TW449623B - Method and apparatus for treating the inside surface of plastic bottles in a plasma enhanced process - Google Patents

Description

A7 B7 449623 五、發明説明（1 ) 發明領域 本發明是屬於包裝工業的領域且是關於根據申請專利 範圍對應獨立項中一般部件之方法及裝置’此方法及裝置 是應用電漿增強過程以處理塑膠瓶的內表面。 發明背景 術語、塑膠瓶#在本說明中是使用作爲一由塑膠材料 所製成的容器，其含有一具圓形或非圓形截面的直立筒形 的瓶體部 (誚先閱讀背面之;i意事項木頁 位在瓶體部一面上的底部，及一具有一相對 窄小開口在瓶體部另一面的肩頸部。如此的容器特別是以 例如聚對酞酸乙二醋（PET)，聚丙烯（PP)或高密 度聚乙烯（HD P E )製成的瓶，此瓶是例如由伸吹製模 製成的。爲了改進其氣體防阻特性，此瓶是受到一在電漿 增強的化學蒸氣澱積過程中將一層氧化矽塗覆在其內表面 之塗覆處理。 其他使用來處理塑膠瓶內表面的電漿增強過程例如有 消毒過程或用來活化或改變其表面的過程。 用來處理塑膠瓶內表面的電漿增強過程以及實施此過 程的裝置已發表在下列文獻：Vakuum in der Praxis Nr. 1 pages 22-26, 1 99 1 (J. Weichart, B. Meyer, J. Mueller), US-5 52 1 352 (Wisconsin Alumni Research), DE-3632768 ( ,41 A >ϊ

Vereinigung zur Foederung des Instituts fuer Kunststoffverarbeitung in Industrie und Handwerk an der TH Aachen )及 W〇 — 95/22413 ( Coca-cola 本紙张尺度追州十KM家掠牟（C-NS ) Ad规格（210X 297公釐） 449623 A7 B7 五、發明説明（2 company 驟：降低瓶內 ，微波）以引 體或處理氣體 用來處理瓶內表面的電漿增強過程通常包含下列部 壓力，藉由活化一能源（DC ’ RF ’ HF 燃並保持電漿於瓶內，及將一適當的處理氣 混合物流通過電漿。在大多狀況’需要將瓶 外空間抽空以防止瓶的陷縮。有助益地，將瓶外的空間抽 空至一小於瓶內壓力十倍的壓力如此以防止在瓶外引燃電 漿 用來實施 處理瓶的真空 的單元（一般 單元（例如R 處理氣體送入 本發明的 強過程之裝置 蒸氣潑積。使 過程中製造出 大高容量過程 此目的是 如此過程的 室，用以抽 是兩個不同 F或H F頻 瓶內的單元 目的是提供 及方法，例 用本發明的 高品質的產 的規模。 由申請專利 裝置因此包含：一其中定位有待 空真空室的單元與用以抽空瓶內 降壓），用以引燃並保持電漿的 率產生器，微波產生器），及將 〇 用來處理塑膠瓶內表面的電漿增 如，氧化矽塗覆之電漿增強化學 方法及裝置是可在一經濟可行的 品且本發明的裝置是可容易地擴 範圍中所界定的方法及裝置達成 ^^^1 ^^^^1 I - - - ml n>^— V 丨1 、v'° ("先閱讀背而之^意事項再楨巧本頁) A ιΊ] 發明槪述 本發明的裝置包含一真空室與一大體上筒形的微波密 閉’由一微波產生器所產生的微波是藉由一適合的耦合單 本紙队尺度这州屮构國家標半（CNS ) Λ4规格（210X297公釐） 5 A7 B7 449623 五、發明议明（3 ) ----r----r----裝-- (誚先閱讀背面之..;i意事項再蛾1:!1本巧) 元的輔助穿過其數個面之一以耦合至此微波密閉，因此微 波密閉及真空室的功能可藉由相同裝置的部件予以部份或 全部接管。它另包含抽空單元及送氣單元。微波密閉是盡 可能緊密的適合塑膠瓶的至少瓶體部的形狀。微波密閉， 耦合單元及微波產生器是如此的設計與配合使得微波密閉 是在一 TM共振模式中振盪，亦即，藉由一橫磁波，其中 此磁場不具有軸分量。再者，可藉由配置固定磁鐵以產生 一永久磁場，此磁場最好是如此使得在待處理的瓶內達到 電子迴旋加速共振的條件。 本發明的裝置是很小巧且簡單。如要擴大規模，數個 單瓶裝置可以一行或一陣列來配置且所有的單瓶裝置是連 接至能源，真空，及氣體等供應線網。各單瓶裝置可具有 其專有的真空室或者數個微波密閉可配置在一共用的真空 室中。 本發明裝置的數個實施例是參考下列圖式予以說明。 其中： 圖式簡單說明 圖1與2是顯示在操作或封閉的配置（圖1 )及開放 的配置（圖2 )中用以一次處理一·瓶的本發明裝置實施例 的原理； 卬 圖3顯示一體成形於一伸吹模製單元中的本發明裝置 的另一實施例，其中一瓶在伸吹模製後立即以電發增強過 程處理； 本纸张尺度过用肀闽阄家標卑（) Λί'规格（210X 297公釐）-6 - 449 623

A7 B7 五、發明説明（4 ) 圖4顯示一體成形於一充塡單元中的本發明裝置的另 —實施例，其中此瓶在充塡後立即以電漿增強過程處理； 圖5與6顯示以電漿增強過程同時處理數瓶的本發明 裝置實施例； 圖7顯示根據圖5中本發明裝置實施例的三維示意圖 :及 圖8顯示在一列的本發明單瓶裝置中用以電漿處理數 批的瓶的實施例。 主要兀件對照表 瓶 真空室 微波密閉 筒形部 頸板 對置板 微波產生器 進氣管 微波窗 波導 吹模 通道 伸桿 裝置 一· . — 本纸张尺戍达5中囘國家標卑N S ) Λ 4規格（2!(ΤΧ297公釐)一~~^7~- ---—fc---- :!Γ I I-I— tj. I _ "先閱讀背面之注意事項馮Mri?"頁) 丁 -" A7 /Ϋ ii 印 B7 五 、發明説明（5 ) 5 2 裝置 5 3 裝置 5 4 裝置 5 5 真空源 5 6 氣體源 5 7 真空源 7 0 系統 7 1 共用真空室 7 2 供應輸送線 7 3 分支輸送線 7 4 瓶列 3 0 瓶預形 7 5 夾持器列 7 6 頸板 7 7 移開輸送線 8 0 配置 8 1 高壓室 8 2 頸板 V • 1 真空泵 V • 2 真空泵 G 處理氣體 C 液體 詳細說明 本紙汰尺度退州屮阁阐家標準（（Ά ) Λ4規格（210X297公釐）-8 - ^—^1 -·Ι - - —1 I - I ~ - - - - ! I —^1 ...... -I— n \ ·, Λτ^.J'° (誚1閱讀背面之注意事項再功.¾本s ) 49623 A7 B7 !

f A 五、發明説明（6 ) 圖1與2顯示用以一次處理一瓶1的本發明裝置實施 例。此裝置包含一真空室2及一筒形微波密閉3或部份的 微波密閉於真空室內而其中待處理的瓶1是可定位的。它 另包含一微波產生器4，用以激磁微波密閉的適當耦合單 兀（1 0/1 1 )，及一送氣管5，其經由瓶口進入瓶內 側並由多孔或穿孔材料組成。圖1顯示此裝置在其操作或 封閉的配置中，其中微波密閉及真空室是封閉的。圖2顯 示此裝置在其開放配置，此開放配置用來將已處理的瓶與 另一待處理的瓶互換。 微波密閉3是由一不透微波但允許瓶內外壓力平衡的 材料（例如，穿孔金屬片）所組成並定位在真空室2內， 或者是不透微波並是真空氣密，亦即，同時接管真空室的 功能。在根據圖1與2的實施例中，微波密閉3包含一穿 孔筒形部件3 · 1，其盡可能緊密的符合瓶1的筒形瓶體 部。筒形部3·1是藉由亦形成爲真空室2壁部的頸板 3 · 2封閉一側，此頸板包含用以支撐待處理瓶1頸部的 單元及用以自外側封閉瓶內側的單元，並運載送氣管5。 頸板亦包含用以將送氣管連接至一處理氣體源G的單元， 用以將瓶口連接至一真空源V · 1的單元，及用以將真空 室連接至一真空源V·2的單元。 在頸板3 · 2對側並面對待處理瓶底部的面3 · 3， 由微波產生器4所產生的微波是耦合入微波密閉，例如， 經由-·中空波導1 1穿過一同時代表真空室壁的微波透窗 1 0。此窗1 0是由例如石英玻璃或塑膠所製成。 木纸依尺度速;t】t阀1¾家標牟（rNS ) Λ4規格（2丨0 X 297公釐〉-9 - "先閱讀背面之注意事項/!碘艿本-¾ 裝_ A7 B7 ^40023 五、發明説明（7 ) 亦可能使用一透微波（自石英或塑膠）的真空室並將 其配置在微波密閉內。 (""閱讀背>9之注意事項4楨，^?本?10 微波產生器4，微波密閉3，及微波耦合單元是設計 並配合用於一 TM共振模式，最好用於丁1\/[。111模式其中 η是在1與4之間。在公開的文獻US — 531 1 103 與U S — 4 7 7 7 3 3 6中說明顯示如此共振的單元。爲 創造待處理瓶1內的固定磁場，送氣管5可配置以數個固 定磁鐵在其內側或外側。此送氣管可另包含用以冷卻送氣 管與磁鐵的冷卻單元，並將它們保持在一窄限的恆溫。 送氣管亦可設計如一簡單的穿孔管或減小爲可定位在 待處理瓶頸部的送氣噴口。 爲在微波密閉3 (參考圖2)中定位一待處理瓶1， 頸板3 · 2是自微波密閉3的筒形部3 · 1移開。打開用 以固持瓶頸的單元。然後瓶1是定位在進氣管5或進氣噴 口的上方，並藉由瓶頸固持單元予以固定。然後此瓶是藉 由朝著筒形部3 _ 1移動頸板3 · 2而導入真空室2與微 波密閉3內一直到不僅與真空室的其他壁部而且與微波密 閉的筒形部3 _ 1形成密封爲止。 圖3顯示本發明裝置用以一次塗覆一瓶1的實施例。 此裝置是全然一體成形於一用以伸吹模製瓶1的裝置內。 真空室與微波密閉的功能是由吹模2 0的空穴所接管。爲 此新功能 > 吹模包含一微波窗1 0，例如由石英玻璃製成 ，由微波產生器4所產生的微波是經由波導1 1耦合至此 窗10，及至少一通道2 模穴可通過此通口抽空（ 本纸认尺廋適屮囤國家榡牟U'NS ) Α4规格（210Χ 297公釐）-1〇 - 449623 伸桿/進氣管2 尾端距瓶底有一距離）而瓶 的減壓是適合以引燃電漿而 A7 B7 ___ 五、發明説明（8 ) V · 2 )。 伸吹模製裝置的伸桿2 2是藉由一線性馬達2 3移動 至其不同位置。此桿是中空並由多孔或穿孔材料製成’且 在電漿增強過程中使用作爲進氣管5。因此，此桿包含一 至處理氣體源G的連接。 根據圖3的裝置是操作如下： -一預熱的瓶預形3 0 (以斷續現表示）是定位於 製模2 0的空穴。伸桿/進氣管2 2/5是在一起始位置 而其尾端是靠著此預形的底部。製模的真空連接是封閉的 0 - 壓力P是施加在預形的內側而伸桿/進氣管2 2 /5前進一直到接觸或幾乎接觸到瓶口對側的製模底部， 如此以拉伸預形至大約爲待製瓶的軸向長度。 - 然後增加壓力P以吹此預形並將其壓在製模20 的內側 /5然後是帶入一送氣位置（ 內與模穴同時抽空，因此瓶內 瓶外的減壓最好是太高或太低 以引燃或保持電漿但適合以防止瓶的陷縮。 - 微波產生器是啓動而處理氣體是送至伸桿/進氣 -I -I - - i 1 ^^^1 - I i - -I- -I 1-H- - - ^^^1 ^^—»1 ^^^1 ^ J. -6 (計先Μ讀背面之注意事項再頊巧本πί)

A )移開因此保持一適 管2 2/5並同時經由瓶口 當的處理壓力。 - 在預定的處理時間後，停止微波產生器與處理氣 體並使瓶1與模穴通風。

V 本紙if··尺度遍州中拽國家標苹（CNS ) Λ4規格（210 X 297公1 ) - 11 - “9 6.23 at B7 _ · — · U ·.——··.·· ... 、 . . - _ — .... ·. - — ----,^Μ·_ _ _ _ 五、發明议明（9 ) - 打開製模2 0並將已伸吹模製且處理過的瓶自製 模中移開。 1^——^— S - -I」 n^— n. a— ^—>^1 I ^^^^1 ^^^^1 ^^^^1 一OJ (邡t閱讀背面之注意事項本.¾ ) 圖4顯示本發明裝置用以一次處理一瓶1的另一實施 例。此裝置大體相當於根據圖1與2的裝置。微波密閉3 的功能在此由真空室2接管。此裝置另包含用以將進氣管 5移入一瓶1 (顯示於斷續線（5 ))外側位置的單元（ 未顯示），及一在頸板3·2中至待充塡入已處理瓶的液 體C源之連接。 根據圖4的裝置是操作如下： -一瓶1是定位於微波密閉/真空室中。進氣管5 是帶入一瓶內進氣位置（尾端距瓶底有一距離）。 一 瓶1的內側與真空室2是同時抽空，因此瓶內的 減壓是適合以引燃電漿而瓶外的減壓最好是太高或太低以 引燃或保持電漿但適合以防止瓶的陷縮。 一 微波產生器是啓動而處理氣體是送至進氣管5並 同時經由瓶口（V·1)移開因此保持一適當的處理壓力 〇 一 在預定的處理時間後，停止微波產生器與處理氣 i·. ί體。 i: ~ 如需要，以保持減壓的淸洗氣體淸洗此瓶。 t - 打開至液體C源的連接且此瓶是充滿由於真空而 ^ 吸入此瓶的液體。 ί'ί 一 已處理並充塡的瓶是密封且自微波密閉/真空室 \ 移開^ ----.---- - | || - .. __ . - ' " 本饫张尺度這用十围阐家掠牟（C-NS ) Λ4規格（210 X 297公釐）-12 - 449623 at B7 五、發明説明（1〇 ) I I I - Γ 士------ ^^^^1 ^^^^1 一 Τ (-"先閱磺背面之注意事項洱續(巧本W ) 根據圖4的裝置的益處不僅是使用真空以充塡瓶而且 在電漿處理後立即充塡此瓶，而電漿處理不僅提供例如塗 覆而且消毒。因此，使用根據圖4的裝置使得消毒裝置或 用以將已處理的瓶消毒運送至充塡裝置的單元成爲不需要 〇 亦可能結合根據圖3裝置的特徵與根據圖4裝置的特 徵而成爲一體相同裝置的伸吹模製/電漿處理/充塡裝置 0 圖5與6顯示用以一次處理數瓶的非常簡要實例系統 。此系統的基本原理是配置數個大體相當於根據圖1與2 或圖4裝置的單元50，51 ，52等，因此這些單元可 配置在一共用的真空室內（圖5 )或各單元可包含一各自 的真空室（圖6 )。 各單元50，51 ，52等是連接至用以抽空數瓶的 真空管線5 5的網，及至處理氣體用的進氣管線5 6的網 ’且若可適用的話，連接至用以抽空各別真空室的真空管 線5 7的網，及至用以充塡液體物至瓶內的供應線。 ,, 根據圖5與6系統中單元是配置在一列或一陣列中並 | 使用—共用驅動器有利地打開與封閉。數個單元亦可形成 1· ί 一·線或循環系統的單元，其中這些單元是連續或增量移動 i'j 〇 )； f 圖7更詳細的顯示根據圖5的系統7 0，亦即，根據

A j： 廣11與2的具有一列1 2個單元5 0至6 1的系統其中這 f 些單元整行的配置一共用真空室71中。 水紙仏尺度4川標率（CNS) &规格（2】〇χ 297公釐）~~ A7 B7 49623 五、發明説明（11 ) 待處理瓶是藉由一供應輸送線7 2與一分支輸送線 7 3供應至此系統並配置在平行於此單元列的瓶列7 4。 此列的瓶可定位在一真空鎖固室中。爲將瓶列7 4的瓶定 位入單元5 0至6 1中，打開真空室並藉由一夾持器列 7 5來夾持瓶。這些瓶是傾斜並在進氣管5上方移動，此 進氣管位在共用頸板7 6下。然後升高進氣管並封閉真空 室。然後瓶是受處理並在處理後藉由打開真空室，降低進 氣管，及傾斜瓶至一移開輸送線7 7上而移開。 圖8顯示用以在一列本發明單瓶裝置中電漿處理數批 瓶的另一實施例。此列的單瓶裝置包含數個如上述各配置 有一微波產生器4與適當耦合單元10/11的微波密閉 3，此微波密閉是與一真空泵V · 2定位在一真空室2中 如圖5所示，因此微波密閉3與真空室2是藉由一頸板 8 2以封閉。此列單瓶裝置另包含一配置8 0，此配置含 有一連接至一真空泵V _ 1並具有與各微波密閉3軸線對 齊的開口之高壓室，且可緊密連接至瓶口或頸板8 2中的 對應開口及一列亦與微波密閉軸線對齊的進氣管5，並可 連接至一處理氣體源G。 圖8顯示自左至右之瓶1的三階段逐批電漿處理。首 先（圖中左側），此批瓶是定位在頸板8 2上，其軸與開 口對齊而瓶頸是固定於適當固定單元。然後（圖中央）-頸板8 2與瓶1是定位在此列的微波密閉與配置8 0間》 然後（圖中右側），提高頸板8 2用以將瓶1定位於微波 密閉3中並用以封閉此密閉3與真空室2。亦提高配置 本紙乐尺度4«中囤國家撑率（CNS )八4規格（2丨0X 297公釐）-14 - 1—«^ in n—4 HH ^1.Β一 —1 、-fl (詞1閱讀背面之：i£意事項^:"ftJ本頁)

j： .1 'J' A ^49623 A ii r：· ί A? B7 五、發明説明（12 ) 8 0用以將進氣管5定位在瓶1中並用以將高壓室8 1的 開口連接至瓶口或頸板8 2的開口。 代替僅使用一具有微波密閉的真空室2並使其在各換 批或換瓶時通風，可使用一較大的真空室，其亦具有配置 8 0並經由一真空閉鎖將頸板與瓶一起移入和移出真空室 ，亦即，將頸板與瓶定位入一以真空氣密進入門連接至真 空室的預置室’抽空預置室，打開進入門，及將頸板移入 真空室。爲在處理後移開瓶，真空室包含一退出門與一抽 空後置室，此後置室是通風以移開頸板與已處理瓶。如此 配置的好處實際上是真空室在換批時並不需要通風而且因 此達到更短的循環時間。 在上述的實例中，電漿過程是可使用一處理氣體或處 理氣體混合物來完成的單一步驟過程。然而亦可以相同的 方式來完成含有數步驟的電漿過程。如此過程所需的唯一 裝置改裝是用於將處理氣體送入單元的連接自一第一處理 氣體源對應切換至另一處理氣體源之單元。如已提過的， 一用以處理瓶內表面的電漿過程的實例是以矽氧化物（ S i Οχ)層塗覆於瓶內表面以便改進瓶的氣體防阻特性。 在市面上流通的5 0 〇m i瓶上如此的澱積可使用下列處 理參數於上述的裝置中以得到下列結果： 一瓶內處理壓力 0.2 mbar —瓶外處理壓力 0·01 mbar 一六甲基乙矽醚流量 2 seem 一氧流量 16 seem ^^^1 ϋ nn I 二 * nn i· ^tnTJ 4V 、vs (誚先閱讀背面之;1意事項再楨'!>?本頁} 本纸张尺廋迖屮阐阁家標讀—（C'NS ) Λ4現格（2〗0X 297公浼） -15 - 4 49 623 A7 B7 .. ..-1» H-*- ，— -r_ -.…—.··_ . . 11 五、發明説明（13 )

一使用微波量 150 W 一處理時間 12 s -比較於未處理瓶的乙處理瓶透氧性（測自標準 Μ 0 C Ο N 機）： 未處理瓶 0.050 0.0025 ccCh/b〇ttle/day/0.21atm 已處理瓶 0.006 0.0025 cc〇2/bottle/day/0.21atm 此結果顯示透氧性的改進超過八倍。 就如附加的申請專利範圍中所主張的所有在本發明精 神與領域內的修正，更換及改變都將含蓋在其內。

A ίϊ 印 r ;|··-^I - 訂 (掮尤閱讀背而之"意事項再磧寫本 本紙弘-尺度这用屮阀囚家標卑（) Λ4規格（210X297公釐）-16 -

Claims (1)

1. A8 B8 C8 D8 經濟部中央標丰局員工消费合作社印裝 六、申請專利範圍 1 . 一種以電漿增強過程的處理方法1 一塑膠瓶（1 )的內表面含有一大體筒形瓶體’一在此瓶體一面上的底 部，及一在此瓶體另一面上具有一相對窄小開口的頸肩部 ,此過程的步驟包含同時抽空瓶內側與室中瓶外側，引燃 並保持瓶內側的電漿’及使一處理氣體（G )流通過此瓶 一預定處理時間，並在預定處理時間後同時使瓶內側與外 側通風，其特徵在於爲完成此過程步驟，此瓶（1 )是實 質上同軸定位在一大體筒形的微波密閉（3 )中，因此引 燃並保持瓶（1 )內側的電漿，微波是自微波密閉（3 ) 的一面耦合至此密閉，而此瓶（1 )的底部是面朝著此密 閉，因此微波密閉（3 )是激盪於一 Τ Μ共振模式中。 2.如申請專利範圍第1項之處理方法，其特徵在於 此ΤΜ共振模式是一 TMDln共振模式其中η是1，2， 3或4之一。 3 .如申請專利範圍第1項之處理方法，其特徵在於 瓶（1 )是藉由一伸桿（2 2 )的輔助在一吹模（2 0 ) 中伸吹模製而成，且此瓶是在伸吹模製後立即以電漿增強 過程處理，因此吹模（2 0 )是抽空且微波是穿過此吹模 (2 0)面中的微波窗（1 〇)而耦合入吹模（20 )中 ，並因此處理氣體（G)是經由使用作爲送氣管（5 )的 伸桿（22)送入此瓶中。 4 .如申請專利範圍第3項之處理方法，其特徵在於 伸桿/進氣管（2 2/5 )是定位入一用於電漿增強過程 的進氣位置，在此位置其末端是距瓶（1 )底部有一距離 -----I----裝—-----訂 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度逋用中國國家樣準（CNS)A4洗格（210X297公釐）-17- 449623 Α8 Β8 C8 D8 經濟部中央標率局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 0 5 .如申請專利範圍第1項之處理方法，其特徵在於 瓶（1 )是在以電漿增強過程處理後立即充塡，因此代替 使瓶內側通風，一液體（C )是吸入此瓶中。 6 .如申請專利範圍第1項之處理方法，其特徵在於 此電漿增強過程是一單步驟或多步驟過程，因此在數步驟 之一中此瓶的內側表面是塗覆以一層砂氧化物（S i Ox) 以便改進此瓶的氣體防阻特性。 7 . —種塑膠瓶，由如申請專利範圍第6項之過程製 成，其特徵在於此已塗覆的瓶的透氧性比較於未塗覆的瓶 是改進大約八倍。 8. —種用以實施如申請專利範圍第1至6項中任一 項之處理方法的裝置，此裝置包含一真空室（2)，用以 抽空此真空室與定位於此真空室（2 )中一瓶（1 )內側 的單元，用以引燃並保持在此瓶內側電漿的單元，及用以 將一處理氣體（G )送入此瓶的單元，其特徵在於此裝置 另包含一大體筒形微波密閉（3)，而此瓶可實質同軸定 位入此微波密閉，並在於此裝置另包含一微波產生器（4 )及用以自此瓶底部所面對的一面將由微波產生器（4 ) 所產生的微波耦合至微波密閉（3 )之單元，因此微波產 生器（4)，微波耦合單元及微波密閉（3)是設計並配 合以使微波密閉振盪於一 T Μ模式中。 9. 如申請專利範圍第8項之裝置’其特徵在於用以 將一處理氣體送入瓶（1 )中的單元是一可定位於瓶（1 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS ) A4規格（210X297公釐） n^i Im ^^^1 ^^1» ^^^1 ^^^1 * —^ϋ ^ J. 、-e (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 623 經濟部中央標率局負工消費合作社印製 A8 BS C8 __D8___六、申請專利範圍 )中的進氣管（5)或一可定位於瓶口的進氣噴口。 1 0 ·如申請專利範圍第8項之裝置’其特徵在於用 以將微波耦合至微波密閉（3 )的單元包含一微波窗（ 10)。 1 1 .如申請專利範圍第1 0項之裝置，其特徵在於 微波密閉（3 )是藉由真空室（2 )內側的筒形部（ 3 . 1)並藉由一頸板（3 2)與一對置板（3 . 3) 來界定*此兩板（3 . 2，3 . 3)是真空室（2)的部 件，及在於此對置板（3 · 3 )包含對於微波透明的微波 窗（1 0 )。 1 2 .如申請專利範圍第8項之裝置，其特徵在於微 波密閉（3 )與真空室（2 )是一伸吹模製裝置的吹模（ 2 0 )的空穴，此吹模（2 0 )另包含至少一可連接至一 真空源的通道（21)及一在底部區中對於微波透明的微 波窗（10)，並在於此伸吹模製裝置的伸桿（22)是 設計如可連接至一處理氣體（G)源之中空並穿孔的進氣 管。 1 3 .如申請專利範圍第8項之裝置，其特徵在於進 氣管（5 )是可自瓶（1 )移開，而瓶口是可連接至待充 塡入瓶（1)的液體（C)源。 1 4 .如申請專利範圍第8項之裝置，其特徵在於定 位於一列或陣列的類似裝置（5 0至6 1 )中，此數個裝 置是連接至相同的真空源（55，57)與氣體源（56 ^^^1 in - I' - - I _ n^i ^^^1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標率< CNS ) Λ4规格（210X297公釐5 - 19 - 經濟部中央標率局貝工消費合作社印裝 六、申請專利範圍 1 5 ·如申請專利範圍第1 4項之裝置，其特徵在於 此陣列或列包含一共用真空室（71)，其中安裝有數個 此裝置。 1 6 _如申請專利範圍第1 4項之裝置，其特徵在於 此陣列或列包含一真空高壓室（81)，其延伸在此陣列 或列整個區域的上方並連接至一真空泵，且所有待處理的 瓶頸是可連接至真空高壓室（81)。 17.如申請專利範圍第8至16項中任一項之裝置 ，其特徵在於在生產線上是使用在一伸吹模製裝置之後。 1 8 .如申請專利範圍第8至1 6項中任一項之裝置 ，其特徵在於在生產線上是使用在一充塡裝置之前。 ϋ 1^1 If Ί— - · - - - --1 p ^^1 - I - - - I n n 丁 -a (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐-} - 20 -