JP3771414B2 - リソグラフ投影装置 - Google Patents
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Description
【発明が属する技術分野】
本発明は例えば超紫外放射する照明システム、に関するものである。さらに特に本発明はリソグラフ投影装置におけるデバイスの適用に関するものであり、該リソグラフ投影装置は、
放射投影ビームを供給するために構成、配置された照明システムと、
マスクを保持するために構成されたマスクホルダーを備えた第1対物テーブルと、
基板を保持するために構成された基板ホルダーを備えた第2対物テーブルと、マスクの照射された部分を基板のターゲット部分の上へ結像させるために構成、配置された投影システムと
を具備している。
【0002】
【従来の技術】
説明を簡単にするために、前記投影システムは今後は"レンズ"と呼ぶことにするが、この用語は、例えば、屈折光学装置、反射光学装置、カタディオプトリックシステム、および荷電粒子光学装置を含んだ各種タイプの投影システムを包含するように広く解釈されるべきである。さらに、第1および第2の対物テーブルはそれぞれ“マスクテーブル”および“板テーブル”と呼んでもよい。さらに、前記リソグラフ投影装置は1あるいはそれ以上のマスクテーブルおよび/あるいは1あるいはそれ以上の基板テーブルを有したタイプのものであってもよい。そのような“多段“装置においては、付加的なテーブルを並行して用いてもよく、あるいは1あるいはそれ以上の他の工程を照射のために用いている間に、1あるいはそれ以上の準備的な工程を実行してもよい。例えば、国際特許出願WO98/28665およびWO98/40791には、2段のリソグラフ装置が記載されている。
【0003】
リソグラフ投影装置は、例えば、集積回路(ICS)の製造において用いることができる。そのような場合には、マスク(レチクル)はICの個々の層に対応する回路パターンを有していてもよく、このパターンは光電性材料(抵抗剤)の層を塗布された基板(シリコンウェハー)上のターゲット領域(ダイ)の上へ結像させることができる。一般的には、単一のウェハーが隣接するダイの全てのネットワークを包含しており、該ダイはレチクルを介して1回に1つづつ連続的に照射される。1つのタイプのリソグラフ投影装置においては、各々のダイはレチクルパターンの全体をダイの上に1回の動作で露出することによって照射され、そのような装置は普通ウェハーステップと呼ばれる。他の装置―普通はステップアンドスキャン装置と呼ばれるーにおいては、各々のダイは、与えられた参考方向(“スキャン“方向)の投影ビームによってレチクルパターンを連続的に走査することによって照射され、他方、同時にこの方向と平行に、あるいは反平行にウェハーテーブルを走査し、従って一般的には、前記投影システムは倍率M(一般的には<1)を有していて、ウェハーテーブルが走査される場合の速度Vはレチクルテーブルが走査される速度のM倍になるであろう。ここで述べたようなリソグラフ装置にかかる更なる情報は国際特許出願WO97/33205から得ることができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
リソグラフ装置においては、ウェハー上に結像することのできる像の寸法は投影放射光の波長によって制限される。デバイスの密度のより大きな集積回路を、しかもより速い操作速度で製造するためには、より小さな像を結像させることができることが望ましい。最も最近のリソグラフ投影装置は、水銀ランプあるいはエキシマレーザーによって発生された紫外光を用いるが、これは約13nmのより短い波長の放射光を用いることが提案されている。そのような放射光は超紫外光(EUV)あるいはソフトX線と呼ばれ、その有効な光源としては、レーザープラズマ光源あるいは電子貯蔵リングからのシンクロトロン放射光が含まれる。シンクロトロン放射光を用いたリソグラフ投影装置の概略設計は、ジェイ・ビー・マーフィー他によるアプライドオプティックスの1993年第32巻の6920−6929の第24頁における“シンクロトロン放射光源とX線リソグラフ投影のためのコンデンサー”に記載されている。貯蔵リングから放出されるシンクロトロン放射光は循環している電子ビームを包含する平面内によく局限されるが、これはその平面内では全ての方向へ放出され、十分に投影ビームを発生させるので、このシンクロトロン放射光を広角度の領域から収集することが必要となる。その結果、装置全体が望ましくなく大型となり、特に大型の収集ミラーが必要となる。
【0005】
超紫外放射光の他の光源として“アンジュレータ”と“ウィグラー”が提案されている。これらのデバイスにおいては、大きな、普通は相対理論的な速度、例えば貯蔵リングにおける速度で進む電子ビームは、一連の領域を横切り、ビームの速度方向とは直角な磁場が確立される。隣接する領域における磁場の方向は互いに逆であり、従って電子はアンジュレーションのある軌道を走行する。このアンジュレーション軌道に沿って電子が横断加速すると、加速の方向に対して直角方向に、即ち偏向のない軌道の方向にマックスウエルの放射光が放出される。そのような放射光源は、大きなetendueを有した、例えば、レーザープラズマ光源と比較すると一般的には中間的なあるいは小さなetendueを有している。
【0006】
“etendue”という用語は光源の寸法と、固定の放出角との積に関係する。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、放射光源、特に超紫外放射光源から放出される放射光を、リソグラフ投影装置用のアーチ形あるいはリング形の投影ビームに成型するために用いられる光学システムを提供することにある。
【0008】
本発明によると、マスク内のマスクパターンを基板上に結像させるためのリソグラフ投影装置において、
放射投影ビームを供給するために構成、配置された照明システムと、
マスクを保持するために構成されたマスクホルダーを備えた第1対物テーブルと、
基板を保持するために構成された基板ホルダーを備えた第2対物テーブルと、
マスクの照射された部分を基板のターゲット部分の上へ結像させるために構成、配置された投影システムとを具備し、前記照明システムが、
前記投影ビームの拡散を制御するために構成、配置された散乱装置を有し、該散乱装置が1次元的な列になった曲がった反射要素からなり、その各々が細い平行入射ビームを扇曲線として反射するような曲線表面に合致し、
さらに、
放射光源から前記散乱装置上へ放射する放射光を向けるために構成、配置された第1中継装置、および、
前記散乱装置のイメージを前記投影システムの入射ひとみ上で発生させるために構成、配置されている、楕円形の直角入射に近いミラーを備える第2中継装置、
を備えることを特徴とするリソグラフ投影装置が提供される。
【0009】
従って、本発明は、レチクルのためにアーチ形あるいはリング状領域の照明を与え、また投影システムの入射ひとみを良好に充満させるための、リソグラフ装置の中で用いることのできる照明システムを提供する。さらに、本発明はシステム内の磁場マスク(REMA)と入射ひとみマスク(フィルファクターの制御のため)を位置決めするための設備を作ることを可能にする。
【0010】
レチクルにおける照明のアーチ形は、(少なくとも)1次元的な列の、例えば、トロイダル形、円筒形、あるいは円錐形のミラーである散乱ミラーによって得られる。大型のetendueの光源に関しては、該散乱ミラーは好ましくはミラーの行列であり、その各々は1次元的な列のトロイダル形、円筒形、あるいは円錐形のミラーである。該行列の個々のミラーは、投影ビームの中へ放射光を集中するために個々の方向を向くことができる。小さなetendueを有した光源の場合には、入射ひとみの充満を制御、改善するために、第2散乱ミラーをシステム内に導入することができる。該第2散乱ミラーは2次元的な列の非球形ミラーである。
【0011】
本発明の各種実施例においては、中継(イメージ)ミラーを設けてもよい。例えば、第1散乱ミラーの前方に中継ミラーあるいは収集ミラーを設けて、光源からの光を収集し、それを適当な入射角で第1散乱ミラーへ向けさせることができる。磁場マスクと入射ひとみのマスクのために共役面を作り、その光をレチクルと入射ひとみに向けて、第1散乱ミラーによって反射されたアーチ形ビームの形状を保持し、レチクルにおける照射がリング状領域における形状を有しているようにするために、中継ミラーを第1散乱ミラーの後方に設けてもよい。
【0012】
第2散乱ミラーを設けるならば、これは中継ミラーと組み合わせて、単一の要素にしてもよい。そのような組み合わせ要素は、散乱機能を発揮するのに効果的で、曲線表面上に重ねられ、焦点機能を発揮するのに効果的な、2次元的な列の球形あるいは非球形のミラーからなっていてもよい。反射損失を減少させるためには、使用する要素の数が少ないほど有利である。
【0013】
投影ビームの放射光源はアンジュレータあるいはウィグラーであってもよく、これは拡散角度の小さいビームの中へ狭域波長の放射光を放出することができ、またあるいは広い領域へ放射光を放出するレーザープラズマ光源であってもよい。本発明による単純な収集光学装置は、設備の出力を強化し、リソグラフ投影装置のための良好に成形された投影ビームの発生を可能にする。
【0014】
本発明はまたリソグラフ投影装置を用いたデバイス製作方法において、
少なくとも部分的にエネルギー敏感材料の層で被覆された基板を準備することと、
パターンを含んだマスクを準備することと、
前記マスクパターンの少なくとも一部分のイメージを、前記エネルギー敏感材料の層のターゲット領域上へ投影するために、放射光の投影ビームを用いることと、
散乱装置を用いて、リソグラフ投影装置の照明システムの中で該投影ビームの拡散を制御することとを備え、該散乱装置が1次元的な列になった曲がった反射要素からなり、その各々が細い平行入射ビームを扇曲線として反射するような曲線表面に合致し、更に、
第1中継装置によって放射光源から前記散乱装置上へ放射光を向けて前記投影ビームを形成することと、
楕円形の、直角入射に近いミラーを有する第2中継装置によって前記散乱装置のイメージを前記投影システムの入射ひとみ上で発生させること
を備えることを特徴とするデバイス製作方法を提供する。
【0015】
本発明によるリソグラフ投影装置を用いる製造工程においては、マスク内のパターンが、少なくとも部分的にエネルギー敏感材料(レジスト)の層によって被覆された基板上に結像される。この結像工程の前に、該基板は下塗りや、レジスト塗布、ソフトベーキングのような各種の工程を経る。照射後は、該基板は他の工程、例えば照射後ベーキング(PEB),現像、ハードベーキング、結像イメージの測定/検査を受ける。この一連の工程はデバイス、例えばICの個々の層をパターン化するための基本として用いられる。そのようなパターン化された層は次に、食刻、イオン注入(ドーピング)、金属化処理、酸化処理、化学の機械研磨、等の各種工程を経るが、これら全ては個々の層を完成させようとするものである。複数の層が必要な場合には、各々の新しい層に対して全ての工程、あるいはその変形工程を繰り返さなければならないであろう。最終的に、デバイスの列が基板(ウェハー)上に存在することになるであろう。これらのデバイスは次に、方形切断あるいは鋸引き切断のような技術によって互いに分離され、個々のデバイスはピン等に接続されたキャリヤの上に積まれる。そのような工程に関する更なる情報は、例えば、1997年のマグロウヒル社刊のピーターファンザント著による書籍“マイクロチップ製造:半導体処理の実際ガイド“第3巻,ISBM0−07−067250−4から得ることができる。
【0016】
本発明による装置は本明細書の中で特定的にIC製造しているが、本発明の装置は多くの他用途で使用が可能であることを特に理解しなければならない。例えば、集積光学装置を製作する場合に、磁気ドメインメモリーのためのガイドパターンや検出パターン、液晶指示パネル、薄膜磁気ヘッド、などを用いてもよい。そのようなその他の使用法に関する文献において、当業者は、この明細書における“レチクル“、“ウェハー“、あるいは“ダイ”という用語はもっと一般的な用語“マスク“、“基板“、および“ターゲット領域”として考えるべきであることについて理解するであろう。
【0017】
本発明とその付属的な利点は、例示的な実施例とそれに添付図面を参照しながら、以下記載する。
【0018】
【発明の実施の形態】
各種の図面において、類似の部品は類似の参照番号によって示されている。
【0019】
実施例1
図1は本発明によるリソグラフ投影装置1を概略的に示している。該装置は、
・EUV放射の投影ビームPBを供給するための放射システムLA,ILと、
・マスクMA(たとえばレチクル)を保持するためのマスクホルダーを備え、アイテムPLに関してマスクを正確に位置決めするための第1決め装置PMに連結された第1対物テーブル(マスクテーブル)MTと、
・基板W(例えば抵抗剤を塗布したシリコンウェハー)を保持するための基板ホルダーを備え、アイテムPLに関して基板を正確に位置決めするための第2位置決め装置PWに連結された第2対物テーブル(基板テーブル)WTと、
・マスクMAの照射された部分を基板Wのターゲット部分C(ダイ)の上へ結像させるための投影システム(“レンズ“)PL(例えば屈折システム、あるいはカタディオプトリックシステム、あるいは反射システム)
とからなっている。
【0020】
前記照射システムは放射ビームを発生させる源LA(例えば貯蔵リングあるいはシンクロトロンにおける電子ビームの軌道の周囲に設けられたアンジュレータあるいはウィグラー)を有している。このビームは照明システム(“レンズ“)IL(ここではまた照明システムと呼ぶことにする。)の中に含まれる各種の光学要素に沿って通過し、従って結果として得られるビームPBは、該投影システムとマスクの入射ひとみに対して、望みの形状と強度分布を与えることができるように収集される。
【0021】
前記ビームPBは次にマスクテーブルMT上のマスクホルダーに保持されているマスクMA上に衝突する。該ビームPBは、マスクMAによって選択的に反射された後、レンズPLを貫通し、該レンズがビームPBを基板Wのターゲット領域C上で焦点を合わせる。干渉変位測定装置IFと位置きめ装置PWとを用いることによって、前記基板テーブルWTは正確に移動させることができ、例えば、ビームPBの軌道内に異なったターゲット領域Cを位置決めすることができる。同様に、位置決め装置PMと干渉変位測定装置IFもマスクMAをビームPBの軌道に関して正確に位置決めすることができ、例えば、マスクMAをマスクライブラリーから機械的に検索した後に正確に位置決めすることができる。一般的には、対物テーブルMTとWTの動きは、図1には明確に示していないが、長行程モジュール(粗位置決め)と短行程モジュール(微位置決め)とによって行われる。
【0022】
図示された装置は2つの異なったモジュールにおいて用いることができる。即ち、
・ステップモード。マスクテーブルMTは本質的に静止状態に保持され、全体的なマスクイメージがターゲット領域C上に一回の動作で投影される(即ち単一“フラッシュ“)。前記基板テーブルWTが次にx方向および/あるいはy方向に移動され、従って異なったターゲット領域CをビームPBによって照射することができる。
・スキャンモード。与えられたターゲット領域Cが単一“フラッシュ”によって照射されないという点以外は同じことである。代わりに、マスクテーブルMTが速度Vで与えられた方向(いわゆる“スキャン方向“、例えば、X方向)に移動可能になっており、従って、投影ビームPBはマスクイメージ上を走査させられ、同時に、基板テーブルWTは速度V=Mvで同一の方向あるいは反対の方向へ同期的に移動され、ここでMはレンズPLの強度(典型的にはM=1/4あるいは1/5)である。このようにして、比較的大きなターゲット領域Cが、解像度に関して妥協する必要なしに照射することができる。
【0023】
図2において概略的に示したように、前記照明システムILは貯蔵リングあるいはシンクロトロン(図示せず)の中で循環する電子ビーム11の軌道の周囲に配置された、放射源であるアジュレータあるはウィグラー10からの放射光を受け留めている。該アジュレータあるいはウィグラー10は一連の磁石(例えば電磁石)からなり、これは方向を交播する磁場領域を発生させるためのものであり、電子ビームをある波動軌道にのせて、それによってマックスウエル放射光を発生させる。放射光の望みの強度と波長とを発生させるために、前記領域の数と配置、磁場の強度、および電子ビームの寸法および速度を適当に選択することができる。
【0024】
前記照明システムILは光源からの光線を収集し、マスクにおいて反射させた後、投影システムPLの中へ向かわせる。該マスクは投影システムの対物面に位置している。該マスクの照明領域はリング状領域の形状を有している。該照明システムのイメージ特性は、散乱ミラーが零出力であるという限定的な場合に、その照明用光学装置が投影システムの入射ひとみにおいて光源のイメージを発生するようなものになっている。従って、前記マスクはコンデンサーの開口ストッパーであり、投影システムの磁場ストッパーである。前記照明システムILは投影ビーム12の光路に沿って以下の構成要素、即ち、
・くびれビーム12aを第1散乱ミラー14上に結像させるための第1中継ミラー13と、
・光線を扇曲線形にして分散させるための第1散乱ミラー14と、
・第1散乱ミラー14を投影システムPLの入射ひとみ18上に結像させるための第2中継ミラー15と、
・前記投影システムPLの入射ひとみを望みのビーム形状および断面によって、例えば均等的に満たすために、光線を分散させるための第2散乱ミラー16とからなっている。
【0025】
このシステムにおいては、前記第1および第2の中継ミラーは、第1散乱ミラーにおいて、また投影システムの入射ひとみにおいて、光源の良好な像を提供するために最適化されている。
【0026】
図2はまた投影ビーム12を選択的に反射させて、投影システムPLの入射ひとみ18の中へ入れるマスク17を示している。
【0027】
前記第1中継ミラー13はトロイダル形状になっており、投影ビームは限界見通し角で反射されて、俯角入射反射体の第1散乱ミラー14へ向かう。該第1散乱ミラー14は図3において拡大表示され、一方向の列になったトロイダル形のミラー要素14aを有しており、図3においては4個の要素が示されているが、実際にはもっと多く、例えば6個あるいは12個になっていてもよい。(この明細書においては“トロイダル”という用語はミラーの反射面がトロイダル状面の一部のみに一致していることを示している。)前記列の各々の要素の形状と要素間の間隙は、マスクにおける照明の寸法および均等性を制御する。図4には第1散乱ミラー14に関する3つの選択的な断面が示されている。そこでわかるように、該第1散乱ミラー14は該14aで示されたような全てが凸状になった要素と、14bで示されたような全てが凹状になった要素と、14cで示されたような交互に凹状、凸状になった要素からなっていてもよい。もし望みならば他の組み合わせを採用してもよい。この散乱ミラーにおける入射角もまたマスクにおけるリング磁場の曲率半径を決定する要因である。ある種の実施例においては、前記第1散乱ミラーの要素は環状面よりも円筒状あるいは円錐状になっていてもよい。(ここで“円筒状“あるいは“円錐状”という用語は、その反射面がそのケースにもよるが円筒面あるいは円錐面の一部のみと一致することを示している。)
【0028】
図5には第1散乱ミラー14の効果が示されている。明確さのために、該ミラー14はこの図では平坦なものとして示されているが、要素の曲線部を説明しようとするものではない。しかしながら、ミラーは実際には上述したような形状になっているであろう。前記ミラーの効果は、ミラー面へのその投影部i'がトロイダル状要素14aの軸線に平行になるような方向へ入射しくる、細い平行ビームiを考えることによって、最もよく理解できるであろう。また、垂直線nからビームiへの入射角が大きい。図5に示したように、反射ビームrは、要素14aの表面の輪郭および投影ビームの入射角に応じた、アーチ状の断面cを有した扇状曲線になる。
【0029】
前記第2中継ミラー15は楕円形になっており、マスク17に比較的接近している。他の実施例においても楕円形のミラーを用いてもよい。第1散乱ミラー14を入射ひとみ18の上へ結像させるのと同じように、前記ミラーは入射角が直角に近いミラーになっており、投影ビーム12を折りたたみ、マスクを都合よく方向付けることが可能になる。第2散乱ミラー16も同様に前記第2中継ミラー15およびマスク17に接近しており、平坦な基板の上に2次元的な正方形あるいは六角形の列になった、凸状あるいは凹状になった球形、非球形、あるいは環状のミラーを有している。各々の要素の間隔、分布(長方形あるいは六角形)曲率半径およびその形状が、入射ひとみにおける照明の均等性、フィルファクター、およびその形状を制御する。従って、これらのファクターは、本発明の特定の実施例に関して望みの効果を得るために選択することができる。前記第2散乱ミラー16は投影システムの入射ひとみ18が適当に充満され、かつマスクの上の投影照射の入射角が適当になることを保証する。好ましくは垂直入射からの角度が小さくなければならず、本実施例においては約5.49度である必要がある。前記第2中継ミラーと第2散乱ミラーとは両方とも垂直入射に近い反射体である。
【0030】
前記第2散乱ミラー16は、入射ひとみ18の照明のフィルファクターと形状とを制御するために、他の形状のミラーと交換してもよい。
【0031】
本発明において要求されるミラーの表面は複雑であるが、既知の技術を用いて製作することができる。ミラーにおけるある種の表面上の不規則性は許容することができ、このことは一般的にイメージの品質の低下よりも、出力の損失という結果になることに注意しよう。
【0032】
前述した第1および第2の散乱ミラー14,16はガラス基板あるいは金属基板を磨くことによって製作してもよい。あるいは、それらは表面ホログラムによって形成されても、あるいは感光性耐食膜あるいはX線リソグラフの電子ビームの直接照射によって形成された微小要素の列によって形成してもよい。
【0033】
前述した光学システムのパラメータおよび寸法は、システム全体の特定の機械的な包絡範囲や、リング磁場の形状、寸法、および入射ひとみの直径およびフィルファクターのような設計標準に関して、設計、選択されてきている。この設計標準に対する全ての変更に合致するように、最適の寸法およびパラメータを変更あるいは一定の率で変更することが認められている。
【0034】
この実施例においては、第2散乱ミラーの近くに磁場マスクが設けられ、該第2散乱ミラーと第2中継ミラーとの間に入射ひとみが設けられている。これらの要素は明確性のために図2からは省略されている。
【0035】
実施例2
本発明の第2実施例においては、図6に示したように、照明システム3は機能的には第1実施例のそれと同じであるが、3つの要素しか有していない。前記第2中継ミラー15と第2散乱ミラー16とは、第1散乱ミラーを入射ひとみ18上で効果的に焦点を合わせるために、曲線基板上の周期的な散乱構造を重ね合わせることにより、単一の第3ミラー19に組み合わせられる。このことは、散乱構造の重ねあわせを行う前の基板、即ち第2中継ミラーの表面の曲率半径が大きいので、比較的容易に行うことができる。
【0036】
第2実施例においては、図2と図6を比較することからわかるように、装置の配置が第1実施例とはわずかに異なっている。
【0037】
実施例3
本発明の第3の実施例においては、照明システム4は第2の実施例の照明システム3と類似しているが、付加的な第3の中継ミラー20を有しており、その他の幾つかの要素の配置が調節されている。図7でわかるように、入射ビームは、図6に関して前述した第2実施例におけるのと同様に、第1中継ミラー13および第1散乱ミラー14において、限界見通し角で反射される。しかしながら、第3実施例においては、ビーム12は第2中継ミラー15に直角に近い角度で入射して、これもまた直角に近い入射角で第2散乱ミラー16へ向けられる。前記第3中継ミラー20は成形されたビームをマスク17の上へ適当な角度で導き、その反射光(パターン化された)が投影システムPLの入射ひとみ18の中へ、望み通りに入っていく。
【0038】
前記第3中継ミラーは楕円形になっており、第2中継ミラー15によって発生された第1散乱ミラー13の中間イメージを投影システムPLの入射ひとみ18の上へ結像させる。第2および第3の中継ミラーの強度は、第2散乱ミラー16がマスク17の共役面の近くに位置するように選択される。前記第3中継ミラー20は入射ひとみ18およびマスク17のシステム共役面の中へ入り込み、入射ひとみと磁場マスクとは望み通りに配置することができる。
【0039】
実施例4
本発明の第4の実施例が図8に概略的に示されている。これはより大型のe'tendue(レーザープラズマやその他の類似の光源)の光源とともに用いるのにより適している照明システムを有している。図8においては、光源21は大きな放射角を有した小さな光源として示されている。照明用光学装置が光源から光を収集し、それをマスク(あるいはレチクル)において反射させた後、投影システムへ向けさせる。該マスクは投影システムの対物面に位置している。該マスクの照明は均等であり、アーチ形(リング状領域)になっている。今までの実施例と同様に、レチクルは投影システムの磁場絞りであり、照明システムの開口絞りである。該照明システムの中では、レチクルの共役面と投影システムの入射ひとみが存在し、それらは磁場と入射ひとみを位置決めするのに適している。また光源からレチクルへの光路に沿って、前記照明システムは以下の要素、即ち
・光源からの光を散乱ミラー14'上に収集するための収集ミラー13'と、
・上記光を扇曲線状に分散させ、それを想像上の平面22へ向けるための散乱ミラー14'であって、該平面22において該散乱ミラー14'によって発生された異なったビームが同期し、アーチ状の領域を均等に照明する、その散乱ミラーと、
・該散乱ミラー14'を投影システムの入射ひとみの共役面23の上へ結像させるための第1中継ミラー15と、
・前記光をレチクル17の方へ向け、散乱ミラー14'を投影システムの入射ひとみの上へ結像させるための第2中継ミラー20
とからなっている。
【0040】
前記収集ミラー13'は非球形状(例えば楕円形)になっており、できるだけ多量の光を光源から収集するように最適化されていなければならない。大きなe'tendueを備えた光源のために、このミラーは直角入射に近いミラーである必要がある。
【0041】
前記散乱ミラー14'は俯角入射角で用いられる。それはミラーの行列であり、各々の1つは1次元の非球形状の(例えば円筒形あるいは環状形)ミラーの列である。各々のミラーが曲線ビームを反射する。行列状になったミラーは揺動および/あるいは回転され、それらの反射ビームは想像平面22において、与えられた距離のところで同期し、この平面の中でアーチ形の領域(リング状領域)を均等に照明する。アーチの形状と寸法は、1次元の列の円筒形あるいは環状形の入射角、形状、間隔によって変わる。
【0042】
反射ビームが合流する前記想像上の平面22は、散乱ミラー14'に追従する2つの中継ミラーの1あるいは2つによって(図8参照)形成されたレチクルの共役面である。図8においては、該平面22は第1中継ミラー14'の前方に配置されているのが示されているが、それはまた後方に配置してもよい。あらゆる磁場マスクはこの平面22において、あるいはその近くに配置することができる。小さなetendueを備えた光源の場合には、第2散乱ミラーは入射ひとみの充満度の制御のために必要であり、該ミラーはこの表面の近くに配置しなければならない。この場合には、第4実施例は第3実施例と非常に類似している。
【0043】
2つの中継ミラー15と20は直角入射に近い入射角で用いられる非球形ミラーである。第1の中継ミラーは想像上の平面23において散乱ミラーのイメージを発生し、これは投影システムの入射ひとみの共役面である。必要な全ての入射ひとみのマスクはこの平面23において、あるいはその近くに配置することができる。最後に、第2中継ミラーはこの中間共役面23のイメージを投影システムの入射ひとみ上に発生させる。同時に、該中継ミラーは平面22の良好なイメージをレチクル上に発生させ、それらは照明領域の曲線形状を保持し、従ってレチクルの照明もまたリング状領域の形状を有することになる。このシステムにおいては、中継ミラーの形状は、散乱ミラーと、投影システムの入射ひとみとの間、およびレチクルとその共役面(平面23)との間に、良好なイメージを提供するために最適化される。例えば、それらは楕円形のミラーであってもよい。
【0044】
本発明の特定の実施例について述べてきたが、本発明は記載した以外で実行してもよいことがわかるであろう。この記述は本発明を限定しようとするものではない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例によるリソグラフ投影装置の図である。
【図2】前記第1実施例の照明用光学装置の関連要素の図線図である。
【図3】図2における照明用光学装置のにおける第1散乱ミラーの図である。
【図4】図2の照明用光学装置における第1散乱ミラーに関する、3つの選択的な断面を示す図である。
【図5】第1散乱ミラーの効果を説明する参照図である。
【図6】本発明の第2実施例の照明用光学装置の関連要素の図である。
【図7】本発明の第3実施例の照明用光学装置の関連要素の図である。
【図8】本発明の第4実施例の照明用光学装置の関連要素の図である。
Claims (4)
- マスク内のマスクパターンを基板上に結像させるためのリソグラフ投影装置において、
放射投影ビームを供給するために構成、配置された照明システムと、
マスクを保持するために構成されたマスクホルダーを備えた第1対物テーブルと、
基板を保持するために構成された基板ホルダーを備えた第2対物テーブルと、
マスクの照射された部分を基板のターゲット部分の上へ結像させるために構成、配置された投影システムとを具備し、前記照明システムが、
前記投影ビームの拡散を制御するために構成、配置された散乱装置を有し、該散乱装置が1次元的な列になった曲がった反射要素を含み、その各々が細い平行入射ビームを扇曲線として反射するような曲線表面に合致し、
さらに、
放射光源から前記散乱装置上へ放射する放射光を向けるために構成、配置された第1中継装置、および、
前記散乱装置のイメージを前記投影システムの入射ひとみ上で発生させるために構成、配置されている、楕円形の直角入射に近いミラーを備える第2中継装置、
を備えることを特徴とするリソグラフ投影装置。 - さらに、荷電粒子ビームあるいはレーザープラズマ源の軌道の周囲に設けられたアンジュレータあるいはウィグラーからなる放射光源を具備している請求の範囲第1項記載のリソグラフ投影装置。
- 前記投影ビームが超紫外放射光からなり、これが例えば8ないし20nm、特に9ないし16nmの波長を有している、請求の範囲第1項または2項記載のリソグラフ投影装置。
- リソグラフ投影装置を用いたデバイス製作方法において、
少なくとも部分的にエネルギー敏感材料の層で被覆された基板を準備することと、
パターンを含んだマスクを準備することと、
前記マスクパターンの少なくとも一部分のイメージを、前記エネルギー敏感材料の層のターゲット領域上へ投影するために、放射光の投影ビームを用いることと、
散乱装置を用いて、リソグラフ投影装置の照明システムの中で該投影ビームの拡散を制御することとを備え、該散乱装置が1次元的な列になった曲がった反射要素を含み、その各々が細い平行入射ビームを扇曲線として反射するような曲線表面に合致し、更に、
第1中継装置によって放射光源から前記散乱装置上へ放射光を向けて前記投影ビームを形成することと、
楕円形の、直角入射に近いミラーを有する第2中継装置によって前記散乱装置のイメージを前記投影システムの入射ひとみ上で発生させること
を備えることを特徴とするデバイス製作方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP99200750.0 | 1999-03-12 | ||
EP99200750 | 1999-03-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000269130A JP2000269130A (ja) | 2000-09-29 |
JP3771414B2 true JP3771414B2 (ja) | 2006-04-26 |
Family
ID=8239975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000065234A Expired - Fee Related JP3771414B2 (ja) | 1999-03-12 | 2000-03-09 | リソグラフ投影装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6498351B1 (ja) |
JP (1) | JP3771414B2 (ja) |
KR (1) | KR100536631B1 (ja) |
TW (1) | TWI243287B (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19903807A1 (de) * | 1998-05-05 | 1999-11-11 | Zeiss Carl Fa | Beleuchtungssystem insbesondere für die EUV-Lithographie |
US7186983B2 (en) * | 1998-05-05 | 2007-03-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination system particularly for microlithography |
TW490596B (en) * | 1999-03-08 | 2002-06-11 | Asm Lithography Bv | Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using the lithographic projection apparatus, device manufactured according to the method and method of calibrating the lithographic projection apparatus |
US7116401B2 (en) * | 1999-03-08 | 2006-10-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus using catoptrics in an optical sensor system, optical arrangement, method of measuring, and device manufacturing method |
US6924884B2 (en) | 1999-03-08 | 2005-08-02 | Asml Netherlands B.V. | Off-axis leveling in lithographic projection apparatus |
DE10138284A1 (de) * | 2001-08-10 | 2003-02-27 | Zeiss Carl | Beleuchtungssystem mit genesteten Kollektoren |
US7034308B2 (en) * | 2003-06-27 | 2006-04-25 | Asml Netherlands B.V. | Radiation system, contamination barrier, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
EP1796147A4 (en) * | 2004-09-22 | 2008-12-17 | Nikon Corp | LIGHTING DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND MICROPOWER ELEMENT MANUFACTURING METHOD |
US7405804B2 (en) * | 2004-10-06 | 2008-07-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus with enhanced spectral purity, device manufacturing method and device manufactured thereby |
KR100689836B1 (ko) * | 2005-12-23 | 2007-03-08 | 삼성전자주식회사 | 보조 포토 마스크를 갖는 노광장비 및 이를 이용하는노광방법 |
DE102006039655A1 (de) * | 2006-08-24 | 2008-03-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, Verfahren zur Herstellung eines mikrostruktuierten Bauelements mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage sowie durch dieses Verfahren hergestelltes mikrostrukturiertes Bauelement |
US8084757B2 (en) * | 2008-01-17 | 2011-12-27 | Applied Materials, Inc. | Contamination prevention in extreme ultraviolet lithography |
US20090183322A1 (en) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | Banqiu Wu | Electrostatic surface cleaning |
DE102012208096A1 (de) * | 2012-05-15 | 2013-05-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungssystem für die EUV- Projektionslithografie |
DE102012212830A1 (de) | 2012-07-23 | 2014-01-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | EUV-Lichtquelle |
DE102012214063A1 (de) | 2012-08-08 | 2014-02-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithographie |
US8749179B2 (en) * | 2012-08-14 | 2014-06-10 | Kla-Tencor Corporation | Optical characterization systems employing compact synchrotron radiation sources |
DE102012219936A1 (de) * | 2012-10-31 | 2014-04-30 | Carl Zeiss Smt Gmbh | EUV-Lichtquelle zur Erzeugung eines Nutz-Ausgabestrahls für eine Projektionsbelichtungsanlage |
DE102013204443A1 (de) * | 2013-03-14 | 2014-10-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Baugruppe zur Lichtleitwerterhöhung |
WO2014202585A2 (en) | 2013-06-18 | 2014-12-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic method |
US20150090905A1 (en) * | 2013-09-27 | 2015-04-02 | Dmitri E. Nikonov | Micromagnet Based Extreme Ultra-Violet Radiation Source |
DE102013223935A1 (de) * | 2013-11-22 | 2015-05-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungssystem für die EUV-Belichtungslithographie |
NL2014430A (en) * | 2014-03-13 | 2015-11-02 | Asml Netherlands Bv | Radiation Source. |
DE102014221175A1 (de) * | 2014-10-17 | 2016-04-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für ein Projektionsbelichtungssystem |
CN107430348B (zh) * | 2015-03-02 | 2021-09-24 | Asml荷兰有限公司 | 辐射系统 |
KR102373722B1 (ko) * | 2015-12-30 | 2022-03-14 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 직접 기입 마스크리스 리소그래피를 위한 방법 및 장치 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0794397A (ja) * | 1993-09-24 | 1995-04-07 | Nikon Corp | 照明装置及びそれを有する露光装置 |
US5439781A (en) * | 1993-05-10 | 1995-08-08 | At&T Corp. | Device fabrication entailing synchrotron radiation |
JP3371511B2 (ja) * | 1994-02-23 | 2003-01-27 | 株式会社ニコン | 照明装置及び投影露光装置 |
JP3284045B2 (ja) * | 1996-04-30 | 2002-05-20 | キヤノン株式会社 | X線光学装置およびデバイス製造方法 |
JP3706691B2 (ja) * | 1996-08-26 | 2005-10-12 | キヤノン株式会社 | X線縮小投影露光装置及びこれを用いた半導体デバイス製造方法 |
EP0955641B1 (de) * | 1998-05-05 | 2004-04-28 | Carl Zeiss | Beleuchtungssystem insbesondere für die EUV-Lithographie |
US6195201B1 (en) * | 1999-01-27 | 2001-02-27 | Svg Lithography Systems, Inc. | Reflective fly's eye condenser for EUV lithography |
-
2000
- 2000-02-16 TW TW089102616A patent/TWI243287B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-03-09 JP JP2000065234A patent/JP3771414B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-09 KR KR10-2000-0011730A patent/KR100536631B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-03-09 US US09/521,599 patent/US6498351B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000269130A (ja) | 2000-09-29 |
KR20010006764A (ko) | 2001-01-26 |
TWI243287B (en) | 2005-11-11 |
US6498351B1 (en) | 2002-12-24 |
KR100536631B1 (ko) | 2005-12-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040901 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040914 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050531 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20050831 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20050905 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051118 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060209 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20061010 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
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