DE2910280C2 - Optische Abbildungssysteme - Google Patents

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein optisches Abbildungssystem gemäß den Oberbegriffen der Patentansprüche 1 und 2.

Es gibt optische Geräte, bei denen es erwünscht ist, daß von einer Lichtquelle ausgehendes Licht einen schmalen, kreisbogenförmigen Bereich beleuchtet. Zu diesen Geräten gehören Projektionsgeräte mit katoptrischen Objektiven, mit deren Hilfe eine beleuchtete Maske auf ein Mikroplättchen bzw. Wafer aufbelichtet wird. Solche Projektionsgeräte sind durch die US 39 63 353 und die US 40 11 011 bekannt. Die dort beschriebenen katoptrischen Objektive haben die Eigenschaft, daß sie lediglich einen schmalen, kreisbogenförmigen Bereich der Objekt- bzw. Maskenebene in die Bild- bzw. Waferebene abbildungsfehlerfrei abbilden. Unter dem Aspekt der günstigsten Ausnutzung der Energie der Lichtquelle, mit deren Hilfe die Maske beleuchtet wird, ist es daher wünschenswert, wenn das von der Lichtquelle ausgehende Licht lediglich auf einen kreisbogenförmigen Bereich auf der Maske gerichtet wird.

Ein schmaler, kreisbogenförmiger beleuchteter Bereich kann mit einer bogenförmigen Lichtquelle erzielt werden. Eine bogenförmige Lichtquelle kann vergleichweise einfach durch eine Wolframlampe mit einem bogenförmig gekrümmten Heizwiderstand realisiert werden. Eine solche Wolframlampe erfüllt jedoch häufig die an Projektionsgeräte der vorstehend beschriebenen Art gestellten Forderungen im Hinblick auf den Wellenlängenbereich und die Helligkeit nicht. Ausreichende Helligkeit und Licht mit einem hohen Anteil ultravioletter Strahlen liefern dagegen Gasentladungsröhren wie Xenon- oder Quecksilberlampen. Bei diesen den Gasladungsbereich bogenförmig zu krümmen, ist vergleichsweise aufwendig, so daß derartige Xenon- oder Quecksilberlampen kostspielig sind und als Verbrauchsartikel den Betrieb der Projektionsgeräte verteuern.

Wünschenswert ist ein optisches Abbildungssystem, das es ermöglicht, daß von einer punktförmigen Lichtquelle ausgehende Licht auf einen kreisbogenförmig gekrümmten Bereich zu richten.

Ein optisches Abbildungssystem mit den Merkmalen des Oberbegriffs von Patentanspruch 1 ist aus der JP 48-13477 A2 (1973) bekannt. Bei diesem bekannten optischen Abbildungssystem ist der geometrische Körper, aus dessen Mantelfläche das Spiegelband geschnitten ist, ein Konus. Der punktförmigen Lichtquelle nachgeschaltet ist als bündelnde Einrichtung ein Objektiv. Von diesem aus werden die Lichtstrahlen konvergierend auf ein Spiegelpolygon gerichtet, das die Lichtstrahlen zu dem Spiegelband reflektiert, von dem wiederum die Lichtstrahlen zu der zweiten zur Symmetrieachse senkrechten Ebene gerichtet werden. Aufgrund der bündelnden Wirkung des Objektivs entsteht somit in der zweiten Ebene ein zur punktförmigen Lichtquelle konjugierter Bildpunkt. Dieser wandert in der zweiten Ebene aufgrund der Drehung des Polygonspiegels entlang einem Kreisbogen.

Dieses bekannte optische Abbildungssystem ist somit lediglich in der Lage, zwei Punkte ineinander abzubilden. Hierfür wird zusätzliche zu dem Spiegelband ein bündelndes Objektiv benötigt. Damit ein Kreisbogen überstrichen wird, wird zusätzlich eine Ablenkeinrichtung in Form des Spiegelpolygons benötigt, so daß das bekannte optische Abbildungssystem insgesamt konstruktiv vergleichsweise aufwendig ist.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein optisches Abbildungssystem zu schaffen, das mit vergleichsweise einfachen konstruktiven Mitteln in der Lage ist, einen Punkt einerseits sowie einen Kreisbogen andererseits wechselseitig ineinander abzubilden.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch das optische Abbildungssystem gemäß Patentanspruch 1 sowie das optische Abbildungssystem gemäß Patentanspruch 2 gelöst. Bei dem erfindungsgemäßen optischen Abbildungssystem ist das Spiegelband aus einer Kugel geschnitten. Die punktförmige Lichtquelle befindet sich auf der Symmetrieachse außerhalb des Mittelpunktes. Aufgrund dieser Geometrie des Spiegelbandes und des Ortes der punktförmigen Lichtquelle existiert für jeden Lichtquellenort eine zur Symmetrieachse senkrechte Ebene, in der im Meridionalschnitt die von der punktförmigen Lichtquelle divergierend ausgehenden Lichtstrahlen gebündelt werden, so daß in dieser Ebene ein kreisbogenförmiges Bild der punktförmigen Lichtquelle entsteht. Diese Abbildungsbeziehung besteht selbstverständlich auch dann, wenn die Lichtstrahlen von dem Kreisbogen in der zweiten Ebene ausgehen, so daß dann als Bild der Punkt auf der Symmetrieachse entsteht.

Ein torisches Spiegelband bei einer Abtastvorrichtung ist durch die DE-AS 15 72 544 bekannt. Ein bogenförmiger beleuchteter Bereich wird wie im Falle des gattungsbildenden optischen Abbildungssystems lediglich durch eine Ablenkvorrichtung in Form eines Spiegelpolygons erreicht. Durch die DE 22 27 367 B2 sind sphärische Spiegelbänder als Elemente eines optischen Abbildungssystems an sich bekannt. In diesem bekannten Fall dienen die sphärischen Spiegelbänder dazu, ausgestrahlte Lichtstriche bis zur nächstfolgenden Reflektionsfläche um 90° zu drehen.

Die im Hinblick auf die Erfindung gemachte Aussage, daß das Spiegelband aus der Mantelfläche eines geometrischen Körpers "ausgeschnitten" ist, hat nicht nur die Bedeutung eines körperlichen Abschneidens bzw. Ausschneidens sondern auch eines zum körperlichen Ausschneiden äquivalenten Vorgehens wie beispielsweise des Abdeckens von solchen Bereichen der Kugelfläche mit einem nicht reflektierenden Anstrich, die außerhalb des gewünschten Spiegelbandes liegen.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden im folgenden unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt

Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines sphärischen Spiegelbandes;

Fig. 2 eine perspektivische Ansicht eines ersten Ausführungsbeispiels des optischen Abbildungssystems;

Fig. 3 ein zweites Ausführungsbeispiel des optischen Abbildungssystems im Meridionalschnitt;

Fig. 4(A, B, C) eine konkrete Ausgestaltung des zweiten Ausführungsbeispiels gemäß Fig. 3 als Beleuchtungssystem;

Fig. 5(A, B, C, D, E) eine Anwendung des zweiten Ausführungsbeispiels bei einem Beleuchtungssystem für ein Projektionsgerät; und

Fig. 6 eine schematische Darstellung eines Projektionsgerätes mit dem Beleuchtungssystem gemäß Fig. 5.

Die Fig. 1 stellt die Beschaffenheit eines sphärischen Spiegelbandes dar.

Mit 1 ist ein konkaver sphärischer Spiegel bezeichnet, während mit 2 ein sphärisches Spiegelband bezeichnet ist, das durch Schneiden entlang nicht gezeigter Ebenen gebildet ist, die senkrecht zu einer Symmetrieachse 3 des sphärischen Spiegels 1 stehen und voneinander in einem bestimmten Abstand liegen. Mit 4 ist der Mittelpunkt des sphärischen Spiegels 1 bezeichnet. Nimmt man nun an, daß eine punktförmige Lichtquelle 5 an dem Mittelpunkt 4 angebracht ist, so wird das von der Lichtquelle 5 zu dem sphärischen Spiegelband 2 hin gehende Licht durch diesen reflektiert und wieder am Ort der Lichtquelle 5 gesammelt. Wenn die Lichtquelle 5 an irgendeinem vom Mittelpunkt 4 verschiedenen Ort an der Symmetrieachse angebracht ist, wie es in Fig. 2 gezeigt ist, wird ein kreisbogenförmiges Bild 6 erzielt. Wenn nämlich gemäß der Darstellung in Fig. 1 die Lichtquelle 5 an dem Mittelpunkt 4 des kugelförmigen Spiegels 1 angebracht ist, ist der Einfallswinkel der Lichtstrahlen auf dem Spiegelband 2 im Sagittalschnitt und im Meridionalschnitt gleich. Jedoch ist bei Anordnung der Lichtquelle 5 an irgendeinem vom Mittelpunkt 4 der Kugelform verschiedenen Ort auf der Symmetrieachse 3 gemäß der Darstellung in Fig. 2 der Einfallswinkel im Sagittalschnitt verschieden von dem im Meridionalschnitt.

Daher werden die Sagittal-Lichtstrahlen nicht in einer Ebene gebündelt, in welcher in dem Meridionalschnitt die Meridional-Lichtstrahlen gebündelt werden und die senkrecht zur Symmetrieachse steht. Daher ergibt sich das kreisbogenförmige Bild 6 der Lichtquelle. Hierbei ist anzumerken, daß ein Ort 7 auf der Symmetrieachse 3 ein Ort ist, der zu der Punktlichtquelle 5 im Sagittalschnitt konjugiert ist. Die Abbildung der Meridional-Lichtstrahlen in dem Meridionalschnitt in einer zur Symmetrieachse 3 senkrechten Ebene beruht darauf, daß eine Ellipse, die als ihre beiden Brennpunkte die Lichtquelle und den Bildort der Meridional-Lichtquelle hat, mit dem kreiförmigen Meridionalschnitt der Kugelfläche des Spiegelbandes 2 näherungsweise zusammenfällt.

Wenn ferner gemäß Fig. 2 ein mit dem Lichtquellen-Bild identisches Objekt an dem Ort dieses Lichtquellen-Bilds 6 angebracht ist, wird dieses an dem Ort der Lichtquelle 5 abgebildet.

Die Fig. 3 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel des Abbildungssystems im Meridionalschnitt. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist der sphärische Spiegel 1 entlang zweier Ebenen so abgeschnitten, daß die Tangente an eine Mittellinie 8 des sphärischen Spiegelbandes 2 die Symmetrieachse 3 unter 45° schneidet. Die Lichtquelle 5 ist an einem Ort angebracht, an dem eine durch die Mittellinie 8 laufende Linie senkrecht auf der Symmetrieachse 3 steht. Bei dieser Anordnung wird ein von der Lichtquelle 5 kommender Hauptstrahl 9 mittels des sphärischen Spiegelbandes 2 unter rechtem Winkel abgelenkt und trifft senkrecht auf eine Bildebene 10, die die "zweite Ebene" der Erfindung bildet. Dieses Abbildungssystem kann als sog. telezentrisches optisches System bezeichnet werden, da der Hauptstrahl senkrecht auf die Bildebene trifft.

Anhand der Fig. 4 wird nun eine Konkretisierung des optischen Abbildungssystems nach Fig. 3 erläutert.

Die Fig. 4A ist eine Vorderansicht, die Fig. 4B eine Seitenansicht und die Fig. 4C eine Unteransicht. Eine punktförmige Lichtquelle wie beispielsweise eine Hochspannungs-Quecksilberlampe 11 mit kurzem Lichtbogen hat an ihrem oberen und unteren Ende elektrische Anschlüsse und zwischen den beiden Anschlüssen eine Glasröhre, in der an den gegenüberliegenden Enden Elektroden angebracht sind, die in einem bestimmten kurzen Abstand stehen. Das Innere der Glasröhre ist derart mit Gas gefüllt, daß durch Anlegen einer Spannung an die Elektroden eine Entladung auftritt, wodurch zwischen den Elektroden Licht abgegeben wird. Der Lichtabstrahlungspunkt bildet die Lichtquelle 5. 12 bezeichnet ein sphärisches Spiegelband, während 13 eine Ausleuchtfläche bezeichnet; diese Bezugszeichen entsprechen den Bezugszeichen 2 und 10 in Fig. 3. Daher läuft ein Hauptstrahl 14 von der Lichtquelle 5 parallel zu der Ausleuchtfläche 13, wird mittels des sphärischen Spiegelbandes 12 unter rechtem Winkel abgelenkt und trifft senkrecht auf die Ausleuchtfläche 13 auf. Auf diese Weise wird auf der Ausleuchtfläche 13 ein kreisbogenförmiges Bild der Lichtquelle ausgebildet.

Vorstehend ist ein sphärisches Spiegelband beschrieben, das durch Abschneiden eines sphärischen Spiegels entlang zweier zur Symmetrieachse senkrechter Ebenen erhalten wurde. Dadurch hat das erzielte kreisbogenförmige Bild der Lichtquelle entlang des Kreisbogens gleichförmige Helligkeit. Wenn beispielsweise ein bogenförmiges Bild der Lichtquelle erwünscht ist, das an den Enden stärkere Helligkeit als an dem Mittelteil des Kreisbogens hat, kann dies dadurch bewerkstelligt werden, daß die Ausmaße des sphärischen Spiegelbandes in Richtung der Symmetrieachse an den Enden größer als an dem Mittelteil gewählt werden. In diesem Fall braucht der sphärische Spiegel nicht entlang der beiden zur Rotationssymmetrieachse senkrechten Ebenen abgeschnitten zu sein. Ferner kann die Lage der Lichtquelle entsprechend der Art des gewünschten Bilds etwas von dem Ort auf der Symmetrieachse abweichen. Dies gilt auch für die Lage der Bildebene.

Nachstehend wird der Fall beschrieben, daß das Abbildungssystem bei einem Beleuchtungssystem eines optischen Projektionsgeräts für integrierte Schaltungen unterschiedlichen Integrationsgrads verwendet wird. Bei diesem Beleuchtungssystem wird das Abbildungssystem nach Fig. 3, nämlich ein telezentrisches Abbildungssystem verwendet. Fig. 5 zeigt die Ausbildung des Beleuchtungssystems. Die Fig. 5A zeigt den Aufbau des ganzen Systems, die Fig. 5B zeigt eine Schlitzplatte S₁, die Fig. 5C zeigt eine Schlitzplatte S₂ und die Fig. 5D und 5E zeigen die Abbildung einer Lichtquelle 15 an einem Betrachtungsschirm VS.

In Fig. 5 ist die Lichtquelle 15 eine Hochspannungs-Quecksilberlampe, während R₀ ein sphärischer Spiegel ist, der die durch die Quecksilberlampe gebildete Lichtquelle in dieser selbst abbildet. R₁ ist ein telezentrisches sphärisches Spiegelband. M₁ bezeichnet einen gewöhnlichen Spiegel, während S₁ eine Schlitzplatte mit einer bogenförmigen Öffnung gemäß der Darstellung in Fig. 5B ist. In der Ebene dieser Schlitzplatte S₁ wird ein kreisbogenförmiges Bild der Lichtquelle ausgebildet. Durch Veränderung der Länge in Richtung des Keisbogens der Öffnung der Schlitzplatte S₁ und des Radius dieses Kreisbogens ist es möglich, den Radius und die Länge des kreisbogenförmigen Bilds der Lichtquelle an einer Maske MK einzustellen. Mit F ist ein Aufzeichnungs-Lichtfilter bezeichnet, das während der Ausrichtung zwischen der Maske MK und einem Wafer an der Schlitzplatte S₁ eingefügt wird. M₂ ist ein gewöhnlicher Spiegel, während R₂ ein eintrittsseitig telezentrisches sphärisches Spiegelband ist, das die Öffnung der Schlitzplatte S₁ in ein punktförmiges Bild umwandelt. M₃ ist ein teildurchlässiger Spiegel. W ist ein Verschluß, der in der Bildebene des Punktbildes der Schlitzplatte S₁ liegt und an dem Ort des Punktbildes gebracht werden kann, wenn das Beleuchten der Maske beendet werden soll. Der Betrachtungsschirm VS ist in einer Ebene angebracht, die in bezug auf den teildurchlässigen Spiegel M₃ zu dem Ort konjugiert ist, an dem das Punktbild ausgebildet wird. Daher werden an dem Schirm VS das Bild der tatsächlichen Lichtquelle und ein durch den sphärischen Spiegel R₀ ausgebildetes Bild der Lichtquelle geformt. Daher ist es möglich, den Betrachtungsschirm zum Ausrichten bzw. Ausgleichen irgendeiner Fehleinstellung gemäß der Darstellung in Fig. 5D dadurch zu verwenden, daß an dem Betrachtungsschirm bei der Ausrichtung des optischen Abbildungssystems der Zustand gemäß Fig. 5E herbeigeführt wird, bei dem zwei Bilder der Lichtquelle innerhalb eines Visierkreises liegen. M₄ ist ein Spiegel, während R₃ ein austrittsseitig telezentrisches sphärisches Spiegelband ist, das das durch das sphärische Spiegelband R₂ gebildete Punktbild wieder in ein bogenförmiges Bild an der Maske MK umsetzt. S₂ ist eine Schlitzplatte, die eine bogenförmige Öffnung gemäß der Darstellung in Fig. 5C hat und die dazu dient, die numerische Apertur für das auf die Maske MK fallende Lichtstrahlenbündel zu steuern. Die Abbildungsleistung des in Fig. 6 gezeigten optischen Projektionsgerätes ändert sich in einem gewissen Ausmaß mit dem Verhältnis der numerischen Apertur dieses Lichtstrahlenbündels zur numerischen Apertur dieses optischen Projektionssystems, so daß es daher wichtig ist, die Breite dieser schlitzförmigen Öffnung festzulegen.

Anhand der Fig. 6 wird das optische Projektionsgerät beschrieben, mittels dessen die mittels des beschriebenen Beleuchtungssystems beleuchtete Maske auf ein Mikroplättchen bzw. Wafer aufbelichtet wird. In Fig. 6 ist das Beleuchtungssystem gemäß der Fig. 5A insgesamt mit 22 bezeichnet.

Bei dem Projektionsgerät gemäß Fig. 6 wird ein katoptrisches System 16 mit dem Abbildungsmaßstab 1 als Objektiv verwendet, wie es in der US 3 963 353 beschrieben ist. Ein Konkavspiegel 17 und ein Konvexspiegel 18 (dessen konvexe Fläche den halben Krümmungsradius desjenigen der konkaven Fläche des Spiegels 17 hat) sind so angeordnet, daß ihre Krümmungsmittelpunkte übereinstimmen; durch Planspiegel 19 und 20 wird der Lichtweg so abgelenkt daß zwischen der Ebene der Maske MK und der Ebene des Wafers WF ein 1 : 1-Abbildungsverhältnis besteht. Die Besonderheiten dieses Objektivs liegen kurz zusammengefaßt darin, daß es durch Spiegel gebildet ist und daher keinen Farbfehler hat, während aufgrund des Umstands, daß nur bei einer bestimmten Bildhöhe kein Abbildungsfehler auftritt, eine optimale Abbildung nur entlang einem Kreisbogen mit dem Radius h in bezug auf die optische Achse 21 der Spiegel 17 und 18 erfolgt. Unter Belichtung über die bogenförmige Öffnung der Schlitzplatte S₂ und Bewegen der Maske MK und des Wafers WF als eine Einheit (unter Festhalten der anderen Teile) wird eine Aufzeichnung auf der ganzen Fläche des Wafers dadurch bewerkstelligt, daß ein bewegbarer Belichtungsschlitten in Pfeilrichtung bewegt wird. Daher ist es möglich, Wafer WF großen Ausmaßes zu bedrucken bzw. zu belichten.

An dem katoptrischen System 16 ist das optische Beleuchtungssystem 22 angebracht; die Einzelheiten desselben entsprechend den in Fig. 5A gezeigten. (In Fig. 6 ist ein Teil des optischen Beleuchtungssystems weggelassen).

Zwischen das katoptrische System 16 und das optische Beleuchtungssystem 22 ist ein optisches Beobachtungssystem 23 eingefügt. Das optische Beobachtungssystem wird dafür verwendet, die Maske MK mit dem Wafer WF auszufluchten; es weist einen Halbspiegel 24, ein Objektiv 25, Planspiegel 26 und 27, eine Relaislinse 28 und ein Okular 29 auf. Wenn zum Beleuchten der Maske MK das kreisbogenförmige Lichtstrahlenbündel aus dem Beleuchtungssystem 22 durch den Halbspiegel 24 hindurchtritt, gelangen Lichtstrahlen durch die Maske MK hindurch und beleuchten den Wafer WF mit Hilfe des katoptrischen Systems, während an dem Wafer WF gestreutes Licht wieder durch das katoptrische System an der Maske MK abgebildet wird, so daß das Bild der Maske MK mit dem Bild des Wafers WF überlagert ist. Sobald das optische Beobachtungssystem auf die Maske MK scharf eingestellt ist, können die Maske MK und der Wafer WF betrachtet werden.

Der Wafer WF ist mit Photolack beschichtet. Während der Betrachtung wird Licht mit einer Wellenlänge verwendet, bei der keine Sensibilisierung des Photolacks auftritt, wogegen zur Belichtung Licht mit einer Wellenlänge verwendet wird, bei der der Photolack sensibilisiert wird. Daher wird das Filter F gemäß Fig. 5A eingefügt, das Licht mit einer Wellenlänge durchläßt, bei der keine Sensibilisierung auftritt, und Licht mit einer Wellenlänge sperrt, bei der eine Sensibilisierung auftritt, und das optische Beobachtungssystem gemäß der Darstellung in Fig. 6 angeordnet. Dann wird zum Ausrichten der Maske MK in eine vorbestimmte Lage in bezug auf den Wafer WF eine nicht gezeigte bewegbare Ausfluchtungsvorrichtung bewegt, die den Halter für die Maske MK oder den Halter für den Wafer bewegt. Danach kann das Drucken bzw. Belichten erfolgen, jedoch wird zuvor das optische Beobachtungssystem entfernt, um einen Lichtverlust durch den Halbspiegel 24 zu vermeiden. Die Maske MK und der Wafer WF werden als eine Einheit zu einer Seite hin bewegt, wonach der Filter F entfernt wird. Das Belichten erfolgt unter Bewegen der Maske MK und des Wafers WF als eine Einheit mit gleicher Geschwindigkeit. Diese Geschwindigkeit kann entsprechend der Beleuchtung der Maske MK, der radialen Breite der bogenförmigen Schlitzöffnung und der Empfindlichkeit des Photolacks verändert werden.

Bei dem vorstehend beschriebenen Beleuchtungssystem wurden ein bis drei sphärische Spiegelbänder verwendet. Die Krümmungsradien der sphärischen Spiegelbänder brauchen nicht immer einander gleich sein. Beispielsweise kann der Radius des kreisbogenförmigen Bildes auf der Maske dadurch verändert werden, daß der Radius des Spiegels R₃ in Fig. 5A verändert wird.

Claims (2)

1. Optisches Abbildungssystem,
mit einem konkaven Spiegelband, das aus der Mantelfläche eines dreidimensionalen, rotationssymmetrischen und in einer senkrecht zu der Symmetrieachse verlaufenden, ersten Ebene konstant gekrümmten, geometrischen Körpers ausgeschnitten ist, wobei die sich in Längsrichtung des Spiegelbandes erstreckende Mittellinie desselben in der ersten Ebene liegt, so daß in einem die Symmetrieachse enthaltenden Meridionalschnitt am Spiegelband reflektierte Lichtstrahlen zwischen einer zweiten, ebenfalls senkrecht zur Symmetrieachse liegenden Ebene und der Symmetrieachse verlaufen,
und mit einer punktfömrigen Lichtquelle sowie mit einer die von der punktförmigen Lichtquelle ausgehenden Lichtstrahlen im Meridionalschnitt auf die zweite Ebene bündelnden Einrichtung,
dadurch gekennzeichnet, daß der geometrische Körper eine Kugel ist und die punktförmige Lichtquelle (5, 15) auf der Symmetrieachse (3) außerhalb des Kugelmittelpunktes (4) angeordnet ist, wobei die bündelnde Einrichtung durch das Spiegelband (2, 12, R₁, R₃) selbst gebildet ist, und in er zweiten Ebene (10, 13) ein kreisbogenförmiges Bild der punktförmigen Lichtquelle entsteht, dessen Bogenmittelpunkt auf der Symmetrieachse liegt.

2. Optisches Abbildungssystem,
mit einem konkaven Spiegelband, das aus der Mantelfläche eines dreidimensionalen, rotationssymmetrischen und in einer senkrecht zu der Symmetrieachse verlaufenden, ersten Ebene konstant gekrümmten, geometrischen Körpers ausgeschnitten ist, wobei die sich in Längsrichtung des Spiegelbandes erstreckende Mittellinie desselben in der ersten Ebene liegt, so daß in einem die Symmetrieachse enthaltenden Meridionalschnitt am Spiegelband reflektierte Lichtstrahlen zwischen einer zweiten, ebenfalls senkrecht zur Symmetrieachse liegenden Ebene und der Symmetrieachse verlaufen,
und mit einer Lichtquelle sowie mit einer die von der Lichtquelle ausgehenden Lichtstrahlen im Meridionalschnitt an einem Bildpunkt bündelnden Einrichtung,
dadurch gekennzeichnet, daß der geometrische Körper eine Kugel ist und daß die Lichtquelle in der zweiten Ebene (10) liegt und die Form eines Kreisbogens mit Bogenmittelpunkt auf der Symmetrieachse (3) hat, wobei die bündelnde Einrichtung durch das Spiegelband (2, R₂) selbst gebildet ist, und der gesamte Kreisbogen in einen gemeinsamen Bildpunkt auf der Symmetrieachse außerhalb des Kugelmittelpunktes abgebildet wird.