TW472176B - Control of the distribution of lighting in the exit pupil of an EUV lighting system - Google Patents

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472176 五、發明說明（1) 本發明係 1 9 3 n m使用 及EUV(Extr 照明系統包 鏡或透鏡、 面成像於照 射光瞳上產 1 9 3 n m之照 與物平面之 為進一步 圍，需要減 美國專利 石版印刷。 美國專利 源的小晶面 射的蜂窩才反 優點在於物 光瞳照射不 美國專利 板。 有關一種照 於石版印刷 eme U1trav 括一光源、 一實或虛光 明系統出射 生預設光分 明系統，其 間與物平面 縮小電子元 少微石版印 5 339 346 5 339 346 反射鏡。除 達到均勻的 鏡的場可以 受場左右並 5 581 605 長小於等於 rav i ο 1 e t) 明系統，該 元件之反射 或虛光闌平 照明系統出 種波長S 及一在光源 亞微米範 之軟X射線 明糸統，尤其是一種波 ’例如 V U V ( V a c u u m U 1 ΐ i ο 1 e t)石版印刷，之.照 —產生次級光源具光柵 闌平面、一或多個使實 光瞳之光學元件及一在 佈之工具’以及有關一 包括一光源、一物平面 共辆之平面。 件的結構寬度，尤其在 刷所使用光的波長。 冒提出波長小於1 9 3 n m 之照明至少需要四個成對對稱於光 了該專利夕卜’照明系統亦可藉助反 ,:::%形場照0月。此種系統的 琅シ的反射被均勻照明， 達到一特定滿充度。 隹保 曾提出EUV照明系統的反射蜂窩 上述美國專利5 3 3 9 34 6及5 5 8 1 採納於本申請案中。 605之A告内容完全 如遮蔽罩的照射可視遮蔽罩結 而調整’則可提高m及謝照明系統：二；制盤’ 〜W 坟及景深清晰
47217B 五、發明說明（2) 制照明設定，該光闌 度。在現行技術中通常使用光闌來控 設於光栅元件反射鏡或透鏡後方。請參見^1，努 US-A 5 5 2 6 0 9 3 "述專利： JP-A-100 92 727 JP-A-102 75 771 JP-A-100 62 710 JP-A-090 63 943 日本專利JP-A_1〇3 〇31 23曾提出—種使用鹵辛 >24“。之照明系、统，其在一光學集成器前方設二= 闌，其使一定的光量進入光學集成器中 你&先 面上產生一特定光分佈。 使付在一光闌平 美國專利US-A- 5 3 7 9 0 9 0亦曾提出—種 >248 nm之照明系統。該系統包括— 力、、登波長 形成光分佈。 在从照明之遮蔽罩上 ⑽i ξ : γγ;" 6 3 1 7 0提出另—使用齒素燈波長· 隹物^充。该糸統包括一光學集成器，其照射藉一變 '見而可變，以影響次級光源及調制盤平 置德r利de—a-197 16 m提出一種近型微石版印刷裝 光學^ 2長>248㈣，包括一光學集成器及一形成光束的 用十先。形成光束的光學系統設在光學集成器前方，作 形成一橢圓形截面，以配合孔徑的橢圓形輪廓。 run之=:，,0 54提出另一使用光學集成器波長>248 ‘、、、月糸統。该糸統在光學集成器前方設置使光分成四
472176 五、發明說明（3) 個光束以形成四極照明之工具。 現行技術所有波長>248 nm之系統的特徵為使用純反射 的光學元件’尤其是包括光學集成器。 美國專利5 8 9 6 438提出一種設波紋機之EUV照明系統， 其藉一掃描反射鏡使具反射光柵元件的光學集成器被照 射。美國專利5 896 438光學集成器之反射光柵元件具一 低蜂窩長寬比且為方形。此種照明系統掃描反射鏡的作用 在於藉EUV光束的角掃描而提高相干。但設掃描反射鏡對 遮蔽罩照明，亦即調制盤照明，品質影響的程度，美國專 利5 896 438則未指明。 美國專利5 8 9 6 4 3 8之公告内容完全採納於本申請案 中 〇 其後公告之專利 W0 99/57732 提出一種設置具多個光柵元件之反射鏡的EUV照明系統， 其包括在出射光瞳產生預設光分佈之工具。 現行技術EUV系統的缺點在於，以遮蔽罩控制光闌平面 光分佈會有可觀的光損失，或是物或調制盤平面無法達到 預設的均勻度，因混光或照射蜂窩數太少。 本發明之目的因此在於提供一種可避免上述現行技術缺 點之EUV之照明系統，尤其是適用任意VUV及EUV光源之系、 統其可控制出射光瞳之光分佈且可同時均勻照射物或調 .制盤平面。 在本發明的第一實施例中，使EUV照明系統藉助在出射
472176 五、發明說明（4) 光瞳產生預設光分佈的工具而使光柵元件被照射的數目足 以達到預設的物平面均勻度。 在本發明另一實施例中，使照明系統具一 ·與物平面共幸厄 的平面，產生預設光分佈的工具接近或設在與物平面.共軛 的平面上。 EUV照明系統光源目前有 雷射等離子體光源 箍縮等離子體光源 同步加速輻射光源 雷射等離子體光源使強雷射光束聚焦於一標的物（固 體、喷射氣體、液滴）上，標的物由於受激強烈增溫而產 生一等離子體，該等離子體發射出EUV光束。 典型的雷射等離子體光源具一球形輻射，亦即輻射角範 圍為47Γ ，直徑為50#m - 200/zm。 箍縮等離子體光源之等離子體係由電激勵而產生。 箍縮等離子體光源可稱作容積輻射器（0 = 1. 0 0 mm )， 其以4 7Γ輻射，輻射特性由光源幾何決定。 同步加速輻射光源目前可分成三種光源： -彎曲磁鐵 -擺動器 - 波紋機 彎曲磁鐵光源電子因一彎曲磁鐵而偏轉及發出光子束。 擺動器光源為使電子或電子束偏轉而包括一所謂的擺動 器，其設有多個並排磁極交替的磁組。一電子通過擺動器
89115106.ptcl 第8頁 472176 五、發明說明（5) 時，電子進入一週期性的费直磉場，電子於是在水平平面 上振蕩。擺動器的另一特微為=會出現相干效應。藉擺動 器而產生的同步加速輻射近似幫曲磁鐵所產生者，^以水 平立體角輻射。其不同於彎·曲礎鐵而具一隨擺動器極數增 強的通量。 由擺動器過渡到波紋機為通暢。 波紋機中之電子置身於/較擺動器具更短週期及更少偏 轉極之磁場中，而出現同步加，輻射干涉效應。同步加速 輻射由於干涉效應而具/不連續光譜，水平及垂直地以一 小立體角輻射。 有關E U V照明系統的基本結構請參閱所附本申請人之申 請案EP 9 9 1 06348· 8，1 9 9 9年3月2日提出，名稱°「照明系 統，尤指用於EUV石版印刷」，美國申請序號〇9/3〇5, 〇17 ’提出日期1999年5月4日’名稱「IUuminati〇n system particularly for EUV-Lithography1'及WO99/57732， 1 9 9 9年5月4日提出’名稱「照明系統，尤指用於石版 印刷」，其公告内容完全採納於本申請案中。 在本發明之一有利實施例中’產生光分佈的工具包括一 掃描反射鏡’如美國專利5 8 9 6 4 3 8所提出者。使用掃描 反射鏡的優點在於照明分佈控制無損失。光源具低光導值 時，例如波紋機光源’尤其適用掃描反射鏡，此種系統使 用掃描反射鏡可提高光導值。 光源與物平面間無與物平面共輛之平面的系統，可藉適 當控制掃描動作使產生次級光源的光柵元件反射鏡被適當
89115106.ptd 第9頁 472176 五、發明說明（6) 照射。除了掃描反射鏡外亦 具變焦作用的光學系統。利 下’此處為光棚' 7L件反射鏡 而改變焦距。 在本發明與物平面無共幸厄 產生預設的光分佈而使由正 如發散反射鏡及會聚透鏡， 如此而可在光柵元件反射 生較大或較小的圓形照射。 在本發明另一實施例中， 統產生預設光分佈之工具皆 鏡或透鏡。 曰本專利JP-A-5 1 0 0 0 9 7及 出具可變形表面的反射鏡， 案中。 可在光柵元件反射鏡前方設置 用此光學系統在像平面忮定 之平面，可藉移動各光學元件 平面之另一有利實施例中，為 及/或負折射率光學元件，例 構成的整個聚光單元可更換。 鏡（可設作場蜂窩板）上，'產 與物平面有及無共軛平面之系 可包括具可變形表面的反身 美國專利US-A-5825844皆曾提 其公告内谷完全採納於本申請 曰本專利JP-A-5 1 0 0 0 9 7之表面變形藉壓電晶體而激勵， 其在反射鏡下側設多個操縱器。美國專利US-A-5825844除 了壓電晶體激勵外，尚設一電磁激勵。 在出射光瞳產生預設光分佈的可變形反射鏡可設在聚光 單元中。有中間像的照明系統，亦即與物或調制盤平面有 共輛之平面，可變形反射鏡亦可設在該平面上。 達到出射光瞳光分佈有多種方法。在本發明第一實施例 中’出射光瞳為圓形照射。除了圓形照射外’亦可為環形 照射或四極照射。
89115106.ptd 第10頁 472176 五、發明說明（7) 為確保場具高長寬比之系統的場照射均勻度，有利的是 使產生次級光源之反射鏡或透鏡的光柵元件的長寬比低於 場’且設作圓柱形及/或環形。如此可減少被不完全照射 之場蜂窩的數目。關於此種系統的作用請參閱所附申請案 DE-A- 1 9 9 3 1 848. 4 ’ 1 99 9年7月9日提出，名稱「具變形 作用降低EUV照明系統蜂窩長寬比之元件」，其公告内容 完全採納於本申請案中。 藉助本發明裝置在物或調制盤平面一預設場内所達到的 強度分佈均勻度為dO%，最好是<5%，尤其最好是〈1%。重 步機系統是以一預設場内強度分佈的均勻度來看，掃描系 統則是以垂直於掃描方向每一場點掃描能量的均勻度來 看。 除了照明系統外，本發明尚有關一種設此種照明系統之 E U V投影設備及一種微電子元件之製法。 以下將依據貫施例進一步說明本發明。 圖1 A及1 B顯不一設同步加速輻射光源iEUV照明系統的 基本結構圖，該光源多設作波紋機，但本發明不受限於 此。 波紋機光源在預設波譜輻射的平面上有一射束發散，其 <100 mrad ’尤其是<50 mrad。如光源是一發散光源，則 需要在次級光源處設一具光柵元件之第二反射鏡或第二透 鏡’以使第一反射鏡或透鏡之光柵元件成像於調制盤平面 上。第一反射鏡或透鏡之光栅元件稱作場蜂窩，第二反射 鏡或第二透鏡之光栅元件稱作光曈蜂窩。
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472176 五、發明說明（9) 變 。 波長為1 3 nm時為逹到有利的設計，由於 好使用掠入射反射鏡（r β 8 0 %)及正入射石 光源最好以水平方向發射。 設在光柵元件反射鏡後方的光學元件子 統的光闌平面成像於照明系統的出射光目: 本上與投影物鏡之入射光瞳重疊，並形无 其作用尚在於’依要求而產生照明分佈 為重步機系統時，—設定場内強度分^ <10%，最好是<5% ,尤其最好是<1%。 強度分佈E ( X，y )之均勻度為 較高的反射率，最 ^ 射鏡65%)。 F用在於使照明系 t ’該出射光瞳基 t %形場。此外， 匕均勻度之要求為 *-me 其中E丨丨iax為設定場内之最大強度，E H 1。知描器系統時，掃描能量之均勻 疋，尤其最好是<1%。掃描能量SE(x)為線積分： 发中FY SE(X) = $ E(X，y)dy 向。=„7平面的強度分佈。彳 掃二θ母的點視其X座標而含掃4 俾4田；^董之均勾度為 小強度。 -求為< 1 0%，最好 方向例如為y方量SE(x)。 λΊΟΟ% 472176 五、發明說明（ίο) 其中SE„iax為沿掃描途徑之捧描能量，別 圖2A顯示l3nm輻射之同步加；原：月、帚描能量。 源在此處為一波紋機。 疋相耵尤/原照明糸統，該光 系統由一掠入射聚光反射鏡3〇與一正入 構成，聚光反射鏡3〇設作發散光束之掠入射 聚光反射鏡32照射設光栅元件之反射鏡^。㈣反射鏡， 場反射鏡36，38設作掠入射場反射鏡， ㈣成場，並將光鬧平面成像於出射光瞳：在调制盤平面 圖2Β之配置與圖2a相θ，但反射鏡3 〇設作 以改變光柵元件反射鏡或場蜂寫34的照射。w 、、兄’ 圖2C及2D是圖ιΑΑ1Β照明系統沒有中間像之示，里 加速賴射光源，例如波紋機，，出光；的聚光 反射鏡3 0疋一具可變形表面的反射鏡。 、如此可控制聚光反射鏡32以及場蜂窩反射鏡34的照射。 以下將舉例說明具波紋機光源之照明系統照明分佈的變 化^波紋機光源以± i mrad的水平發散及± 〇, 3虹以的垂 直發散發射光束。距離5〇〇〇 mm處設聚光反射鏡3〇，其傾 斜角為80 。聚光反射鏡30後方3000 mm處設聚光反射鏡 32 ’其傾斜角為5。。場蜂窩板，亦即場蜂窩反射鏡34， 在距聚光反射鏡32 65 0 mm處。為填滿後接物鏡入射光 目里’亦即σ = 1. 〇，場蜂窩板34之照射需達直徑64 mm。此 相當於圖2 C中之距離。 為填滿’即σ = 1, 〇，上述照明系統需設具下述半徑之 復曲面聚光反射鏡3〇，32 : 89115106.ptd 第14頁 472176 五、發明說明（11) K [mm] Rv [mm] 聚光反射鏡3 0 -1 5 6. 6 (發散） -1 373. 5 (發散） 聚光反射鏡3 2 :主亡危广r Λ r 3138. 0(會聚） 2 9 6 7.. 9 (會聚） 、J ,、、、π且k而戰主1 y. 2 mm。此相當於 圖2 D中之距離u反射鏡3 〇的半徑需以適當操縱器改 如下： 文 K [mm] Ky [ m ra ] 聚光反射鏡30 - 98 5. 0 發散） -5 2 4 1 · 〇 發散） 聚光反射鏡3 2 3138. 0 會聚） —- 2967. 9(會聚） 不便 若聚光反射鏡30設作具可變形表面的反射鏡，則 面變形在上述半徑内設定-。,3至…,。間的任―;表 充度。此處的表面不限於純復曲面。藉錐形或更高度非 形面可以改變成像特性。 憂开y例如可利用多個在反射鏡下侧的操縱器。操縱器可 包括塵電元件及/或電磁激勵元件。 亦T"更換聚光反射鏡3〇 ’如此而可設定〇,3至σ = 1. 0間的任一滿充度。由於只更換—聚光反射鏡3 〇，故可 改變出射光瞳的照射。 圖2Ε顯示另一實施例。以作用方式來看，與圖％相同的 構件被標不以相同的元件編號。波紋機光源1的光被聚光 反射鏡3 0發散。發散的光束3 6 0射至聚光反射鏡3 0後方一 具光拇元件的反射鏡3丨〇。因此，除場蜂窩反射鏡34外增
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第15頁 472176 五、發明說明（12) 設了另一光柵元件反射鏡3 1 〇。反射鏡3 1 0的光柵元件將射 入光束36 0分散成數光束3 7 0，圖2E中只顯示一單一光柵元 件產生之一光束370。一凹面聚光反射鏡302使各光束370 重豐至場蜂窩反射鏡3 4。在圖2 E的排列中，場蜂窩反射鏡 3 4被完全照射。由於增設光柵元件反射鏡3丨〇，射至場蜂 窩反射鏡34的光束比沒有設反射鏡31 〇具較大之發散，故 在場蜂窩反射鏡3 4之後再增設一光栅元件反射鏡3 5 〇。此 反射鏡3 5 0位在場蜂窩所產生次級光源之處。反射鏡3 5 〇的 光栅元件，稱作光曈蜂窩，使場蜂窩成像於調制盤平面 39。光束3 70被調制盤39反射，圖中只顯示至照明系統的 出射光瞳3 9 0，該出射光瞳同時亦為後接投影物鏡之入射 光瞳’其在圖2E中未顯示出。調制盤39的照明孔徑或出射 光曈390的照射直接受場蜂窩反射鏡34的照射左右。 場蜂窩反射鏡34的照射又受光栅元件反射鏡3丨〇影響。 該光柵元件反射鏡3 1 0可更換，以改變出射光瞳39〇的照 射。反射鏡3 1 0可以手動藉助一更換齒輪或—機器手臂而 更換。如此可藉更換一單一光學元件而改變出射光瞳39〇 的照射。圖2F使用一不同於反射鏡3丨〇的光栅元件反射鏡 320，該反射鏡只部份照射場蜂窩反射鏡34。故相較於圖 2E ’調制盤39的孔徑以及出射光瞳39〇的照射都被縮小 了。 、 光柵元件反射鏡310及320的作用方式將以圖2G及2H進一 步說明。圖2G及2H為圖2E及2F照明系統的部份圖，並沿用 其/〇件編號。圖26中光束3 6 0射至具光柵元件312之反射鏡
472176 五、發明說明（13) 3 1 0，並完全照射之。在圖2 G之實施例中，光柵元件3 1 2為 凹形。每一光栅產生一光源1之像，亦即在焦點372之次級 光源。此焦點後方光束朝聚光反射鏡302方向發散。聚光 反射鏡302使光柵31 2成像於場蜂窩反射鏡34並重疊光柵元 件3 1 2各像。此處每一個光柵元件成像於場蜂窩反射鏡3 4 的整個照射面。場蜂窩反射鏡34上的照射形狀相當於光柵 元件3 1 2的外形。 圖211中具光柵元件312之反射鏡310被具光栅元件322之 反射鏡3 2 0取代。光柵元件3 12與32 2焦距相同，但光柵的 尺寸縮小。故反射鏡3 2 0之光柵元件多於反射鏡3 1 0。由於 縮小故場蜂窩反射鏡34上的照射面亦較小。 光柵元件3 12與322亦可設為凸形，故產生虚的次級光源 3 7 2與3 8 2。除了具凹面或凸面的光柵元件外，亦可使用衍 射光柵元件。由於曲折光程之配置，各光柵元件3 1 2與3 2 2 以及校正偏心誤差的聚光反射鏡3 〇 2可具一變形效果，例 如為復曲面表面。 由於光栅元件3 1 2與3 2 2已產生次級光源，故反射鏡3 4場 蜂窩產生的次級光源嚴格說起來為三級光源。視光柵元件 3 1 2與3 2 2的數目而定，沒有設反射鏡3丨〇與3 2 〇產生的次級 光源’分散成相同數目的二級光源。但以下的三級光源以 次級光源稱之’因其使光源成像。 反射鏡3 1 0及3 2 0的光柵元件3 1 2及3 2 2亦可個別傾斜設 置。如射入光束3 6 0非平行射至反射鏡3丨〇及32〇時，此為 必要。若聚光反射鏡3 02的前焦點在次級光源372處，則光
89115106.ptd 第17頁 472176 案號 891151 Oft 年 月 曰 9〇^! 五、發明說明（14) 1 束370平行射至反射鏡34。若聚光反射鏡3〇2的後焦點在場 蜂窩反射鏡34處，則光柵31 2之像正確重疊。 光束370不一定要平行射至場蜂窩反射鏡34 ^聚光反射 鏡3 0 2的光學作用可使得光束370會聚在場蜂窩反射鏡34 上。如此可使場蜂窩反射鏡3 4與調制盤平面3 9間未設聚光 透鏡時，調制盤平面3 9上場蜂窩的像重疊。各場蜂窩亦可 個別傾斜設置。 圖21及2』顯示具光柵元件312及322之反射鏡310及320的 月1J視及侧視圖。反射鏡31 0及3 2 0的形狀配合光束3 6 0的照 射。光柵元件312及322之形狀設為六邊形。光栅元件312 及322具相同的彎曲半徑RQ與相同的焦距。但光柵元件322 的寬度D2小於光柵元件312的寬度D1。由於光柵元件31 2及 322之形狀決定場蜂窩反射鏡34的照射，故反射鏡34之照 射亦為六邊形，但大小依光柵元件312及322之寬度D1及D2 而不同。選擇六邊形的形狀一方面係為了緊密排列光栅元 件3 12及3 22，另一方面則為了使場蜂窩反射鏡34的照射儘 量呈圓形。圓形的照射以圓形的光栅元件3 12及322為理 想’但其無法無縫隙地排列在一起。場蜂窩反射鏡3.4的照 射轉成出射光瞳3 9 0之照射。但出射光曈的照射不再聯 結，因場蜂窩反射鏡34形成小晶面而離散。照射的輪廓仍 為六邊形。藉光闌平面的遮蔽裝置可使六邊形的照射輪廓 切成圓形。 視調制盤3 9上的結構而定，出射光瞳的照射可藉更換光 柵元件反射鏡3 1 0而調整。除了不同大小接近圓形的照射
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案號 89115106 五、發明說明（15) 外’由四個不同方向照明調制盤’對特殊的調制盤結構 有利。此種所謂的四極照明在出射光瞳3 9 〇產生四個分離 的照射範圍’其由於場蜂寫反射鏡34形成小晶面而離散。 四極照明可藉助具光柵元件332，3 34，33 6及338的反射鏡 330而達成，如圖2K及2L所示。圖說明反射鏡3 3 0的作^ 方式’圖2^顯示四光柵元件332， 334， 336及338，其各包 含凹面或凸面軸外段。具一方形邊界線3 3!與一旋轉對稱& 光學作用的聯結光柵元件照射場蜂窩反射鏡34。若只使用 該方形光柵元件的四個軸外梯形段332，334，336及338， 則場蜂窩反射鏡3 4被四梯形照射。梯形光柵元件3 3 2， 334，336及338 ’可任意設在反射鏡330上。選擇梯形係因 如此光栅元件才可在反射鏡上3 3 0緊密排列，如圖U所 示。此處需使光柵元件334及338沿著斜邊之中線分割，分 割的光柵與未分割的光柵組成一完整面❶當然，除了梯形 的光柵元件外亦可設矩形的光柵元件。 '除了光柵的變形作用外亦改變其形狀時，由於曲折光程 的設置而有利於偏心誤差的減少。在反射鏡3丨〇，3 2 〇及 330平面上設置一 xy座標，且使反射鏡31〇，32〇及33〇對叉 軸傾斜時’需使光柵元件的形狀在y方向上分開，且光栅 元件的彎曲半徑在X方向上小於y方向。 圖2M顯示一有中間像z之照明系統，該中間像z位在一與 物或調制盤平面共輛的平面上。與圖2 C及2 D相同的構件標 示以相同的元件編號。為改變照明系統出射光瞳的照明分 佈’此種系統可在中間像Z增設一反射鏡200。
89115106.ptc 第19頁 472176 a 90. ί〇* ί ^ 索號89115106_年月日 修正__ 五、發明說明（16) 由於此系統的調制盤平面與增設的反射鏡2 0 0共軛，調 制盤平面的角度分佈可受反射鏡2 0 0影響，但場分佈則幾 乎不受影響。 為影響出射光瞳的強度分佈’此具中間像Z之系統在場 蜂窩反射鏡34或光瞳蜂窩反射鏡後方中間像Z處增設反射 鏡200。反射鏡200所在之處為光柵元件反射鏡場蜂窩34像 重疊處。此增設之反射鏡200之後再設另一或另兩反射鏡 2 0 2，其使中間像Z成像於調制盤平面。在所示實施例中設 一正入射反射鏡20 2。 另外增設的反射鏡2 0 2之後為場反射鏡3 6，3 8 .，其作用 在於形成環形場、使照明系統出射光瞳成像於後接物鏡之 入射光瞳及控制照明分佈。 增設的反射鏡2 0 0例如可設作附加之光柵元件反射鏡， 其光柵元件，所謂的單蜂窩，設作會聚或發散的反射鏡或 適當的衍射元件。單蜂窩2 0 1可為六邊形而緊密排列。此 種配置顯示於圖20。一射入光束由於多個單蜂窩而改變， 使得由每一單蜂窩2 0 1射出一預設孔徑的光束__ ’如圖2 Q所 示。單蜂窩的寬度需為最小，以滿足調制盤平面的均勻度 要求。此蜂窩的典型寬度為1 0 /z m。為使調制盤平面強度 分佈不要顯現單蜂窩之離散，可以增設的光柵元件反射鏡 與中間像離焦。照明系統出射先瞳的照射可視單蜂窩的作 用而改變。藉更換元件滿充度可在σ = 〇. 2至σ = 1. 0間被 改變。 圖2 I，2』及2L中所顯示光柵元件的配置亦可用於增設的
89115106.ptc 第20頁 472176 五、發明說明（17) 光柵元件反射鏡2 0 0，但各光柵元件的焦距需適當調整。 亦可將增設的反射鏡2 0 0設作可變形反射鏡。 與調制盤平面共軛平面上的反射鏡表面變形基本上分成 兩種： 一小本震盪頻率之靜態變形，其會導致調制盤平面重心光 束角度分佈改變。此作用例如可用於校正遠心。 大本震盪頻率之動態變形，其會導致中心恆定的重心光 束周圍孔徑改變’而有利地影響照明系統出射光曈的照 射。與曝光時間或掃描速度相較，此種控制照明分佈的 動態變形需極快速。 土大本震盤頻率之動態變形可用於均勻化照明系統出射光 瞳的照明分佈。如圖7至13所示，出射光瞳上次級光源的 像間有未被照明的範圍。藉振動增設之可變形反射鏡2 〇 〇 表面使得在靜態情形下未被照明的範圍在時間上為有照 明。 t使光闌平面上次級光源均勻分佈，使反射鏡小晶面行 4 0與各光栅交錯排列，如圖3所示。圖3中的圓4丨顯示Εϋν '對光柵元件反射鏡的照射。在所示實施例中光柵元 件4 2的長寬比為1 7. 5 : 1。 以Υ亦稱作場蜂窩的光柵元件4 2在照明系統的光闌平面 圖4人Γ光源’其分佈由反射鏡上光栅元件的分佈決定。 "顯示光闌平面上次級光源4 4的分佈，其使用圖3之 光柵元件反射鏡。 "葡平面上的陰影面4 6為最大光闌照射，其可被一設在
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s兹物鏡之入 五、發明說明（18) 照明系統後方的物鏡接收’在此處之實施例中 射光瞳與照明系統之出射光瞳重疊。 E U V照明系統晶圓侧孔徑典型為n A f ~ , . wafer 〇1，物鏡投影 比例尺冷=-0. 2 5時，其相當於調制盤平面上一孔和 ’、 NAReticie = 0 · 1，此處之系統則相當於場蜂究 卞咼反射％上一直 控64 3 mm ° 以下將例舉另一EUV照明系統。 下述設計所使用的擺動器光源在水平方向上具一孔巧33 mrad ’在垂直方向上具一孔徑2 mra(^光源的^度為^ m ° 擺動器光源照明系統採用雙小晶面，亦即兩光柵元件反 射鏡，俾一方面以高長寬比接收光源射束，另一方面則填 充圓形光曈。圖4D顯示此種系統的基本結構，以下所使用 元件編號係根據該圖。 光束被一掠入射反射鏡3 〇接收’成為一幾乎平行的射 束。其後方的場蜂窩板34及光瞳蜂窩板3 7為正入射反射 鏡。場蜂窩之分佈使得其完美覆蓋照射的矩形面。每一場 蜂窩歸屬一光曈蜂窩，其設在照明系統光闌之一徑向光柵 上。校正光瞳蜂窩之配置，使得場透鏡36，38之像差被對 準。藉傾斜場蜂窩與光瞳蜂窩可使物或調制盤平面3 9上場 蜂窩的像重疊。以兩掠入射場反射鏡3 6， 3 8可使照明系統 對後接之投影物鏡調整。 在本系統中場蜂窩板3 4及光瞳蜂窩板3 7由會聚蜂窩構 成’其個別傾斜且場蜂窩亦具一高長寬比。
472176 五、發明說明（19) 照明系統在調制盤平面上的場如下· -60 弧段’1' = 1〇4 111111，八1>=+4 mm 長丸比 108.9 _/8 mm = 13 g/ι -調制盤平面孔徑NARet = 〇. -光瞳蜂窩板與調制盤間結 -場蜂寓數之選擇使掃描能_ 聚光單元30之設計使^ 句句度要求可被滿足。 mm的場蜂窩板。由於抟二二T照射尺寸A = 1 mm x 4 環形’使得非所Ϊ = 反射―，照二 :暴：：的形狀選擇為矩形，此處 調制4平面上弧長與環 j 寬比相當於 均句度。每」照明’使得掃描能量達到足夠.ή 生-次級光源Γ ♦ °會聚作用的設計可使其在光闌平面產 4級ίΞΪ:ί;:;:37’ί使場嶋像於調制盤 率左右。其之設置使得其在照明系統出射光瞳產辨 的分佈。例如將光瞳蜂离設在一徑向光柵 透賴，⑽光瞳像差對準，其亦可設在—畸變的 每一場蜂寓歸屬一光瞳蜂窩與光麗 屬此：轉角為最小。另-者為，物光瞳 度/刀4 ^ %蜂窩平面強度分佈具〆曲線時使用之。如尸 蜂窩與光瞳蜂窩位置相&，則曲線適用於光瞳照射。藉：
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472176 案號 89115106 90. 10. i ^ a_ 間點’如 ，3 8時場 蜂窩43之 之光瞳像 之照射與 之示意圖。光瞳蜂窩4 3設在幅條 15.0 mm， 30.0 mm， 45.0 mm 時 ο ，其為掃描路徑上強度分佈之積 本上重疊 充因數σ 五、發明說明（21) 圖4F顯示光瞳蜂寫板37 上。 圖4G顯示場蜂窩42之空 圖4 Η顯示未設場透鏡3 6 顯示設場透鏡36，38時場 變配置補償場透鏡36，38 圖4』顯示調制盤平面39 形場。 圖4Κ顯示X = 0.0 _， 調制盤平面上的強度截面 圖4顯示掃描能量曲線 分。 與投影物鏡入射光瞳基 明設定為圓形照射時由填 其在實施例中之配置。 蜂窩4 3之空間點，圖4 I 空間點。場蜂窩4 3之畸 差。 圖4 Β - 4 I戶斤示系統之環 之出射光曈光分佈或照 定義。 照明 σ 填充因數 κ 物鏡孔徑 爹數r照明及R物鏡孔徑參見圖5。爹數R物鏡孔徑為隶大物鏡孔徑 時入射光瞳的直徑，參數r Μ明為入射光瞳圓形照射的直 徑。入射光瞳照射為六邊形或不聯結時，參數可由入 射光瞳整個照射面的徑向積分求得。故滿充度（7相當於下 述環形照明定義的相干因素。 σ = 1. 0時，依據定義投影物鏡入射光瞳完全填滿，σ =0. 6時充填不足。
89115106.ptc 第25頁 472176 五、發明說明（22) 光分佈為環形時’投影物鏡入射光瞳為環形照射，可使 用下述/ ain的定義敘述之： 其 中 r (90) "(D f / (r) rdr 〇 =0, 9 • / / ( r) rdr 广（10) /* A^nex) 其 中 J !{r)rdr -0 :0, 1 · / 0 / ( r) rdr =厂（9〇) m A^ax) -以1〇) _ WNAJ) 其中 I(r) = I (x, y): 投影物鏡入射光瞳強度分佈 X，y : 在投影物鏡入射光瞳上之x，y位置 r : 在投影物鏡入射光瞳上之徑向位置 ΝΑ_: 最大物鏡孔徑 R (N Amax). 敢大物鏡孔控時入射光瞳之徑向邊緣 r(90): 圓半徑’該圓内出現90%總強度 r(l 〇): 圓半徑’該圓内出現1 0%總強度 ^out > crin : 相干因數 下面探討的另一種光分佈為所謂的四極照明，其例如使 "Manhattan structure"成像。 如圖6A至6D所示，由特定的場蜂窩板照射41可改變次級 光源4 4的數目及光闌照射。圖6 A至6 D顯示具光柵元件4 〇場 蜂窩板的照射及照明系統出射光瞳49上次級光源44的分 佈’ s亥出射光瞳同時是後接物鏡之入射光瞳。圖6 a至6 d中 與圖3 - 5相同之構件標以相同元件編號。 場蜂窩板之照射可藉一設在場蜂窩板前方的遮蔽裝置、
89115106.ptd 第26頁 472176 五、發明說明（23) 可控制掃描反射鏡、可更換聚光反射鏡、可變形聚光反射 鏡或增設之可更換光柵元件反射鏡而特定改變。 圖6 A顯示滿充度σ = 1. 0之照射，圖6 B顯示滿充度s = 0. 6之圓形照射，圖6 c顯示 〇 out _ 1 , Ο ~ 〇Γ7 之環形照射，圖6D顯示場蜂窩板之四極照明。 圖7至1 8顯示圖6A-6D所示不同照明分佈之模擬計算結 果。 舉例說明以下設定或分佈： 1. 圓形設定，σ = 1. 0 場蜂窩板照射，半徑r二35. 0 mm，相當於孔徑NARet = 0.025° 2. 圓形設定，σ = 0.6 場蜂窩板圓形照射，半徑r = 2 0. 0 mm。 3. 環形設定
場蜂窩板環形照射，半徑rQUt = 35.0 _，rin二25 mm ° 4. 四極設定 四個場蜂窩板圓形照射，r = 1 0 m m，在對角線上，與光 轴距離a = 2 1. 2 m m。 第卜4點場蜂窩板照明所得光瞳照射係以轴點（x二0. 0 ;
89115106.ptd 第27頁 472176 五、發明說明（24) y = 0. 0)及場點（x = 40. 0; y = 4. 041)在邊緣而計算並顯示於 圖7 — 1 4中。 滿充度σ = 1. 0 (情形1 )時，達最大孔徑N ARet二 0 . 0 2 5，光瞳被2 1 3個次級光源均勻填滿。圖7中光瞳照射 場點在調制盤平面中心X = 0 , y = 0。 如圖8場點在邊緣x = 40.0，y = 4.041所示，光瞳照射的形 狀在場邊緣保持不變。依據圖8所示，光瞳整體移動了重 心光束角之偏距，其中照明系統在調制盤平面上的光軸為 爹考糸統。 滿充度σ = 0· 6 (情形2 )時，達孔徑NARet = 0· 6 · 0 . 0. 0 2 5 = 0. 0 1 5，光瞳被72個次級光源填充。圖9中光瞳照射 場點在調制盤平面中心（X = 0 , y = 0 )，圖1 0中場點在邊緣 (x=40.0; y=4.041)。 環形設定（情形3 )時， 〇 〇ut _ 1,0 " 〇Γ7 孔徑在NADUt = 0.0 25與NAin = 0.01 75之間，光瞳被102個 次級光源填充。圖1 1中照射場點在調制盤平面中心（x = 0， y = 0)，圖 12 中場點在邊緣（x = 40.0; y = 4.041)。 以四極照明照射場蜂窩時（情形4 )，出射光瞳在四區 段各被1 8個次級光源填充。圖1 3中照射場點在中心，圖 1 4中場點在邊緣。 不同照明設定掃描能量均勻度之分析顯示於圖1 5至1 8， 可看出與蜂窩板照明，亦即設定，之關係。
89115106.ptcl 第28頁 472176 五、發明說明（25) 圓形照射滿充度σ = 1 . 〇時’得到理想的掃描 線’均勻度損失< 1 %，如圖1 5所示。 圓形照射滿充^=0.6時，由於參與混光程序的 數目減少，均勻度損失為2%，如圖16所#。滿充离 1 參0與時數為213，a=G.6時只有72個場蜂窩=照射及 環形照明時多個場蜂窩只被部份照明，使得相較於i 1. 0日^· %蜂窩數為2 1 3，此處只有1 〇 2個場蜂窩參盘混光程 f，均2度損失為3%，如圖17所示。相較於/=〇/、6之圓; 照射，環形照射參與混光程序的場蜂窩較多但均生> 部杈大’其係由於場蜂窩只被部份照明。 、 圖1::妝明：掃描能量呈現四波形，均勻度損失為5%，如 減，平二係由於四極照明時參與的場蜂窩視場點而增 減且成=所有場蜂窩皆只被部份照射。 求之光瞳照：受限於重步機系統要 共同的是，調制盤； = 掃描能量均勻度。 即低σ圓 則需增加 蜂窩尺寸 場照射均勾卢、招其上重登的蜂窩衫像越少，混光以及 形照射或狹；；ί:射：欲提高極度光瞳分佈， 蜂窩數目，复二或四極照射，之均勻度， 及增㈣投影板尺寸不變時意味著縮小 面邊緣只ίΐ:::;17·5之高蜂萬長寬比’故蜂窩在照明 兩場蜂窩100, 顯示一排列，其每χ行98只有 .，、、、射。被照射的每個蜂窩1 〇 〇， 1 〇 2在 472176 五、發明說明（26) 照明系統光闌平面產生一次級光源】〇4，如圖2 形照明場蜂窩板時，光鬧平面上次級光源1{)4的分佈^隋 光方Λ上二有/他次級光源。但調制盤平面“ -场點的先目里如射仍為圓形，因非每— 源的光。進一步言之，即場邊瞳 ^ 2糾人、及光 圖20所示。 ^邊、、彖先目里刀佈向左右延伸，如 使用一特殊成形的遮蔽裝置可使所
士寫⑽被覆蓋。此遮蔽装置直接設在場蜂寫1〇2反射鏡J 刖方。此處遮蔽裝置的邊界線配合場蜂窩丨〇 2之形狀。不 同的場蜂离1 02反射鏡98照射需使用相應之遮蔽裝置，其 例如設作可更換。 為細小長兔比，可使各蜂窩具—變形作用，如專利D E 199 31 84 8·4所提出者，提出曰期1999年7月9曰，其公告 内容完全採納於本申請案中。 圖21及22顯示兩場蜂窩板34，其具相同數目場蜂窩42， 仁昜手窩42長寬比或大小不同。圖a中蜂窩1的長寬比 為17. 5 : 1 ’圖22中蜂窩42. 2的長寬比為i : i。如比較圖 21 ί圖2:所看出’蜂寓板照射41相同時’方形的蜂窩42· 2 ί二a: : 2 t數目高於較高長寬比的蜂窩42. 1。故方形蜂 寓的：”勻度較具高長寬比的蜂寫為佳。因&，均勻度 元件編號說巧長…低使需要的場蜂高較少。 1 光源 3 散射反射鏡
1Η· 89115106.ptd 第30頁 472176 五、發明說明（27) 5 聚光反射鏡 7 聚光單元 9 像平面 12, 14, 44, 104 次級光源 16 光闌平面 30, 32 聚光反射鏡 34 光柵元件反射鏡，場蜂窩板 37 光曈蜂窩板 36, 38 場反射鏡 39 調制盤平面 10, 40，42, 100, 102， 312， 322， 332， 334 光拇元件 200，310，320, 330, 350 增設光柵元件反 360, 370 光束 390 出射光瞳 Z 中間像 3 3 6, 338
89115106.pld 第31頁 472176 _案號 89115106_年月曰 1 9__ 圖式簡單說明 圖1A及1B係設波紋機光源之照明系統的基本結構圖。 圖2 A係圖1 A及1 B之結構的設置。 圖2B係圖1 A及1 B設掃描反射鏡之結構的設置。 圖2 C - 2 D係圖1 A及1B聚光單元設可變形反射鏡之可變形 反射鏡兩狀態結構的設計。 圖2E係設第二光栅元件反射鏡之照明系統。 圖2F係設第二光柵元件反射鏡之照明系統，該第二光柵 元件反射鏡不同於圖2E。 圖2 G及2 Η係圖2 E及2 F系統之部分圖。 圖21及2』係圖2Ε及2F第二光柵元件反射鏡之前視圖。 圖2五及2L係產生四極照明之反射鏡的實施型式。 圖2Μ係有中間像之照明系統’其可變形反射鏡設在與調 制盤平面共軛之平面上。 圖2谷係增設反射鏡表面場蜂窩部份圖。 圖2Q係增設場蜂窩反射鏡側視圖。 圖3係反射鏡與其上光柵元件實例。 圖4 Α係圖3反射鏡光闌平面上次級光源的分佈。 圖4B-4L係設擺動器光源之EUV照明系統。 圖5係定義滿充因數之物鏡孔徑與照射關係。 圖6 A係.滿充因數¢7 = 1. 〇時場蜂窩板之照射。 圖6B係滿充因數σ = 〇· 6時場蜂窩板之照射。 圖6C係滿充因數
89115106.ptc 第32頁 472176 _案號89115106_年月日__ 圖式簡單說明 時場蜂窩板之環形照射。 圖6D係四極照明時場蜂窩板之照射。 圖7係σ = 1. 0時場點在光軸之光瞳照射。 圖8係σ = 1. 0曰夺場點在場邊緣（X = 4 0， y = 4. 0 4 )之光 瞳照射。 圖9係σ = 0. 6時場點在光軸之光曈照射。 圖1 0係σ = 0 . 6時場點在場邊緣（X = 4 0 , y = 4. 0 4 )之 光曈照射。 圖11係環形照射時場點在光轴之光瞳照射。 圖1 2係環形照射時場點在場邊緣（X = 4 0，y = 4. 0 4 )之 光瞳照射。 圖1 3係四極照明時場點在光平面之光瞳照射。 圖1 4係四極照明時場點在場邊緣（X = 4 0，y = 4 . 0 4 )之 光瞳照射。 圖1 5係出射光曈照明分佈σ = 1. 0時調制盤平面上之積 分掃描能量。 圖1 6係出射光瞳照明分佈σ = 0. 6時調制盤平面上之積 分掃描能量。 圖1 7係環形照明分佈時調制盤平面上之積分掃描能量。 圖1 8係四極照明分佈時調制盤平面上之積分掃描能量。 圖1 9係長寬比1 7. 5 : 1之蜂窩組成之蜂窩系統。 圖2 0係圖1 9之蜂窩板所作成之場蜂窩配置的透鏡照明系 統之光照射圖。 圖2 1係長寬比1 7. 5 : 1之蜂窩組成之場蜂窩板。 圖2 2係長寬比1 : 1之蜂窩組成之場蜂窩板。
89115106.ptc 第33頁修正頁

Claims (1)

  1. 90. 6. 12 修正本 ^2176 山 MM 89115106__年月 日 倐正 、申睛專利範圍 1 ’ 種·^又影曝光设備之照明系統，包括 | 才:丨1 ,Ί 光源（1) ’發射波長$193nm，尤其是在l〇nm與20nm之 間， —照明之聚光單元（ 30, 32 ) 一 產生次級光源（1 4 )之反射鏡裝置，包括一分隔成光栅 元件（1〇,40,42，100，102)之反射鏡（34)， —光闌平面（16)， —或多個使光闌平面成像於照明系統出射光曈（3 9 〇 )之 光學元件（36, 38)， —物平面（3 9 )，在該平面光柵元件的像大部份重合且以 —強度分佈照射一預設場， σ —在出射光瞳（ 3 9 0 )產生預設型式及/或滿户 的光學元件（30,310,320,330 )， 兩充度之先为佈 2中光分佈之型式及/或滿充度可藉光學元 矛夕動或變形而改變。 干的更換 2.如申請專利範圍第〗項 :件數目及/或形狀的選擇使得掃=值；= 義’最好使小於5%，尤其最好是小於1% ^義作預設場内垂直於積分方向之 ▼也此置值 線積分。 深上谷點強度分佈的 3·如申請專利範圍第1項所述之昭 件數目及/或形狀的選擇使得強度分佈均以：光 10乂，表好使小於5%，尤其最好是小於1%。勾度小於 4·如申請專利範圍第丨項所述之照明系、统 丹中在物平
    I11I1H 89115106.ptc 第34頁 472176
    面（3 9)大部份重叠之像數可藉光學元件的更換、移動或變 形而改變。 5.如申請專利範圍第1項所述之照明系統，其中在物平 面大部份重合之像最低數大於50,最好是大於70,尤其最好 是大於1 0 0。 6 ·如申請專利範圍第1項所述之照明系統’其中照射的 場是一環形場。 7. 如申請專利範圍第1項所述之照明系統’其中照射的 場長寬比在2:1與17.5 :1之間，尤其是Η :1。 8. 如申請專利範圍第1項所述之照明系統，其中光栅元 件為矩形。 9 ·如申請專利範圍第1項所遂之照明系統，其中光柵元 件具變形作用。 I 0.如申請專利範圍第1項所述之照明系統，其中產生變 形作用之反射鏡光桐元件為圓枉形及/或ί衣形。 II ·如申請專利範圍第9項所述之照明系統，其中光栅元 件長I比小於場長寬比，尤其是小〇. 5。 1 2 ·如申請專利範圍第1項所述之照明系統，其中光學元 件包括一設在次級光源處的遮蔽裝置。 1 3 ·如申請專利範圍第1項所述之照明系統，其中光學元 件包括一設在接近光栅元件反射鏡的遮蔽裝置。 1 4.如申請專利範圍第1項所述之照明系統，其中光學元 件設在光源（1 )與光柵元件反射鏡（3 4 )之間，且光柵元件 反射鏡的ft?、射可藉光學元件的更換、移動或變形而改變。
    第35頁 472176 _Ι^__89Π5ΐ〇6_^__J-§-Μ：-- :、申請專利範圍 1 5.如申請專利範圍第1 &項戶斤述之照明系統’其中光學 元件是一可控制掃描反射鏡。 1 6.如申請專利範圍第〗4項所述之照明系統，其中光學 元件是一具變焦作用的光學系統。 1 7.如申請專利範圍第丨4項所述之照明系統，其中光學 元件是具可變形表面的反射鏡。 1 8 ·如申請專利範圍第丨7項所述之照明系統’其中具可 變形表面的反射鏡設有多個操縱器。 1 9.如申請專利範圍第1 8項所遂之照明系統，其中操縱 器設在反射鏡下側。 2 0.如申請專利範圍第1 9項所述之照明系統，其中操縱 器包括壓電元件及/或電磁激勵元件’以產生變形，且壓 電元件及/或電磁激勵元件可控制。 2 1.如申請專利範圍第丨4項所述之照明系統，其中光學 元件是一增設之光柵元件反射鏡（3 1 0, 320, 330 )。 2 2.如申請專利範圍第2 1項所述之照明系統，其中增設 光栅元件反射鏡（31〇, 320, 330)與光栅元件反射鏡（34)之 間設一光學系統，其包括至少一聚光反射鏡（3 〇 2 )，且且 光栅元件反射鏡（34)上增設反射鏡（310, 320, 330)光柵元 件的像.大部份重合。 2 3.如申請專利範圍第2 1項所述之照明系統，其中增設 光柵元件反射鏡（3 1 0，3 2 0，3 3 0 )可更換。 2 4.如申請專利範圍第2 1項所述之照明系統，其中增設 反射鏡之光栅元件（312, 322, 332, 334, 336, 338)具一會聚
    89115106.ptc 第36頁 472176 ____ 案號 8miRinR_手 A 日______ 六、申請專利範圍 或發散作用。 2 5.如申請專利範圍第2丨項所述之照明系統’其中增設 反射鏡之光柵元件（3丨2, 322,332,334,336，338)設為衍 射。 2 6.如申請專利範圍第2丨項所述之照明系統，其中增設 反射鏡之光栅元件（312, 322, 332, 334, 336，338)為六邊 形。 2 7.如申請專利範圍第2 1項所述之照明系統’其中增設 反射鏡之光柵元件（312,322, 332, 334, 336，338)為具會聚 或發散面之軸外段。 2 8 ·如申請專利範圍第丨4項所述之照明系統，其中光學 元件是一可更換反射鏡。 2 9. —種投影曝光設備之照明系統’包括 一光源（1)，發射波長$193nm，尤其是在l〇nm與20nm之 間， 一物或調制盤平面（3 9 )，及 一在光源（1)與物平面（39)之間與物平面（39)共輛之平 面（Z) ’其特徵在於： 在照明系統出射光瞳（3 9 )產生預設光分佈的工具接近或 設在與物平面共軛的平面（Z)上。 3 0.如申請專利範圍第2 9項所述之照明系統’其中照明 系統包括產生次級光源之工具，該工具至少具一反射鏡或 透鏡裝置，其包括一分隔成光柵元件（10, 40, 100，102)之 反射鏡或透鏡（34)。
    89115106.ptc 第37頁 ^2176 --ΜΜ^89]_ΐ5ΐ〇β_^_η β__ 六、申請專利範圍 -- 31.如申請專利範圍第2 9項所述之照明系统，其中照明 系統包括一或多個使光栅所產生次級光源成像於照明系統 出射光瞳（39)之光學元件（36, 38 )。 3 2.如申請專利範圍第2 9項所述之照明系統，其中產生 預e又照射的工具包括具可變形表面之反射鏡。 33. 如申請專利範圍第32項所述之照明系稣’其中具可 變形表面之反射鏡或透鏡設有多個操，縱器。 34. 如申請專利範圍第33項所述之照明系統，其中操縱 器设在反射鏡下側。 。35·如申請專利範圍第33項所述之照明系統，其中操縱 器包括壓電元件及/或電磁激勵元件，以產生變形，且壓 電元件及/或電磁激勵元件可控制。 3 6 ·如申請專利範圍第3 2項所述之照明系统，其中可變 I表面之控制為利用大本振蕩頻率而造成動態變形。 3 7 ·如申請專利範圍第3 6項所述之照明系統，其中大本 振蕩頻率動態變形的選擇使得次級光源在出射光瞳的離散 像被移動而在時間上大致填滿出射光瞳。 3 8.如申請專利範圍第2 9項戶斤述之照明系統，其中產生 光分佈之工具包括一增設之光柵元件反射鏡。 39.如申請專利範圍曰第38項所述之照明系統，其中增設 反射鏡之光柵元件具—會聚或發散作用。 4〇.如申請專利範圍第曰38項所述之照明系統，其中增設 反射鏡之光柵元件設為衍射。 41.如申請專利範圍第38項所述之照明系統，其中增設
    472176 _案號89115106_年月日__ 六、申請專利範圍 光柵元件反射鏡可更換。 4 2 .如申請專利範圍第1項所述之照明系統，其中出射光 瞳光分佈的型式為圓形或至少接近圓形分佈。 4 3.如申請專利範圍第4 2項所述之照明系統，其中出射 光瞳圓形或接近圓形照射的滿充度小於1. 0，尤其是小於 0.6° 44.如申請專利範圍第1項所述之照明系統，其中出射光 瞳光分佈的型式為環形分佈。 4 5.如申請專利範圍第1項所述之照明系統，其中出射光 瞳光分佈的型式為四極分佈。
    4 6 . —種微石版印刷EUV投影曝光設備，包括一申請專利 範圍第1項所述之照明系統、一遮蔽罩、一投影物鏡尽...一 光敏物，尤其是一置於承載系統上的晶圓。 4 7.如申請專利範圍第46項所述之微石版印刷EUV投 設備’其設作掃描系統。 48. —種微電子元件之製法，尤其是以申請專利範 46項所述之EUV投影曝光設備製造半導體晶片。
    89115106.ptc 第39頁
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