第6圖所示第2實施例更狹小之空間內·因此， 可抑制該氣體放電擴散至間隙3 7 *可更提髙局部表面處 理之精確度·尤其在處理被處理材11表面之極小領域時 非常有利· 第1 2圖表示第3實施例之變更例·該例中•掩罩 3 5之一部分3 9由導電體形成爲接地電極*其他部分由 與介電質3 3相同之絕緣體所形成•因爲導電體部分3 9 係設在不直接面對放電領域3 8之位置，故與第1 1圖比 較，氣體放電之範圍較大· 第1 3圖表示本發明表面處理裝置之第4實施例•本 實施例之表面處理裝置40係由形成在裝設於電極41下 部之介電質4 2之內面與該電極前端之間之空隙在該介電 質內部形成氣體導入通路4 3 *氣體導入通路4 3係設在 該電極之全長位置•而從設置於介電質4 2上部之氣體導 入口 4 4供給一定之氣體·介電質4 2之下面係由分隔氣 體導入通路4 3與外部之介電質所形成之多孔質板4 5製 成•因此，供給於氣體導入通路4 3內之該氣體通過多孔 質板45從該介電質下面均勻的供給於放電領域46全部 •在介電質4 2之一方之相對部分4 7之下面突設有與上 述各實施例相同之掩罩4 8 ·以該掩罩將被處理材1 1表 面之領域11A與其他領域分離而進行表面處理· 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 寶. 訂 25 498418 A7 ___ B7 五、發明説明（23) 如此均勻的供給氣體，可使產生於放電領域4 6內之 該氣體之激起活性種之分布成爲更均勻，故可將領域1 1 A更均勻的表面處理•此外，與第2實施例之表面處理裝 置相同的，不必設置如第1實施例中面對放電領域直接開 口或構成光銳角之部分，故可明顯的減少因放電而產生之 顆粒，及因而造成之被處理材之污染及表面處理裝置之污 損•本實施例對處理廣大面稹之表面時特別有效•第13 圖中*係在掩罩4 8與被處理材1 1表面之間設置間隙* 但亦可如第2實施例所示，使掩罩4 8之下接觸被處理 材表面而進行處理* 好浐部中央ir卑而公工消費合作拉印^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 第1 4圖表示將上述本發明之表面處理裝置定位於被 處理材用之驅動機構4 9 ·驅動機構4 9具有放置被處理 1 1之台架5 0 *及支持表面處理裝置5 1之外殻5 2 · 外殻5 2係由垂直的設在台架5 0之4個角落之4條柱體 5 3，及連結各柱體之上端之水平之4支樑5 4形成箱型 之框架。在外殻5 2上，水平狀之支持框架5 5可沿著柱 體5 3上下移動·表面處理裝置5 1之上部固定在支持框 架5 5之中央*在各柱髖5 3外周面形成有螺紋5 6，而 與其嚙合之齒輪機構5 7及連結於該齒輪機構驅動之電動 馬達5 8分別設在支持框架5 5上·表面處理裝置5 1之 下端設有由電源電極及裝設在其下部之介電質所構成之電 極部5 9 · 電極部5 9在各電動馬達5 8使支持框架5 5昇降時 *與被處理材1 1接近或離開•電動馬達5 8可控制該支 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -26 - 498418 好浐部中央ir.準而只η消費合作ii印聚 A7 B7五、發明説明（24) 持框架之移動而使朝向下方突設於電極部5 9之掩罩6 0 接觸於被處理材11表面之一定位置或在與該表面之間形 成適當之間隙*本實施例中·由於上述簡單之構造，可藉 著預先決定支持框架5 5對台架5 0之髙度位置而將電極 部59，亦即掩罩60經常定位於相同髙度•電動馬達 5 8之控制係利用手動或利用微電腦自動的控制·自動控 制時，將支持框架5 5之髙度位置預先設定在微電微上* 即可進行更正確之定位* 對被處理材1 1表面之電極5 9，亦即掩罩6 0之定 位時，可利用第1 5圖或1 6圖所示之間隙檢測機構*更 正確的進行•第1 5圖所示之間隙檢測機構具有裝設在電 極部5 9之掩罩6 0側之側面之光偵測器6 1 ·光偵測器 6 1係檢測從例如半導體雷射等發光元件發射而在被處理 材1 1表面反射之光線》測定與該表面間之距離之公知之 偵測器。光偵測器6 1經由電纜6 2連接於電動馬達5 8 之驅動控制部•該驅動控制部根據從光偵測器6 1輸入之 信號控制電動馬達5 8，正確的調整掩罩6 0與被處理材 1 1間之實際間隙。利用該光檢測器之間隙檢測機構包括 使掩罩接觸被處理材表面時在內•皆可應用於上述全部實 施例之表面處理裝置· 第1 6圖所示之間隙檢測機構之電極部5 9在掩罩 6 0與被處理材1 1表面之間形成間隙6 0A而且將氣體 噴出於該間隙內•亦即使用在與第2實施例相同之表面處 理裝置上•亦即電極部5 9在裝設於電極6 3下部之介電 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 27 498418 A7 _B7 五、發明説明（25) 質6 4中之一方之相對部分6 5內設置連通於氣體噴出口 6 6之氣體導入通路6 7 ·在相對部分6 4之側面裝設有 例如使用膜片製成之半導體壓力偵測器等公知之壓力偵測 器6 8 ·壓力偵測器6 8將通過該氣體導入通路內之氣體 之壓力在較靠近氣體噴出口 6 6之位置經由通孔6 9測定 〇 該氣體導入通路內之氣體壓力因間隙6 2之大小而發 生變動•壓力偵測器6 8檢測該氣體壓力之變動，在達到 一定以上之壓力時，經由電纜7 0將信號供給於電動馬達 5 8之驅動控制部•驅動控制部根據壓力偵測器6 8所產 生之輸入信號控制電動馬達5 8，正確的調整掩罩6 0與 被處理材1 1間之實際間隙•本實施例中*可由1個結構 同時進行供給氣體於放電領域及正確的形成間隙*如此， 使用測試與被處理材表面之距離之偵測器，即可對應於各 被處理材厚度之不同*反翹，傾斜等所造成之被處理材表 面之高度變動，將實際間隙經常正確的設定於所需大小· 依照本發明之表面處理方法及裝置*可適當的選擇使 用之氣體種類而進行提髙濕潤性等表面改質，蝕刻，灰化 等各種局部表面處理*該局部表面處理技術可應用於各種 技術領域*尤其對需要以髙精確度進行微細表面處理加工 之半導體，電子機器之領域非常有效•依照本發明，可利 用上述局部表面處理技術製造液晶面板· 第1 7圖中依照過程順序表示本發明之液晶面板用彩 色濾片之製造方法•首先*如第1 7A圖所示•在透明玻 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)i\4規格（2H)X297公釐） —.—,-------'—^I訂------ (#先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -28 - 498418 A7 B7 五、發明説明（26) 璃基板7 1表面形成著色層7 2 ·著色層7 2係由依次配 置R (紅）、G (綠）、B (藍）等3原色之許多像素 7 3及分隔各像素之黑色矩陣（以後稱BM) 7 4所構成 •像素7 3及BM7 4係利用公知方法，例如顔料分散法 對各色重複的進行將分散色素之抗光液塗敷在玻璃基板 7 1表面，_進行圖型曝光，顯像之過程而形成•著色層 7 2亦可用染色法，印刷法等其他方法同樣的形成· 然後*在玻璃基板71之全面形成透明保護層75 · 第1 7 B圖係關於第1 7A圖之方向從直角方向觀察玻璃 基板之圖。透明保護模7 5係使用公知之有機材料•例如 環氧、矽、聚醯亞胺系等耐熱性之熱硬化性樹脂，以旋轉 塗敷*輥塗敷，印刷法等方法成膜爲平坦狀•該玻璃基板 在以後之過程中，於第1 7 B圖在較著色層7 2更外側之 端緣之領域7 1 A形成透明電極之端子部*因此*然後去 除位於領域7 1 A之該透明保護膜之部分7 5 A · 好浐部中央«.羋而h工消費合作；^卬^ (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本實施例中，係使用本發明第1實施例之表面處理裝 置76。如第17C圖所示•表面處理裝置76係使該掩 罩接觸透明保護膜7 5上面配置，以便將透明保護膜之部 分7 5 A由掩罩7 7隔離至電極側•在電極7 8上施加一 定電壓而在與該玻璃基板之間產生氣體放電，在大氣壓力 或其附近之壓力下對放電領域7 9供給氦與氧之混合氣體 •在放電領域7 9內產生該混合氣體之激起活性種，曝露 於其中之透明保護膜之部分7 5 A被灰化，如第1 8圖所 示，從該玻璃基板表面之領域7 1 A上完全被去除•在灰 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Μ規格（210X297公嫠) -29 - 好浐部中央*Γ率而只Η消资合作社卬^ 498418 A7 B7 五、發明説明（27) 化後之透明保護膜7 5之緣端形成有與第4圖相同之緩和 的彎曲之傾斜部7 5 B · 然後，利用濺散法在該全部玻璃基板上形成S i 02 膜8 0，而且相同的利用濺射法在其上形成I TO膜8 1 ❶利用光學石版印刷技術形成I TO膜8 1之圖型，即可 如第1 7 E圖所示，對應於著色層7 2之各像素形成透明 電極8 2 ·第1 7E圖係將玻璃基板7 Γ從與第1 7A圖 相同之方向觀察之圖•如此*由無機材料製成之透明電極 8 2之端子部形成於玻璃基板表面上而非形成於由較軟質 之有機材料製成之透明保護層上，可製成解決上述習用之 問題之液晶面板之彩色濾片· 第1 9圖爲依照過程順序表示應用本發明之局部表面 處理技術之所謂膠束彩色濾片之製造方法•首先與習用技 術相同，利用濺射法在透明玻璃基板8 2表面形成厚度例 如爲2 0 0 0A之I TO膜，並利用光學石版印刷法形成 圖型而形成透明電極8 3 ·透明電極8 2之間塗敷分散色 素*進行圖型曝光及顯像而形成BM84(第19A) * 另一方面爲了形成導電化之著色層而製作膠束電解液 •膠束電解液之製造方法在本發明之發明人揭示之國際專 利申請案（國際公開號碼W094/271 73)中已有 說明•以R、G、B3種顔色分別調整將其表面疏水化之 透明導電粒子，例如I TO粒子，及以界面活性劑包圍顔 料粒子之顏料膠束膠體水溶液· 如第1 9 B圖所示，在形成有透明電極8 3之該玻璃 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -------*-------'--^ I、訂-------·— (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -30 - 498418 A7 ___B7____ 五、發明説明（28) 基板之全面塗敷抗光劑85，形成其圖型而使其一部分透 明電極8 3之上面露出*本實施例中，最先去除形成R著 色層之透明電極之部分之抗光劑•以該玻璃基板做爲陽極 ，以不銹鋼基板做爲陰極*浸漬於R之該顔料膠束膠體水 溶液中，例如以+0. 4V之定電位進行20分鐘之電解 *使R之該顔料粒子及透明導電粒子澱稹於該透明電極之 露出面，形成厚度0. 8#m之紅色顔料膜86·重覆相 同之過程分別形成緣色及藍色之顔料膜*即可如第1 9 C 所示的在透明電極83上形成R、G、B等3原色之著色 層8 7。 然後，利用旋轉塗敷法在玻璃基板8 2全面形成厚度 0 . 2 之亞克力樹脂膜而形成透明保護層8 8 (第
1 9 D圖）·第1 9 D圖係關於第1 9 A圖之方向從直角 方向觀察玻璃基板之圖·在形成透明保護層8 8之膜後* 測定R、G、B著色層之各電阻值，結果分別爲1 X 好浐部中呔ir準而h工消費合作衫印紫 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 0 β· 5歐姆c m以下•由此可知，即使透明電極8 3位 於著色層8 7之下側，對液晶驅動毫無影響之電阻值位準 *然後*玻璃基板82上去除位於第19D圖中，較著色 層8 7更外側之端緣之領域8 2 A內之該透明保護膜之部 分 8 8 A 〇 使用與第1 7圖所示之實施例相同之本發明第1實施 例之表面處理裝置76，如第19E圖所示，將透明保護 膜之部分配置成由掩罩7 7分隔至電極側*而且在該掩罩 與透明保護膜8 8之間形成間隙•在電極7 8上施加一定 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ~ -31 - 498418 A7 B7 五、發明説明（29) 之電壓而在與該玻璃基板之間產生氣體放電，在大氣壓力 或其附近之壓力下，將氦與氧之混合氣體供給於放電領域 8 9 ·透明保護膜之部分8 8 A曝露於產生在放電領域 8 9內之氦與氧之混合氣體之激起活性種而被灰化，從該 玻璃基板表面完全被去除•如此，透明電極8 3之端子部 8 3 A如第1 9 F圖所示的露出於玻璃基板8 2上· 本實施例中，將第5圖中之間隙量•掩罩髙度等之各 尺寸設定爲a=0· 4mm，b=2. Omm， c = 2 . 4mm，以每分鐘20公升之氦，及每分鐘 2 0 0毫公升之氧之比率導入該混合氣體*將局部8 8 A 灰化後之透明保護膜8 8與第1 8圓相同的，在其緣端形 成緩和的彎曲之傾斜部，其寬度爲0. 50mm直線性爲 0 . 1 5mm/l 5 cm，液晶面板之組立毫無問題之髙 灰化精確度· 好浐部中央*|窣而h-T消合作ii印tt (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 第2 0圖中依照過程順序表示具有本發明之定向膜之 液晶面板之製造方法•如第2 0 A圖所示*以濺射法在透 明玻璃基板9 0表面形成I TO膜而且形成圖型，形成透 明電極91·利用旋轉塗敷法》輥塗敷法或印刷法等方法 在該玻璃基板全面形成厚度2 0 0〜5 0 0A之聚醯亞胺 膜9 2 (第20圖）·然後，將玻璃基板上，位於較透明 電極9 1更外側之端緣之領域9 0 A之聚醯亞胺膜之部分 9 2 A去除· 本實施例中*使係用與第1 7 * 1 9圖所示各實施例 相同之本發明之第1實施例之表面處理裝置76·如第 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -32 - 498418 A7 B7 五、發明説明（3〇) 2 0 C圖所示，表面處理裝置7 6之該掩罩接觸於該聚藤 亞胺膜表面配置*以便利用掩罩7 7將聚醯亞胺膜之部 9 2 A分隔於電極側•在電極7 8上施加一定電壓而在與 該玻璃基板之間產生氣體放電，在大氣壓力或其附近之S 力下將氦與氧之混合氣體供給於放電領域9 3。聚醯亞胺 膜之部分9 2 A曝露在產生於放電領域9 3內之該混合氣 體之激起活性種而被灰化，從該玻璃基板表面完全被去除 (第2 0 D圖）· 然後*將聚醯亞胺膜9 2例如朝向一定方向摩擦，形 成定向膜後，如第2 Ο E圖所示，在去除聚醯亞胺膜之玻 璃基板周緣之領域9 Ο A上印刷密封黏著劑而形成密封部 9 4。經由該密封部9 4在該玻璃基板上重叠電極圖型， 並在其上重叠形成定向膜之其他玻璃基板9 5，結合成一 體（第20F圖）·再於該玻璃基板間之空隙96內注入 液晶，而且在兩面黏貼偏光板而完成液晶面板· 以上說明本發明之實施例•但本發明不受實施例之限 制，可在不超越其要旨之範圍內變更實施·例如第1〜 好浐部中央ir^f-而h τ·消費合作衫印繁 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 6圖所示之各實施例可分別適當的組合而實施•第1 7 圖中，係說明在玻璃基板上形成著色層，透明保護層，在 其上面形成透明電極之彩色濾片製造方法•但本發明之局 部表面處理亦可應用於在玻璃基板表面上形成透明電極， 而且在其上形成著色層之構造之彩色濾片•上述本發明之 彩色濾片及液晶面板亦可同樣的應用於STN型，TFT 型* Μ I Μ型各種型式之液晶面板· 本紙張尺度適用中國國家樣準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -33 - 498418 A7 ____B7__ 五、發明説明（31) 本發明因爲採用上述結構而產生如下之效果· 依照本發明之表面處理方法，在大氣壓力附近之壓力 下產生之氣體之激起活性種可因設置掩罩裝置而限制其移 動，故可選擇性的局部的只將被處理材表面之所需領域曝 露於該激起活性種，可以髙精確度進行良好之表面處理· 尤其著在掩罩裝置與被處理材表面之間設置適當之間隙時 ，不但可防止受到掩罩裝置之污染，又不受到被處理材或 薄膜之材質*用途*表面狀態等處理條件所左右•故可在 廣大領域內進行所需之局部表面處理•又從該間隙噴出氣 體而供給於放電領域*即可確實的阻止激起活性種侵入間 隙及擴散至外部，可進行更髙精確更髙效率之穩定之被處 理材之局部表面處理· 依照本發明之表面處理裝置，可用較低成本實現上述 局部表面處理方法，尤其掩罩裝置沿著電極配置，故可進 行高精確度之局部表面處理· 麪沪部中央^挲而W.T消费合作41印裝 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 依照本發明之液晶面板之彩色濾片製造方法，不必在 習用之製造過程上添加複雜之過程或使用價格昂貴之裝置 及設備，使用透明保護層之材料不受到限制，可在支持體 全面成膜而且形成爲平坦狀·而且容易在其上形成I T 0 膜而形成透明電極•如此製造之彩色濾片其進行表面處理 後之透明保護層之邊緣部分形成爲圓弧狀之傾斜部，故形 成於其上之I T 0膜之覆~蓋範圍良好，故不會發生透明電 極之斷線•因此，可簡易而且以低成本製作髙品質而可靠 性髙之彩色濾片· 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) 規格（210X297公釐） -34 - 498418 A7 ___ ___^B7___________ 五、發明説明（32) (邡先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 依照本發明之液晶面板之製造方法，同樣的不必在習 用之製造過程上添加複雜之過程，或使用價格昂貴之裝置 及設備，使用定向膜之材料不受限制，可在透明基板全面 形成平坦之膜*故可確保液晶定向性之均勻，而且可簡單 而且以低成本製造髙品質之液晶面板•如此製造之液晶面 板之定向膜以髙精確度局部的去除*故在該部分設置密封 部時，可改善其與密封劑之密接性，可提髙液晶面板之可 靠性· 圖式、 第1圖爲本發明之表面處理裝置之第1實施例之局部 斷面透視圖； 第2圖爲使掩罩接觸被處理材表面之表面處理裝置之 局部斷面圖； 第3圖爲具有與第2圖不同之形狀之掩罩之表面處理 裝置之局部斷面圖； 好浐部中次*?.導而消費合作妇印繁 第4圖爲在第2圖所示之狀態進行局部灰化之被處理 材之放大斷面圖； 第5圖爲將掩罩配置成在與被處理材表面之間形成間 隙時之表面處理裝置之局部斷面圖； 第6圖爲本發明表面處理裝置之第2實施例之局部斷 面透視圖； 第7圖爲第6圖所示表面處理裝置之局部斷面圖； 第8圖爲第7圖所示掩罩之變更例之局部斷面圖； 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ~ -35 - 498418 #ί·浐部中央«.^-而卩工消費合作it印家 A7 B7五、發明説明（33) 第9圖爲將排氣構造一體化之第2實施例之表面處理 裝置之局部斷面圖； 第1 0圖爲第2實施例之表面處理裝置之另一變更例 之局部斷面圖； 第1 1圖爲本發明之表面處理裝置之第3實施例之局 部斷面圖L 第12圖爲第11圖所示變更例之局部斷面圖； 第13圖爲本發明之表面處理裝置之第4實施例之局 部斷面圖； 第14圖爲將掩罩及電極定位之表面處理裝置之驅動 機構之概略正面圖； 第1 5圖爲具有使用光偵測器之間隙檢測機構之表面 處理裝置之斷面圖； 第16圖爲具有使用壓力偵測器之間隙檢測機構之表 面處理裝置之斷面圖； 第17圖爲本發明之液晶面板之彩色濾片之製造方法 之A圖〜E圖所構成之過程圖； 第1 8圖爲利用第17圖所示方法製造之彩色濾片之 局部放大斷面圖； 第19圖爲本發明之膠束彩色濾片之製造方法之A圖 〜E圖所構成之過程圖； 第2 0圖爲本發明之液晶面板之製造方法之A圖〜F 圖所構成之過程圖； 第21圖爲習用之液晶面板用彩色濾片之構造之斷面 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲請背面之注意事項再填寫本頁) -36 - 498418 A7 B7 五、發明説明（34)
DO 圖， 第2 2圖爲與第2 1圖所示不同之彩色濾片之構造之 斷面圖； 第2 3圖爲習用之彩色濾片之另一構造之斷面圖； 第2 4圖爲習用之局部印刷所製成之透明保護層之局 部放大斷面圖* • · · · · · ♦參· · · · » _籲 參·· • •鲁· ·» ••表面處理裝置 2 •參· •镛· ••電極 4 ，5 ••介電質 7 • · · 鲁籲參 ••氣體導入口 9 參參· · ·· ••…掩罩 1 1… ••……處理領域 1 2… ........傾斜部 1 3… ••…表面處理裝置 1 5… .....介電質 1 7… ••…掩罩 1 9… ••…中間空室 2 1… ••…氣體導入口 2 3… ••…放電領域 2 5… ••…相對部分 2 7… ••…掩罩 2 9… ••…間隙 3 1… 符號說明 1 3 6 8 10-1 1 A 1 2 A 14 16 18 2 0 2 2 2 4 2 6 2 8 3 0 交流電源 ……放電產生部 中間空室 氣體噴出 …被處理材 …亞克力樹脂膜 …間隙 …電極 …部分〜 …氣體噴出口 …金屬塊 …間隙 …氣體通路 …排氣通路 …氣體噴出口 …表面處理裝置 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -37 - 498418 A7 B7 五、發明説明（35) 好铲部中央而B工消处合作ii印^ 3 2…… …電極 3 3 … • · · …介電質 3 4…… …相對部分 3 5 … •蠢· …掩罩 3 6…… …氣體噴出口 3 7 …間隙 3 8…… …放電領域 3 9 …導電體部分 4 0…… …表面處理裝置 4 1 …電極 4 2…… …介電質 4 3 …氣體導入通 4 4…… …氣體噴出口 4 5 …多孔質板 4 6…… …放電領域 4 7 …相對部分 4 8 …··· …掩罩 4 9 …驅動機構 5 0…… …台架 5 1 …表面處理裝 5 2…… …外殼 5 3 …柱體 5 4…… …樑 5 5 …框架 5 6…… …螺紋部 5 7 …齒輪機構 5 8…… …驅動馬達 5 9 …電極部 6 0…… …掩罩 6 0 A ……間隙 6 1…… …光偵測器 6 2 …電纜 6 3…… …電極 6 4 …介電質 6 5…… …相對部分 6 6 …氣體噴出口 6 7…… …氣體導入通路 6 8 …壓力偵測器 6 9…… …通孔 7 0 …電纜 7 1…… …玻璃基板 7 1 A ......領域 7 2…… …著色層 7 3 …像素 7 4…… …B Μ 7 5 …透明保護膜 7 5 A… ......分 7 5 B ……傾斜部 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 38 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 498418 好浐部中央«.準而h工消費合作妇印 A7 B7 五、發明説明（ 36) 7 6 …表面處理裝置 7 7 •鲁· • · · …掩罩 7 8 …電極 7 9 • · · …放電領域 8 0 …S i 0 2膜 8 1 • · · …I T 0膜 8 2 …透明電極 8 2 A ......領域 8 3 …透明電極 8 3 A ……端子部 8 4 .....·~ …B Μ 8 5 參•參 …抗光劑 8 6 …顔料膜 8 7 «參· …著色層 8 8 …透明保護層 8 8 A ……部分 8 9 …放電領域 9 0 • · · …玻璃基板 9 0 Α… ......領域 9 1 …透明電極 9 2 » _參 •像· …聚醯亞胺膜 9 2 A ......部分 9 3 …… …放電領域 9 4 • · · …密封部 9 5 ...... …玻璃基板 9 6 眷《參 …空隙 1 0 0… ......彩色濾片 1 0 1 ……支持體 1 0 2… ......著色層 1 0 3 ……透明保護層 1 0 4… ……透明電極 1 0 5 ……端子部 1 0 6… ……邊緣部 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .·裝. 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公嫠） -39 -