JP2007080688A - プラズマ処理装置の電極構造 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 大気圧プラズマ処理装置には電極30が備えられている。電極30は、放電空間41から基材Wへの方向と直交する第1方向に延びている。電極30は、放電空間41を形成するための放電面と、この放電面とは逆側の背面を有している。電極30の背面には、第1方向に延びる溝34が形成されている。これにより、電極30が、撓み剛性の高い断面形状になっている。
【選択図】 図1
Description
放電空間に処理ガスを通して基材に接触させ、基材のプラズマ表面処理を行なう装置の電極構造であって、
前記放電空間から基材への方向と直交する第1方向に延びる電極を備え、この電極が、前記放電空間を向く放電面と、この放電面とは逆側の背面を有し、これら放電面と背面が前記第1方向に延びるとともに、前記背面に前記第1方向に延びる溝が形成されていることを特徴とする。
これによって、長尺電極の撓み剛性を向上でき、電極の中央部が自重や放電処理時の熱による温度勾配で撓むのを抑制することができる。
前記電極の前記第1方向と直交する断面が、大略コ字状をなしていることが好ましい。これによって、撓み剛性の高い断面形状を得ることができる。
これにより、放電処理時に電極と誘電部材の間に熱膨張差が生じても、前記連結部材が弾性変形して前記熱膨張差を吸収することができ、熱応力を抑制することができる。
前記連結部材は、ネジであることが好ましい。
前記第1方向が水平に向けられ、前記放電空間形成面と前記背面が、幅方向を略垂直に向け、前記交差面が、前記電極の上面であり、前記誘電部材の上側の縁部が、前記電極の上面に被さり、前記被さり部として提供されているのが好ましい。これによって、前記電極が前記連結部材によって前記被さり部に吊り下げられた状態となる。
これによって、電極の熱膨張を多少許容でき、熱応力の発生を抑制することができる。
図1は、大気圧プラズマ処理装置の処理ヘッド1を示したものである。処理ヘッド1は、図示しない架台によって支持されている。処理ヘッド1の下方の処理位置Pに、処理すべき基材Wが配置されるようになっている。基材Wは、例えば一辺の長さが1〜2m程度の大面積の液晶用ガラスである。基材Wは、搬送機構によって左右(図1の矢印方向)にスキャンされるようになっている。基材Wが静止する一方、処理ヘッド1が左右に移動されるようになっていてもよい。
図3に示すように、両方の誘電部材40の長手方向の両端の対向面どうしが突き合わされている。片側の誘電部材40の凹部40aと他方の誘電部材40の対向面とによってスリット状のガス通路41が形成されている。図1に示すように、ガス通路41の上端部は、整流部2に連なっている。ガス通路41の下端は、処理ヘッド1の下端において開口され、吹出し口41aとなっている。
放電延長凸部33を除いた電極30の主部31の高さ(上下寸法)は例えば30mmであり、電極30の主部31の厚さ(左右方向の寸法)は、例えば25mmである。
溝34の形成によって、電極30の主部31の断面形状が、コ字状になっている。
放電延長凸部33の突出量(上下方向の寸法)は、例えば7〜8mm程度である。放電延長凸部33の厚さ(左右方向の寸法)は、例えば5mm程度であり、誘電部材40の電極収容凹部45の深さより十分に小さい。
図示は省略するが、電極30の長手方向の両端面とホルダ20の電極収容凹部22の長手方向両側の内端面との間にも、例えば厚さ0.5mm程度の微小隙間が形成されている。
また、電極背面30bの溝34の内面とホルダ20の凸条23の間にも微小な隙間51が形成されている。微小隙間51の厚さは例えば0.5mm程度である。
放電延長凸部33の下端面と誘電部材40の底部44の上面の間にも微小隙間52が形成されている。微小隙間52の厚さは、例えば0.5mm程度である。
例えば、電極30の背面の溝34は、電極30の長手方向に連続に延びていなくてもよく、断続的に設けられていてもよい。溝34の断面形状及び断面寸法は、電極30の撓み剛性等を考慮して適宜設定可能である。
電極30とホルダ20及び誘電部材40の内面との間の微小隙間50〜51の厚さは、電極30の熱膨張量等を考慮して適宜な大きさに設定可能である。
電極30の放電延長凸部33の厚さ、形状等は、放電面を確保でき、かつ先端部に電界集中が起きない範囲で適宜設定可能である。電界集中が起きない限り、放電延長凸部33を先細に形成してもよい。
放電延長凸部33の放電延長面33aが電極30の主部31の放電面30aより若干背部側にずれ、放電延長面33aと放電面30aの間に段差が形成されていてもよい。
逃げ凹部32は、誘電部材40の背部側端部44bを挟んでその左右両側に跨っていればよい。逃げ凹部32の背部側の端部は、誘電部材40の背部側端部44bより背部側に位置していればよく電極30の背面に達している必要はない。逃げ凹部32は、溝状になっていてもよい。
逃げ凹部32及び放電延長凸部33は、少なくとも電源電極に設ければよく、接地電極には設けなくてもよい。
誘電部材40の放電側誘電部42と基材側誘電部44が別体になっていてもよく、この場合、放電側誘電部42は溶射膜であってもよい。
W 基材
1 処理ヘッド
2 整流部
3 プラズマ生成部
10 外筐
20 ホルダ(電極収容部材の要素)
21 段差状凹部
22 電極収容凹部(電極収容空間)
23 凸条
24 ホルダの底部(絶縁部材)
30 電極
30a 放電面
30b 背面
30c 上面
30d 底面
31 電極の主部
32 逃げ凹部
32a 逃げ凹部の放電面側の内端面
33 放電延長凸部
33a 放電延長面
34 溝
40 誘電部材(電極収容部材の要素)
40a 凹部
41 放電空間となるガス通路
41a 吹出し口
42 薄板部(放電側誘電部)
43 誘電部材の上縁部(被さり部)
44 誘電部材の下縁部(基材側誘電部)
44b 誘電部材の基材側誘電部の背部側端面
45 電極収容凹部(電極収容空間)
50,51,52 電極と電極収容部材の内面との間の隙間
60 冷却通路
61 冷却媒体給排路
70 ネジ(連結部材)
80 金属板
Claims (5)
- 略大気圧の放電空間に処理ガスを通して基材に接触させ、基材のプラズマ表面処理を行なう装置であって、
前記放電空間から基材への方向と直交する第1方向に延びる電極を備え、この電極が、前記放電空間を向く放電面と、この放電面とは逆側の背面を有し、これら放電面と背面が前記第1方向に延びるとともに、前記背面に前記第1方向に延びる溝が形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置の電極構造。 - 前記電極の放電面には、固体誘電体からなる誘電部材が配置され、この誘電部材と電極が、樹脂製の連結部材にて連結されている請求項1に記載のプラズマ処理装置の電極構造。
- 前記連結部材が、ネジであることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ処理装置の電極構造。
- 前記誘電部材が、前記電極の放電面と交差する面に被さる被さり部を有し、この被さり部に前記連結部材が設けられていることを特徴とする請求項3に記載のプラズマ処理装置の電極構造。
- 前記誘電部材を含む電極収容部材を備え、この電極収容部材の内部に前記電極を収容する電極収容空間が設けられ、前記電極の放電面以外の面の大部分と前記電極収容空間の内面との間に隙間が形成されていることを特徴とする請求項2〜4の何れかに記載のプラズマ処理装置の電極構造。
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