CN101297376B - 开口容器用电子射线照射装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供即使是低能量的电子射线，也能够均匀地对对象物照射电子射线的电子射线照射方法和电子射线照射装置。因此，在将电子射线照射区域内所产生的多个磁场接合起来而形成的磁场屏障(MF)内，对饮料容器(30)(对象物)照射电子射线(EB)。

Description

开口容器用电子射线照射装置

技术领域

本发明涉及对对象物照射电子射线的电子射线照射方法和电子射线照射装置，特别涉及适用于将例如食品、水、医药品、中药、化妆品、饲料、肥料等或它们所使用的包装材料等作为所述对象物并对其实施杀菌的电子射线照射方法和电子射线照射装置，进而，特别涉及适合于对塑料制的开口容器的内外表面进行杀菌的开口容器用电子射线照射装置。 

背景技术

作为这种电子射线照射方法和电子射线照射装置，以往一般利用高能量的电子射线的透射作用将该电子射线照射到对象物上。但是，在这种高能量型的电子射线照射方法和电子射线照射装置中，具有其设施大规模化的倾向，并且存在能量效率低的问题。所以，以简化设施、提高能量效率为目的，提出了如下的低能量型的电子射线照射方法和电子射线照射装置：其使用低能量的电子射线，并且，利用磁场使电子偏转或利用反射板使电子反射，从而能够尽可能均匀地对对象物照射电子射线。 

例如，作为其代表性示例，公开了专利文献1和专利文献2所述的技术。 

在专利文献1所述的技术中，公开了如下的电子射线照射装置：其具有向电子射线照射区域照射电子射线的电子射线照射单元；和多个磁场偏转器，其配置在电子射线照射区域的周围并产生多个磁场。而且，该电子射线照射装置还具有将立体对象物搬送到电子射线照射区域内的搬送单元。 

并且，在专利文献2所述的技术中，公开了如下的电子射线照射装置：其具有对电子射线照射区域内的立体对象物照射电子射线的电子射线照射单元；配置在对象物的下方的磁场偏转器；和搬送对象物的搬送单元。 

根据这些专利文献1、专利文献2所公开的结构，利用搬送单元将对象物搬送到电子射线照射区域内，接着，利用电子射线照射单元产生电子射线并对电子射线照射区域内进行照射，利用各个磁场偏转器使该所照射的电子射线偏转，从而能够对对象物的各处照射电子射线。 

但是，最近，饮料、食品、医药品以及化妆品的填充多使用塑料制的开口容器。在填充内容物前，对这些开口容器的内部进行灭菌处理，使其成为无菌状态，然后填充内容物并进行密封。关于开口容器的灭菌处理，代替使得设备变大型化的使用药剂的方法，而提出了使用电子射线对高速搬送的开口容器的内外表面进行灭菌的方法。 

例如，提出了如下的电子射线照射装置：PET瓶等塑料制的开口容器以其中心轴与搬送方向垂直的方式，即在将开口容器放倒的状态下，通过搬送单元搬送到照射电子射线产生单元的电子射线的照射区域，利用地板部倾斜设置的其他搬送单元以一边旋转一边移动的方式搬送开口容器，使开口容器一边旋转一边通过电子射线产生单元的照射空间，由此，对开口容器的外表面和内表面全体照射电子射线，高效进行灭菌处理(参照专利文献3)。 

并且，作为其他示例，提出了如下的电子射线照射装置：纵长状地配设电子射线产生单元，包含该电子射线产生单元的电子射线照射窗在内，在其前后部需要的长度范围内，通过不透射放射线的材料构成灭菌处理室，通过容器搬送单元，以直立姿势从灭菌处理室的入口部向出口部搬送处理对象即开口容器，而且具有旋转赋予单元，在从即将到达电子射线产生单元的电子射线照射窗的前方位置到通过结束期间，对开口容器赋予自转，能够实现小型化，同时提高开口容器的灭菌处理效果(参照专利文献4)。 

进而，还提出了如下的容器杀菌方法和装置：为了能够利用电子射线照射对通过搬送单元在直立状态下搬送到杀菌处理室内的容器的内表  面进行杀菌，利用交流磁场沿容器的搬送方向扫描来自电子射线照射装置的低能量的电子射线，利用放射状喷嘴将电子射线细分并依次注入到各容器内，从而能够利用一个电子射线照射单元对多个容器内表面进行杀菌，能够使装置整体小型化(参照专利文献5)。 

专利文献1：日本特开2002-308229号公报 

专利文献2：日本特开平11-281798号公报 

专利文献3：日本特开平10-268100号公报 

专利文献4：日本特开平11-1212号公报 

专利文献5：日本特开2002-104334号公报 

这里，为了对对象物的整个表面均匀地照射电子射线，需要使磁场偏转器的配置及其磁场强度发生各种变化。但是，因为高速发射电子，所以用于确保这种照射的均匀性的控制非常困难，即使利用上述各专利文献的技术，也不能完全实现对对象物的整个表面均匀地照射电子射线。 

并且，在对象物例如为复杂的具有凹凸的立体物或薄片状部件的情况下，对于电子射线照射单元的照射部而言，即使在使电子发生了偏转的情况下，因为拉莫尔半径(Larmor radius)变大且具有边缘(fringing)，所以对对象物的相反面侧的照射很困难。另外，虽然也提出了通过对象物或反射板的二次电子来对对象物的相反面侧照射电子射线的方案，但是这种二次电子因空间距离而产生的损失很大，所以确保其照射量并均匀地进行照射是相当困难的。 

进而，从这种电子射线照射装置照射的电子射线，除了对象物以外，还与其氛围气即周围气体和装置的结构部产生冲撞，进一步消耗其能量。因此，难以均匀地对对象物照射电子射线。 

并且，上述这种问题特别是在连续搬送对象物的连续生产线中应用的情况下，更难以能量效率良好地、均匀地对该所搬送的对象物照射低能量的电子射线。 

发明内容

所以，本发明是着眼于这些问题而完成的，其目的在于，提供即使  是低能量的电子射线，也能够对对象物均匀地照射电子射线的电子射线照射方法和电子射线照射装置。 

并且，本发明的目的在于，提供即使是低能量的电子射线，也能够抑制电子射线的能量消耗的电子射线照射方法和电子射线照射装置，以及能够抑制电子射线的能量消耗，同时连续地照射电子射线的电子射线照射装置。 

但是，在上述专利文献3所记载的电子射线照射装置中，将以直立状态搬送的开口容器临时放倒，在该放倒移送的状态下进行照射处理，因此，在生产线中配置杀菌装置时，需要放倒机构和立起机构，开口容器的搬送速度因这些机构而显著降低，所以，具有难以组装到希望高速搬送开口容器来提高生产效率的生产线中的问题。 

并且，专利文献4所记载的电子射线照射装置虽然能够组装到各种产品的生产线中，但是，在连续搬送开口容器时，在通过电子射线产生单元的一个部位的电子射线照射窗部分的过程中，利用电子射线从侧面照射各个开口容器来实施灭菌处理，所以为了对开口容器的内外表面充分灭菌，具有要降低搬送速度或必须使用高能量的电子射线产生单元的问题。 

进而，在专利文献5所记载的电子射线照射装置中，为了对在生产线中连续搬送的各开口容器进行照射处理，需要在一个电子射线照射单元中分支设置多个放射状喷嘴，所以结构变复杂，为了利用电子射线充分地照射到开口容器的内部，需要降低搬送速度，具有阻碍生产线效率提高的问题。 

即，本发明的另一目的在于，提供能够组装到高速搬送开口容器的生产线中，并且能够使用低能量的电子射线产生单元，在维持负压的照射处理部内，通过电子射线有效地对开口容器进行灭菌处理的开口容器用电子射线照射装置。 

并且，本发明的另一目的在于，提供适当地配置多个电子射线产生单元，能够利用各电子射线产生单元的电子射线，适当地对以与生产线大致相同的高速搬送中的各开口容器的内外表面进行灭菌处理的开口容  器用电子射线照射装置。 

为了解决上述问题，本发明的对对象物照射电子射线的方法的特征在于，该方法形成将在电子射线照射区域内产生的多个磁场连接起来的磁场屏障，在该磁场屏障内对对象物照射电子射线。 

并且，本发明的对对象物照射电子射线的电子射线照射装置的特征在于，该电子射线照射装置具有：电子射线照射单元，其对设置对象物的电子射线照射区域内照射电子射线；以及磁场屏障形成单元，其形成将在所述电子射线照射区域内产生的多个磁场连接起来而包围所述对象物的磁场屏障。 

这里，在本说明书中，“磁场屏障”是指，在电子射线照射区域内产生多个磁场，将这些多个磁场接合起来，而合成相互的磁场。另外，例如在上述专利文献1中，虽然在电子射线照射区域内产生多个磁场，但是，分别形成为单一的磁场，没有构成本发明这样的将相互的磁场接合起来的磁场屏障。 

根据本发明，通过将在电子射线照射区域内产生的多个磁场接合起来形成磁场屏障。因此，通过在该磁场屏障内对对象物照射电子射线，能够将对对象物照射的电子射线封闭在磁场屏障内，并以各种角度进行反射。因此，能够高效且均匀地对对象物照射电子射线。 

这里，优选所述磁场屏障由会切(cusp)磁场或磁镜(mirror)场形成。如果是这种结构，则能够在磁场屏障内没有能量损失地封入电子。并且，能够更有效地获得电子反射方向的无序性。因此，能够更加高效地对对象物照射电子射线。 

并且，优选所述磁场屏障形成单元调整该产生的磁场的强度，改变所述磁场屏障内的电子射线的反射距离和反射方向中的至少一方。如果是这种结构，则能够进一步有效地获得电子反射方向的无序性。因此，能够更加高效且均匀地对对象物照射电子射线。 

并且，优选所述磁场屏障形成单元通过该产生的磁场的方向的调整、和旋转磁场的产生的有无的调整中的至少一方，来改变所述磁场屏障内的电子射线的反射方向。如果是这种结构，则能够进一步有效地获得电  子反射方向的无序性。因此，能够更加高效且均匀地对对象物照射电子射线。 

并且，所述磁场屏障形成单元优选采用具有多个磁场产生体的结构，该多个磁场产生体配置成包围所述电子射线照射区域内的对象物，分别产生所述磁场。如果是这种结构，则在形成包围对象物的磁场屏障方面为优选结构。而且，能够使用低能量的电子射线均匀地对对象物照射电子射线。 

并且，这种磁场产生体优选具有永久磁铁、电磁铁或圆形线圈中的任一种。如果是这种结构，则能够根据适当的条件，效率良好地形成期望的磁场。 

并且，优选该电子射线照射装置还具有照射槽，该照射槽在内部收纳所述对象物，并且将该对象物周围的氛围气管理成真空状态、或被从负压到正压的氛围气气体充满的状态，所述氛围气气体是从空气、氧、氮、氢、二氧化碳、氩和氦中选择的一种或多种气体。如果是这种结构，则特别是通过将氛围气管理成真空状态、或被负压的氛围气气体充满的状态，能够进一步降低电子的能量损失。并且，即使是常压的氛围气，如果使用比重小的氦气等气体作为氛围气气体，则与氛围气气体是空气等比重较大的气体的情况相比，也能够进一步降低电子的能量损失。并且，即使是正压的氛围气，虽然也依赖于其压力水平，但通过使用比重小的氦气等气体作为氛围气气体，也能够充分减少电子的能量损失。而且，根据对象物的种类和照射目的，适当选择氛围气气体，能够将对象物周围的氛围气管理成规定状态。 

并且，优选所述电子射线照射单元具有能够改变其照射的电子射线的照射角度的照射角度变更单元。如果是这种结构，则能够改变对电子射线照射区域内照射的电子射线的进入角度。因此，电子以各种角度撞击磁场屏障，能够从更多方向进行无序照射。因此，能够更加高效且均匀地对对象物照射电子射线。 

并且，优选该电子射线照射装置还具有可通过所述电子射线照射区域来搬送所述对象物的对象物搬送单元。如果是这种结构，则能够在移  动该对象物的、间歇式生产线或连续式生产线的生产线途中应用本发明。 

并且，本发明优选用于所述对象物为容器或薄片状部件，对该容器或薄片状部件照射电子射线，以对其进行杀菌的用途。即，根据对象物的种类和形状，从复杂形状的立体物到平面状物体都能够应用本发明，能够对该对象物高效且均匀地照射电子射线，例如，本发明优选用于对清凉饮料用等的所谓PET瓶(聚酯瓶)及其他塑料制的中空容器照射电子射线对其进行杀菌的用途、和对组装成牛奶饮料等用的纸容器之前的纸制的薄片照射电子射线对其进行杀菌的用途等。 

进而，为了解决上述问题，本发明的对对象物照射电子射线的方法的特征在于，在电子射线照射区域内产生旋转磁场，在该旋转磁场内对对象物照射电子射线。 

并且，本发明的对对象物照射电子射线的电子射线照射装置的特征在于，该电子射线照射装置具有：照射槽，其在内部收纳对象物，形成电子射线照射区域；电子射线照射单元，其对该照射槽内照射电子射线；以及磁场产生单元，其在所述照射槽内产生包围所述对象物的旋转磁场。 

这里，本发明的“旋转磁场”是指所产生的磁场以包围对象物的方式旋转的磁场，包含以下情况：所产生的磁场本身绕对象物旋转的情况；磁场本身不旋转，但是使该对象物在包围对象物的磁场内旋转，而形成相对旋转的磁场的情况；以及磁场本身绕对象物旋转，并且也使该对象物在包围该对象物的该磁场内旋转的情况。 

根据本发明，在电子射线照射区域内产生包围对象物的旋转磁场。而且，在该旋转磁场内对对象物照射电子射线，因此，所照射的电子射线在旋转磁场内部向旋转方向偏转，所以其能量不会因冲撞对象物以外的结构部而消耗，并且通过利用旋转磁场使对对象物照射的电子射线偏转，从而尤其能够在周向上均匀地对对象物照射电子射线。 

这里，优选所述磁场产生单元构成为在包围所述对象物的范围内产生多个旋转磁场。如果是这种结构，则能够将多个旋转磁场相互接合，形成所谓的包围对象物整体的屏障。由此，通过将电子封入，能够良好地抑制能量的消耗，在均匀地对对象物照射电子射线方面是更加优选的。 

并且，更优选的是所述磁场产生单元可分别单独地产生所述多个旋转磁场。如果是这种结构，则能够更加有效地获得电子反射方向的无序性。因此，能够更加高效地对对象物照射电子射线。 

并且，例如如果使单独产生的旋转磁场相对于对象物分段地(例如如果是上下延伸的部件，则按照划分为上部、中央部、下部等的每个部分)移动并照射电子射线，则在没有遗漏地对对象物整体进行照射的方面是有效的。 

并且，优选所述磁场产生单元通过改变该产生的旋转磁场的旋转方向，来改变所述旋转磁场内的电子射线的反射方向。如果是这种结构，则能够进一步有效地获得电子反射方向的无序性。因此，能够进一步高效且均匀地对对象物照射电子射线。 

并且，优选所述磁场产生单元具有多个磁场产生体，该多个磁场产生体配置成包围所述照射槽内的对象物，并分别产生磁场。如果是这种结构，则在形成包围对象物的旋转磁场方面为优选结构。 

并且，优选构成为所述磁场产生体由圆环状的磁场产生线圈构成，通过对该磁场产生线圈通电而产生所述旋转磁场。即使是这种结构，在形成包围对象物的旋转磁场方面也是优选结构。另外，作为上述通电用的电源，能够使用交流电源，其相数例如可以是三相交流，也可以是三相以上的多相交流。而且，在使用低能量的电子射线均匀地对对象物照射电子方面是优选的。并且，优选所述磁场产生单元使对所述磁场产生线圈通电的交流电压的例如有效值变化，来改变旋转磁场的强度。如果是这种结构，则电子的旋转方向更加无序，能够进一步高效且均匀地照射电子射线。 

并且，优选所述磁场产生体具有：配置成圆环状的多个永久磁铁；和磁场产生体旋转单元，其使该配置成圆环状的多个永久磁铁绕其中心轴旋转，通过利用该磁场产生体旋转单元使所述配置成圆环状的多个永久磁铁旋转，来产生所述旋转磁场。如果是这种结构，则能够根据适当的条件，效率良好地形成期望的旋转磁场。 

并且，优选所述磁场产生体具有：配置成圆环状的多个永久磁铁；  和对象物旋转单元，其使所述对象物绕该配置成圆环状的多个永久磁铁的中心轴旋转，通过利用该对象物旋转单元使所述对象物在所述配置成圆环状的多个永久磁铁的内侧旋转，而产生与所述对象物相对旋转的磁场作为所述旋转磁场。如果是这种结构，则能够根据适当的条件，效率良好地形成期望的旋转磁场。 

并且，优选所述磁场产生单元还具有轴线方向移动单元，该轴线方向移动单元使所述磁场产生体在所述磁场产生单元产生的旋转磁场的轴线方向上移动。如果是这种结构，则能够进一步有效地获得电子反射方向的无序性。因此，能够进一步高效且在轴向上更加均匀地对对象物照射电子射线。 

并且，优选该电子射线照射装置还具有照射槽，该照射槽在内部收纳所述对象物，并且将该对象物周围的氛围气管理成真空状态、或被从负压到正压的氛围气气体充满的状态，所述氛围气气体是从空气、氧、氮、氢、二氧化碳、氩和氦中选择的一种或多种气体。如果是这种结构，则特别是通过将氛围气管理成真空状态、或被负压的氛围气气体充满的状态，能够进一步降低电子的能量损失。并且，即使是常压的氛围气，如果使用比重小的氦气等气体作为氛围气气体，则与氛围气气体是空气等比重较大的气体的情况相比，能够进一步降低电子的能量损失。并且，即使是正压的氛围气，虽然依赖于其压力水平，但通过使用比重小的氦气等气体作为氛围气气体，也能够充分减少电子的能量损失。 

并且，优选所述电子射线照射单元具有能够改变其照射的电子射线的照射角度的照射角度变更单元。如果是这种结构，则能够改变对电子射线照射区域内照射的电子射线的进入角度。因此，电子以各种角度撞击旋转磁场，能够从更多方向进行无序照射。因此，能够更加高效且均匀地对对象物照射电子射线。 

并且，优选该电子射线照射装置还具有可通过所述电子射线照射区域(或照射槽内)来搬送所述对象物的对象物搬送单元。如果是这种结构，则能够在移动该对象物的、间歇式生产线或连续式生产线的生产线途中应用本发明。 

并且，本发明优选用于所述对象物为容器或薄片状部件，对该容器或薄片状部件照射电子射线，以对其进行杀菌的用途。即，根据对象物的种类和形状，从复杂形状的立体物到平面状物体都能够应用本发明，能够对该对象物高效且均匀地照射电子射线，例如，本发明优选用于对清凉饮料等用的所谓PET瓶(聚酯瓶)及其他塑料制的中空容器照射电子射线并对其进行杀菌的用途、和对组装成牛奶饮料用等的纸容器之前的纸制的薄片照射电子射线而对其进行杀菌的用途等。 

进而，为了解决上述问题，本发明的方法从电子射线照射单元进行照射，该电子射线照射单元能够向在内部收纳对象物的电子射线照射槽内对所述对象物的表面均匀地照射电子射线，该方法的特征在于，使所述电子射线照射单元周围的氛围气为被管理成第一负压的氛围气，使所述电子射线照射槽内为被管理成绝对压力比所述第一负压高的第二负压的氛围气，来照射所述电子射线。 

并且，本发明的电子射线照射装置具有：电子射线照射槽，其在内部收纳对象物；以及电子射线照射单元，其可向该电子射线照射槽内均匀地照射所述对象物的表面，其特征在于，所述电子射线照射单元设置在可维持内部压力的电子射线产生室内，所述电子射线照射槽构成为可独立于所述电子射线产生室来维持其内部压力，并与所述电子射线产生室相邻，进而，所述电子射线照射装置还具有压力管理单元，该压力管理单元将所述电子射线产生室内管理成第一负压，并且将所述电子射线照射槽内管理成绝对压力比所述第一负压高的第二负压。 

根据本发明，使电子射线照射单元周围的氛围气为被管理成第一负压的氛围气，使电子射线照射槽内为被管理成绝对压力比第一负压高的第二负压的氛围气，来照射电子射线，所以，作为该氛围气的周边气体变少，能够抑制因与周边气体冲撞而引起的电子射线的能量消耗。 

这里，优选所述压力管理单元通过改变所述第二负压的高度来改变电子的发散程度。如果是这种结构，则通过改变电子射线照射槽(以下简称为“照射槽”)内的第二负压的高度，就能够改变电子的发散程度，所以，能够获得电子飞射方向的无序性。因此，能够更加高效地对对象  物照射电子射线。 

并且，优选所述电子射线照射装置具有：多个预备室，其构成为可独立地维持内部压力，并与所述电子射线照射槽相邻设置；以及对象物搬送单元，其在该多个预备室和所述电子射线照射槽之间搬送所述对象物，所述多个预备室构成为至少具有：前预备室，其设置在可利用所述对象物搬送单元朝所述电子射线照射槽内搬送所述对象物的位置上；以及后预备室，其设置在可利用所述对象物搬送单元从所述电子射线照射槽内搬送所述对象物的位置上，进而，所述压力管理单元构成为独立于所述电子射线照射槽来管理所述多个预备室的内部压力。如果是这种结构，则能够在移动对象物的、间歇式生产线或连续式生产线的生产线中途应用本发明。特别是在构成将对象物连续地从大气环境搬入电子射线照射室内以及从电子射线照射室搬出，连续地移动所述对象物的生产线的方面，因为在电子射线照射槽的前后分别设置预备室，所以能够良好地维持上述第二负压的高度。 

并且，优选在具有所述多个预备室的结构中，改变所述前预备室和后预备室内的压力，以便与所述第二负压的高度相符。如果是这种结构，则能更加可靠地维持上述电子射线照射槽内的第二负压。 

并且，优选所述照射槽内的氛围气是从空气、氧、氮、氢、二氧化碳、氩和氦中选择的一种或多种气体。如果是这种结构，例如使用比重小的氦气等，将氛围气管理成第二负压状态，能够进一步降低电子的能量损失。而且，根据对象物的种类和照射目的，适当选择氛围气的气体，能够将对象物周围的氛围气管理成规定状态。 

并且，如果所述多个预备室构成为与所述照射槽串联或并联地配置，则在构成对象物搬送单元的方面，容易进行其布局。 

并且，如果所述预备室在搬送方向上连续设置多个，相邻的预备室被隔壁相互分开，该隔壁具有旋转式的门和迷宫环式密封结构中的至少一方，则在抑制压力的泄漏并且连续搬送对象物的结构方面，是优选的。进而，在对象物为连续的薄片状的情况下，优选使用迷宫环式密封结构。 

并且，如果所述前预备室、电子射线照射槽和后预备室被供给满足  无尘或无菌中的至少一个条件的净化空气，作为管理所述第二负压时所使用的泄漏气体，则更加优选将例如食品、水、医药品、中药、化妆品等或它们所使用的包装材料等作为所述对象物。 

并且，优选所述前预备室、电子射线照射槽和后预备室可分别多阶段地进行压力控制，并构成为使气流向期望的方向流动。如果是这种结构，例如如果使气流从后工序向前工序流动，则能够良好地防止来自未处理工序(前工序)的悬浮细菌和灰尘流入，以及包含被杀菌而死亡的细菌等的气体无序地飞散。 

并且，本发明优选用于所述对象物为容器或薄片部件，对该容器或薄片部件照射电子射线，以对其进行杀菌的用途。即，根据对象物的种类和形状，从复杂形状的立体物到平面状物体都能够应用本发明，例如，本发明优选用于对清凉饮料等用的所谓PET瓶(聚酯瓶)及其他塑料制的中空容器、包装纸、塑料薄膜等薄片部件照射电子射线而对其进行杀菌的用途等。 

进而，为了解决上述问题，本发明的开口容器用电子射线照射装置的特征在于，该开口容器用电子射线照射装置构成为，在具有降压单元来维持负压状态的照射处理槽的侧面部一体地结合设置前压力调整槽和后压力调整槽，在所述各槽内分别可旋转地配置旋转搬送体，在所述各旋转搬送体的外表面大致等间隔地设置用于保持开口容器的多个保持机构，并且，可从前压力调整槽侧到后压力调整槽侧，在各旋转搬送体相互之间依次交接开口容器，在所述前压力调整槽和后压力调整槽内的旋转搬送体上突出设有隔壁，以划分各保持机构，在旋转搬送体移动时，利用所述各隔壁和槽壁面形成多个小分区，该开口容器用电子射线照射装置具有降压单元，该降压单元对从所述前压力调整槽中的开口容器的搬入侧到照射处理槽侧的范围、以及从后压力调整槽中的开口容器的照射处理槽侧到搬出侧的范围的所述小分区进行降压，在所述照射处理槽中配置有至少一个电子射线照射单元。 

根据本发明的开口容器用电子射线照射装置，因为在维持负压的照射处理部内进行照射处理，所以能够使用低能量的电子射线产生单元，  能够有效地利用电子射线对开口容器进行杀菌处理。而且，因为能够利用保持机构垂直地保持开口容器并在高速搬送中利用电子射线进行灭菌处理，所以能够组装到生产线中进行使用。 

并且，本发明的开口容器用电子射线照射装置的特征在于，该开口容器用电子射线照射装置构成为，在具有降压单元来维持负压状态的照射处理槽的侧面部一体地结合设置前压力调整槽和后压力调整槽，在所述各槽内分别可旋转地配置旋转搬送体，在所述各旋转搬送体的外表面大致等间隔地设置用于保持开口容器的多个保持机构，并且，可从前压力调整槽侧到后压力调整槽侧，在各旋转搬送体相互之间依次交接开口容器，在所述前压力调整槽和后压力调整槽内的旋转搬送体上突出设有隔壁，以划分各保持机构，在旋转搬送体移动时，利用所述各隔壁和槽壁面形成多个小分区，该开口容器用电子射线照射装置具有降压单元，该降压单元对所述前压力调整槽中的开口容器的搬入侧到照射处理槽侧的范围、以及后压力调整槽中的开口容器的照射处理槽侧到搬出侧的范围的所述小分区进行降压，在沿着所述照射处理槽的开口容器的搬送圆弧位置配置有多个电子射线照射单元。 

根据本发明的开口容器用电子射线照射装置，因为在沿着照射处理槽的搬送圆弧的位置上配置了多个电子射线产生单元，所以，与生产线大致相同，能够更有效地对高速搬送的各开口容器的内外表面进行基于电子射线的灭菌处理。 

这里，在本发明的开口容器用电子射线照射装置中，优选所述照射处理槽形成为其直径比所述前压力调整槽和后压力调整槽大，在所述照射处理槽的上部排列有多个所述电子射线照射单元。 

并且，在本发明的开口容器用电子射线照射装置中，优选在成为电子射线的电子射线照射室的所述照射处理槽内，在与所述各电子射线照射单元对置的位置、且照射电子射线的开口容器的高度方向的不同位置上，分别配置使电子射线偏转的电子射线偏转单元。 

并且，更加优选多个所述电子射线偏转单元配置成使电子射线的偏转方向相对于开口容器的中心轴向角度不同的圆周方向弯折。 

并且，更加优选在设于所述照射处理槽内的旋转搬送体上的多个保持机构部分分别设置有自转机构，该自转机构利用伴随旋转搬送体的移动而产生的旋转驱动力使开口容器自转。 

根据本发明的开口容器用电子射线照射装置，因为在维持负压的照射处理部内进行照射处理，所以能够使用低能量的电子射线产生单元，能够有效地利用电子射线对开口容器进行杀菌处理。而且，因为能够利用保持机构垂直地保持开口容器并在高速搬送中利用电子射线进行灭菌处理，所以能够组装到生产线中进行使用。 

进而，如果像本发明这样构成开口容器用电子射线照射装置，因为在与前工序和后工序的生产线相同的直立状态下旋转搬送开口容器，因此成为开口容器的搬送机构部分进行旋转的结构，所以，不需要对搬送机构施加多余的力，磨损也极少，不仅能够长时间使用，而且因为不会在开口容器上附着粉尘，所以适合于在饮料等的生产线中应用。 

附图说明

图1是表示本发明第一实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。 

图2是表示模拟了磁场屏障内的电子的轨道的结果的图。 

图3是表示本发明第二实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。 

图4是表示本发明第三实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。 

图5是表示本发明第四实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。 

图6是表示本发明第五实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。 

图7是表示本发明第六实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。 

图8是表示本发明第七实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结  构图。 

图9是表示本发明第八实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。 

图10是表示本发明第九实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。 

图11是表示本发明第十实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。 

图12是本发明第九实施方式涉及的由电子射线照射装置中的控制盘所执行的压力管理处理的流程图。 

图13是本发明第十实施方式涉及的由电子射线照射装置中的控制盘所执行的压力管理处理的流程图。 

图14是表示本发明第十一实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。 

图15是表示本发明第十二实施方式涉及的开口容器用电子射线照射装置的原理的概略图。 

图16是局部剖开地表示本发明第十二实施方式的开口容器用电子射线照射装置的概略俯视图。 

图17是局部剖开地表示图16的概略侧视图。 

图18是表示用于本发明的开口容器用电子射线照射装置的电子射线照射单元部分的一例的纵剖面图。 

图19是表示用于本发明的开口容器用电子射线照射装置的开口容器的保持机构部分的概略结构图。 

图20是表示用于本发明的开口容器用电子射线照射装置的电子射线偏转单元的配置例的概略图。 

标号说明 

1、21、31、60、70：腔室(照射槽)；2：遮蔽材料；3：电子射线产生室；3a：电子射线单元(电子射线照射单元)；4、19、23：永久磁铁(磁场产生体)；5、20：电子射线照射窗；6：气体封入口；7：气体吸引口；8、9：小分区(小室)；10：电子偏转器(照射角度变更单元)；  11、69：真空排气装置；11E、21E、31E：旋转搬送体；12：(氦气)贮气瓶；13：固定器具；14：转台；15：支承轴；17：架台；18：腔室内周壁；22：磁铁支承部件；26：对象物旋转机构；27：遮蔽门；28：对象物搬送装置(对象物搬送单元)；30：饮料容器(对象物)；31：薄片部件(对象物)；32：前方闸阀；33：后方闸阀；34、61、75：前压力调整槽(前预备室)；35、62、76：后压力调整槽(后预备室)；41：汽缸阀；42：手动阀；43：可变流量阀；50：空气导入口；51、52：过滤器；51a：风扇；53：生物滤池(bio-filter)；54：净化空气产生装置(清洁空气产生装置)；63：外框架；64：内框架；65：保持机构(手机构)；66：隔壁；67、68：配管；69：真空排气装置；70：旋转台；71：磁场产生线圈；72：交流电源；73：永久磁铁；74：磁轭；75：同步带；76：带轮；77：电动机；78：汽缸；81：三相变换器；83：电磁铁；87：间隙辊；88：辊；89：框架；90：滑动移动装置；91：放置盘；92：连接轴；93：轴承；94：连接部件；95：支承臂；96：(磁场产生线圈用的)凸轮面；97：(对象物承受台用的)凸轮面；98：(磁场产生线圈用的)凸轮从动件；99：(对象物承受台用的)凸轮从动件；100：搬送机构；118：驱动机构；145：电子射线偏转器；146：保护板；147：电子射线收束器；148：水冷管；149：夹紧把手；150：自转机构；151：驱动圆板；152：驱动辊；153：连接驱动单元；G：间隙；EB：电子射线；MF、MF2：磁场屏障。 

具体实施方式

下面，适当参照附图对本发明的实施方式进行说明。另外，在以下各实施方式中，示出在如下用途中应用本发明的电子射线照射装置的例子，即，对作为对象物的清凉饮料用等的PET瓶(聚酯瓶)等形状复杂的中空的饮料容器30照射电子射线以对其进行杀菌。 

图1是表示本发明第一实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。另外，在该图中，利用剖面示出电子射线照射装置的成为主体部分的大致圆筒形状的电子射线的照射槽，该剖面包含了该照射槽的轴线。 

如该图所示，该电子射线照射装置具有电子射线EB的照射槽即腔室1。该腔室1是具有足够在其内部收纳饮料容器30的大小的耐压结构的密封容器，并形成为将轴线作为上下方的大致圆筒形状。腔室1的材质为钢材或不锈钢制，另外，虽然没有图示，但腔室1的周围由能够遮蔽X射线的遮蔽材料包围。 

在腔室1的上部具有向成为电子射线照射区域的腔室内照射电子射线的电子射线照射单元3。电子射线照射单元3在多个部位(在该例中为3个部位)具有紧贴在腔室1的上部设置的电子射线照射窗5，成为能够从各电子射线照射窗5对腔室1内照射电子射线的结构。该电子射线照射单元3能够照射低能量的电子射线，其主体的输出被设定为200kV以下。另外，在各电子射线照射窗5和腔室1内部之间，分别装有环状的电子偏转器10，以使电子以各种角度向腔室1内进入。即，该电子偏转器10成为能够改变电子射线照射单元5照射的电子射线的照射角度的照射角度变更单元。 

在腔室1的规定位置(在该例中为腔室1的外壁面)以包围电子射线照射区域的周围的方式排列设置有多个永久磁铁4。这些多个永久磁铁4能够分别在电子射线照射区域内产生磁场，分别配置在作为上述规定位置的可将相互的磁场接合起来的位置上。这里，这些多个永久磁铁4的相互的磁场构成会切磁场。即，这些多个永久磁铁4能够沿着腔室内周壁18以包围饮料容器30的方式将相互的磁场合成来形成基于会切磁场的磁场屏障MF。另外，各永久磁铁4对应于上述磁场产生体。并且，这些多个永久磁铁4的整体对应于上述磁场屏障形成单元。 

进而，在腔室1的壁面设有气体封入口6、气体吸引口7和空气导入口50。气体吸引口7经由配管和气体排气阀7A连接到真空排气装置11上。另一方面，气体封入口6经由配管和气体吸气阀6A连接到贮藏有氦气的贮气瓶12上。并且，空气导入口50发挥漏气口的功能，连接有向大气侧敞开的配管，在该配管的中途设有空气导入阀50A和过滤器51。由此，该电子射线照射装置能够在腔室1内将饮料容器30周围的氛围气管理成规定状态。更具体而言，该电子射线照射装置通过打开气体  排气阀7A，能够通过真空排气装置11从气体吸引口7吸引腔室1内部的空气或气体，使腔室1内成为作为规定状态的负压状态。并且，通过打开气体吸气阀6A，能够代替空气而从气体封入口6向腔室1内封入比重轻的氦气。并且，通过打开空气导入阀50A，能够从空气导入口50向腔室1内导入大气侧的空气，使腔室1内成为大气释放状态。另外，如果上述的气体吸气阀6A、气体排气阀7A和空气导入阀50A为分别通过电气或空气压等来驱动的可远方控制的阀，则能够使腔室内的氛围气管理自动化，是优选的。 

并且，该电子射线照射装置具有设于腔室1的壁面上的可开闭的未图示的对象物搬入口。而且，还具有作为对象物搬送单元的对象物搬送装置(未图示)，该对象物搬送装置将饮料容器30从该对象物搬入口搬入腔室1内以及从腔室1内搬出。对象物搬送装置具有由线等线材构成的固定器具13。该固定器具13能够一边卡定饮料容器30的头部部分一边进行搬送。由此，饮料容器30一边卡定在对象物搬送装置的固定器具13上，一边被从对象物搬入口搬入到腔室1内，如图1所示，通过固定器具13在腔室1内垂下，从而能够以所谓的悬空的状态下设置在腔室1内的规定位置上。 

接着，说明该电子射线照射装置的作用和效果。 

在该电子射线照射装置中，首先，利用对象物搬送装置，将饮料容器30卡定在其固定器具13上并从对象物搬入口搬入到腔室1内，设置在腔室1内的规定位置上后，关闭对象物搬入口。此时，在腔室1内，通过设置于腔室1(在该例中为外壁面)的多个永久磁铁4，以包围饮料容器30的方式沿着腔室内周壁18产生基于会切磁场的磁场屏障MF。然后，通过固定器具13在腔室1内使饮料容器30垂下，可以说成为悬空状态。 

接着，利用真空排气装置11从气体吸引口7吸引腔室1内部的空气，使腔室1内部成为负压状态(在该例中为0.05MPa～0.1Pa的低真空状态)。另外，根据对象物的种类，有时具有电子射线EB撞击残留的氧分子产生臭氧而引起臭味或腐蚀等的问题，但是，在这种情况下，根据需  要，代替空气从气体封入口6封入比重轻的氦气。并且，该情况下，也可以在常压状态下吹入氦气。 

接着，利用电子射线照射单元产生电子并加速，通过电子偏转器10，使低能量的电子射线EB从电子射线照射窗5进入到腔室1内。 

这里，图2表示模拟了磁场屏障MF内的电子的轨道的结果。另外，该图所示的模拟条件设定为，腔室1内部的尺寸为直径Φ200mm、高度200mm，磁铁使用宽8mm、高度40mm(带磁轭部分约20mm)的钕磁铁。另外，其残留磁通密度为13000高斯。而且，作为上述规定位置，将该磁铁的安装间距(会切磁场的间距)设定为大约30mm。并且，腔室1内部的氛围气条件为0.01MPa的低真空状态，氛围气气体为空气。该图是计算了将能量为100kV的电子朝向根据该设定形成的磁场屏障MF内撞击磁场最弱的地方时的轨迹的图。 

由该图可知，在磁场屏障MF内，电子进行无序地反复撞击基于在空间中形成的会切磁场的磁场屏障或进行复杂运动的随机反射。因此，根据该电子射线照射装置，在基于在腔室1内部的空间中形成的会切磁场的磁场屏障MF内，电子射线EB随机反射，能够均匀地对饮料容器30照射电子射线EB。进而，该磁场屏障MF形成为沿着腔室内周壁18而包围饮料容器30。因此，电子射线EB不会冲撞腔室1内的构成部。因此，能够降低电子射线EB由于腔室内周壁18等的能量损失。 

并且，在该电子射线照射装置中，通过电子偏转器10，使电子射线EB从电子射线照射窗5以各种角度进入到腔室1内。因此，从电子射线照射窗5射出的电子射线EB无序地进入腔室1内。因此，进一步有效地引起在腔室1内的磁场屏障MF处的随机反射，能够没有不均地、均匀地对腔室1内的饮料容器30照射电子射线EB。 

进而，在该电子射线照射装置中，利用真空排气装置11从气体吸引口7吸引腔室1内部的空气，如上述那样，使腔室1内成为负压状态(在该例中为0.05MPa～0.1Pa的低真空状态)。因此，能够处于电子射线EB在腔室1内更加容易运动的状态(能量损失少的状况)。因此，能够进一步降低电子射线EB由于腔室1内部的气体的能量损失，所以电子射线EB的无序运动被进一步加速，能够更加高效地对腔室1内的饮料容器30照射电子射线EB。 

并且，在该电子射线照射装置中，代替空气，而从气体封入口6向腔室1内封入比重轻的氦气，或者，在常压状态下吹入氦气，由此也同样能够变成电子射线EB在腔室1内更加容易运动的状态(能量损失少的状况)。另外，对于具有因电子射线EB撞击残留的氧分子而产生的臭氧引起臭味和腐蚀等问题的对象物，优选采用上述这种用氦气作为腔室1内的氛围气气体的结构。 

接着，说明本发明第二实施方式涉及的电子射线照射装置。 

图3是表示本发明第二实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。另外，对与上述第一实施方式相同的结构标注同一标号，并适当省略其说明。 

该第二实施方式与上述第一实施方式的结构的不同点在于，通过构成为能够改变在腔室1的底部安装的会切磁场产生用的磁场产生体即永久磁铁的配置距离和方向，从而能够使进入腔室1内的电子射线EB进一步无序地运动。 

即，不同点在于，在该电子射线照射装置中，作为上述磁场屏障形成单元，如该图所示，在腔室1的底部还具有转台14。该转台14固定在支承轴15的上端侧，支承轴15的基端侧经由未图示的连接器连接到未图示的电动机的输出轴上。并且，在支承轴15的基端侧还具有能够使支承轴15在上下方向移动的未图示的致动器。而且，在转台14的上表面与上述磁场屏障形成单元同样，以规定的配置安装有永久磁铁19，以产生会切磁场。由此，转台14通过电动机绕支承轴15旋转，并且通过致动器调整其在上下方向上的高度，从而成为使腔室1内的会切磁场MF2的强度发生变化的结构。 

根据具有这种结构的电子射线照射装置，在饮料容器30进入到了腔室1内的状态下，一边使转台14旋转一边调整其在上下方向上的高度，能够改变会切磁场MF2的强度。因此，特别是从该图中央的电子射线照射窗5进入腔室1内的电子射线EB，与上述第一实施方式相比，以电子射线EB的反射距离和反射方向更随机的方式进行反射。因此，能够更加没有不均地、均匀地对饮料容器30(在该例中特别是底部)照射电子射线EB。 

接着，说明本发明第三实施方式涉及的电子射线照射装置。 

图4是表示本发明第三实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。该图(a)表示其正视图，该图(b)表示其俯视图，分别利用剖面来图示电子射线的照射槽。另外，对与上述各实施方式相同的结构标注同一标号，并适当省略其说明。 

该第三实施方式在包围电子射线照射区域的腔室内具有上述第一实施方式的磁场屏障形成单元，特别例示出适合于在间歇式生产线中对饮料容器30照射电子射线的装置结构。 

如该图(a)和(b)所示，该电子射线照射装置具有沿生产线的流向延伸的箱形的腔室21。该腔室21与上述各实施方式同样为耐压结构的密封容器，在腔室21的壁面上设有气体封入口6、气体吸引口7和空气导入口50。气体吸引口7经由配管和气体排气阀7A连接到真空排气装置11上。并且，气体封入口6经由配管和气体吸气阀6A连接到贮藏有氦气的贮气瓶12上。并且，空气导入口50发挥漏气口的功能，连接有向大气侧敞开的配管，在该配管的中途设有空气导入阀50A和过滤器51。由此，该电子射线照射装置能够在腔室21内将饮料容器30周围的氛围气管理成规定状态。即，在第三实施方式中，该腔室21对应于上述照射槽。 

进而，在该腔室21上部的大致中央，具有能够向腔室21内以宽面积照射电子射线EB的电子射线照射单元3。并且，在腔室21底部的大致中央，在与电子射线照射单元的电子射线照射窗20下方的电子射线照射区域对应的位置上，在生产线流向上配置有两组包含与上述第二实施方式相同的转台14和配置在其上表面的永久磁铁19的磁场屏障形成单元，并且，在腔室21内配置有与上述第一实施方式相同的磁场屏障形成单元。 

详细地讲，如该图(a)所示，腔室21内的磁场屏障形成单元被配  置成具有将上述第一实施方式中的腔室1朝着上下方向从中央分割为二的结构的磁铁支承部件22，在流向上具有两组该磁铁支承部件22，且每一组的磁铁支承部件22彼此相对。而且，各磁铁支承部件22的分割为二的各开口部朝向饮料容器30的流向，分别配置成饮料容器30可出入电子射线照射区域内的程度的出入口。进而，在这些出入口的周围分别配置有能够产生会切磁场的永久磁铁23，对于各出入口能够产生通过将会切磁场相互合成而形成的磁场屏障MF。由此，该电子射线照射装置能够使饮料容器30通过电子射线照射区域内，并且电子射线照射区域内的电子射线EB不会从电子射线照射区域内部的磁场屏障MF内射出到其外部。另外，腔室21构成为尽可能接近地包围磁铁支承部件22和饮料容器30的附近。另外，该图(a)中的标号29是电子射线照射单元3等的电源部。并且，在该图(b)中，省略了腔室21内的磁场屏障形成单元本身的图示，仅示出所形成的磁场屏障MF(和MF2)的图像。 

并且，在腔室21中，如该图(a)和(b)所示，在饮料容器30的生产线的流向的进入侧和出来侧，分别设有对象物搬入口21a和对象物搬出口21b。而且，在各对象物搬入搬出口21a、21b分别设有能够在期望的时机开闭的遮蔽门27。 

进而，该电子射线照射装置具有作为对象物搬送单元的对象物搬送装置28，其将饮料容器30从对象物搬入口21a搬入到腔室21内，并将饮料容器30从对象物搬出口21b搬出。该对象物搬送装置28具有未图示的驱动机构和与上述同样的固定器具13。由此，对象物搬送装置28通过使未图示的驱动机构工作，能够一边利用固定器具13卡定饮料容器30的头部部分一边从对象物搬入搬出口21a、21b搬入搬出。此时，饮料容器30如该图(b)所示，与上述第四实施方式同样，通过固定器具13在腔室21内下垂，从而能够以所谓的悬空状态设置在腔室21内的规定位置。另外，在对象物搬入搬出口21a、21b部分具有能够使固定器具13和饮料容器30退避到非干扰区域的未图示的退避机构，以使固定器具13和饮料容器30相对于各遮蔽门27的开闭而不会与各遮蔽门27发生干扰。 

并且，该对象物搬送装置28还具有对象物旋转机构26，该对象物  旋转机构26通过构成对象物搬送装置28的固定器具13的线的一部分，使饮料容器30在腔室21内旋转。 

根据具有这种结构的电子射线照射装置，首先，在腔室21的对象物搬入搬出口21a、21b的各遮蔽门27打开的状态下，通过对象物搬送装置28，使卡定在固定器具13上的生产线上的各饮料容器30在流向上移动规定量。接着，分别关闭对象物搬入搬出口21a、21b的各遮蔽门27。然后，与上述实施方式同样，使腔室21内成为负压状态。另外，在对具有因电子射线EB撞击残留的氧分子而产生的臭氧引起臭味和腐蚀等问题的对象物照射电子射线EB的情况下，根据需要，代替空气而封入比重轻的氦气。接着，从宽阔的电子射线照射窗20整面对腔室21内的电子射线照射区域照射电子射线EB。由此，对电子射线照射区域内的饮料容器30照射电子射线EB。此时，从电子射线照射窗20对电子射线照射区域照射的电子射线EB，通过基于在腔室21内的各磁铁支承部件22内侧形成的会切磁场的磁场屏障MF和底部的磁场屏障MF2，与上述各实施方式同样，电子射线EB在磁场屏障MF、MF2内随机反射，使磁场屏障MF、MF2内成为所谓的电子簇射状态。因此，能够没有不均地、均匀地对电子射线照射区域内的各饮料容器30照射电子射线EB。接着，在照射电子射线EB达规定时间后，使腔室21内恢复到大气压，然后分别打开腔室21的对象物搬入搬出口21a、21b的各遮蔽门27。 

通过重复以上的工序，能够使从腔室21的对象物搬入口21a依次搬入的生产线上的饮料容器30，通过由于磁场屏障MF、MF2而成为电子簇射状态的电子射线照射区域内，对各饮料容器30均匀地照射电子射线EB后，从腔室21的对象物搬出口21b依次搬出。 

并且，根据该电子射线照射装置，通过对象物搬送装置28的对象物旋转机构26使饮料容器30旋转。由此，能够进一步高效地对饮料容器30照射电子射线EB。 

并且，根据该电子射线照射装置，以仅包围饮料容器30附近的方式构成腔室21。由此，能够使X射线遮蔽和将饮料容器30周围的氛围气管理成规定状态的区域成为最小限度。 

并且，根据该电子射线照射装置，在腔室21中设置对象物搬入搬出口21a、21b，并且分别具有遮蔽门27。由此，能够更加容易地使腔室21内成为低真空和特定气体的氛围气等、将对象物周围的氛围气保持为规定状态。 

如以上说明的那样，根据上述各实施方式的电子射线照射方法和电子射线照射装置，即使是低能量的电子射线EB，也能够均匀地对作为对象物的饮料容器30照射电子射线EB。 

另外，本发明的电子射线照射方法和电子射线照射装置不限于上述各实施方式，只要不脱离本发明的主旨，就能够进行各种变形。 

例如，在上述各实施方式中，作为对象物以饮料容器30为例进行了说明，但是不限于此，例如，也能够应用于作为对象物的食品、水、医药品、中药、化妆品、饲料、肥料等或它们所使用的包装材料等。即，根据对象物的种类和形状，从复杂形状的立体物到平面状的薄膜都能够适当应用本发明，例如，也能够用于对组装成牛奶饮料用等的纸容器之前的纸制的薄片照射电子射线而对其进行杀菌的用途等。而且，根据本发明，在对上述这种薄片状部件照射电子射线的情况下，能够将电子射线封闭在形成为包围薄片状部件的磁场屏障内，并且使电子射线以各种角度进行反射，所以，通过来自与薄片状部件的一侧的面对置配置的电子射线照射单元的电子射线，能够同时且以与一侧的面同等的照射量对薄片状部件的另一侧的面进行照射。 

并且，在上述各实施方式中，以对对象物进行杀菌的用途为例进行了说明，但是不限于此，也能够应用于杀菌以外的用途。 

并且，在上述各实施方式中，电子射线的照射槽以可将对象物周围的氛围气管理成规定状态的耐压结构的密封容器即腔室为例进行了说明，但是不限于此，电子射线的照射槽也可构成为开放型。即使是这种结构，只要由所产生的磁场来形成磁场屏障以包围对象物，使对对象物照射的电子射线在该磁场屏障内进行反射，就能够发挥本发明的电子射线照射方法和电子射线照射装置的作用和效果。但是，在进一步降低电子射线的能量损失方面，优选上述实施方式那样可将对象物周围的氛围  气管理成规定状态的照射槽(腔室)。 

并且，在上述各实施方式中，以利用会切磁场形成磁场屏障为例进行了说明，但是不限于此，本发明的磁场屏障也可以通过其它磁场的合成来形成。例如，也可以通过磁镜场来形成磁场屏障。 

并且，在上述各实施方式中，以磁场产生体由永久磁铁构成为例进行了说明，但是不限于此，磁场产生体例如也可以包含电磁铁、圆形线圈或永久磁铁，利用它们的组合来构成。 

并且，在上述实施方式中，以通过使转台14旋转能够改变该产生的磁场的方向为例进行了说明，但是不限于此，只要是能够改变磁场屏障内的电子射线的反射方向的结构，都能够有效获得电子反射方向的无序性。例如，也可以通过适当地产生旋转磁场，来改变磁场屏障内的电子射线的反射方向。 

并且，在上述各实施方式中，以根据对象物的种类而预先决定腔室的外形形状为例进行了说明，但是不限于此，腔室也可以具有根据对象物的形状来改变其内部形状的内部形状可变结构。作为这种内部形状可变结构的例子，具有构成外形的隔壁可滑动的组合结构。如果是这种结构，则根据对象物的形状，能够适当改变腔室的内部形状来应对。因此，能够进一步高效且均匀地对对象物照射电子射线。 

并且，在上述实施方式中，作为腔室内的氛围气管理的具体例，例示了从气体吸引口7吸引腔室1内部的空气来使腔室1内部成为负压状态(在该例中为0.05MPa～0.1Pa的低真空状态)的情况、以及对于具有因电子射线EB撞击残留的氧分子而产生的臭氧引起臭味和腐蚀等问题的对象物，根据需要，代替空气而封入比重轻的氦气12的情况，但是本发明的腔室内的氛围气管理的结构不限于此。即，在使腔室1内成为负压状态的情况下，不限于上述这种例如0.05MPa～0.1Pa左右的低真空状态，也可以是更高真空度的高真空状态，真空度越高，越能够进一步降低电子的能量损失。并且，腔室内的氛围气气体可以是从空气、氧、氮、氢、二氧化碳、氩和氦中选择的一种或多种气体，也可以根据对象物的种类和照射目的，适当选择腔室内的氛围气气体，能够将对象物周围的  氛围气管理成规定状态。另外，如果使用比重小的氦气等气体作为氛围气气体，则即使是常压的氛围气，与氛围气气体是空气等比重更大的气体的情况相比，也能够进一步降低电子的能量损失。并且，即使是正压的氛围气，虽然依赖于其压力水平，但通过使用比重小的氦气等气体作为氛围气气体，也能够充分减少电子的能量损失。另外，在对具有因电子射线撞击残留的氧分子而产生臭氧引起臭味和腐蚀等问题的对象物照射电子射线的情况下，作为适合的惰性氛围气气体，除了上述氦气以外，也能够使用例如氮和氩等气体，但是，考虑到能够进一步降低电子的能量损失这点，特别优选比重轻的氦气。 

并且，在上述实施方式中，以适合于在间歇式生产线中对饮料容器30照射电子射线的装置结构为例进行了说明，但是不限于此，例如在连续式生产线中对对象物照射电子射线时，也能够应用本发明。 

并且，在上述各实施方式中，当然可以适当选择各个结构相互进行组合。 

下面，适当参照附图对本发明的第四实施方式进行说明。另外，在以下各实施方式中，示出在如下用途中应用本发明的电子射线照射装置的例子，即，对作为对象物的清凉饮料用等的PET瓶(聚酯瓶)等形状复杂的中空的饮料容器30照射电子射线而对其进行杀菌。 

图5是表示本发明第四实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。另外，在该图中，利用包含照射槽轴线的剖面来示出成为电子射线照射装置的主体部分的大致圆筒形状的电子射线的照射槽。 

如该图所示，该电子射线照射装置具有电子射线EB的照射槽即腔室1。该腔室1是具有足够在其内部收纳饮料容器30的大小的耐压结构的密封容器，并形成为将其轴线作为上下方向的大致圆筒形状。该腔室1的材质为钢材或不锈钢制，另外，其周围被能够遮蔽X射线的遮蔽材料2包围。 

在腔室1的上部具备电子射线产生室3，该电子射线产生室3具有向成为电子射线照射区域的腔室内照射电子射线EB的电子射线照射单元。该电子射线产生室3在多个位置(在该例中为5个)具有紧贴在腔  室1的上部而设置的电子射线照射窗5，成为能够从各电子射线照射窗5对腔室1内照射电子射线的结构。 

在腔室1的壁面(在该例中为内壁面)，在规定位置上配置有以包围腔室1内部的电子射线照射区域的周围的方式形成为圆环状的多个磁场产生线圈71。这些多个磁场产生线圈71构成上述磁场产生单元，能够分别通过从交流电源72通电，而在电子射线照射区域内产生所产生的磁场本身绕对象物旋转的旋转磁场，上述规定位置为如下位置：以包围腔室1内的饮料容器30的方式，沿着饮料容器30的轴线方向并列配置为3级。这些多个磁场产生线圈71分别产生旋转磁场。即，这些多个磁场产生线圈71能够沿着腔室内周壁18以包围饮料容器30的方式将3级相互的旋转磁场合成，来形成所谓的基于磁场的屏障。另外，各磁场产生线圈71对应于上述磁场产生体。而且，通过改变从交流电源72提供的交流电压的有效值、分别对磁场产生线圈71通电，从而能够改变各个旋转磁场的强度。进而，进行控制以使得其通电时机沿3级的并列方向依次切换。由此，通过沿着饮料容器30的轴线方向依次使电子射线EB偏转，从而，按照划分为饮料容器30的上部、中央部、下部的各分区依次切换，能够没有遗漏且无序地照射饮料容器30的所有部分。 

而且，上述电子射线产生室3在内部具有能够向腔室1内照射低能量的电子射线的电子射线照射单元，其主体的输出被设定为200kV以下。另外，在各电子射线照射窗5和腔室1内部之间，分别装有环状的电子偏转器(未图示)，以使电子以各种角度向腔室1内进入。即，该电子偏转器成为能够改变从电子射线照射窗5照射的电子射线的照射角度的照射角度变更单元。 

这里，该电子射线照射装置在腔室1内将饮料容器30周围的氛围气管理成规定的处理程序所需要的规定的负压状态。该负压状态为即使是例如PET瓶等细长的容器，也能够使电子充分到达其底部的压力值。详细来讲，电子射线产生室3和腔室1被电子射线照射窗5相互隔开，能够分别独立地管理压力。而且，电子射线产生室3内的压力被降压为高真空，将该状态作为第一负压时，腔室1内被降压为绝对压力比该第一  负压高的低真空，将该状态作为第二负压，来管理各自的压力。 

更具体而言，如该图所示，在腔室1的壁面设有气体封入口6和气体吸引口7。气体吸引口7经由配管连接到真空排气装置11上。另一方面，气体封入口6通过汽缸阀41的动作控制，从连接到贮藏有规定气体的贮气瓶等(未图示)上的气体封入口24，经由配管向腔室1内提供净化空气或气体等，由此能够控制腔室1内的压力。而且，该压力控制值能够对应于由电子的必要射程和照射处理过程等决定的条件来进行适当的调整。另外，在该图中，标号25是漏气口，41是汽缸阀，42是手动阀，43是可变流量阀，44是过滤器，45是真空计。 

由此，在该电子射线照射装置中，对腔室1内进行负压控制，作为上述规定状态，利用真空排气装置11从气体吸引口7吸引腔室1内部的空气或气体，使腔室1内成为低真空状态(在该例中为0.05MPa～0.1Pa)，并且，能够代替空气，而从气体封入口6向腔室1内封入比重轻的氦气。 

另外，该电子射线照射装置具有设于腔室1的壁面上的可开闭的未图示的对象物搬入口。而且，还具有作为对象物搬送单元的对象物搬送装置(未图示)，该对象物搬送装置将饮料容器30从该对象物搬入口搬入到腔室1内以及从腔室1内搬出。对象物搬送装置具有由线等线材构成的固定器具13。该固定器具13能够一边卡定饮料容器30的头部部分一边进行搬送。由此，饮料容器30一边卡定在对象物搬送装置的固定器具13上，一边从对象物搬入口搬入到腔室1内，如图5所示，通过固定器具13在腔室1内下垂，从而能够以所谓的悬空状态设置在腔室1内的规定位置。 

接着，说明该电子射线照射装置的作用和效果。 

在该电子射线照射装置中，首先，利用对象物搬送装置，将饮料容器30卡定在其固定器具13上并从对象物搬入口搬入到腔室1内，设置在腔室1内的规定位置上后，关闭对象物搬入口。此时，饮料容器30通过固定器具13在腔室1内下垂，成为所谓的悬空状态。 

接着，利用真空排气装置11从气体吸引口7吸引腔室1内部的空气，使腔室1内成为低真空状态(在该例中为0.05MPa～0.1Pa)。进而，根据  照射处理过程，能够从气体封入口6封入比重轻的氦气。进而，在腔室1内，通过沿着腔室1的壁面(在该例中为内壁面)设置的多个磁场产生线圈71，以包围饮料容器30的方式沿着腔室内周壁18产生旋转磁场。 

接着，在电子射线产生室3中产生电子并进行加速，通过电子偏转器，使低能量的电子射线EB从电子射线照射窗5进入腔室1内。 

由此，根据该电子射线照射装置，利用真空排气装置11从气体吸引口7吸引腔室1内部的空气，使腔室1内成为低真空状态(在该例中为0.05MPa～0.1Pa)，即，使饮料容器30周围的氛围气成为负压，所以，能够抑制所照射的电子射线EB冲撞氛围气气体的情况，能够变成使电子射线EB在腔室1内容易运动的状态(能量损失少的状况)。因此，能够进一步降低电子射线EB由于腔室1内部的气体的能量损失，所以电子射线EB的无序运动被进一步加速。因此，能够效率良好地对腔室1内的饮料容器30照射电子射线EB。 

而且，在基于在腔室1内部的空间中形成的多个磁场产生线圈71的旋转磁场内，使电子射线EB进行无序的随机反射，能够均匀地对饮料容器30照射电子射线EB。进而，该旋转磁场形成为沿着腔室内周壁18包围饮料容器30。因此，电子射线EB几乎不冲撞腔室1内的结构部。因此，能够进一步降低电子射线EB由于腔室内周壁18等的能量损失。 

并且，在该电子射线照射装置中，通过电子偏转器，使电子射线EB从电子射线照射窗5以各种角度进入腔室1内。因此，从电子射线照射窗5射出的电子射线EB更加无序地进入腔室1内。因此，进一步有效地引起在腔室1内的旋转磁场中的随机反射，能够没有不均地、均匀地对腔室1内的饮料容器30照射电子射线EB。 

并且，在该电子射线照射装置中，代替空气，通过从气体封入口6向腔室1内封入比重轻的氦气，或者，在常压状态下吹入氦气，从而也同样能够变成使电子射线EB在腔室1内更加容易运动的状态(能量损失少的状况)。另外，对于具有因电子射线EB撞击残留的氧分子产生的臭氧引起臭味和腐蚀等问题的对象物，优选上述这种用氦气作为腔室1内的氛围气气体的结构。 

并且，在该电子射线照射装置中，多个磁场产生线圈71构成为在包围饮料容器30的范围内产生多个旋转磁场(在上述例中为3级)。由此，多个旋转磁场相互接合起来，形成为所谓的包围饮料容器30整体的屏障，由此，通过封入电子，能够良好地抑制能量的消耗，能够更加均匀地对饮料容器30照射电子射线EB。 

并且，在该电子射线照射装置中，构成为可针对多个磁场产生线圈71的每一个，分别独立地产生所述多个旋转磁场。由此，能够更有效地获得电子反射方向的无序性。因此，能够更加高效地对饮料容器30照射电子射线。而且，因为使独立产生的旋转磁场相对于饮料容器30分段地适当移动到其上部、中央部、下部并照射电子射线，所以，能够没有遗漏地对饮料容器30整体进行照射。 

并且，在该电子射线照射装置中，通过分别改变针对该多个磁场产生线圈71的每一个所产生的旋转磁场的旋转方向，能够改变所述旋转磁场内的电子射线EB的反射方向。由此，能够更有效地获得电子反射方向的无序性。因此，能够更加高效且均匀地对饮料容器30照射电子射线。 

接着，说明本发明第五实施方式涉及的电子射线照射装置。 

图6是表示本发明第五实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。该图(a)表示其正视图，该图(b)表示其局部俯视图，分别利用剖面来图示电子射线的照射槽。另外，对与上述第四实施方式相同的结构标注同一标号，并适当省略其说明。 

该第五实施方式相对于上述第四实施方式的不同点在于，磁场产生体具有：配置成圆环状的多个永久磁铁；和磁场产生体旋转单元，其使该配置成圆环状的多个永久磁铁绕其中心轴旋转。 

即，该第五实施方式是通过使所产生的磁场本身绕对象物旋转来形成与所述旋转磁场对应的磁场的例子，与上述第四实施方式的不同点在于，利用该磁场产生体旋转单元，使所述配置成圆环状的多个永久磁铁旋转来产生与所述旋转磁场对应的磁场。进而，在该第五实施方式中，磁场产生单元还具有轴线方向移动单元，该轴线方向移动单元使磁场产生体在该产生的旋转磁场的轴线方向上移动。 

详细来讲，在腔室21的外周，在其径向上对置的位置上配置有一对永久磁铁73。这一对永久磁铁73构成为使径向的外侧分别被磁轭74相互连接，可抑制磁场泄漏。而且，这些永久磁铁73和磁轭74放置并固定在可绕腔室21的中心轴旋转的旋转台70上。在旋转台70的外周面上形成有与链轮齿(sprocket)同样的齿。而且，该旋转台70的外周面经由同步带75与带轮76连接，带轮76连接到电动机77的输出轴上，所以，通过旋转驱动电动机77，利用该驱动力使旋转台70绕腔室21的中心轴旋转。由此，旋转台70上的永久磁铁73和磁轭74旋转，能够在腔室21内沿其壁面产生旋转磁场。 

进而，产生该旋转磁场的结构整体如该图所示，经由滑动移动装置90支承在壁面上，该滑动移动装置90具有配置成可沿腔室21的轴向移动的线性引导件等。而且，在该图的电动机77的下端侧配置有具有可沿腔室21的轴向移动的轴部的汽缸78。而且，电动机77的下端部分连接到该汽缸78的轴部上。由此，通过往复驱动汽缸78，产生旋转磁场的结构整体能够沿腔室21的轴向移动。 

进而，不同点在于，在该电子射线照射装置中，作为形成与所述旋转磁场对应的磁场的单元，如该图所示，在腔室21的底部还具有往复驱动和旋转驱动用的机构。 

即，在本实施方式中，通过构成为使饮料容器30也进行旋转并上下移动，从而还具有一组实质上可形成旋转磁场的结构。即，通过该结构，能够形成在包围对象物的磁场内使该对象物旋转而进行相对旋转的磁场。 

详细来讲，如该图所示，饮料容器30设置在用于放置该饮料容器30的放置盘91上。该放置盘91成为所谓的转台。详细来讲，该放置盘91的底部侧连接到连接轴92的一端。而且，连接轴92的另一端侧的中途部分被具有气密密封结构的轴承93支承成可上下滑动移动，进而，端部侧向下方延伸并伸出到腔室21的外部。而且，该伸出的端部经由连接器安装在汽缸79的轴部上。另外，虽然在该图中没有图示，但该连接轴92与上述标号75、76、77同样，具有经由同步带连接到电动机的输出轴  上的旋转机构，构成为可以绕该轴旋转。 

由此，通过往复驱动汽缸79，放置盘91在放置有饮料容器30的状态下向腔室21的轴向滑动移动，进而，通过包含未图示的电动机的旋转机构而绕连接轴92旋转。因此，在腔室21内，形成如下的旋转磁场：在包围对象物的磁场内使该对象物旋转而进行相对旋转的磁场。即，根据具有这种结构的电子射线照射装置，在饮料容器30置于腔室21内的状态下，一边旋转放置盘91一边调整上下方向上的高度，能够形成旋转磁场。因此，特别是从该图中央的电子射线照射窗5进入到腔室21内的电子射线EB，与上述第一实施方式同样，以电子射线EB的反射距离和反射方向随机的方式反射。因此，能够没有不均地、均匀地对饮料容器30照射电子射线EB。 

另外，即使在不使上述的永久磁铁73和磁轭74移动的情况下，也利用在饮料容器30的底部侧安装的往复驱动和旋转驱动用的机构，使饮料容器30在轴向上的位置上下移动，再通过旋转改变周向上的朝向，由此来形成相对旋转的磁场，所以，实质上能够获得与上述第四实施方式的旋转磁场相同的效果。因此，通过该旋转磁场，能够使进入腔室21内的电子EB无序运动，能够均匀地对饮料容器30照射电子射线EB。 

而且，只要能够实质上形成本发明的旋转磁场，也能够适当组合上述例示的结构。例如，可以构成为不使上述永久磁铁73和磁轭74移动，而使饮料容器30旋转并上下移动，并且，也可以构成为不使饮料容器30移动，而使上述永久磁铁73和磁轭74旋转并上下移动。或者，还可以构成为使永久磁铁73和磁轭74上下移动，使饮料容器30旋转，也可以构成为使永久磁铁73和磁轭74旋转，使饮料容器30上下移动。 

另外，在将上述第五实施方式的结构应用于连续生产线的情况下，可以根据照射处理过程，采用构成为将各种永久磁铁配置在搬送饮料容器30等对象物的旁边位置上，使对象物一边旋转一边通过电子射线照射区域等适当的结构。 

接着，说明本发明第六实施方式涉及的电子射线照射装置。 

图7是用俯视图表示本发明第六实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图，利用剖面来图示电子射线的照射槽即腔室31。另外，对与上述各实施方式相同的结构标注同一标号，并适当省略其说明。 

该第六实施方式在包围电子射线照射区域的腔室31内具有磁场产生单元，是特别适合于在间歇式生产线中对饮料容器30照射电子射线的装置结构的例子。 

如该图所示，该电子射线照射装置具有腔室31。该腔室31在生产线的流向的中央部具有俯视图为大致圆形的电子射线照射区域。而且，在夹持该圆形部分的生产线的流向两侧，形成为具有内部分别连通并延伸的箱形的搬送路径。该腔室31与上述各实施方式同样，为耐压结构的密封容器，在腔室31的壁面设有气体封入口6和气体吸引口7，并与上述同样地配管。即，气体吸引口7经由配管连接到真空排气装置11上。并且，气体封入口6通过汽缸阀41的动作控制，从气体封入口24经由配管向腔室31内提供净化空气或气体等，由此能够控制腔室31内的压力。由此，该电子射线照射装置能够在腔室31内将饮料容器30周围的氛围气管理成规定的负压状态。 

进而，在俯视图呈圆形的该腔室31大致中央的上部，具有能够以宽面积对腔室31内照射电子射线EB的电子射线产生室3。并且，在腔室31大致中央的周围，在与电子射线照射单元的电子射线照射窗下方的电子射线照射区域对应的位置上，设有磁场产生单元。另外，腔室31构成为尽可能包围饮料容器30的附近。 

这里，该磁场产生单元配置有多个电磁铁83作为磁场产生体。详细来讲，该电磁铁83沿着呈圆形的腔室31的周围，在周向上大致等间隔地配置在6处。 

而且，配置在6处的各电磁铁83的相邻的铁芯之间被连接部件94相互连接，并且，各电磁铁83的磁场产生线圈71分别被可励磁地连接在三相变换器81上。另外，在图7中，上述连接部件94仅图示了在该图中深处侧3处的电磁铁83的部分，上述磁场产生线圈71和三相变换器81的连接仅图示了在该图中近前侧3处的电磁铁83的磁场产生线圈71。并且，在该图中标号82是电容器，标号80是转换器。通过这种结构，该磁场产生单元能够通过利用三相变换器81对6处的电磁铁83进行励磁，来产生旋转磁场。因此，通过在电子射线照射区域的周围形成包围饮料容器30的磁场，来形成所谓的基于高速旋转的磁场的屏障，能够形成与上述旋转磁场对应的磁场。 

而且，在该例中，能够通过利用三相变换器81来改变输出电流(或输出电压)的有效值来改变磁场的强度，并且，能够通过改变输出频率来改变磁场的转速。另外，作为上述磁场产生线圈71和三相变换器81的连接结构，例如，能够采用如下结构：在6处的各电磁铁83的磁场产生线圈71中的、位于隔着腔室31的圆形部分而对置的位置上的3对磁场产生线圈71的每一个上，连接三相变换器81的输出的各个相。并且，在该例中，作为磁场产生体的磁极结构，示出了沿着室31的圆形部分的周围在6处配置电磁铁83而构成的6极结构，但是磁极结构不限于6极结构。并且，在该例中，示出了利用三相交流来对磁场产生体的电磁铁进行励磁的结构，但是励磁用交流电源的结构不限于三相交流，也可以使用三相以上的多相交流。 

进而，该电子射线照射装置具有作为对象物搬送单元的对象物搬送装置28，其从对象物搬入口(该图右侧的遮蔽门27)将饮料容器30搬入腔室31内，并从对象物搬出口(该图左侧的遮蔽门27)将饮料容器30搬出。该对象物搬送装置28具有未图示的驱动机构和与上述同样的固定器具13。由此，对象物搬送装置28通过使未图示的驱动机构工作，能够一边利用固定器具13卡定饮料容器30的头部部分，一边从成为对象物搬入搬出口的左右遮蔽门27搬入搬出。此时，饮料容器30与上述第一实施方式同样，通过固定器具13在腔室31内下垂，从而能够以所谓的悬空状态设置在腔室31内的规定位置上。另外，在对象物搬入搬出口部分具有能够使固定器具13和饮料容器30退避到非干扰区域的未图示的退避机构，以使固定器具13和饮料容器30相对于各遮蔽门27的开闭而不与门发生干扰。 

根据具有这种结构的电子射线照射装置，首先，在腔室31的对象物搬入搬出口的各遮蔽门27打开的状态下，通过对象物搬送装置28，使卡  定在固定器具13上的生产线上的各饮料容器30在流向上移动规定量。接着，分别关闭对象物搬入搬出口的各遮蔽门27。然后，与上述各实施方式同样，使腔室31内成为低真空状态。另外，在对具有因电子射线EB撞击残留的氧分子产生的臭氧而引起臭味和腐蚀等问题的对象物照射电子射线EB的情况下，根据需要，代替空气而封入比重轻的氦气。接着，从电子射线照射窗对腔室31内的电子射线照射区域照射电子射线EB。由此，对电子射线照射区域内的饮料容器30照射电子射线EB。此时，从电子射线照射窗对电子射线照射区域照射的电子射线EB，通过基于由腔室31内的各电磁铁83形成的磁场的旋转磁场，与上述各实施方式同样，电子射线EB在旋转磁场内随机反射，使旋转磁场内成为所谓的电子簇射状态。因此，能够没有不均地、均匀地对电子射线照射区域内的各饮料容器30照射电子射线EB。接着，在照射电子射线EB达规定时间后，使腔室31内恢复到大气压，然后分别打开腔室31的对象物搬入搬出口的各遮蔽门27。 

通过重复以上的工序，能够使从腔室31的对象物搬入口依次搬入的生产线上的饮料容器30，通过由于旋转磁场而成为电子簇射状态的电子射线照射区域内，对各饮料容器30均匀地照射电子射线EB后，从腔室31的对象物搬出口依次搬出。 

特别地，该电子射线照射装置如该图所示，将电子射线照射区域周围的多个电磁铁83进行所谓的上下二分割，配置成饮料容器30可在上下部分之间通过，并且能够形成包围饮料容器30的磁场。因此，在间歇式或连续搬送饮料容器30的生产线中形成旋转磁场的情况下，该第六实施方式是优选的。 

即，腔室31周围的磁场产生单元配置成从腔室中央分割为二，并具有在流向两侧使磁场产生单元彼此相对的结构。而且，每个分割为二的电磁铁83的分割为二的各开口部朝向饮料容器30的流程方向，分别配置成饮料容器30可出入电子射线照射区域内的程度的出入口。由此，该电子射线照射装置能够使饮料容器30通过电子射线照射区域内，并且电子射线照射区域内的电子射线EB几乎不会从电子射线照射区域内部的  旋转磁场内射出到其外部。 

并且，在腔室31中，如该图所示，在饮料容器30的生产线的流向的进入侧和出来侧，分别设有能够在期望的时机开闭的遮蔽门27。 

并且，根据该电子射线照射装置，以仅包围饮料容器30附近的方式构成腔室31。由此，能够使X射线遮蔽和将饮料容器30周围的氛围气管理成规定状态的区域为最小限度的区域。 

并且，根据该电子射线照射装置，在腔室31设置有对象物搬入搬出口，并且分别具有遮蔽门27。由此，能够更加容易地使腔室31内成为低真空或特定气体的氛围气等、将对象物周围的氛围气保持为规定状态。 

接着，关于构成间歇式或连续搬送饮料容器30的生产线的另一例子，以本发明第七实施方式涉及的电子射线照射装置为例进行说明。 

图8是表示该第七实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图，图8(a)是表示从俯视方向观察该电子射线照射装置的上半部分的图，图8(b)是对象物的进给方向的展开图，并且，图8(c)是放大表示使旋转磁场产生部和使对象物上下移动的凸轮机构部分的图。另外，对与上述说明的实施方式相同的结构标注同一标号，并适当省略其说明。 

如该图所示，该处理槽60的成为电子射线照射区域的内部空间形成为圆环状，在该电子射线照射区域内，沿着呈圆环状的形状，设置有多个磁场产生线圈71和对象物承受台84形成为一体的搬送机构100。 

在圆环状的处理槽60的中心部分设有未图示的旋转装置。该旋转装置具有与上述实施方式的转台同样的结构，能够以规定的角速度绕处理槽60的中心轴旋转。而且，在该旋转装置的周围，在周向上大致等间隔地设有上述多个搬送机构100。进而，各搬送机构100通过支承臂95分别将磁场产生线圈71和对象物承受台84连接到旋转装置的外周面。这里，该连接部分经由可在上下方向上滑动移动的滑动引导装置而连接。由此，约束了周向上的移动且可在上下方向上移动。而且，上述多个搬送机构100整体沿着上述圆环状的处理槽60旋转。 

进而，如该图(b)的展开图所示，磁场产生线圈71和对象物承受台84分别连接到凸轮机构86上，在电子射线照射区域内分别独立地上  升和下降，使对象物即饮料容器30整体沿着容器的长度方向在容器整体的范围内移动。详细来讲，在各个搬送机构100的底部，分别对应于磁场产生线圈71和对象物承受台84，具有用于沿着凸轮面96、97移动的凸轮从动件98、99，各个凸轮从动件98、99经由连接杆分别连接到磁场产生线圈71和对象物承受台84上。而且，各个搬送机构100的凸轮从动件98、99通过沿着在其下部设置的凸轮机构86的凸轮面96、97移动，从而能够在上下方向上移动规定的扬程。另外，凸轮面96是磁场产生线圈用的凸轮面，凸轮面97是对象物承受台用的凸轮面。 

根据具有上述结构的该第七实施方式，适合于在间歇式或连续搬送饮料容器30的生产线中形成旋转磁场的情况。 

这里，在该图中，示出了磁场产生线圈71和饮料容器30均在上下方向上移动的结构例，但是也可以构成为使任一方上下移动。并且，在该图中，作为磁场产生部，以采用磁场产生线圈71为例进行了说明，但是也可以由永久磁铁来构成磁场产生部。这些可以根据电子射线的照射处理过程来适当选择。并且，也可以构成为在上述对象物承受台84的上表面设置用于保持饮料容器30的吸附垫或气压夹具(air clamp)等。 

如以上说明的那样，根据上述第四到第七实施方式的电子射线照射方法和电子射线照射装置，即使是低能量的电子射线EB，也能够均匀地对作为对象物的饮料容器30照射电子射线EB。 

另外，本发明的电子射线照射方法和电子射线照射装置不限于上述第四到第七实施方式，只要不脱离本发明的主旨，就能够进行各种变形。 

例如，在上述第四到第七实施方式中，作为对象物以饮料容器30为例进行了说明，但是不限于此，例如，也能够应用于作为对象物的食品、水、医药品、中药、化妆品、饲料、肥料等或它们所使用的包装材料等。即，根据对象物的种类和形状，从复杂形状的立体物到平面状的薄膜都能够适当应用本发明，例如，也能够用于对组装成牛奶饮料用等的纸容器之前的纸制的薄片照射电子射线而对其进行杀菌的用途等。而且，根据本发明，在对上述这种薄片状部件照射电子射线的情况下，使薄片状部件通过旋转磁场内，从而通过在旋转磁场内产生的电子簇射，能够均  匀且高效地对薄片两面和端部照射电子射线。 

并且，在上述第四到第七实施方式中，以对对象物进行杀菌的用途为例进行了说明，但是不限于此，也能够应用于杀菌以外的用途。 

并且，在上述第四到第七实施方式中，对于电子射线的照射槽，以可将对象物周围的氛围气管理成规定状态的耐压结构的密封容器即腔室为例进行了说明，但是不限于此，电子射线的照射槽也可构成为开放型。但是，在进一步降低电子射线的能量损失方面，优选上述实施方式那样可将对象物周围的氛围气管理成规定状态的照射槽(腔室)，并使该处理槽内为负压，并且，由以包围对象物的方式产生的磁场来形成旋转磁场，使对对象物照射的电子射线在该旋转磁场内反射。 

并且，在上述第四到第七实施方式中，以磁场产生体由永久磁铁、电磁铁和圆形线圈构成为例进行了说明，但是不限于此，磁场产生体例如也可以包含电磁铁、圆形线圈或永久磁铁，利用它们的组合来构成。 

并且，在上述第四到第七实施方式中，以根据对象物的种类而预先决定腔室的外形形状为例进行了说明，但是不限于此，也可以构成为具有根据对象物的形状来改变其内部形状的内部形状可变结构。作为这种内部形状可变结构的例子，具有构成外形的隔壁可滑动的组合结构。如果是这种结构，则根据对象物的形状，能够对应地适当改变腔室的内部形状。因此，能够进一步高效且均匀地对对象物照射电子射线。 

并且，在上述第四到第七实施方式中，作为腔室内的氛围气管理的具体例，以从气体吸引口7吸引腔室1内部的空气来使腔室1内成为负压状态(在该例中为0.05MPa～0.1Pa)的情况、以及对于具有因电子射线EB撞击残留的氧分子产生的臭氧而引起臭味和腐蚀等问题的对象物，根据需要，代替空气而封入比重轻的氦气的情况为例进行了说明，但是本发明的腔室内的氛围气管理的结构不限于此。即，在使腔室1内成为负压状态的情况下，不限于上述这种例如0.05MPa～0.1Pa左右的低真空状态，也可以是更高真空度的高真空状态，真空度越高，越能够进一步降低电子的能量损失。并且，腔室内的氛围气可以是从空气、氧、氮、氢、二氧化碳、氩和氦中选择的一种或多种气体，也可以根据对象物的  种类和照射目的，适当选择腔室内的氛围气气体，能够将对象物周围的氛围气管理成规定状态。另外，在要降低常压的氛围气时的能量损失的情况下，与空气等比重更大的气体的情况相比，使用比重小的氦气等也更适合。另外，如果使用比重小的氦气等气体作为氛围气气体，则即使是常压的氛围气，与氛围气气体是空气等比重更大的气体的情况相比，也能够进一步降低电子的能量损失。并且，即使是正压的氛围气，虽然依赖于其压力水平，但通过使用比重小的氦气等气体作为氛围气气体，也能够充分减少电子的能量损失。 

并且，在上述实施方式中，以适合于在间歇式生产线中对饮料容器30照射电子射线的装置结构为例进行了说明，但是不限于此，例如在连续式生产线中对对象物照射电子射线时，也能够应用本发明。 

并且，在上述各实施方式中，当然可以适当选择各个结构相互进行组合。 

接着，适当参照附图对本发明第八实施方式进行说明。 

图9是表示本发明第八实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图。另外，在该图中，利用包含照射槽的轴线的剖面来示出成为电子射线照射装置的主体部分的大致圆筒形状的电子射线照射槽。 

如该图所示，该电子射线照射装置具有电子射线EB的照射槽即腔室1。该腔室1是具有足够在其内部收纳被照射电子射线EB的未图示的对象物(例如后述的例子中的饮料容器30)的大小的耐压结构的密封容器，呈现将轴线作为上下方向的四方筒形状，并构成为可维持其内部的压力。腔室1的材质为钢材或不锈钢制，另外，其周围由能够遮蔽X射线的遮蔽材料2包围。在腔室1的壁面上具有设置成可开闭的未图示的对象物搬入口，可以将对象物从该对象物搬入口搬入到腔室1内以及从腔室1内搬出。 

在腔室1的上部具备中空半球状的耐压结构的密封容器即电子射线产生室3。该电子射线产生室3的中空半球状的下表面部经由电子射线照射窗5紧贴在上述腔室1的上部来设置，构成为可独立于上述腔室1来维持其内部的压力。而且，该电子射线产生室3在内部具有向成为电子射线照射区域的腔室内照射电子射线的作为电子射线照射单元的电子射线单元3a。该电子射线单元3a能够照射低能量的电子射线EB，其主体中的输出被设定为200kV以下。由此，电子射线单元3a构成为能够通过电子射线照射窗5对腔室1内照射低能量的电子射线EB。 

这里，该电子射线照射装置分别在腔室1和电子射线产生室3附加设置有内部压力控制用的配管和压力控制设备。 

详细来讲，在腔室1的壁面设有气体封入口6和气体吸引口7。气体吸引口7经由手动阀42、汽缸阀41C和配管连接到真空排气装置11上。另外，真空排气装置11使用干式真空泵(dry pump)。另一方面，气体封入口6经由可变流量阀43和汽缸阀41A连接到净化空气产生装置54上。在该净化空气产生装置54上安装有HEPA过滤器52和生物滤池53，在这些HEPA过滤器52和生物滤池53的流向上游侧装备有风扇51a。该风扇51a取入来自该图上方的外部气体和净化空气产生装置54的内部气体后，向下方送风，构成可为经由HEPA过滤器52和生物滤池53向腔室1内提供净化空气。由此，所提供的净化空气作为无尘或无菌状态的泄漏气体，被提供给腔室1内。并且，净化空气产生装置54侧的配管和真空排气装置11侧的配管经由汽缸阀41B相互连接。 

进而，在上述电子射线产生室3中也附加设置有压力控制用的配管和压力控制设备。即，附加设置有与上述腔室1中的配管等相同结构的、以下未图示的气体吸引口，该气体吸引口经由配管连接到电子射线产生室3用的真空排气装置上。而且，使电子射线单元3a周围的氛围气成为被管理成规定的第一负压的氛围气。具体而言，通过该电子射线产生室3用的真空排气装置从气体吸引口吸引电子射线产生室3内部的空气或气体，使电子射线产生室3内成为第一负压即10^-3Pa以下的高真空状态。 

但是，对腔室1内照射电子射线EB时，腔室1内存在的氧等通过自由基反应或氧等离子化而消耗，所以，在负压的环境下，氧容易耗尽。因此，可能对照射处理造成影响。所以，为了缓解该影响，在该电子射线照射装置中具备控制盘(未图示)，该控制盘具有分别控制上述可变流量阀43和汽缸阀41A～41C的压力管理单元，通过该控制盘进行的压力管理处理，提供消耗部分的氧，并将腔室1内的压力控制成设定成规定的第二负压的一定范围内。并且，在该压力管理处理中，通过改变所述第二负压的高度来改变电子的发散程度。由此，能够获得腔室1内的电子射程方向的无序性。并且，控制盘进行的压力管理处理同时管理电子射线产生室3内的第一负压。 

这里，该控制盘进行的将电子射线产生室3内管理成规定的第一负压，并且将腔室1内管理成绝对压力比所述第一负压高的第二负压的压力管理处理对应于上述压力管理单元。 

详细来讲，作为该控制盘的控制功能，该控制盘根据规定的控制信号，控制各部的电源的接通/断开、汽缸阀的打开/关闭、可变流量阀的流量调整、真空排气装置11的电源的接通/断开等，构成为可执行上述压力管理处理。而且，该控制盘构成为具有以下各部，该各部都没有图示：根据规定的控制程序，控制运算和该电子射线照射装置的系统整体的CPU；预先在规定区域中存储CPU的控制程序等的ROM；用于存储从ROM等读出的数据、和CPU的运算过程中需要的运算结果的RAM；以及对包含电子射线照射装置的操作面板等在内的外部装置作为数据的输入输出的媒介的I/F(接口)。它们通过传输数据用的信号线即总线，相互连接成可进行数据收发。而且，能够从该操作面板输入上述压力管理处理的执行指令、和与规定的负压的氛围气对应的必要的设定值。另外，作为具体的例子，上述控制盘优选使用可编程序控制器等。 

由此，该电子射线照射装置能够通过控制盘进行的压力管理处理，在腔室1内，将对象物(例如饮料容器)周围的氛围气管理成规定的状态。在该电子射线照射装置中，作为规定状态，被管理成通过真空排气装置11从气体吸引口7吸引腔室1内部的空气或气体，将腔室1内维持绝对压力比上述第一负压即10^-3Pa以下的高真空状态高的第二负压。具体而言，将腔室1内管理成超过10^-3Pa且在0.1MPa以下的范围的低真空状态。另外，被控制的压力控制值能够与由电子的必要射程和照射处理过程等决定的条件对应起来。 

接着，说明该电子射线照射装置的作用和效果。 

在该电子射线照射装置中，首先，将对象物(例如饮料容器)从对象物搬入口搬入腔室1内，设置在腔室1内的规定位置上后，关闭对象物搬入口。 

接着，通过控制盘执行压力管理处理，利用真空排气装置11从气体吸引口7吸引腔室1内部的空气，将腔室1内管理成所述第二负压，即超过10^-3Pa且在0.1MPa以下的范围的低真空状态。 

接着，利用电子射线照射单元产生电子并进行加速，使低能量的电子射线EB从电子射线照射窗5进入腔室1内。此时，通过控制盘进行的压力管理处理，电子射线产生室3内成为第一负压即10^-3Pa以下的高真空状态。因此，电子射线产生室3内的电子射线EB几乎没有能量损失。 

这里，在该电子射线照射装置中，利用真空排气装置11从气体吸引口7吸引腔室1内部的空气，管理成超过10^-3Pa且在0.1MPa以下的范围的低真空状态，维持绝对压力比上述第一负压高的第二负压，因此，因为气体的存在量少，所以能够成为使电子射线EB在腔室1内容易运动的状态(能量损失少的状况)。因此，能够降低电子射线EB由于腔室1内部的气体的能量损失。因此，即使是低能量的电子射线，也能够抑制电子射线的能量消耗，效率良好地照射电子射线EB。并且，在该情况下，虽然没有图示，但是通过在腔室1的内表面或外表面设置电子偏转单元，能够更高效地进行照射。 

进而，在该电子射线照射装置中，利用控制盘进行的压力管理处理，改变所述第二负压的高度来使空气密度发生变化而改变电子的发散程度，所以，能够获得电子射程方向的无序性。因此，能够均匀地对对象物照射电子射线，能够更高效地进行电子射线的照射。 

另外，在上述压力管理处理的结构不限于此，通过基于对象物的形状等的照射条件，使腔室1内部的氛围气压力变化为与各照射条件对应的设定压力值，在照射中使氛围气压力恒定的结构，也可以构成为在照射中有意地改变氛围气压力。 

并且，作为上述的在照射中改变腔室1内部的氛围气压力、即改变第二负压的高度的压力管理处理的具体结构例，例如，在对一个对象物的电子射线照射工序中，首先，利用真空排气装置11从气体吸引口7吸引腔室1内部的空气，在维持超过10^-3Pa且在0.1MPa以下的范围的第二负压的恒定的低真空状态的状态下，开始对对象物照射电子射线EB，然后马上对经由可变流量阀43连接到气体封入口6上的汽缸阀41A，按照关闭、打开、关闭的顺序进行操作，向腔室1内部提供来自净化空气产生装置54的净化空气，由此，瞬间、例如1秒以下的极短的时间内在腔室1内部封入净化空气，使腔室1内的氛围气压力变化为绝对压力比刚才的第二负压高的负压状态，如果进行以上这种氛围气切换控制，则在即将进行该氛围气切换之前到达腔室1内部的远离电子射线照射窗5的下部区域中的电子射线EB，在氛围气切换后，瞬间被绝对压力比切换前的第二负压高的负压状态的净化空气氛围气包围，即使是腔室1内部的下部区域，也剧烈地产生电子射线EB与大量存在的氛围气气体分子的冲撞，所以，虽然是短时间，但在腔室1内部的下部区域，也能够形成足够量的电子簇射，能够均匀地对对象物进行照射。

另一方面，在对一个对象物的电子射线照射工序的整个行程中，在将腔室1内部例如维持成接近常压的负压状态的净化空气氛围气的状态下进行电子射线照射的结构的情况下，对腔室1内部进行照射的电子射线EB，在腔室1内部的靠近电子射线照射窗5的上部区域中，其能量由于与大量存在的氛围气气体分子的冲撞而消耗，由此，到达远离电子射线照射窗5的下部区域中的电子射线EB的量少，所以无法在下部区域形成足够量的电子射线簇射，对对象物的电子射线照射的均匀性相应地降低。因此，在如上所述的电子射线照射工序中，进行将第二负压的高度、即腔室1内部的氛围气压力瞬间切换为绝对压力比之前的第二负压高的负压状态的氛围气切换控制的压力管理处理的结构，虽然是短时间，但在对对象物进行均匀性高的电子射线照射这点上是优选的，并且，通过适当设定电子射线EB的照射量等，能够在上述短时间的均匀照射的期间内，充分对对象物进行杀菌。 

另外，虽然在图9中没有图示，但是通过构成为串联设置2个经由可变流量阀43连接到气体封入口6上的汽缸阀41A并进行串行地开闭的控制，或者，构成为代替上述汽缸阀41A而使用能够更快速动作的蝶阀，从而能够更加快速地进行氛围气切换控制。 

并且，如果构成为串联多个经由可变流量阀43连接到气体封入口6的汽缸阀41A，并且设置成在相邻的汽缸阀41A相互之间隔开规定间隔，则通过进行如下的阀开闭操作，能够容易地对腔室1内部提供规定量的净化空气，在该阀开闭操作中，将多个汽缸阀41A在其之间的配管内充满净化空气的状态下关闭，然后打开靠近腔室1侧的汽缸阀41A。 

进而，在上述结构中，如果串联设置的汽缸阀41A的个数为3个以上，则通过选择在氛围气切换控制前关闭的2个汽缸阀41A的组合，能够改变在关闭的2个汽缸阀41A之间的配管内充满的净化空气的量，能够选择调整对腔室1内部的净化空气供给量。 

并且，本申请的发明者们根据关于电子射线的射程或发散程度与氛围气条件之间的关系的考察，来考虑进行上述的氛围气切换控制的压力管理处理的结构，但是，例如在Yoshiaki Arata et.el.“Some FundamentalProperties of Nonvacuum Electron Beam”Transactions of J.W.S.September1970 p.40-p.59的研究论文中，公开了电子射线的射程或发散程度依赖于电子射线照射区域的氛围气压力或氛围气气体的种类。而且，在该研究论文中，关于上述依赖性，示出了使用以60kV的电压加速后的电子射线，针对空气和氦气这两种氛围气气体，在13.33Pa(10^-1mmHg)～101325Pa(760mmHg)的范围内改变氛围气压力而进行的电子射线发散(等离子化)的实验结果。 

并且，在该电子射线照射装置中，作为管理所述第二负压时所使用的泄漏气体，对腔室1内提供无尘且无菌的净化空气，所以，在将例如食品、水、医药品、中药、化妆品等或它们所使用的包装材料等作为所述对象物时是优选的。 

另外，在上述实施方式的例子中，考虑杀菌和材料改质的处理利用，以具备净化空气产生装置54为例进行了说明，但是，根据照射处理过程，也可以代替净化空气产生装置54而连接各种气体的产生装置或贮气瓶等。例如，能够代替净化空气产生装置54，而经由配管连接到贮藏有氦  气的贮气瓶。而且，通过代替空气而从气体封入口6向腔室1内封入比重轻的氦气，也同样能够使电子射线EB成为在腔室1内容易运动的状态(能量损失少的状况)。 

接着，适当参照图10对本发明第九实施方式涉及的电子射线照射装置进行说明。 

图10是表示本发明第九实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图，示出将上述第八实施方式的电子射线照射装置应用于连续处理生产线的例子。并且，在该实施方式中，示出在如下用途中应用本发明的电子射线照射装置的例子，即，对作为对象物的清凉饮料用等的PET瓶(聚酯瓶)等形状复杂的中空的饮料容器30照射电子射线而对其进行杀菌。另外，图10(a)是表示从俯视方向观察该电子射线照射装置的图，利用搬送方向的剖面来表示处理槽。并且，图10(b)是从正面方向观察的图，在该图中，也利用搬送方向的剖面来图示处理槽。另外，对与上述第八实施方式相同的结构标注同一标号，并适当省略其说明。 

在该第九实施方式中，具有：与照射槽31相邻设置的多个预备室；以及作为对象物搬送单元的对象物搬送装置28，其在该多个预备室和照射槽31之间搬送饮料容器30。另外，照射槽31除了沿着搬送方向形成为箱形这点以外，与上述同样，为耐压结构的密封容器，能够在照射槽31内将饮料容器30周围的氛围气管理成规定的状态。进而，与上述第八实施方式同样，在该照射槽31上部的大致中央，具有能够以宽面积对照射槽31内照射电子射线EB的电子射线产生室3。并且，虽然没有图示，但根据需要，在照射槽31的内表面和外表面设置有电子偏转单元。 

对于多个预备室，在该照射槽31的前后分别设置有多个，作为前预备室34和后预备室35。在该图的例子中，示出分别沿着搬送方向并列具有3个室的例子。对于各室内的压力，构成为可独立地维持内部压力，与上述的照射槽1同样，通过控制盘进行的压力管理，可独立地从大气压变化到期望的负压。 

对象物搬送装置28构成为能够利用未图示的传送带机构沿着搬送方向搬送饮料容器30。另外，搬送机构不限于传送带机构，也可以采用  例如进给丝杠方式的搬送机构。 

而且，在前预备室34和后预备室35的搬送方向下游侧，分别设有前方闸阀32。并且，在前预备室34和后预备室35的搬送方向上游侧，分别设有后方闸阀33。这里，成为各室的隔断的闸阀32、33形成有薄薄的对象物搬送装置28的交接部。由此，在各室的隔断部分不需要特别的交接机构。 

并且，在该照射槽31及其前后的前预备室34和后预备室35，同样设置有上述的压力控制用的配管和压力控制设备。即，如该图所示，与上述第八实施方式同样，考虑杀菌和材料改质的处理过程利用，能够从搭载有HEPA过滤器52和生物滤池53的净化空气产生装置54提供净化空气。并且，真空排气装置11也与上述第八实施方式同样，在前预备室34和后预备室35上分别采用使用了干式真空泵的结构。另外，在本实施方式中，根据照射处理过程，当然可以代替净化空气产生装置54，而与上述示例同样连接各种气体产生装置或贮气瓶。 

进而，在照射槽31及其前后的前预备室34和后预备室35，分别设置有可确认有无饮料容器30的未图示的接近传感器。而且，各接近传感器被连接成，可经由信号线将与有无饮料容器30相关的规定信号输出到控制盘。并且，通过由控制盘执行的、以下说明的规定的压力管理处理，来控制各闸阀32、33在期望的时机开闭。 

图12是控制盘所执行的压力管理处理的流程图。 

如该图所示，当控制盘执行压力管理处理时，首先，转移到步骤S1，打开前预备室34的前方闸阀32，转移到步骤S2。在步骤S2中，利用对象物搬送装置28将饮料容器30搬入到前预备室，转移到步骤S3，在步骤S3中，关闭前方闸阀32，转移到步骤S4。 

在接下来的步骤S4中，进行使前预备室34内和照射槽31内成为相同压力的处理，转移到步骤S5，接着，在步骤S5中，打开前预备室34的后方闸阀33，转移到步骤S5a。在步骤S5a中，确认在其它预备室中将饮料容器30送入照射槽31的完成情况，如果已经完成，则立即转移到步骤S6。即，在该处理中，将前预备室34内和照射槽31内的压力设  定为上述第八实施方式所说明的第二负压，并管理成该规定的范围。 

这里，在该控制盘进行的压力管理处理中，在打开成为各室的隔断的闸阀32、33的情况下，必须将前工序侧的压力设定得较低。因此，在该步骤S6的处理中，虽然设成相同的第二负压，但是，在打开闸阀32之前，前预备室34内的压力比照射槽31内低。由此，有意地将装置内的气流的流动控制成从后工序侧向前工序侧流动，能够防止来自前工序的细菌和灰尘混入到后工序内(在其它闸阀开闭中也同样。)。 

接着，在步骤S6中，利用对象物搬送装置28，与从其它预备室送入的饮料容器30连续地，将饮料容器30搬入照射槽31内，转移到步骤S7。在步骤S7中，进行照射电子射线EB的处理，转移到步骤S8。在接下来的步骤S8中，根据来自上述接近传感器的信号，确认前预备室34内是否已经没有饮料容器30。即，如果前预备室34内已经没有饮料容器30(是)，则转移到步骤S9，如果前预备室34内有饮料容器30(否)，则在步骤S8中待机。然后，在步骤S9中，关闭前预备室34的后方闸阀33，转移到步骤S10，在步骤S10中，执行使前预备室34成为大气压的处理，转移到步骤S12。 

在接下来的步骤S11中，打开照射槽31和后预备室35之间的前方闸阀32，转移到步骤S12，在步骤S12中，进行利用对象物搬送装置28，将被照射了电子射线EB的饮料容器30从照射槽31内连续地搬送到后预备室35内的处理，转移到步骤S13。 

在接下来的步骤S13中，在搬送该饮料容器30后，在规定的时机对各部输出控制信号，以关闭后方闸阀33，转移到步骤S14。接着，在步骤S15中，进行使后预备室35成为大气压的处理，转移到步骤S15，接着，在步骤S15中，打开后预备室35的后方闸阀33，转移到步骤S15a。在步骤S15a中，确认在其它预备室将饮料容器30送入后工序的完成情况，如果已经完成，则立即转移到步骤S16。然后，在步骤S16中，利用对象物搬送装置28，与从其它预备室送入的饮料容器30连续地，将饮料容器30搬送到后工序，转移到步骤S17。 

接着，在步骤S17中，根据来自上述接近传感器的信号，确认后预  备室35内是否已经没有饮料容器30。即，如果后预备室35内已经没有饮料容器30(是)，则转移到步骤S18，如果后预备室35内有饮料容器30(否)，则在步骤S17中待机。然后，在步骤S18中，关闭后预备室35的后方闸阀33，转移到步骤S19，在步骤S19中，执行使后预备室35成为与照射槽31相同的压力的一连串处理，转移到步骤S20。然后，在步骤S20中，例如根据来自上述前预备室34的接近传感器的信号，确认压力管理处理是否完成。即，如果饮料容器30没有被供给到前预备室34(是)，则结束压力管理处理，如果饮料容器30被供给到前预备室34(否)，则处理返回到步骤S1。这里，在该第九实施方式的电子射线照射装置中，该压力管理处理对应于上述压力管理单元。 

这样，根据该第九实施方式的电子射线照射装置，具有多个前预备室34和后预备室35，进而，通过执行控制盘进行的上述一连串的压力管理处理，能够使饮料容器30作为装置整体连续地流过。 

并且，根据该电子射线照射装置，在腔室中设置对象物搬入搬出口，并分别具有作为遮蔽门的闸阀32、33，所以，能够更加容易地使腔室内成为低真空或特定气体的氛围气等、将对象物周围的氛围气保持为规定状态。 

并且，根据该电子射线照射装置，所述前预备室34、照射槽31和后预备室35可分别分段地进行压力控制，并构成为使气流从后工序向前工序流动，所以，能够良好地防止来自未处理工序(前工序)的悬浮细菌和灰尘流入，以及包含被杀菌而死亡的细菌等的气体无序地飞散。 

接着，适当参照图11对本发明第十实施方式涉及的电子射线照射装置进行说明。另外，对与上述第八～第九实施方式相同的结构标注同一标号，并适当省略其说明。 

图11是表示本发明第十实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图，示出将上述第八实施方式的电子射线照射装置应用于连续处理生产线的例子。并且，在该实施方式中，示出在如下用途中应用本发明的电子射线照射装置的例子，即，对作为对象物的与第九实施方式相同的中空的饮料容器30照射电子射线而对其进行杀菌。另外，图11(a)是  表示从俯视方向观察该电子射线照射装置的图，利用搬送方向的剖面来表示处理槽。并且，图11(b)是从前工序侧观察前预备室的图，利用横截面图示前预备室。并且，该图(c)是放大表示该图(b)的搬送部的图。 

如该图所示，该第十实施方式的电子射线照射装置也与上述第九实施方式同样，具有：与照射槽60相邻设置的多个预备室；以及在该多个预备室和照射槽60之间搬送饮料容器30的对象物搬送单元。这里，该照射槽60除了沿着搬送方向形成为圆环状这点以外，与上述同样，为耐压结构的密封容器，能够在照射槽60内将饮料容器30周围的氛围气管理成规定的状态。进而，与上述第八实施方式同样，在该照射槽60的上部，沿着圆环状的搬送区域，具有能够以宽面积对照射槽60内照射电子射线EB的电子射线产生室3。并且，虽然没有图示，根据需要，在照射槽60的电子射线产生室3的下部设置有电子偏转单元。 

如该图所示，该第十实施方式的多个预备室分别形成为呈与照射槽60大致相同的圆环状，与照射槽60的前后相邻而设置。在该图的例子中，各个预备室被隔壁66沿着圆环状的周向大致等间隔地分割为多个小室(在该图的例子中，分别具有36个小室。)。这里，在本实施方式中，作为前预备室61和后预备室62，分别具有多个各小室。 

即，如该图所示，前预备室61和后预备室62的结构为，通过在一个内框架64上朝径向呈放射状地安装隔板66，而被分割为各室，通过被相邻的隔板66彼此和外框架63之间所包围的空间而划分成各个前预备室61和后预备室62。这里，如图11(c)所示，在各隔板66和外框架63之间具有微小的间隙G，不使用密封部件等。并且，对于各预备室内的压力，构成为可按照每个处理区域来管理其压力，与上述照射槽1同样，通过控制盘进行的压力管理，各处理区域可独立地从大气压变化到期望的负压。 

进而，在本实施方式中，通过与搬送机构的协作，改变前预备室61和后预备室62内的压力，使其与照射槽60内的第二负压的高度相符。 

详细来讲，照射槽60为由其内框架64和外框架63包围的密封空间，  外框架63在构成各预备室的前处理区域和后处理区域一体地形成。而且，在照射槽60、前处理区域和后处理区域中，分别在其内框架64上具有与各预备室61、62相对应地安装的多个机械手机构65，通过该机械手机构65把持饮料容器30，进而，能够在照射槽60和前处理区域的前预备室61相互之间、以及照射槽60和后处理区域的后预备室62相互之间分别交接饮料容器30。 

而且，如该图所示，前处理区域构成为，其内框架64顺时针方向旋转。这里，各前预备室61构成为，通过内框架64的旋转，随着前预备室61从前工序接近照射槽60，逐渐被引导为照射槽60的负压，在移动到照射槽60侧的时刻，成为与照射槽60相同的压力。并且，相反，当各前预备室61从照射槽60侧接近前工序侧时，被引导为前工序侧的大气压，在前预备室61移动到前工序侧的时刻，成为大气压。另外，后处理区域的后预备室62也是同样的结构，所以省略其说明。 

进而，在构成前处理区域的前预备室61的部分的外框架部，在从前工序移动到照射槽60的部分的外壁上，设置有专用的真空排气装置69和多级的配管68。由此，能够实现降低照射槽60的真空排气装置11的容量和提高压力控制的精度。并且，多级的配管68越接近照射槽60，其配管直径越大，能够降低真空排气装置69的容量，并顺利地进行前预备室61的压力变化。另外，后处理区域的后预备室62也是同样的结构，所以省略其说明。这里，可转动地装备了照射槽60、前处理区域和后处理区域各自的各内框架64的未图示的旋转机构；和在该每一个内框架64上安装了多个的对象物用机械手机构65，对应于上述对象物搬送单元。 

这里，该照射槽60基本上为密封空间，但是，前预备室61和后预备室62在结构上如图11(c)所示，在周围具有微小的间隙G，所以，当照射槽60为负压时，可能从该微小的间隙G发生泄漏。但是，沿周向在任一层都设置有隔板66，由此增大流路阻力，所以能够使泄漏量非常少，通过使真空排气装置的容量为预计的泄漏量部分的容量，能够将照射槽60内保持为一定的压力。另外，该原理是与发电机等所采用的迷宫环式密封结构相同的原理。 

并且，如该图所示，本实施方式也与上述第八实施方式同样，考虑杀菌和材料改质的处理利用，能够从搭载有HEPA过滤器52和生物滤池53的净化空气产生装置54提供净化空气。并且，各真空排气装置69也与上述第八实施方式同样，在前预备室61和后预备室62中分别采用使用了干式真空泵的结构。另外，在本实施方式中，根据照射处理过程，当然可以代替净化空气产生装置54，而与上述示例同样，连接各种气体产生装置或贮气瓶。 

而且，在该第十实施方式中，构成为可通过该控制盘来执行以下说明的规定的压力管理处理。 

图13是控制盘所执行的压力管理处理的流程图。 

如该图所示，当该控制盘执行压力管理处理时，首先，转移到步骤S31，将电子射线产生室内管理成规定的第一负压，并且将照射槽60内管理成规定的第二负压，转移到步骤S32。这里，关于第一负压和第二负压，与上述第八实施方式同样，设定各自的压力，并管理成该规定的范围。 

接着，在步骤S32中，进行如下一连串的处理：即，一边使内框架64顺时针方向旋转，一边通过在各前预备室61中安装的机械手机构65，将饮料容器30从前工序的旋转搬送机构接收到前处理区域的内框架64内，并且，通过进一步使前处理区域的内框架64顺时针方向旋转，使把持并收纳饮料容器30的前预备室61向照射槽60侧移动，转移到步骤S33。此时，通过上述结构，前预备室61内的压力接近照射槽60内的第二负压。这里，通过设置与上述第九实施方式相同的接近传感器，能够判定在各前预备室61内是否正确地搬送饮料容器30。 

接着，在步骤S33中，进行如下一连串的处理：即，一边使照射槽60的内框架64逆时针方向旋转，一边利用安装在照射槽60的内框架64上的机械手机构65，接收从前处理区域的各前预备室61依次送来的饮料容器30，转移到步骤S34。然后，在步骤S34中，进行如下一连串的处理：即，在被管理成第二负压的压力恒定的照射槽60中，进一步使照射槽60的内框架64逆时针方向旋转，在该过程中，根据规定的处理过程，从被管理成第一负压的电子射线产生室对饮料容器30照射电子射线EB(在该例中，在该图的圆环状的照射槽60的上半部分侧饮料容器30被照射)，同时，向后处理区域侧搬送饮料容器30，转移到步骤S35。 

接着，在步骤S35中，进行如下处理：即，一边使该内框架64顺时针方向旋转，一边通过安装在后处理区域用的内框架64的各后预备室62中的机械手机构65接收从照射槽60依次送来的电子射线EB照射后的饮料容器30，转移到步骤S36。 

接着，在步骤S36中，进行如下处理：即，进一步使后处理区域用的内框架64顺时针方向旋转，使把持饮料容器30的后预备室62向后工序侧移动，依次将饮料容器30交接给后工序的旋转搬送机构，转移到步骤S37。此时，通过上述结构，后预备室62内的压力逐渐接近大气压。 

在步骤S37中，例如根据来自上述前预备室61的接近传感器的信号，确认该压力管理处理是否完成。即，如果饮料容器30没有被供给到前预备室61(是)，则结束该压力管理处理，如果饮料容器30被供给到前预备室61(否)，则处理返回到步骤S32。这里，在该第十实施方式的电子射线照射装置中，该压力管理处理对应于上述压力管理单元。 

这样，根据该第十实施方式的电子射线照射装置，具有配置成圆环状的照射槽60、多个前预备室61和后预备室62，在这些照射槽60、多个前预备室61和多个后预备室62中，通过连续执行上述一连串的压力管理处理，能够使从前预备室61依次搬入的生产线上的饮料容器30通过照射槽60内的成为电子簇射状态的电子射线照射区域内，对各饮料容器30照射电子射线EB后，依次搬出到后预备室62，由此，能够使饮料容器30连续地移动。 

进而，根据该电子射线照射装置，构成为由控制盘进行的压力管理处理在前处理区域和后处理区域独立地管理多个预备室内部的压力，所以，能够在移动饮料容器30的、间歇式生产线或连续式生产线的中途，良好地应用第八实施方式所示的结构。特别地，在以连续地移动饮料容器30等对象物的方式构成生产线的方面，因为在照射槽60的前后分别设置能够独立管理内部压力的预备室，所以能够良好地维持上述第二负  压的高度。 

并且，根据该电子射线照射装置，在上述结构中，改变前预备室61和后预备室62内的压力，以使其与照射槽60的第二负压的高度相符，所以，更加可靠地维持照射槽60内的第二负压。 

并且，根据该电子射线照射装置，多个预备室61、62具备多个隔壁66，这些多个隔壁66成为所谓的旋转式的门，在搬送方向上配置了多个，从而设置成构成迷宫环式密封结构的隔壁，所以，能够良好地抑制压力的泄漏，同时能够连续地搬送对象物。 

并且，根据该电子射线照射装置，多个各预备室61、62被划分成仅包围饮料容器30附近。由此，在使将饮料容器30周围的氛围气管理成规定状态的区域为最小限度方面，是优选的。 

接着，适当参照图14对本发明第十一实施方式涉及的电子射线照射装置进行说明。另外，对与上述第八～第十实施方式相同的结构标注同一标号，并适当省略其说明。 

图14是表示本发明第十一实施方式涉及的电子射线照射装置的概略结构图，示出将上述第十实施方式的电子射线照射装置应用于对密封部件照射电子射线的例子。 

如图14所示，作为该第十一实施方式的电子射线照射装置的基本结构，设置有：在上下方设置有电子射线产生室3的照射槽70；和在该照射槽70前后配置的多个前预备室75和后预备室76，该前预备室75和后预备室76的结构如图14(b)所示，在四方形的框架89内设置隔壁66和间隙辊87，并且，串联配置有多个预备室并构成迷宫环式密封结构，该多个预备室具有例如组装成牛奶饮料用等的纸容器之前的纸制薄片部件31能够通过的程度的微小间隙G。在该结构中，预备室具有微小的间隙G，但是，预备室成为被串联配置多个的结构，由此，流路阻力变大，所以，与第十实施方式同样，通过使真空排气装置11的容量为考虑了泄漏量的容量，能够容易地管理照射槽70的第二负压。 

并且，关于薄片部件31，虽然没有图示，但是在后工序中设有牵引薄片部件31的机构，薄片部件31经由间隙辊87和辊88，从前工序通过  多个前预备室75，在被管理成第二负压的照射槽70中，从两面被照射电子射线，通过多个后预备室76，送到后工序。 

根据上述这种第十一实施方式涉及的电子射线照射装置，对薄片状部件，同样能够能量效率良好地进行照射。 

如以上说明的那样，根据上述第八到第十一实施方式的电子射线照射方法和电子射线照射装置，即使是低能量的电子射线EB，也能够均匀地对作为对象物的饮料容器30照射电子射线EB。 

另外，本发明的电子射线照射方法和电子射线照射装置不限于上述第八到第十一实施方式，只要不脱离本发明的主旨，就能够进行各种变形。 

例如，在上述第九和第十实施方式中，作为对象物以饮料容器30为例进行了说明，但是不限于此，例如，也能够应用于作为对象物的食品、水、医药品、中药、化妆品、饲料、肥料等或它们所使用的包装材料等。即，根据对象物的种类和形状，从复杂形状的立体物到平面状的薄膜都能够适当应用本发明。 

并且，在上述第八到第十一实施方式中，以对对象物进行杀菌的用途为例进行了说明，但是不限于此，也能够应用于杀菌以外的用途。 

并且，在上述第八到第十一实施方式中，以根据对象物的种类而预先决定腔室的外形形状为例进行了说明，但是不限于此，也可以具有能够根据对象物的形状来改变其内部形状的内部形状可变结构。作为这种内部形状可变结构的例子，具有构成外形的隔壁可滑动的组合结构。如果是这种结构，则根据对象物的形状，能够对应地适当改变腔室的内部形状。因此，能够进一步高效且均匀地对对象物照射电子射线。 

并且，在上述第八到第十一实施方式中，关于腔室内的氛围气，以使腔室1内成为低真空即负压状态，根据照射处理的需要，可代替净化空气或空气而封入比重轻的氦气的情况为例进行了说明，但是不限于此，例如，腔室内的氛围气可以是从空气、氧、氮、氢、二氧化碳、氩和氦中选择的一种或多种气体。即，根据对象物的种类和照射目的，适当选择腔室内的氛围气，能够将对象物周围的氛围气管理成规定状态。例如，  在降低由氛围气导致的能量损失的情况下，如上述示例所示，优选使用比重小的氦气等。

并且，在上述各实施方式中，当然可以适当选择各个结构相互进行组合。 

接着，对本发明第十二实施方式涉及的开口容器用电子射线照射装置进行说明。 

在该开口容器(饮料容器)用电子射线照射装置中，在具有降压单元以维持负压状态的照射处理槽(照射槽)的侧面部，将前压力调整槽(前预备室)和后压力调整槽(后预备室)结合成一体。在这些各槽内分别可旋转地配置旋转搬送体，在各旋转搬送体的外表面大致等间隔地设置保持开口容器的多个保持机构(机械手机构)，并且，可从前压力调整槽侧到后压力调整槽侧，在各旋转搬送体相互之间，依次交接开口容器。而且，在前压力调整槽和后压力调整槽内的旋转搬送体上分别突出设有多个隔壁，以划分各保持机构，在旋转搬送体移动时，利用各隔壁和槽壁面形成多个小分区。具有降压单元，该降压单元对该前压力调整槽中的从开口容器的搬入侧到照射处理槽侧的范围、以及后压力调整槽中的从开口容器的照射处理槽侧到搬出侧的范围的所述小分区进行降压，在所述照射处理槽中配置至少一个电子射线照射单元。 

本发明的开口容器用电子射线照射装置的原理如图15(a)所示，使用塑料制瓶(饮料容器)作为对象物即开口容器。与配置在中央的照射处理槽(照射槽)60的侧面部相邻地配置前压力调整槽(前预备室)61和后压力调整槽(后预备室)62，并将它们连接成一体。在这些各槽60、61、62内，可旋转地配置旋转搬送体11E、21E、31E，该旋转搬送体11E、21E、31E通过驱动机构同步地如箭头所示那样旋转，由此，在与各槽的外壁面之间，形成依次搬送开口容器30的环状的搬送路径。因此，在开口容器30的生产线中，成为按顺序配置与前处理生产线连接的前压力调整槽61、接着是照射处理槽60，最后是与后处理生产线连接的后压力调整槽62的状态。 

在各旋转搬送体11E、21E、31E的外表面等间隔地设置有多个保持开口容器30并进行搬送的保持机构(机械手机构)65，通过该保持机构  65，可在从开口容器30的前处理生产线到后处理生产线之间的各槽60、61、62内的旋转搬送体11E、21E、31E相互之间，在开口容器30的直立状态下依次顺利地交接开口容器30。 

为了对内部进行降压，照射处理槽60内构成为耐压的密封结构，在该照射处理槽60上连接有与包含真空排气装置69A的排气单元连接的配管68A，将搬送的开口容器30周围的氛围气维持在规定的负压状态。而且，在照射处理槽60内与成为电子射线照射室的搬送路径对应的部分，具有至少一个连接到电源的电子射线的电子射线产生室3。使用该电子射线产生室3，在维持了负压状态的照射处理槽60内，向成为电子射线照射室的搬送路径照射电子射线，连续地对搬送来的开口容器30进行灭菌处理。 

在电子射线产生室3中，在负压氛围气内对开口容器30的内外面照射电子射线来进行灭菌处理，所以，能够使用低能量的150kV以下的加速电压的电子射线。当照射处理槽60内成为被降压的状态时，大幅降低电子射线的衰减，所以，即使是低能量的电子射线，电子的射程(飞行距离)变长，而且，电子射线的发散量少，即使是细口的开口容器30，也能够有效地对内面照射电子射线。 

为了能够有效维持照射处理槽60内的负压状态，并良好地照射电子射线，对于与该开口容器搬入侧即前处理生产线侧和搬出侧即后处理生产线连接的前压力调整槽61和后压力调整槽62，本发明特别采取了措施。 

即，在前压力调整槽61和后压力调整槽62内的旋转搬送体21E、31E上，分别突出设有用于对各保持机构65之间进行划分的多个隔壁66，在旋转搬送体21E、31E旋转移动时，在各保持机构65的两侧的隔壁66和槽壁面之间，形成成为小室的多个小分区8、9。 

而且，在前压力调整槽61侧，为了对存在于从将开口容器30从前工序生产线取入的位置移动到照射处理槽60的范围内的多个小分区8进行降压，在该范围的壁面上，连接有与包含真空排气装置69B的排气单元连接的多根配管68B。由此，将开口容器30从前工序生产线搬入前压力调整槽61后到照射处理槽60的范围的小分区8，能够被有效地管理为作为从大气压到期望的负压的状态的压力调整范围。 

并且，在后压力调整槽62侧，为了对形成于将开口容器30从照射处理槽60移动到后工序生产线的位置的范围内的小分区9进行降压，同样，在该范围的壁面上，连接有与包含真空排气装置69C的排气单元连接的多根配管68C。因此，将开口容器30从照射处理槽60搬出到后压力调整槽62的后工序生产线的范围的小分区9，相反能够被有效地管理为作为从期望的负压到大气压的状态的压力调整范围。 

另外，多根配管68B、68C通过构成为越靠近照射处理槽60其配管直径越大，或者增加连接的配管的数量，从而能够有效地进行降压，能够降低真空排气装置69A的容量，并顺利地进行前压力调整槽61和后压力调整槽62的压力改变。并且，关于前压力调整槽61和后压力调整槽62中的小分区9的降压范围，根据需要，在上述的相反侧、即在前压力调整槽61中从照射处理槽60移动到前工序生产线的范围的小分区9、和后压力调整槽62中从照射处理槽60移动到后工序生产线的范围的小分区9，都能够设置排气单元来进行降压。 

用于形成小分区8、9的各隔壁66如图15(b)所示，设置成与各槽61、62的外壁之间具有微小的间隙G。在从照射处理槽60到前压力调整槽61和后压力调整槽62的大气开放侧的各范围内，存在多个隔壁66。因此，多个隔壁66与迷宫环式密封结构的作用相同，从照射处理槽60到作为大气压的外部的流路阻力增大，所以无需特别使用密封部件等，就能够维持照射处理槽60的负压状态。当然，在照射处理槽60中设置的排气单元的真空排气装置69A的容量为估计了泄漏量的容量，由此，能够将照射处理槽60内部维持在预先确定的负压状态的范围内。 

并且，在照射处理槽60、前压力调整槽61和后压力调整槽62部分，例如使用干式真空泵，并连接来自具有适当的过滤器的清洁空气产生装置54的配管67，向内部提供清洁空气。另外，可以代替清洁空气产生装置54，为了成为能够良好地照射电子射线的气体氛围气，而连接提供氮气或氦气等或它们的混合气体的各种气体供给装置。 

在上述结构的开口容器用电子射线照射装置中，从前工序生产线以直立状态被送入各前压力调整槽61的开口容器30依次从前压力调整槽61经过照射处理槽60，从后压力调整槽62搬出到后工序生产线，但是，在中途的照射处理槽60部分的负压氛围气内，接受通过来自电子射线产生室3的电子射线照射进行的灭菌处理。此时，当前压力调整槽61内的旋转搬送体21E顺时针方向旋转时，在从将开口容器30从前工序生产线取入到前压力调整槽61的位置到接近照射处理槽60的范围内形成的、在内部保持开口容器30的小分区8，通过排气单元，成为从大气压逐渐被降压的状态，当移动到照射处理槽60内的旋转搬送体11E时，成为与照射处理槽60大致相同的负压。 

并且，相反，当后压力调整槽62内的旋转搬送体31E顺时针方向旋转时，在与将开口容器30从照射处理槽60排出到后工序生产线的排出位置接近的范围内形成的、在内部保持开口容器30的小分区9中，通过排气单元，成为从照射处理槽60内的负压状态逐渐接近大气压的状态，在将开口容器30排出到后工序生产线侧的时刻，成为大气压。 

因为如上所述构成开口容器用电子射线照射装置，所以，在照射处理槽60、前压力调整槽61和后压力调整槽62中，能够适当地独立管理各槽内部的压力，在维持成负压的照射处理槽60内，使用低能量的电子射线产生室3，能够有效地使用电子射线进行开口容器30的灭菌处理。 

进而，在该开口容器用电子射线照射装置中，一体地连接照射处理槽60、前压力调整槽61和后压力调整槽62，能够利用各槽内部的旋转搬送体，以直立状态依次高速地搬送各开口容器，各开口容器在设于照射处理槽60中的区域内，接受电子射线的照射，所以，能够连续地进行在组装到饮料等的生产线中的开口容器的灭菌处理。并且，因为构成为使各旋转搬送体11E、21E、31E旋转，并以直立状态搬送开口容器30，所以不需要施加多余的力，搬送机构部分的损耗小，所以能够在生产线中长时间使用。 

图16和图17示出本发明的具体的开口容器用电子射线照射装置的结构例。在该例中，照射处理槽60的直径形成得比一体地连接的前压力  调整槽61和后压力调整槽62大。而且，在该大的照射处理槽60中，在与成为开口容器的搬送路径的位置对置的上面部分的圆弧状的范围内，配置多个电子射线产生室3，并分别连接到电源(未图示)。因此，各开口容器在照射处理槽60内搬送的过程中，在安装了各电子射线产生室3的宽范围中，接受电子射线的照射灭菌处理。 

照射处理槽60、前压力调整槽61和后压力调整槽62在连接成一体的状态下，配置在架台17上，并且，在架台17部分配置有同步驱动各槽内60、61、62的旋转搬送体11E、21E、31E的电动机或轮等驱动机构118。旋转搬送体11E、21E、31E形成为扁平的中空鼓状，或在支承臂上安装圆形框而形成。 

并且，安装在照射处理槽60的上部的各电子射线产生室3例如如图18(a)的纵剖面图和(b)的正视图所示，在成为10^-5Pa这种高真空状态的电子射线产生室3内，配置有多个电子射线单元3a。从形成为圆形或狭缝状的电子射线照射窗5，朝维持成负压状态的下方的作为电子射线照射区域60b的搬送路径，照射由电子射线单元3a部分产生的电子射线EB，对由旋转搬送体11E的各保持机构65所保持而移动来的各开口容器30的内外面实施灭菌处理。 

各电子射线产生室3具有至少一个电子射线单元3a，将它们按顺序安装在照射处理槽60的上部。而且，在与各电子射线产生室3对置的位置的照射处理槽60内的作为电子射线照射区域60b的搬送路径部分，配置有用作使来自电子射线产生室3的电子射线EB偏转的电子射线偏转单元的电子射线偏转器145。这些电子射线偏转器145位于与各电子射线产生室3的电子射线单元3a对置的位置、且与开口容器30的高度方向不同的位置上。这样配置电子射线偏转器145时，即使从上方照射电子射线EB时，也能够良好地对开口容器30的高度方向的整个面进行照射。电子射线偏转器145使用永久磁铁，适当地使电子射线EB偏转，对配置位置进行研究，以便能够有效地对开口容器30的整个面进行照射。 

在各保持机构65的上方，设置同样由旋转搬送体11E支承的保护板146，在该保护板146上安装有永久磁铁制的环状的电子射线收束器147，其形成有用于使电子射线EB通过的小孔。通过这样设置保护板146和电子射线收束器147，即使开口容器30的饮用口的头部形状很细，电子射线EB也能够良好地进入到内部，进行照射灭菌处理。另外，保护板146配置在开口容器30的头部附近的特定位置，以防止过多地照射电子射线。因此，保护板146的表面接受电子射线EB的照射而发热，所以，利用铜或铝等热传导性好的材料制作，在进一步需要发热对策时，设置冷却管等冷却单元。

并且，在本发明中，如图19(a)和(b)所示，特别对在旋转搬送体11E上设置的保持机构65部分的结构下了工夫，在保持机构65部分设置使开口容器30自转的自转机构150。通过该自转机构150，能够在照射电子射线EB时使各开口容器30旋转，不需要特别的装置，就能够利用电子射线EB更加均匀地照射开口容器30的内外面。 

具体说明该保持机构65，在固定于旋转搬送体11E的表面上的支承框104的两侧，利用基于一对夹紧把手149的连接机构，可旋转地进行保持。在作为连接机构的两个夹紧把手149的前端部设置夹持开口容器30的辊106，在内侧端部也设置辊107。而且，利用压缩弹簧108连接两个夹紧把手149双方，内侧的辊107与在夹持开口容器30的范围内设置的夹紧导轨109卡合，当在没有用于交接开口容器30的夹紧导轨109的部分卡合解除时，两个夹紧把手149的前端侧因压缩弹簧108的力而张开，解除对开口容器30的保持。 

在该例中，使开口容器30自转的自转机构150由以下部分构成：配置在支承框104的下表面，通过与夹紧导轨109卡合而旋转的驱动圆板151；与辊106、107协作来保持开口容器的开口容器驱动辊152；架设在驱动圆板151和开口容器驱动辊152之间的驱动传送带等连接驱动单元153。由此，经由驱动传送带53将驱动圆板151的旋转力提供给驱动辊152，一边搬送移动，一边使开口容器30自转，能够利用通过具有电子射线照射窗5、电子射线收束器147、作为冷却单元的水冷管148等的保护板146到达的电子射线EB，均匀地对开口容器30的表面进行照射，能够良好地进行灭菌处理。 

图20示出作为电子射线偏转单元的电子射线偏转器145的配置例，在该例中，电子射线偏转器145使用永久磁铁。各电子射线偏转器145如图20(a)所示，研究了如下配置等：配置成永久磁铁的N极和S极在开口容器30的内侧和外侧对置，或者，配置成棒状的永久磁铁的N极和S极在内侧和外侧在周向上错开，或者，配置成棒状的永久磁铁的N极和S极在两侧对置而并列配置。 

通过这种配置，如图20(a)、(b)所示，从图的上方照射的电子射线EB的偏转方向相对于开口容器30的中心轴，分别向角度不同的圆周方向弯折，所以，能够更好地对开口容器30的内外面进行灭菌处理。 

产业上的可利用性 

如以上说明的那样，根据本发明，能够提供即使是低能量的电子射线，也能够对对象物高效且均匀地照射电子射线的电子射线照射方法和电子射线照射装置。 

进而，根据本发明，能够提供即使是低能量的电子射线，也能够抑制电子射线的能量消耗的电子射线照射方法和电子射线照射装置，以及能够在抑制电子射线的能量消耗的同时，连续地照射电子射线的电子射线照射装置。 

并且，根据本发明，提供能够组装到高速搬送开口容器的生产线中，并且能够使用低能量的电子射线产生单元，在维持负压的照射处理部内，通过电子射线有效地对开口容器进行灭菌处理的开口容器用电子射线照射装置。 

并且，根据本发明，提供适当地配置多个电子射线产生单元，能够利用各电子射线产生单元的电子射线，适当地对以与生产线大致相同的高速搬送过程中的各开口容器的内外面进行灭菌处理的开口容器用电子射线照射装置。 

Claims (17)

1.一种开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，该开口容器用电子射线照射装置构成为，在具有降压单元来维持负压状态的照射处理槽的侧面部一体地结合设置前压力调整槽和后压力调整槽，在各所述槽内分别能旋转地配置旋转搬送体，在各所述旋转搬送体的外表面大致等间隔地设置用于保持开口容器的多个保持机构，并且，能够从前压力调整槽侧到后压力调整槽侧，在各旋转搬送体相互之间依次交接开口容器，在所述前压力调整槽和后压力调整槽内的旋转搬送体上分别突出设有多个隔壁，以划分各保持机构，在旋转搬送体移动时，利用各所述隔壁和槽壁面形成多个小分区，该开口容器用电子射线照射装置具有降压单元，该降压单元对从所述前压力调整槽中的开口容器的搬入侧到照射处理槽侧的范围、以及从后压力调整槽中的开口容器的照射处理槽侧到搬出侧的范围的所述小分区进行降压，在所述照射处理槽中配置有至少一个电子射线照射单元。

2.根据权利要求1所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，在沿着所述照射处理槽的开口容器的搬送圆弧的位置上配置有多个电子射线照射单元。

3.根据权利要求1所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

所述照射处理槽形成为其直径比所述前压力调整槽和后压力调整槽大，在所述照射处理槽的上部排列有多个所述电子射线照射单元。

4.根据权利要求1所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

在成为电子射线的电子射线照射室的所述照射处理槽内，在与所述至少一个电子射线照射单元对置的位置、且照射电子射线的开口容器的高度方向的不同位置上，分别配置使电子射线偏转的电子射线偏转单元。

5.根据权利要求4所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

多个所述电子射线偏转单元配置成使电子射线的偏转方向相对于开口容器的中心轴向角度不同的圆周方向弯折。

6.根据权利要求1所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

在设于所述照射处理槽内的旋转搬送体上的多个保持机构部分分别设置有自转机构，该自转机构利用伴随旋转搬送体的移动而产生的旋转驱动力使开口容器自转。

7.根据权利要求1所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，该开口容器用电子射线照射装置具有：

电子射线照射单元，其对设置对象物的电子射线照射区域内照射电子射线；以及

磁场屏障形成单元，其形成将在所述电子射线照射区域内产生的多个磁场连接起来而包围所述对象物的磁场屏障，

所述磁场屏障形成单元具有多个磁场产生体，该磁场产生体配置成包围所述电子射线照射区域内的对象物，并分别产生所述磁场。

8.根据权利要求7所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

所述磁场屏障形成单元通过会切磁场或磁镜场形成所述磁场屏障。

9.根据权利要求7所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

所述磁场屏障形成单元调整产生的磁场的强度，改变所述磁场屏障内的电子射线的反射距离和反射方向中的至少一方。

10.根据权利要求1所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

所述电子射线照射单元设置在能够维持内部压力的电子射线产生室内，所述照射处理槽构成为能够独立于所述电子射线产生室来维持其内部压力，并与所述电子射线产生室相邻，

进而，所述开口容器用电子射线照射装置还具有压力管理单元，该压力管理单元将所述电子射线产生室内管理成第一负压，并且将所述照射处理槽内管理成绝对压力比所述第一负压高的第二负压。

11.根据权利要求10所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

所述压力管理单元通过改变所述第二负压的高度来改变电子的发散程度。

12.根据权利要求10所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

设置在所述照射处理槽的侧面部的前压力调整槽和后压力调整槽构成为能够独立维持内部压力，

所述压力管理单元构成为独立于所述照射处理槽来管理所述前压力调整槽和后压力调整槽的内部压力。

13.根据权利要求12所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

改变所述前压力调整槽和后压力调整槽内的压力，以便与所述第二负压的高度相符。

14.根据权利要求10所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

所述照射处理槽内的氛围气是从空气、氧、氮、氢、二氧化碳、氩和氦中选择的一种或多种气体。

15.根据权利要求12所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

所述前压力调整槽和后压力调整槽在搬送方向上连续设置有多个，相邻的压力调整槽被具有旋转式的门和迷宫环式密封结构中的至少一方的隔壁相互分开。

16.根据权利要求10所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

作为管理所述第二负压时所使用的泄漏气体，所述前压力调整槽、照射处理槽和后压力调整槽被供给满足无尘和无菌中的至少一个条件的净化空气。

17.根据权利要求10所述的开口容器用电子射线照射装置，其特征在于，

所述前压力调整槽、照射处理槽和后压力调整槽能够分别多阶段地进行压力控制，并构成为使气流向期望的方向流动。

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