JP2003506276A - プラスチック容器内の物質を滅菌梱包するための方法及び装置 - Google Patents

プラスチック容器内の物質を滅菌梱包するための方法及び装置

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JP2003506276A JP2001515202A JP2001515202A JP2003506276A JP 2003506276 A JP2003506276 A JP 2003506276A JP 2001515202 A JP2001515202 A JP 2001515202A JP 2001515202 A JP2001515202 A JP 2001515202A JP 2003506276 A JP2003506276 A JP 2003506276A
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Abstract

(57)【要約】 特に液状の物質をプラスチック容器内に滅菌して梱包する方法であって、例えば薬剤のアンプルのプラズマ処理が行われ、空間的及び又は時間的に選択的にプラズマの励起が容器（２）あるいは物体の壁に接する種々の範囲において行われる方法が提案される。この方法を実施するための装置においては、特にプラスチック容器を使用する場合に互いにインタリンクされた容器製作及び容器の引き続く処理が現場でかつ真空を最適に利用して設備範囲内で容器（２）のプラズマ処理を使用して、少なくとも部分的に排気可能な室（３）内で可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、独立請求項及び副請求項の上位概念に記載した形式のプラスチック
容器内に物質を滅菌梱包するための方法に関し、その際物質はこの場合好ましく
は液状であり、更にこの方法を実施するための装置に関する。
【０００２】 薬品又は食料品技術の容器、例えばアンプル、はめ付け蓋を有するガラス容器
、シールゴム膜で閉鎖されるガラス容器あるいはいわゆるバイアル内の微生物あ
るいは細菌を除去するために、物理的あるいは化学的な方法を使用することは、
よく知られている。例えば水性の前浄化を有する水蒸気法では、所定の時間にわ
たって高熱の水蒸気にさらされる。プロセスの持続時間は、製作流れにおいて大
きな個数を滅菌し得るようにするために、大きな設備を必要とする。滅菌は完全
に行わなければならず、換言すればすべての細菌を死滅させなければならない。
滅菌されたアンプルはこの場合充てんの前に更に乾燥させなければならず、これ
によって、このために必要な乾燥ユニットにより設備の体積が付加的に増大せし
められる。
【０００３】 この水蒸気滅菌はしかしながら、死滅した細菌の、いわゆる発熱性の、換言す
れば引火性に作用する分解生成物及び細胞残存構成部分を完全に取り除くことが
できない。例えば過酸化水素蒸気による処理は死滅した細胞残存物の酸化をもた
らすけれども、しかし注意深い浄化及び相応の高い費用を必要とする。両方の方
法は従来は単にガラス容器にしか適用できなかった。それはプラスチック容器の
ためには必要な温度が過度に高いからである。
【０００４】 EP 0 377 788 A1 から、物体を滅菌するために、ほぼ２.４５GHzの周波数の電
磁放射のプラズマが生ぜしめられる方法が公知である。物体はこのために完全に
低圧プラズマにさらされ、拡大された方法では付加的な熱源も放射される。プラ
ズマによっての滅菌は従来は大体において医学機器例えばカテーテルあるいは輸
血機器の処理にのみ適用された。
【０００５】 発明の利点 容器あるいは物体を滅菌する方法は本発明によれば、有利な形式で、プラズマ
処理例えばプラズマ滅菌が、空間的及び/又は時間的に選択的にプラズマの励起
が容器の壁の種々の領域において行われるようになっている。本発明による方法
及びこの方法を実施する装置により、無菌の、薬品の場合にはそれどころかプラ
スチック容器、アンプル、瓶あるいはバイアルへのパイロジェンのない液体の梱
包が有利な形式で実施可能であり、別の加工ステップと組み合わすことができる
。
【０００６】 プラズマ滅菌は簡単な形式で極めて短いプロセス時間で同時に細菌の死滅とパ
イロジェンの、容器の内部における及び外壁における完全な除去を可能にする。
滅菌した容器はこの場合繁殖し得る細菌がなく、容器の最後の乾燥は必要でない
。容器の以上述べた本発明によるプラズマ処理は比較的に低温の方法であり、ポ
リエチレン、ポリプロピレンあるいはＰＶＣのような温度に敏感なプラスチック
も処理することができる。
【０００７】 本発明は有利な形式で、本発明の方法により、プラスチックから成る容器壁の
酸素透過性に対する被覆も、滅菌若しくは脱パイロジェンに付加的に行うことを
可能にする。この場合、例えば物理的な方法を有する蒸気分離の形のいわゆるＰ
ＶＤ法（例えば磁気噴霧）、あるいは化学的な反応が行われる（例えばプラズマ
重合）、プラズマで補助される蒸気分離の形のＰECVD法が使用される。
【０００８】 唯１つの装置内で、したがってプラズマ被覆を、有利にはプラズマポリマ層を
設けることによって、行うことができ、このプラズマポリマ層はプラスチック容
器の内壁を充てんの前に酸素及び水蒸気の透過に対して、かつプラスチックの可
塑剤及び溶剤の移行に対して保護する。特に有利な形式で、このプラズマ被覆は
プラズマ滅菌と同一であることができ、換言すれば被覆中に被覆プラズマ自体に
よって同時に細菌／パイロジェンの破壊若しくはその、ポリマ層による覆いが行
われる。
【０００９】 別の処理ステップは、有利な形式でプラズマ活性、有利には容器の外壁におけ
るプラズマ活性中で生ぜしめられ、これは同時にプラズマ滅菌と同時にプロセス
サイクル内で行うこともできる。
【００１０】 本発明による方法では更に、容器の製作を加工過程の始めに、例えば射出成形
によって、射出吹込み成形によって、プラスチックフォイルの溶接によって、あ
るいは深絞りによって、装置内で行うことが可能である。この場合、押し出し、
特に押し出し吹込み成形あるいは類似の方法によって製作することも可能である
。
【００１１】 方法ステップの後における充てん装置も、容器が滅菌あるいは脱パイロジェン
の後に真空下にあり、したがって滅菌状態で手間のかかる残存脱気なしに充てん
し得るという事実を利用することができる。要するに原理的に、プラスチック容
器の製作、容器の内面被覆、滅菌、充てん及びまた容器の封印は、完全に無菌性
に外部に対して密封可能な１つの装置内で行うことができる。
【００１２】 プラズマ滅菌を実施するための好ましい方法ステップは請求項１２〜１５に提
案されており、これらは前述の処理ステップと有利に組み合わせることができ、
それ自体まだ刊行されていないDE 199 03 935.6に記載されている。
【００１３】 前述の方法の１つを実施するための有利な装置は請求項１６及びこれに関係す
る請求項に記載されており、前述の加工過程のインタリンクは１つの設備内で可
能である。この場合、まとめて次の利点が生ずる： 装置内に密封することによって、容器の無菌性の密封過程を比較的汚染された
外部で行うことができる。
【００１４】 プラズマ励起のために必要な真空技術は比較的に高い設備費を生ぜしめるので
、複数の、従来空間的に分かれていた加工ステップを１つの真空設備内でインタ
リンクするとコストが低くなるる。それというのは、設備は最大限に利用される
からである。真空設備の排気可能な室により、したがって複数の、前述の製作ス
テップ又は処理ステップのインタリンクを１つのプロセスライン内で行うことが
でき、この場合真空は例えば単にその都度の容器内に存在し得る。
【００１５】 プラズマ滅菌、プラズマ重合及びプラズマ活性化は、ガス状の媒体をもってわ
ずかに行われ、一般に無毒の、環境の視点から問題でない物質で行うことのでき
るプロセスである。
【００１６】 プラスチック加工によって容器を一緒に製作する場合、必要な洗剤を有する運
ばれて来た容器の前浄化及び汚染された媒体の廃棄は省略することができる。
【００１７】 容器の滅菌若しくは脱パイロジェンは、CO, CO２, CH４, H２Oのような比較的
に問題のない分解生成物あるいは短鎖の脂肪族をもたらす。
【００１８】 従来使用されていたガラス容器を前述の用途でプラスチック容器で代替するこ
とは、特に無菌の薬品梱包の場合に大きな生産性及び経費の利点をもたらす。
【００１９】 更に、損傷あるいは誤操作の場合に生ずる高熱のあるいは健康を害する媒体に
よって、ここで要求される真空技術において生ずる作業員の危険が充分に防止さ
れる。
【００２０】 本発明の好ましい展開のこれらの及び別の特徴は、従属請求項を含めた請求の
範囲のほかに、明細書及び図面からも明らかであり、その際個々の特徴はそれ自
体だけで、あるいは複数の、副組み合わせの形で本発明の実施例の形で実現する
ことができ、有利なかつ単独で保護可能な構成をなすものである。
【００２１】 実施例 容器の処理、特にプラズマ滅菌及び別の処理のための本発明による方法を実施
するための装置の実施例は図面によって説明する。
【００２２】 図１においては、装置１の第１実施例が示されており、この第１実施例におい
てここで容器２のプラズマ滅菌について説明する。外部の大気に対して閉鎖可能
な、廃棄可能な室３（真空室）内で滅菌プロセスが行われ、その際容器２は図示
の実施例では容器保持体としての円すい体４上に保持される。円すい体４は外面
に漏えい溝５を有しており、この漏えい溝はしたがって容器２の開口の内縁と円
すい体４の外壁との間に位置しており、たとえわずかではあれ、室３と容器２の
内部との間のガス流動を可能にする。内部が開いている円すい体４によって、供
給導管７を介して室３の外部から、流量調節器６により制御されて、ガスが容器
２内に供給可能である。室３の外面にはプラズマ源８、例えば電磁的な交番場が
示されており、更にガスを室３から吸出するためのポンプ９が存在している。
【００２３】 ここで適用される滅菌法の原理は、自体公知の物理的なプロセスに基づいてお
り、これは永久ガスからプラズマを生ぜしめ、その際ガスの原子は適当なエネル
ギ供給によって電子とイオンとの混合物に変換せしめられる。エネルギ供給はこ
こでは好ましくは元素粒子の電荷担体特に電子の加速による電気的な場における
粒子間の衝撃によって行われ、粒子間の衝撃はプラズマに外部からプラズマ源８
のより加えられる。
【００２４】 図１に示した本発明による実施例及び図２に示した後述する第２実施例によれ
ば、この場合選択的なプラズマの励起が行われる。方法ステップ中に少なくとも
時間的に生ぜしめられる容器２の内部及びその回りの室３内の種々のガス圧力に
よって、プラズマは意識的に内部か、あるいは外部に励起することができる。圧
力が過度に小さい場合には、充分に元素粒子が励起若しくはイオン化せしめられ
ず、プラズマ放電を維持することができない。ガスの圧力が過度に高い場合には
、平均的な、自由な距離長が過度にわずかであり、元素粒子に２つの衝撃の間で
、活性化あるいは励起ひいてはイオン化のために充分に加速区間あるいは加速時
間を与えることができない。
【００２５】 図１に示した第１実施例では、室３はポンプ９により吸出され、室３の内部の
ガス圧力がプラズマの励起のために過度にわずかにされる。室３内では滅菌すべ
き容器２は、直接にその開口をもって形状接続で円すい体４上に座着するように
、保持される。供給導管７を介して室３の外部から、流量調節器６によって制御
されて、例えば酸素、濾過された空気、水蒸気、過酸化水素蒸気、アルゴン、窒
素、テトラフルオルメタンなどのような規定されたガス流が円すい体４の内部を
通って容器２内に流れる。このガス流は、容器２の内部において圧力が大きく、
プラズマが励起され得るように、調整されている。
【００２６】 所望の圧力勾配若しくは特定の圧力の場合に、規定されたガス交換が図１の容
器２内で行われるようにするために、円すい体４の外面の漏えい通路５を介して
ガス若しくはプラズマの排ガスが容器２から室３内に吸出される。円すい体４を
通って供給されるガス量及び漏えい溝の案内値に関連して、この場合容器２内の
ガスの圧力が調整可能である。この場合において、例えば弁により制御される漏
えい溝も可能である。室３内に漏えい溝５を通って供給される排ガスはこの場合
ポンプ９により、圧力条件を得るために、室３から吸出され、これによってした
がってプラズマが選択的に滅菌すべき容器２の内部だけに生ぜしめられる。
【００２７】 この選択的な滅菌プロセスの特に有利に展開された構成では、図１の室３は最
初に完全に吸出され、ガスが容器２内に、あるいは室３内に流入せしめられない
。次いで、規定されたガス流を生ぜしめるための流量調節器６が開かれ、ガス流
が滅菌すべき容器２内に流入し、容器２の内部にプラズマを、有利にはプラズマ
源８のマイクロ波投射によって、点じる。
【００２８】 所望の滅菌作用が容器２の内部において達成されると、選択的になお室３内に
おいて、要するに滅菌すべき容器２の外部において、ガス圧力を高めることがで
き、この場合、供給導管７を通って流れるガス若しくはガス混合物の規定された
ガス流を、あるいは場合によっては付加的に、ここでは示されていない入口を通
って、室３内に入れることもでき、したがってプラズマがここでも励起されるこ
とができる。プラズマはこの場合容器２の内部において消え、外部において室３
内で励起される。この方法プロセスで、したがって容器２は室３に面した外面に
おいても滅菌することができる。
【００２９】 このプラズマ形成の外方に向かって飛ぶ前述の過程は、プラズマが外方に向か
って遮蔽され、換言すれば投射されるエネルギが吸収されて、エネルギがこのプ
ラズマの外方では、別のプラズマを励起するのに充分でないことによって、生ず
る。例えば、室３内の外部のプラズマが、滅菌すべき容器２の内部における分離
されたガス雰囲気に対して遮蔽され、そこでプラズマの励起を阻止する。この場
合室３内における圧力がわずかであり、しかし容器２の内部においてはプラズマ
のために充分であると、投射されるエネルギは容器２の内部のプラズマを充分に
吸収する。プラズマ源８のエネルギはしかし最初室３内に投射され、次いで初め
て滅菌すべき容器２の壁を通して、場合により緩衝されて、容器２の内部に達す
るので、別の場合、室３内でガス圧力が充分であるときに、プラズマが直ちに外
部の容器２内で生ずる。
【００３０】 図２に示した第２実施例においては、図１について記載した原理が逆にされて
いる。大体において同じ作用を有する構造部分にはしかしながら図１と同じ符号
が付けられている。滅菌すべき容器２はここでは直接に、容器２内に真空を形成
するためのポンプ１０を有する円すい体４上に吸出されている。滅菌法の実施は
この実施例では、ところで、室３がガス供給部１１によって滅菌ガス若しくは滅
菌ガス混合物を流された後に、滅菌すべき容器２が吸出されて、プラズマが電磁
的な場、有利にはマイクロ波の場の投射によって容器２の内部において励起され
るのに対し、滅菌すべき容器２の外部の室３内に圧力がプラズマのために過度に
高い（前述の説明を参照のこと）ことによって、行われる。ガスはこの場合、容
器保持体の円すい体４の漏えい溝５を通って容器２内に流れる。容器２内に排ガ
スは今や円すい体４及び供給導管７を通って、ポンプ１０により吸出される。
【００３１】 これに続く方法ステップにおいて、室３が容器２の外面の滅菌のために吸出さ
れ、プラズマが外部の室３内で点ずる。このことは、新鮮ガス供給がガス供給部
の流量調節器によってストップされ、ガスが室３から円すい体４の漏えい溝５を
介して次第に吸出されて、相応する圧力が室３内において達成されることによっ
て、行うことができる。代替的にこのことは、ここでは図示されていない、室３
を付加的に排気することのできるポンプによって、行うこともできる。
【００３２】 前述の実施例によって、個々の容器の滅菌を１つの比較的に簡単な装置内で説
明した。前述のやり方は、別のプラズマ処理ステップにも適用することができる
。図３に示した経過線図によって、製作ステップ及び処理ステップを概略的に示
した設備２０内で説明するが、この設備は、ステップのインタリンクによって、
空間的及び時間的に密接している容器２の製作プロセス及び処理プロセスを可能
にする。設備２０の核心は、図１及び２で説明した排気可能な室３であり、この
室内で、相応する、構造的な拡大部、例えば製作ステップ２１、滅菌及び又は被
覆ステップ２２，活性化ステップ２３及び充てん若しくは封印ステップ２４を実
施することができる。
【００３３】 すべてのステップ２１〜２４において、室３内に生ぜしめられる真空をもって
作業をすることができる。製作ステップ２１及び被覆又は封印ステップ２４にお
いては、この場合しかしながら、ステップ２２及び２３におけると同じ真空条件
が支配していてはならず、その際ここでは真空のない処理も考えることができる
。
【００３４】 製作ステップ２１においては、容器２の製作は射出成形、射出吹き付け成形、
深絞り、プラスチックフォイルの溶接あるいは押し出し吹き付け成形などによっ
て行われ、その際例えば、プラスチック顆粒あるいはプラスチックフォイルを直
接に室３内に入れることができる。ステップ２１はしたがって直接に室３内で行
われることができ、あるいは設備２０内で室３と密接に連結された設備構成要素
内で行うことができる。連結の密接さに応じて、例えばプラズマ滅菌と同じ真空
条件で製作する場合に、それどころか製作及び滅菌を１つのステップで行うこと
ができ、若しくは別個の滅菌が全く不要になる。それは、容器形成に必要な温度
が既に細菌を死滅させる作用を有しているからである。
【００３５】 室３内の真空のプラズマ条件の下での処理ステップ２２及び２３は、次いで、
なお容器の被覆及び又は表面の変化並びに活性化特に容器２の外表面の活性化を
含むことができる。被覆特に内部の被覆の課題は、例えば容器周辺からの容器内
部への水蒸気の透過性、容器周辺からの容器内部への酸素の透過性、挿入された
液体の容器壁を通しての外部への透過性あるいは、滑り剤、安定剤、軟化剤、溶
剤などの容器材料の容器２内に入れられた液体への移動を阻止することである。
【００３６】 被覆は薄い、例えば１０〜１０００nmの厚さのプラズマポリマ層を設けること
によって行われ、これはプラズマ内で前述の電磁的な場、例えば１００KHz〜４.
９GHzの範囲の場を投射することによって、ケイ素及び又は炭素を含有するモノ
マ（例えばシラン、シロキサン、シラザン、芳香族、アルカン、アルケンあるい
はアルキン）から生ずる。この被覆はこの場合、特にモノマが酸素を含んでいる
場合に、既に滅菌性の若しくはパイロジェンを損傷させる作用を有している。他
面においてしかし、酸素、アルゴンあるいは窒素若しくは水蒸気あるいは過酸化
水素を非被覆性のガスとして重合プラズマに添加することもできる。
【００３７】 したがって提案された装置により、真空被覆をプラスチック容器の製作及び処
理のための製作ラインのタクト内に組み入れることが可能であり、換言すれば、
熱可塑性プラスチックの物体を射出成形は、プラズマ滅菌及び場合によりプラズ
マ重合のような、その引き続く処理ステップと同じタクトで行われる。これによ
り多数の、例えばガラスアンプルの従来の充てんの場合に存在した記号論理学的
な問題、ガラス装置内でのガラスアンプルの製作、薬品装置への輸送、前浄化／
洗浄及び設備の材料取り付けのような問題が省略される。
【００３８】 容器２の内面の被覆、滅菌及び脱パイロジェンに対して付加的に、既に述べた
ように、処理ステップ２３内で付加的に容器２の外面をプラズマ活性化によって
、ここにおいても１００KHz〜４.９GHzの範囲で、非被覆性のガス（Ar，He，Ne
，O２，N２）で、図３の設備２０内の容器２の外部の印刷あるいは接着／封印の
ために、準備をすることができる。このプラスチック表面の活性化はもちろん、
既に先行するプラズマ処理ステップと一緒に行うこともできる。
【００３９】 図３によって説明した設備２０においては、閉鎖の後に、処理ステップ２４で
行われた容器２の充てんの最終的な封印を行うことが可能である。図３に示した
設備２０により容器２の充てんは処理プロセス内に容易に入れることができる。
それは容器２内においては、真空に基づいて残存空気を押し出す必要がないから
である。このことは特に薬品の容器の場合に著しい利点である。それはここでは
汚染換言すれば細菌若しくはパイロジェンを含む空気が滅菌及び充てんのステッ
プの間に容器２内に入ることがなく、残存空気の吸出が充てん中に不要であり、
場合によっては充てんを保護ガス（N２, Ar, SF６）の下で行うことができるか
らである。
【００４０】 容器２の封印又は溶接は図３に示した設備においては真空室内で行うこともで
き、したがって初めて完成した充てんされ封印された容器２を取り出さなければ
ならない。汚染された周囲空気がしたがって容器２内に達することはない。全体
としてしたがって、特にプラスチック容器を使用する場合に、容器製作及び現場
での引き続く処理及び最適の真空の利用が設備範囲内で容器２のプラズマ処理を
使用する場合に、可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】 室内に配置された容器を有する装置の概略図であり、その際室内には真空が生
ぜしめられている。
【図２】 室内に配置された容器を有する装置の概略図であり、その際容器内には真空が
生ぜしめられている。
【図３】 本発明による方法を実施するための方法経過を示した概略図である。
【符号の説明】
１ 装置、 ２ 容器、 ３ 室、 ４ 円すい体、 ５ 漏えい溝、 ６ 流
量調節器、 ７ 供給導管、 ８ プラズマ源、 ９ ポンプ、 １０ ポンプ
、１１ ガス供給部、 ２０ 設備、 ２１ 製作ステップ、 ２２ 滅菌及び
又は被覆ステップ、 ２３ 活性化ステップ、 ２４ 充てん若しくは封印ステ
ップ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヨハネス ラウシュナーベル ドイツ連邦共和国 シユツツトガルト ア ウグステンシュトラーセ 97 (72)発明者 サーシャ ヘンケ ドイツ連邦共和国 ヴァイル デア シュ タット オーベレ タールシュトラーセ ５／２ (72)発明者 フリートベルト クレフェンツ ドイツ連邦共和国 バート ホンブルク コルピングシュトラーセ 42 Ｆターム(参考） 4B021 LA07 LA25 LT08 MC01 MK30 4C058 AA16 AA25 BB06 CC01 CC02 CC03 CC09 DD06 DD11 KK06

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 プラスチック容器（２）の処理及び/又は製作のための方法
    であって、少なくとも１つの方法ステップにおいて、室（３）内でプラズマ処理
    を電磁的な振動を励起することによって行って、プラズマが、真空内で空間的及
    び又は時間的に選択的に励起され、かつ容器（２）の壁面に接触するようにし、 真空を利用して別の製作ステップ及び/又は処理ステップ（２１，２２，２３
    ，２４）をプラスチック容器（２）においてあるいはプラスチック容器をもって
    行って、プラスチック容器が製作プロセス又は処理プロセス中にプラスチック容
    器（２）内に物質を滅菌梱包するために互いにインタリンクされているようにす
    る、プラスチック容器内に物質を滅菌梱包するための方容器（２）の法。
  2. 【請求項２】 プラズマ処理が滅菌及び/又は脱パイロジェンであることを
    特徴とする、請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 別の処理ステップが、有利には容器内壁面の透過性阻止被覆
    であることを特徴とする、請求項１又は２記載の方法。
  4. 【請求項４】 被覆が、プラズマポリマ層を設けることによって行うことを
    特徴とする、請求項３記載の方法。
  5. 【請求項５】 少なくとも容器（２）の表面の領域において、プラズマ処理
    によって化学的に変化させて、容器壁を通しての物質の透過が困難になることを
    特徴とする、請求項１又は２記載の方法。
  6. 【請求項６】 容器（２）のプラズマ処理並びに被覆及び又は表面の変化加
    工を、室内のプロセスサイクル内の少なくとも１つの別の処理ステップとして行
    うことを特徴とする、請求項３から５までのいずれか１項に記載の方法。
  7. 【請求項７】 プラズマ処理中にあるいはプラズマ処理の後に、有利には容
    器（２）の外面の、プラズマ活性化（２３）が行われることを特徴とする、請求
    項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
  8. 【請求項８】 容器（２）の製作（２１）が、別の処理ステップ（２２，２
    ３，２４）の前に、有利には真空を利用して、室の前方あるいは室内で、行われ
    ることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
  9. 【請求項９】 容器（２）の製作（２１）が、室（３）内で、射出成形、深
    絞り、プラスチックフォイルの溶接あるいは吹込み押し出しなどによって行われ
    ることを特徴とする、請求項８記載の方法。
  10. 【請求項１０】 別の処理ステップ（２４）の１つが、容器（２）の充てん
    であることを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項に記載の方法。
  11. 【請求項１１】 別の処理ステップ（２４）の１つが、容器（２）の閉鎖及
    び/ 又は封印であることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項に記載
    の方法。
  12. 【請求項１２】 容器（２）が、プラズマ処理を行うために、少なくともほ
    とんどかつ部分範囲に真空を生ぜしめることができる室（３）内に案内され、あ
    るいはこの室内にとどまり、 容器（２）の内部に、室（３）から遮蔽された供給導管（７）を介してプラズ
    マを励起するのに適したガスを案内し、その際内部におけるガス圧力の勾配を調
    整しかつ維持し、ここでプラズマが励起されかつ所定の時間維持されるようにし
    、 容器（２）内部のガス圧力勾配及びプラズマを、室（３）内における圧力値に
    対する圧力値の充分な高さによって、室（３）内への容器からの排ガスの所定の
    排流及びこれに接続する室（３）からの吸出をもっても、維持することを特徴と
    する、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の方法。
  13. 【請求項１３】 第１の方法ステップで室（３）を排気し、 第２の方法ステップでガスを容器（２）内に、プラズマを内部に励起するため
    に、導入し、 第３の方法ステップでガスを室（３）内に、プラズマを容器（２）の外面に励
    起し、かつ同時に容器（２）の内部のプラズマを消すために、導くことを特徴と
    する、請求項１２記載の方法。
  14. 【請求項１４】 容器（２）を、プラズマ滅菌を実施するために、室（３）
    内に導き、あるいは室内にとどめ、室内にプラズマを励起するのに適したガスを
    導き、 容器（２）の内部において、室（３）から遮蔽された供給導管（７）を介して
    、少なくとも部分的な排気を生ぜしめ、その際内部におけるガス圧力勾配を調整
    しかつ維持して、ここでプラズマが励起し、かつ所定の時間維持されるようにし
    、 容器（２）の内部のガス勾配及びプラズマが、室（３）内における圧力値に対
    する圧力値の充分な低さによって、室（３）から容器（２）内へのガスの所定の
    流れ及びこれに続く容器（２）からの吸出をもっても、維持されるようにしたこ
    とを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の方法。
  15. 【請求項１５】 第１の方法ステップで室（３）にガスを供給し、 第２の方法ステップで容器を（２）を排気して、室（３）からのガスの供給を
    介して、内部にプラズマが励起されるようにし、 第３の方法ステップで室（３）内へのガス供給をストップし、プラズマを室（
    ３）内で、ひいては容器（２）の外面に励起し、かつ同時に容器（２）の内部に
    おいてプラズマを消すことを特徴とする、請求項１４記載の方法。
  16. 【請求項１６】 請求項１から１５までのいずれか１項に記載の方法を実施
    する装置において、少なくとも部分的に排気可能な室（３）が、容器（２）を製
    作しかつ/又は処理するための設備（２０）の構成部分であり、この設備内で、
    少なくとも１つのプロセスサイクル内の製作ステップ及び/又は処理ステップの
    インタリンクが実施可能であることを特徴とする、プラスチック容器内の物質を
    滅菌梱包するための方法及び装置。
  17. 【請求項１７】 室（３）内にあるいは室に、少なくとも１つの容器（２）
    を製作するための、射出成形装置が存在していることを特徴とする、請求項１６
    記載の装置。
  18. 【請求項１８】 室（３）内にあるいは室に、充てん及び/又は閉鎖装置が
    存在しており、これによって容器（２）が媒体を充てん可能であり、かつ場合に
    より閉鎖及び封印可能であることを特徴とする、請求項１６又は１７記載の装置
    。
  19. 【請求項１９】 室（３）内に少なくとも１つの容器保持体が存在しており
    、この容器保持体上に、容器（２）がほとんど圧力密に所定の漏えいをもって保
    持されており、 室（３）に少なくとも１つの排気ポンプ（９）及び/又は被覆性でない及び/又
    は被覆性のガスのガス供給部（１１）並びに容器（２）のための充てん装置が接
    続されており、 室（３）の外部にプラズマ源（８）が取り付けられていることを特徴とする、
    特に請求項１２から１５までのいずれか１項に記載の方法を実施するための、請
    求項１６から１８までのいずれか１項に記載の装置。
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