TW418452B - Coating process - Google Patents

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4184 52 at B7 五、發明説明6 ) (發明之背景） 本發明係關於一種將塗佈液塗佈於如液晶顯示器（ L C D )用玻璃基板之基板來形成如光阻膜或反射防止膜 之塗膜的塗佈方法。 在L C D之製程與半導體裝置之製程同樣地利用光刻 技術。在L C D之光刻法，係在玻璃基板上形成光阻塗膜 ，將此施以圖案曝光後再顯像•然後，選擇性地蝕刻形成 在基板的半導體層，絕緣體層及電極層，俾形成I TO ( Indium Tin Oxide )之薄膜或電極岡案等。 在L C D基板塗佈光阻液時，則利用所謂旋轉塗佈法 ，在旋轉塗佈法使用揭示於例如美國專利第 5，6 8 8，3 2 2號公報的塗佈裝置β在此種塗佈裝置 中，以旋轉夾頭吸附保持L C D基板，而在基板滴下滴劑 及光阻液，以蓋蓋住旋轉杯之上^開口，並將旋轉夾頭與 -旋轉杯予以同步旋轉。此時，以泄杯接受從基板向周圍飛 散之液滴或霧。液滴等之液體成分係經由複數之排液管排 出至杯外部。而霧等之氣體成分係經由複數之排氣管排出 至杯外部。 然而，由於各排氣管係分別開口在泄杯之外周部，因 此首先存在於排氣管之開口部（排氣口）近旁的霧被局部 排氣，然後排氣領域才逐漸地在杯內部放大，而不容易迅 速地排氣杯內部的全領域。 近年來，L CD基板之尺寸係從6 5 0 X 5 5 Ό mm 變成8 3 0 X 6 5 0 mm之大型化。今後，基板之大型化 (ϊί先閱请背面之注項再功寫本瓦) 裝·

*1T 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS > A4規格（2]0X297公釐） -4- “8452 at Β7 五、發明説明G ) 更進步時，若在基板塗佈光阻液時則發生多量之霧，由於 介經該霧使光阻塗膜容易被污染。因此，期盼更提高性能 。特別是，基板G之旋轉停止前後係排氣變成不充分，而 介經塗佈液使光阻塗膜容易被污染。 又，隨著霧發生量之增大化使霧在泄杯內無法充分地 氣液分離，由於在氣液混合之狀態下被排出至排氣管，因 此，進入排氣管之霧成爲最多。 (發明之槪要） 本發明之目的，係在於提供一種塗佈液之霧不會污染 基板上之塗膜的塗佈方法 發明人係得到單純地增加杯內之排氣量時，介經排氣 之氣流之影響會增大而在L C D基板之表面形成均勻之光 阻塗膜較難，特別是，在大型之L CD基板有光阻塗膜之 膜厚散亂變大等之知識。如此，本發明人係刻意硏究結果 ，完成以下所述之本發明。 本發明之塗佈方法，屬於具備上部開口及排氣口的杯 部內側將塗膜形成於基板的塗佈方法，其特徵爲具備：（ a )經由上述上部開口將基板搬入杯部內*介經旋轉夾頭 來保持基板的過程，及（b )經由上述排氣口一面排氣杯 部內一面將塗佈液供應於基板的過程，及（c )經由上述 排氣口一面排氣杯部內一面介經旋轉夾頭來旋轉基板；擴 散在上述過程（b )所供應之塗佈液而在基板表面形成塗 膜的過程，及（d )停止基板之旋轉，將具有塗膜之基板 本紙張尺度述扣中國國家榇準（CNS ) Λ4規格（210Χ297公釐） -'6 --/k (誚先閱讀背面之注意事項再功寫本頁)

ίίίΛ·:郝中戎讣ίΐ·^·.=ί.τ^ίί:,合竹W印纪 418452 at _ _B7_.一 五、發明説明6 ) 搬出至杯部外的過程，及（e )爲了從杯部排出在上述過 程（c )所產生的塗佈液之霧，在上述過程（c )或上述 過程（d )之間，變更上述杯部之排氣成此上述過程（b )及（c )之排氣量中之任一較大者更大的排氣流量的過 程。 又，上述杯部係具備圍繞基板之內杯，及圍繞該內杯 而分別連通於該內杯及上述排氣口，且具有氣液分離材的 外杯；在上述過程（e)，介經氣液分離構件將包括從內 杯所排出之塗佈液之霧的排出物分.離成液體成分與氣體成 . 1 分，再經由排出口排出塗佈液之霧者。 又，在上述過程（c )中，將蓋覆蓋於杯部而將上部 開口成爲關閉之狀態，上昇基板：將基板近接對面於蓋： 同時將基板位於比排氣口較高之位置較理想。 又，在上述過程（e )中，一面上昇蓋一面上昇基板 -較理想。此時，將基板之上昇速度成爲比蓋之上昇速度快 速較理想》 % 又，在上述過程（b) ，( c ) ，（e)中，分別與 基板之旋轉方向相反方向，且經由上述排出口從上述杯部 向外周方向排氣較理想。 本發明之塗佈方法，屬於具備上部開口及排氣口的杯 部內側將塗膜形成於基板的塗佈方法，其特徵爲具備：（ a )經由上述上部開口將基板搬入杯部內*介經旋轉夾頭 來保持基板的過程，及（b )經由上述排氣口一面排氣杯 部內一面將塗佈液供應於基板的過程，及（c )經由上述 (郄先閱讀背面之注f再硪艿本萸) 訂 :li 一 :_.一 本紙張尺度通用中囡國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -6 - ;ί.·:;;?;..-=ί·中泱^.^-^Jh η 消於合竹.Μ卬 Ϊ?. 418452 at ______B7 _ 五、發明説明备) 排氣口一面排氣杯部內一面介經旋轉夾頭來旋轉基板；擴 散在上述過程（b )所供應之塗佈液而在基板表面形成塗 膜的過程，及（d )停止基板之旋轉，將具有塗膜之基板 搬出至杯部外的過程，及（e)爲了從杯部排出在上述過 程（c )所產生的塗佈液之霧，在上述過程（c)或上述 過程（d )之間，變更上述杯部之排氣成此上述過程（b )及（c )之排氣量中之任一較大者更大的排氣流量的過 程，（h)在上述過程（c)中，在旋轉基板之期間，上 昇基板成位於比上述排氣口較高之.位置的過程。 又，在上述過程（h)中，一面上昇蓋一面上昇基板 較理想。此時|將基板之昇速度成爲比蓋之上昇速度快 速較理想。又，將基板近接對面成在基板與蓋之間形成有 狹窄間隙較理想。又，爲了將在過程（c )所產生之塗佈 液之霧從杯部排出，而在.過程（c )或過程（d )之期間 ，將杯部之排氣變更成比過程（b)及（c)之排氣量中 之任一較大者更大之排氣流量較理想。 - 又，經由上述排氣口將塗佈液之霧引導至排氣流路成 爲與基板之旋轉方向相反方向也可以》此時，複數排氣口 係對稱地於基板之旋轉中心，且各排氣口係外杯周方向之 徑比外杯軸向之徑較大較理想。 在本發明中，由於從排氣口流進排氣管的流體（霧） 之流動成爲與基板之旋轉方向相反方向，而將排氣管連通 於排氣口。因此，霧不容易.直接流進排氣管內。又在本發 明中，由於介經將排氣管連通於外杯之外周壁之下部，與 本纸張尺度述用中國國家標準（CNS)A4規格（2丨0X297公麈） --1------ο裝-- a {ΐίίι閱读背面之注意事項再填穷本頁) 訂

-I 418452 A7 B7 五、發明説明6 ) 氣液分離構件一起形成互相不同之流路，因此，防止霧直 接進入排氣管，成爲更促進霧之氣液分離。 又，由於外排氣口係形成外杯周方向之徑比外杯軸向 之徑較大，因此，排氣口對於外杯（泄杯）之開口面積擴 大，使霧從外杯之排出成爲順利，結果，基板之周圍環境 氣氛迅速地成爲淸淨之狀態》 (發明之實施形態） 以下，二面參照所附圖面一面.說明本發明之各種較佳 實施形態。 如第1圖及第2圖所宗，塗佈顯像處理系統1，係具 備裝載/卸載部2，及第1處理部3，及第2處理部4， 及第3處理部5，及介面部6。該處理系統1係具備在 L C D基板G塗佈光阻液，並用以顯像光阻塗膜之各種處 '理機構，經由介面部6被連結於曝光裝置7。 裝載/卸載部2係具備向X軸方向分別延伸的^卡匣載 置台10及搬送部11β在卡匣載置台1〇並排載置有最 大四個卡匣C1，C2。其中之兩個卡匣C 1收容有處理 前之L CD基板G，而其他之兩個卡匣C 2收容有處理後 之L CD基板G。在各卡匣c 1，C 2可收容有例如最大 至25枚之LCD基板G。 在裝載/卸載部2之搬送部11設有第1副壁機構 1 3 °該第1副臂機構1 3係具備：將基板G用以進出在 卡匣Cl ’ C2的保持具，及將該保持具加以前進或後退 {邻先閱讀背面之注意事項再"巧本頁) 丁， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -8- 418452 A7 B7 五、發明説明G ) 的進退驅動機構，及將保持具移向X軸方向的X軸驅動機 構’及將保持具移向Z軸方向的Z軸移動機構，及將保持 具旋轉搖動在Z軸周圍的0旋轉驅動機構。 第1處理部3係具備：向y軸方向延伸的中央搬送路 1 5A，及設成可沿著該搬送路1 5A行走的第1主臂機 構14A，及複數處理單元16，17，18，19 »在 搬送路1 5A之一方側配置有兩個濕式洗淨單元1 6。該 單元1 6係具備一面在基板G施加洗淨處理液一面以旋轉 刷洗滌洗淨基板G之表面所用的刷洗滌器SCR»在搬送 路1 5 A之另一方側配置有加熱單元1 7，乾式洗淨單元 1 8，冷卻單元1 9。加熱單元1 7，係具備用以加熱基 板G之上下兩段的熱板HP 1。乾式洗淨單元1 8係具備 在基板G照射紫外線而用以洗淨基板G之表面的紫外線洗 淨裝置UV。冷卻單元1 9係具備用以冷卻基板G的淸洗 '板C0L1。第1主臂機構14A係具備：保持基板G的 保持具1 4 a，及將該保持具加以前進或後退的進退驅動 機構，及將保持具1 4 a向Z軸方向的Z軸移動機構，及 將保持具1 4 a搖動在Z軸周圍的0旋轉驅動機構。 第2處理部4係具備：向Y軸方向延伸的中央搬送路 1 5 B，及設成可沿著該搬送路1 5 B行走的第2主臂機 構14B，及複數處理單元21，24，25，26。在 搬送路1 5 B之一方側配置有光阻塗佈/周緣光阻除去單 元2 1。該單元2 1係具備：一面自旋轉基板G —面塗佈 光阻液的塗佈裝置CT，及從基板G之周緣部除去光阻塗 (誚先閱讀背面之注意事項再蛾寫本瓦) 裝· 订 本纸張尺度速用中國國家標準（CNS ) A4规格< 2丨0X297公釐） . 4 1θ4 5 2 A7 B7 五、發明説明t ) 膜的周緣光阻除去裝置ER。在搬送路1 5 B之另一方側 配置有黏接/冷卻單2 4，加熱/冷卻單元2 5，加熱/ 加熱單元2 6。黏接/冷卻單元2 4係具備介經HMD S 之蒸汽疏水化處理基板G之表面的黏接裝置AD，及冷卻 基板G的淸洗板COL 3 »加熱/冷卻單元2 5係具備加 熱基板G的熱板HP 2，及冷卻基板G的淸洗板COL 3 。加熱/加熱單元2 6係具備加熱基板G之上下兩段的熱 板 Η P 2。 第3處理部5係具備：向Υ軸;方向延伸的中央搬送路 1 5 C，及設成可沿著該搬送路'1 5 C行走的第3主臂機 構14C，及複數處理單先28，29，30，31， 32，33，34=在搬送路15C之一方側配置有三個 顯像單元28，29，30。各單元28，29，30係 具備在基板g施加顯像液而用以i像處理光阻塗膜的顯像 •裝置DEV。在搬送路1 5 C之另一方側配置字幕攝影機 (Titler ) 3 1，加熱/加熱單元3 2，加熱/冷i單元 33，34。又，第2及第3主臂機構14B，14C係 與上述之第1主臂機構1 4A實質上相同。又，在第1處 理部3與第3處理部5之間設置冷卻單元2 7。此等冷卻 單元2 0，2 7係也使用於用以暫時待命等待處理之基板 G » 介面部6係設於第3處理部與曝光裝置7之間。介面 部6係具備搬送/待命部3 6及交接部3 7。在搬送/待 命部3 6設有第2副臂機構3 5及兩個緩衝卡匣B C。第 -10- (誚先閱讀背面之注意事項再蛾寫本頁) 本紙張尺度適州中囡國家標準（CNS ) A4規格（210X297公麓） 4184 5.2 Α7 Β7 五、發明説明台) 2副臂機構3 5係與第1副臂機構1 3實質上相同者。在 各緩衝卡匣B C收容有等待處理之基板〇 >在此，基板G 係成爲暫時性待命之狀態。在交接部3 7設有交接合（未 予圖示），經由該交接台基板G在曝光裝置7之搬送機構 (未予圖示）與第2副臂機構3 5之間實行交接之狀態。 以下，一面參照第3圖及第7圖一面說明光阻塗佈/ 圖緣塗膜除去單元2 1。 如第3圖所示，單元2 1係具備光阻塗佈部2 1 A ( CT)及周緣塗膜除去部2 1 B B R )。在單元2 1之 正面壁形成有兩個開壁口（未予圖示），成爲基板G經由 一方之開閉口搬進光阻塗佈部2 1A，而基板G從周緣塗 膜除去部2 1 B經由另一方之開閉口被搬出。又，在光阻 塗佈裝置2 1 A與周緣塗膜除去部2 1 B之間設有移送機 構1 0 0，成爲基板G從光阻塗佈裝置2 1 A移送至周緣 -塗膜除去部2 1 B ^ ^:"部中"^^^八5消1合作""^ 如第4圖所示，光阻塗佈裝置2 1 A係具備：~旋轉夾 頭40，及蓋42，及內側之旋轉杯41，及外側之泄杯 43，及光阻液供應機構60。旋轉夾頭40係具備：用 以吸附保持基板G的真空吸附機構40c，及旋轉基板G 的旋轉驅動機構4 0 d «圍繞旋轉夾頭4 0之周圍地設有 旋轉杯41 ·又，圍繞旋轉杯41設有泄杯43 »蓋42 可覆蓋旋轉杯4 1之上部開口。在泄杯4 3之底部4 3 b 安裝有複數排液管43 f，成爲霧與廢液經由此等排液管 43 ί排出至回收再生裝置（未予圖示）。塗佈液供應機 -11 - {誚先聞讀背面之注意事項再峨巧本頁) 本紙張尺度適州十囡國家標準（CNS ) A4iit格（210Χ297公嫠） 418452 A7 ______B7______ 五、發明説明自) (誚先閲讀背面之注意事項再硪寫本 構6 0係具備：溶劑供應噴嘴6 1，及光阻液供應噴嘴 62，及水平臂63，及搖動機構64。兩具噴嘴61 ’ 6 2係介經共通之水平臂6 3被支撐，介經搖動機構6 4 使水平臂6 3搖動在垂直軸周圍時實行噴嘴6 1，6 2往 復移動主位置與使用位置之間。 ’ 如第3圖所示，周緣塗膜除去部2 1 B係具備：四具 溶劑吐出噴嘴8 3，及將各噴嘴8 3沿著導軌8 1分別掃 描移動的掃描移動機構8 2，及吸附保持基板G的載置台 80。又，爲了防止噴嘴83彼此..間之互相干擾而將接近 察覺器8 4設於適當部位。又，作爲回收溶劑並再利用之 手段，係具備淨化器9 3與儲存槽9 4 »淨化器9 3係內 設從吸引排氣物用以分離溶劑成分並予以淨化的過濾器。 儲存槽9 4係暫時儲存在淨化器9 3被淨化的溶劑者。該 儲存槽9 4係內設將溶液供應於光阻塗佈部2 1 Α之洗淨 •用噴嘴N1，N2，N3所用的泵甫- 在泄杯4 3內之適當部位配置有複數噴嘴Ν Γ〜N 3 。在噴嘴N 1係將溶劑從泄杯4 3之內側壁4 3 d噴射向 旋轉杯4 1，而在噴嘴N2係將溶劑噴射向外側壁4 3 e 之內側面及內側壁4 3 d之外側面，又在噴嘴N 3將溶液 噴射向旋轉杯4 1之周緣下面及內側壁4 3 d之內側面》 在各噴嘴N 1〜N 3成爲從槽9 4分別供應溶劑之狀 態。如第3圖所示，槽9 4係經由再生裝置9 3連通於周 緣塗膜除去部2 1 B的回收線9 5。再生裝置9 3係具備 吸引功能*氣液分離功能回液分離功能。如第7圖所示，

本紙张尺度適用十因^家標準（〇抓）八4規格（2]0乂297公楚) 7Z 418452 .- A7 B7 五、發明説明⑽） 回收線9 5係分別開口於溶劑供應噴嘴8 3之近旁。再生 裝置9 3係經由回收線9 5從基板G上吸引回收過剩溶液 與溶解物。又，再生裝置9 3係從回收物分離溶劑，並淨 化被分離之溶劑，並將此送置槽94。 以下，一面參照第4圖至第1 0圖一面更詳述光阻塗 佈部2 1 A。 在旋轉夾頭4 0之下部連結有旋轉驅動機構4 6之旋 轉軸4 0 d。該旋轉軸4 O d係經由真空封閉部4 0 c被 連結於昇降缸4 0 d，同時經由栓槽軸承D 6可搖動地被 支撐在旋轉杯41之下部。 又，在栓槽軸承D 6裝設有從動滑車D 5 A，皮帶 D 4 A繞掛於該從動滑車D 5 A與驅動滑車D 3之間。驅 動滑車D 3係安裝於馬達D 1之驅動軸D 2 »又，旋轉夾 頭.4 0係介經昇降缸4 〇 d支撐成昇降自如之狀態。 ' 設有旋轉杯4 1成爲包圍旋轉夾頭4 0之上部之外周 部之狀態。在旋轉杯4 1之內部形成有用以處理基__板G的 處理室（處理空間）4 9，而在旋轉杯4 1之下面4 1 a 中央形成有開口 4 1 d。旋轉夾頭4 0係從該開口 4 1 d 插入在處理室4 9中。 旋轉杯之下面4 1 a經由連結筒口 1 2連結於旋轉外 筒D 7之上端部，而該旋轉外筒D 7係經由軸承D 9連結 於固定軸環D 8。固定軸環D 8係經由軸承D 1 0連結於 旋轉內筒D1 1，又，旋轉軸4〇b係經由栓槽軸承d 6 連結於旋轉內筒D 1 1 »又，在固定軸環d 8與旋轉內筒 本紙张尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公楚） -'ο (誚先閲讀背面之注意事項再iAK*本頁)

4丨84 52 A7 B7 五、發明説明ήι ) D1 1之對向面，及固定軸環D8與旋轉外筒D7之對向 ..面，分別形成有摩擦封閉部（未予圖示），介經此等摩擦 封閉部防止在驅動機構所發生的粒子侵入至處理空間4 9 〇 在旋轉外筒D 7裝設有從動滑車D 5 B。在該從動滑 車D 5 B經由皮帶D 4 B形成旋轉驅動力從馬達D 1之驅 動滑輪D 3被傳動之狀態。附帶地說，從動滑車D 5 B之 直徑係相等於從動滑車D 5 A之直徑，且因兩者係藉由共 通之馬達D 1來旋轉驅動，因此，..旋轉夾頭4 0與旋轉杯 4 1同步旋轉。 旋轉杯4 1本身者係丰板狀有底開U圓筒容器，在此 具有收容基板G之大小，藉由驅動部4 6可高速旋轉》旋 轉杯4 1之底部中央，係成爲以旋轉夾頭4 0塞住之構造 ，又，側壁4 1 b，4 1 c之內周面係形成向上側縮徑的 '推拔面。又，在旋轉杯側周壁4 1 b之下部形成有複數排 出孔4 1 d，而液滴或霧從旋轉杯4 1經排出孔1 d排 出至泄杯4 3。 如第4圖所示，旋轉杯4 1之上部開口係介經蓋4 2 被塞住。該蓋4 2之周緣部係成爲無間隙地密接於旋轉杯 4 1之周緣部，形成外氣不會從周緣部侵入至旋轉杯4 1 之內部的氣密構造。在蓋4 2之中央近旁形成有複數供氣 孔4 2 a，成爲經由此等供氣孔4 2 a外氣被導進旋轉杯 4 1之內部。 在蓋4 2之下部安裝有整流板4 2 e。空氣係從供氣 本紙乐尺度適用中國國家標準（CNS)A4说格（210x297公金） · 14 - (誚先閱讀背面之注意事項再功本頁) '装 訂 418452 A7 B7 五、發明説明（12 ) 孔4 2 a導進處理空間4 9 ’沿著整流板4 2 e放射狀地 擴散，通過排出孔4 1 d而從處理空間4 9流至泄杯之氣 液分離部43g，43h，43 i。從該供氣孔42a向 排出孔41d之空氣氣流係具有將光阻液之液滴或霧從處 理空間4 9迅速且順利地排出的作用。又，由於供氣孔 4 2 a及排出孔4 1 d係防止旋轉杯4 1之內壓過度地成 爲負壓，因此，可從旋轉杯4 1容易地拆下蓋4 2。 以下，一面參照第9 A圖及第9 B圖一面說明蓋4 2 〇 軸4 2 b從蓋本體4 2m之中央部向上方延伸，而在 該軸4 2 b之上端安裝有韻部4 2 c。頭部4 2 c係呈圓 盤狀，而在其周緣下面安裝有三個扣合構件4 2 d »在扣 合構件4 2 d形成有凹所4 2 K。 在蓋本體4 2m與頭部4 2 c之間插入有活動托架 42 f。活動托架42 f係介經兩支水平臂47支撐成可 昇降之狀態。在活動托架4 2 f之中央開口有止鬆>L 42g，在該止鬆孔42g插入有軸42b。在活動托架 42 f之上面安裝有鎖緊銷42R。各鎖緊銷42R係分 別嵌入在扣合構件4 2 d之凹所4 2K，由此，活動托架 42ί係被鎖緊於蓋本體42m。 - 又，在活動托架4 2 f之上面經由支撐構件4 2 h安 裝有三個察覺器42 s，當蓋42裝設於杯42時（關閉 蓋時），如第9A圖所示，各察覺器42s係形成分別相 對向於頭4 2 c之外周端面》察覺器4 2 s係形成向頭 -15- {对先閱讀背面之注意事項再域巧本頁) 本紙張尺度述用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 托："部 f ,^"·;ΐ'^.Ή 费合 印欠 418452 A7 ____·__B7___ 五、發明説明b ) 4 2 c之側壁水平方向地射出檢測光，而來自頭4 2 c之 側壁的反射光入射至察覺器4 2 s。三個察覺器4 2 s係 分別將信號傳送至控制器9 0，而依照此等撿測信號，控 制器9 0係判定蓋4 2是否水平》亦即，若將蓋4 2裝設 於旋轉杯4 1時蓋4 2歪斜或偏位，則控制器9 0係判斷 仍繼續處理或是終止，而決定是否將指令信號發送至各處 理部。又，控制器9 0係將異常信號傳送至警報裝置（未 予圖示），並動作警報裝置。又，在表示於第9A圖之狀 態，由於鎖緊銷4 2 R係從扣合構件42 d被解除，因此 ，活動托架4 2 f及支撐臂4 7係在靜止狀態下，可將蓋 本體4 2m與杯4 1 一起旋轉。 一方面，從杯4 1抬高（打開蓋時）蓋42時，如第 9B圖所示，鎖緊銷42R嵌入在凹所42K，活動托架 4 2 f係被鎖緊在蓋本體4 2m。又鎖緊銷4 2 R與凹所 • 4 2 K之對位係藉由控制伺服馬達D 1之旋轉角度來實行 。又’蓋4 2係由銀所製成，而杯4 1，4 3係由如不鏡 鋼之耐蝕性金屬材料所製成。 泄杯4 3係呈環狀，形成接受從旋轉杯4 1所排出之 廢液或廢霧施以氣液分離，並將被氣液分離之各成分分別 排出至排洩裝置（未予圖示）或排氣裝置9 1或再生裝置 (未予圖示）。 如第4圖及第6圖所示，在泄杯4 3之內部形成有環 狀氣液分離流路43g，43h，43 i。該氣液分離流 路43g，43h，43 i係介經泄杯底部43 b及泄杯 本紙張尺度述用中國國家標準< CNS) A4規格（210X297公釐） (誚汔閱讀背而之注意事項再功巧本頁)

• 16 - 418452 A7 B7 五、發明説明（14 ) 頂壁部4 3 c及雨個垂直壁43 c，43 e被規定成迷宫 狀。一方之垂直壁4 3 d係從汲杯頂壁部4 3 c垂下，而 其下端部係在與泄杯底部4 3 b之間具有間隙*另一方之 垂直壁43 e係從泄杯底部4 3 b豎立，而其上端部係在 與泄杯頂壁部4 3 c之間具有間隙。又，在位於壁4 3 d 與壁4 3 e之間的底部4 3 b設有複數排液口 4 3 f。又 *在內側垂直壁4 3 d之上端部也形成有排氣通路4 3 j ，而介經來自上述排氣通路4 3 j之氣流來抑制在泄杯 43內之霧之飛揚。 附帶地，將對應於8 3 Ο X 6 5 Omm之基板G的塗 佈裝置2 1 A之各部分尺寸表示如下。泄杯4 3之外徑 L1係約1 300mm。泄杯43之高度H1係約220 m m。蓋4 2及旋轉杯（內杯）41之外徑L2係約 1 1 0 0mm。又，旋轉杯4 1之高度H2係約40mm 〇 如第5圖所示，四個排氣口 4 8係開口在泄杯外周壁 43a ，各排氣口48係經由排氣線70連通於排氣裝置 9 1之吸入側。在構成排氣線7 0的排氣管7 0 a之流路 7 0 b設有阻尼器7 1。各阻尼器7 1之驅動部的電源開 關係連接於控制器9 0之輸出側，隨著處理形成可調整各 阻尼器7 1之開度。排氣裝置9 1係連通於分離器9 2。 分離器9 2係形成從吸引排氣物分離抽出有效成分。光阻 液之霧之其中一部分係在泄杯4 3之氣液分離流路·4 3 g ，43h，43 j被液化，而其他部分係經由排氣口 48 {邻先閱讀背面之注意事項再功怒本K )

本紙张尺度適用中國國家操率（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -17- 418452 A7 £7__ 五、發明説明（15 ) ("先閱誚背面之注意事項再战巧本頁) 仍以霧之狀態下從杯4 3排出至排氣管7 0 a之流路 70b。如此，霧係介經分離器被氣液分離，只捕捉有效 成分β又，設置用以再利用分離抽出之有效成分的再生裝 置（未予圖示）也可以。 以下，一面參照第5圖及第6圖一面更詳述泄杯內之 排氣。 將光阻液供應於基板G，並將旋轉夾頭4 0及旋轉杯 4 1予以同步旋轉時，則從基板G分離光阻液而多量地產 生液滴之微粒子（霧）。該霧係經由排氣孔4 1 d從旋轉 杯4 1強有力地向泄杯4 3射出。由於該霧之射出速度係 達到高速度。因此，經由排氣口 4 S容易直接飛進排氣流 路中。特別是，由於在大型基板G有大離心力作用者。因 此，霧直接飛進排氣流路中，結果，在排氣口 4 8之正面 領域中霧密度較低，而在排氣口 4 8之周邊領域中霧密度 •變高。如此，當停止基板之旋轉時，則高密度之霧局部地 殘留在排氣口48之周邊領域- ~ 如此，在本實施例形態之裝置係爲了從泄杯4 3之全 領域普遍地迅速排出霧，對於泄杯以特別方向安裝排氣管 7 0 a。亦即，如第5圖所示，形成在泄杯4 3之外周部 4 3 a等間隔地開設四個排氣口 4 8，排氣管7 0 a之流 路7 Ob分別連通於各排氣口 4 8，並將該排氣流路 7 0 b之方向與旋轉杯4 1之旋轉方向（基板G之旋轉方 向）相反方向，且向外方排出。亦即，排氣管7 〇a係安 裝於泄杯之外周壁4 3 a成在與旋轉杯4 1之旋轉方向相 -18- 本紙張尺度適用中囤國家標準（CNS > A4規格（210X297公釐） 418452 A7 B7 五、發明説明纟6 ) 反方向地取進排氣。介經將排氣流路7 0 b形成此種方向 ，可大幅度提高泄杯4 3之內部的氣液分離效率，又有效 地阻止直接流進霧之排氣流路7 0 a。 又，由於排氣流路7 0 b之橫剖面形狀係接近真圓者 ，而排氣管7 0 a係沿著安裝於杯外周部4 3 a之切線， 因此，排氣口 4 8係成爲擬似橢圓形狀，此種擬似橢圓形 狀之排氣口 4 8的長徑係2 0 0〜3 0 Oxnm，短徑係 80〜100mm較理想。介經將排氣管7〇a安裝於泄 杯4 3。排氣口 4 8之數値孔徑量.被放大。結果，成爲在 廣範圍內可排氣泄杯4 3之內部β由此，泄杯4 3之內部 被迅速地排氣，而從旋轉杯4 1內可迅速地排出霧》 如第6圖所示，在本實施形態係比以往者將泄杯4 3 之深度Η 1加深外周壁4 3 a之高度分量。如此，加深泄 杯4 3之深度Η 1時，由於霧可流通之流路被擴張，因此 ' ，可更促進泄杯43內之氣液分離。又，更詳述之，在泄 杯4 3內之氣液分離流路中最後流路4 3 i ，排氣~口 4 8 係在下方開口，而排氣管7 0 a上端者比泄杯4 3之上端 4 3 c位於較低（有階段差之排氣流路）。因此，霧係沿 著內側壁4 3 d下降，沿著外側壁4 3 e上昇，經上部通 路43 j —旦碰到外周壁43a，不會從上部通路43 j 直接侵入至排氣流路7 0 b。由於在該外周壁4 3 a也促 進霧之氣液分離，因此，可減少在未氣液分離之狀態下直 接飛進排氣流路7 0 b之霧量。 在第7圖用以說明光阻塗佈部21A及周邊塗膜除去 本紙張尺度通用中國囷家標準（CNS ) A4说格（210X297公釐） —；------裝—— (对尤閱锖背而之注意事項4功巧本頁) 訂 ,ώ. 418452 A7 B7 _ 五、發明説明¢7 ) ("先閱讀背面之注意事項再球巧本頁} 部2 1 B之排氣將裝置模式地表示。光阻塗佈部2 1 A係 .具備四個單元排氣管7 0，而周邊塗膜除去部2 1 B係具 備四個單元排氣管95。經由此等單元排氣管70，95 並介經排氣光阻塗佈部2 1 A及周邊塗膜除去部2 1 B， 形成氣化之溶劑不會滯留在單元21內。 如第6圖所示，泄杯底部4 3 b係延伸至旋轉杯4 1 之內周部下方，而在互相非接觸之兩者4 1與4 3 b間存 在有間隙4 1 e。爲了霧不會經該間隙4 1 e而侵入至旋 轉驅動機構4 6側，調整機構5 0.係如圖示地安裝。亦即 ，安裝調整機構5 0使上端5 0 e與旋轉杯4 1之底部相 對向之狀態，形成比間隙'4 1 e更狹窄之間隙4 2 f。該 狹窄間隙4 2 f係設成數mm較理想。 如第1 0圖所示，調整機構5 0係具備：上部柱 50a，及下部台50b，及設於上部柱50a與下部台 50b之間的螺栓50c及螺帽50d。形成當對於上部 柱5 0 a相對旋轉螺拴5 0 e時，則對於下部台5'0 b變 更上部柱5 0 a之高度。由此，上端部5 0 e在不碰到旋 轉杯4 1之範圍，可將間隙42 f調整成儘量狹窄》該調 整機構5 0係基板G愈大型化愈必需者，附帶地，在以往 裝置係介經夾進整圈等構件而將間隙變狹窄，惟在本實施 形態之裝置係使用調整機構5 0而可簡單地將間隙變狹窄 〇 如第1 1圖所示，移送機構1 0 0係具備一對分岐臂 102。在分岐臂102之前端部安裝有夾頭103，由 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格{ 210X297公釐） · 2〇 - 4184S 2 矜："部中 1·ί;^Μ'',·5Ί-τ消贽合竹和卬^ A7 B7 五、發明説明纟8 ) 此，成爲基板G被吸附保持之狀態。如第1 2圖所示，夾 頭103係具備頂墊104，及真空孔105 ,及襯墊 1 0 6。在頂墊1 0 4形成有連通於真空孔1 〇 5之逐漸 擴展狀吸引孔。真空孔1 0 5係連通於配管1 0 7之流路 。介經此種夾頭1 0 3吸附基板G之背面周緣部》成爲保 持基板G。又，在大型基板G，由於有中間部分彎曲之情 形，因此在臂1 0 2之適當部位安裝中間支撐構件1 〇 8 ，由此，可支撐基板G之中間部分。 以下，1面參照第1 3圖至等..2 0圖一面說明LCD 基板G之一連串的光阻處理。 藉由副搬送臂1 3從卡匣c 1取出一枚基扳G (過程 S 1 )。將基板G從副搬送臂1 3交接至第1主搬送臂 1 4A。第1主搬送臂1 4A係將基板G搬送至刷洗淨單 元16，並將此洗滌洗淨（過程S2)。繼續地以純水淸 '洗基板G後，施以加熱乾燥（過程S3)。 然後，第1主搬送臂1 4 A係搬送至黏接單元'2 4， —面加熱基板一面作用HMD S蒸汽，將該表面施以疏水 化處理（過程S4)。之後，第1主搬送臂14A係將基 板G交接給第2主搬送臂1 4B，而第2主搬送臂1 4B 係將基板G搬送至冷卻單元2 5，俾冷卻基板G (過程 S 5 ) ° 第2主搬送臂1 4 B係從冷卻單元2 0搬出基板G， 並將此搬送至單元2 1。當第2主搬送臂1 4 B到達光阻 塗佈部2 1 A之前方時，則打開擋門（未予圖示），將基 ("1閱誚背面之注意事項再蛾巧本頁} '裝_ -丁 本紙乐尺度適扣中國國家標準（CNS ) Α4规格（210 X 297公嫠） -21 418452 A7 ___-__B7__ 五、發明説明（19 ) 板G搬進光阻塗佈部21A中》 打開蓋4 2，上昇旋轉夾頭4 0,將基板G從第2主 臂機構之臂保持具1 4 b移載至旋轉夾頭4 0上》退出臂 保持具1 4 b，關閉擋門》介經旋轉夾頭4 0吸附保持基 板G，下降旋轉夾頭40 (過程S6 1 1)。 之後，將塗佈液供應機構6 0從主位置移向使用位置 ，將噴嘴6 1位於基板G之中央正上方。一面低速旋轉基 板G，一面將溶劑（例如乙二醇一乙醚乙酸酯「E CA」 )從噴嘴6 1供應於基板G。關開..蓋42，同步旋轉基板 G與旋轉杯4 1。 打開蓋4 2，將噴嘴δ 2位於基板G之中央正上方， 並將光阻液從噴嘴6 2供應於基板G (過程S 6 1 2 ) » 關閉蓋42 (過程S6 13)，開始泄杯43之排氣之同 時，開始基板G及旋轉杯4 1之同步旋轉（過程S6 1 4 )。 第1 4圖係在橫軸取自開始基板G之旋轉之經"過時間 (秒），而在縱軸取基板G之旋轉速度（r pm)，表示 光阻塗佈處理中的基板之旋轉速度歷程的圖表。在開始旋 轉後違到所定旋轉速度Xi之後至時間Ti爲止之期間，將 基板G維持在所定之旋轉速度X:(過程S 6 1 4 )。在其 開始旋轉經過所定時間T i之期間，在基板G之表面形成有 均勻之膜厚的光阻膜（過程S615)。經所定時間丁：之 後，指令信號從控制部9 0輸出至驅動馬達〇1之電源電路 。而將旋轉夾頭4 0之旋轉從旋轉速度Χι減速至旋轉速度 (誚先閱讀背面之注意事項再•本R )

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐） -22- s.i ；Γ. il i/i 1ί· 竹 印 41845 ：418452 A7 B7 五、#明説明έο ) χ2 (過程S 6 1 6 )。由此，光阻塗膜之狀態比旋轉速度 Xi時更安定》以後，直到結束塗佈處理爲止，將基板G之 旋轉維持在旋轉速度X 2。 第1 7圖係在橫軸取自開始泄杯之排氣的經過時間（ .秒），在縱軸取杯排氣量（Nm3/min)，表示光阻塗 佈處理中的杯排氣量歷程的圖表。在此「杯排氣量」係指 合計四個排氣口 4 8的排氣量的總排氣量。從開始排氣至 時間T !之期間，維持所定之排氣量Y :(過程S 6 1 2〜 S 6 1 6 ) ^所定時間T i之後，指令信號從控制部9 0分 別輸出至排出裝置91之電源電路及阻尼器71之電源電 路，由此，杯排氣暈係從排氣量丫：增加至排氣量Y2 (過 程S 6 1 7 )。以後，直到結束塗佈處理爲止仍將杯排氣 量維持在排氣量Υ 2。 如此，介經將杯排氣量增加至排氣量γ2，處理室4 9 -之排氣功能被強化，從杯4 1，4 3中可將霧普遍地迅速 排出。又，在均勻地整理先阻塗膜之膜厚的過程：^由於將 杯排氣量在初期抑制在排氣量丫}，而在後期增加至杯排氣 童丫2，因此在形成光阻膜之膜厚的均勻性時不會有不良影 響。又，由於增加杯排氣量，同時減速旋轉夾頭4 0之旋 轉速度，因此，光阻塗膜之膜厚均勻性係更被維持》 又，如第1 9圖所示，上昇在處理室4 9內旋轉中之 基板G，而在比排氣口 4 8較高之位置將基板近接對面於 蓋42 (過程S6 18)。介經將蓋42與基板G之上面 之間的空間4 9 a予以變狹窄，在該空間4 9 a發生從基 {对先閱讀背面之注^一^項再蛾巧本頁) A—',裝. 訂 .1 本紙張尺度通用中囤國家標準（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐） •23- 418452 A7 B7 五、發明説明幻） 板G之中央部向周緣部的氣流* 從開始處理經過所定時間T2，如第1 4圖所示，停止 基板G之旋轉（過程S619)。如第16圖所示，上昇 蓋42之同時也上昇基板（過程S620 ) »此時，在過 程S 6 2 0，將基板G之上昇速度比蓋4 2之上昇速度較 大較理想。如此，防止霧從基板G之周緣部侵入至空間 4 9 a，可減低對於基板G之霧之附著量。又，基板G係 在旋轉中不會上昇，而在停止旋轉後才上昇也可以。 由於在所定時間丁：至！^之期間，霧從處理室49內 充分地排氣，因此，在處理室4 9內減少浮游霧。因此， 霧不容易附著於光阻塗膜‘，可大幅度地提高處理之良品率 。又由於介經杯/基板之同步旋轉，與基板G相對性之氣 流實質上幾乎不會發生在基板G之周圍，因此，形成一樣 膜厚之光阻塗膜。 又，基板G之旋轉速度的減速時點與杯排氣量之增加 時點並不一定相同。隨著處理之種類在降低基板（Γ之轉數 後也可增加杯排氣量，或其相反也可以。又，初期之基板 G之旋轉速度並不需要一定，隨著處理種類也可以任意地 變化。同樣地，杯排氣量也可以隨著處理種類任意地變化 〇 光阻塗佈處理後，打開蓋4 2，上昇旋轉夾頭4 0， 將基板G介經移送機構1 〇 0搬送至周緣塗膜除去部 21B。當基板G被搬入時，上昇載置台80，將基板G 從移送機構1 0 0移載至載置台8 0上，避開移送機構 {对先閱讀背面之注意事項再填寫本页) rk- 丁 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4规格（210X297公釐） -24- 4184 52 A7 ________B7_ 五、發明説明幻） 1 0 0，並下降載置台8 0。 · 一面沿著基板G之四邊分別移動各噴嘴8 3 —面分別 吐出溶劑，從基板G之周緣部除去光阻塗膜（過程S 7 ) 。上昇載置台8 0，介經第2主搬送臂機構1 4 B從載置 台80取下基板G，並將此從單元21搬出。 第2主搬送臂1 4 B係將基板G搬送至烘乾燥元2 6 ’將此予以加熱，從光阻塗膜揮發溶劑（過程S8)。之 後，將基板G搬送至冷卻單元2 7，並將此予以冷卻（過 程S 9 )。然後，經由介面部7而將基板G搬進曝光裝置 6，並介經曝光裝置6來圖案曝光光阻塗膜（過程S 1 0 ·’）。 " 曝光處理後，將基板G搬送至顯像單元2 8，顯像被 圖案曝光之光阻塗膜（過程S 1 1 )。又，以純水淸洗基 板G，施以加熱乾燥（過程S 1 2 )。又，將基板G搬送 至冷卻單元3 3，施以冷卻（過程S 1 3 )。經處理後之 基板G係交接給第1〜第3主搬送臂1 4Α，1 4_Β， 1 4 C及副搬送臂1 3，又，介經副搬送臂1 3收容於裝 載部2之卡匣C2內（過程S14)。如此，在最後，每 一卡匣C 2，基板G係從系統1被搬出，並搬送向下一過 程之處理裝置。 以下，一面參照第1 8圖至第2 0圖一面說明其他之 實施形態。又，省略該實施形態與上述實施形態共通部分 之說明。 - 表示於第1 8圖之流程圖的過程S 6 4 1，過程 --I---^---广裝-- (对先閱讀背面之..¾意寧項再功朽本頁) 订 i 本紙張尺度適用中國國家榇準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -25- 418452 A7 B7 五、發明説明紅） S 6 4 4，過程S 6 4 5係與上述實施形態之過程實質上 ..相同操作。但是；在打開蓋4 2之狀態下將溶劑供應於基 板G (過程S642)，旋轉基板G (過程S643)， 以溶劑事先濕潤基板G之上面，在該溶劑之預濕潤操作之 後將光阻液供應於基板G (過程S. 6 4 4 ) ·在打開蓋之 狀態下旋轉基板G，形成光阻塗膜（過程S645)，如 第1 4圖所示地減低基板G之旋轉速度（過程S 6 4 6 ) 在過程S 6 4 7係如第1 8圖.所示，在旋轉杯4 1中 抬高形成光阻塗膜之基板G。愈接近處理空間4 9之上部 霧愈少。所以，即使停止塞板G之旋轉後；霧對於光阻塗 膜之附著可有效地避免。又，介經從蓋4 2之供氣孔 4 2 a所導入的清淨空氣之氣流，由於光阻塗膜係被保護 ，因此，依霧之污染更被防止。如此，停止基板G之旋轉 (過程s 6 4 8 )，當結束塗佈處理之基板G係介經移送 機構1 0 0搬送至周緣塗膜除去部2 1 B。上述過^程 5 6 4 1至S 6 4 8之排氣量係一定也可以，而從形成光 阻膜之過程S 6 4 5之後期或是之後才增加也可以。 如第2 0圖所示，在旋轉杯4 1 A之上部形成排氣孔 8 8，經由該排氣孔8 8並排氣旋轉杯4 1 A內也可以。 亦即，經由下部排出孔4 1 d從旋轉杯4 1 A排出液體成 分，同時經由上部排氣孔8 8也從旋轉杯4 1 A排氣氣體 成分。由此可將霧從旋轉杯4 1 A中迅速地排出 (誚先閱请背而之注意事項再蛾巧本茛) k. 訂 本紙張尺度適用中园國家標率（CNS ) A4規格（2〗ΟΧ2ί»7公釐） -26- A7 _______B7__ 五、發明説明知） (圖式之簡單說明） 第1圖係表示L CD基板處理系統之槪要的平面佈置 圖。 第2圖係表示L CD基板處理系統之槪要的正面外観 圖。 第3圖係表示塗佈/周緣塗膜除去單元之槪要的平面 方塊圖。 第4圖係表示塗佈部之主要部的內部透視剖面圖* 第5圖係表示排氣機構的平两..方塊圖。 第6圖係表示放大杯之一部分的局部放大剖面圖。 第7圖係表示用以說明塗佈部及周邊塗膜除去部之單 元排氣的平面模式圖。 第8圖係表示塗佈部之排氣系統及旋轉驅動系統的控 制方瑰圖。 第9 A圖及第9 B圖係分別表示蓋之聯鎖機構的縱剖 面圖。 一 第1 0圖係表示用以調整旋轉杯與泄杯之間隙的調整 機構的局部剖面圖。 第1 1圖係表示用以將基板從塗佈部搬送向周邊塗膜 除去部之托架的斜視圖。 第1 2圖係表示支撐基板之托架的局部剖面圖。 第1 3圖係表示一連串之光阻處理的流程圖。 第1 4圖係表示處理時間與L CD基板之旋轉數之關 係的圖表。 —；------r^— (讳先閱讀背面之注意事項再功巧本VK ) 1 訂 本紙張尺度適用中國國家標準< CMS〉A4規格（2丨OX2?7公釐） -27- 418452 A7 B7 .五、發明説明扭） 第15圖係表示本發明之實施形態之基板處理方法的 流程圖。 第16圖係表示用以說明蓋及LCD基板之動作的內 部透視剖面圖- 第1 7圖係表示處理時間與杯排氣量之關係的圖表。 第1 8圖係表示本發明之其他實施形態之基板處理方 法的流程圖。 第1 9圖係表示用以說明杯內之L CD基板之動作的 內部透視剖面圖。 . /*· . 第2 0圖係表示本發明之其他實施形態的基板處理裝

IL------P! I (ί¥?ίι閱讀背面之注項再蛾，?·5本IJ 1 fc.r;?··.部屮，欠irT-v-^卩 l.i/i'价合竹^卬1': 置 之 要 部的放大剖 面 圖。 ( 主 要 元件對照 表 ) 1 塗 佈， 顯像 處 理 系統 2 裝 載/ 卸載 部 3 第 1處 理部 4 第 2處 理部 5 第 3處 理部 6 介面部 7 曝 光裝 置 1 0 卡匣 載置 台 1 1 搬送 部 1 3 第1 副臂 機 構 1 4 A 第 1主 臂 機 構 訂

I 本紙强尺戾適用中國囷家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -28- 418452 A7 B7五、發明説明紅） 1 5 A，B，C 中央搬送路 14a 保持具 16 濕式洗淨單元 17 加熱單元 18 乾式洗淨單元 19 冷卻單元 21 光阻塗佈/周緣除去單元 27 冷卻單元 3 5 第2副臂機構 4 0 旋轉夾頭 4 2 蓋 61-62 噴嘴 6 4 搖動機構 8 0 載置台 -84 接近察覺器 9 0 控制器 9 4 儲存槽 100 移送機構 G 基板 C 1，C 2 卡匣 C Ο L 1，3 淸洗板 C T 塗佈裝置 E T 周緣光阻除去裝置 Η P 2 熱板 (邻先閱請背面之注意事項再祕‘5?本頁) ,k. 丁 _ -" .1 本紙張尺度適用中國國家標準_( CNS ) A4規格（210X297公釐） -29- 418452 A7 B7 五、發明説明)

D .驅動馬達 {iiiL閱讀背面之注意事項再蛾.¾本頁) 訂

I 本紙張尺度適扣中國國家標準（CNS ) A4現格（210X297公釐） -30-

Claims (1)

1. 418452 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 種塗佈方法，屬於具備上部開口及排氣口的杯 部內側將塗膜形成於基板的塗佈方法，其特徵爲具備： (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) (a )經由上述上部開口將基板搬入杯部內’介經旋 轉夾頭來保持基板的過程，及 (b )經由上述排氣口一面排氣杯部內一面將塗佈液 供應於基板的過程，及 (c )經由上述排氣口一面排氣杯部內一面介經旋轉 夾頭來旋轉基板；擴散在上述過程（b)所供應之塗佈液 而在基板表面形成塗膜的過程，及. (d )停止基板之旋轉，將具有塗膜之基板搬出至杯 "部外的過程，及 ’‘ (e )爲了從杯部排出在上述過程（c )所產生的塗 佈液之霧，在上述過程（c )或上述過程（d )之間，變 更上述杯部之排氣成此上述過程（b )及（c )之排氣量 中之任一較大者更大的排氣流量的過程》 娌濟部中央標隼局員工消費合作社印裝 2 .如申請專利範圍第1項所述之方法，其中~，在上 述過程（c )中，將蓋覆蓋於杯部而將上部開口成爲關閉 之狀態者。 3 .如申請專利範圍第2項所述之方法，其中，又具 備上昇基板；將基板近接對面於蓋的過程（f 1 )者。 4 .如申請專利範圍第2項所述之方法，其中，又具 備上昇基板，將基板位於比排氣口較高之位置的過程（ f 2 )者。 5 ·如申請專利範圍第3項所述之方法，其中，上述 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4規格(210X297公釐) Γ3Ι · 1 418452 1

   經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 六、申請專利耗圍 過程（f 1 )係在上述過程（e )變更排氣量時才開始者 〇 6 .如申請專利範圍第3項所述之方法，其中，上述 過程（f 2 )係在上述過程（e )變更排氣量之後才開始 者。 7 .如申請專利範圍第4項所述之方法，其中，上述 過程（ί 1 )係在上述過程（e )變更排氣量時才開始者 8 .如‘申請專利範圍第4項所述之方法，其中，上述 過程（ί 2 )係在上述過程（e )變更排氣量之後才開始 者。 9 .如申請專利範圍第2項所述之方法，其中，又具 備一面上昇蓋一面基板的過程（g )者。 1 0 ·如申請專利範圔第9項所述之方法，其中，在 上述過程（g )中，基板之上昇速度比蓋之上昇速度快速 者。 1 1 .如申請專利範圍第2項所述之方法，其中，在 上述過程（e )中，基板位於杯部之內側或蓋之正下方者 〇 1 2 ·如申請專利範圍第1項所述之方法，其中， 上述杯部係具備圍繞基板之內杯，及圍繞該內杯而分 別連通於該內杯及上述排氣口，且具有氣液分離材的外杯 I 〜 在上述過程（e)，介經氣液分離構件將包括從內杯 --------0¾.— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂- 本紙張尺度逋用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） · 32 · ABCD 418452 々、申請專利範圍 所排出之塗佈液之霧的排出物分離成液體成分與氣體成分 ，再經由排出口排出塗佈液之霧者。 1 3 ·如申請專利範圍第1 2項所述之方法，其中， 在上述過程（c )中，將內杯與基板一起同步旋轉者》 1 4 .如申請專利fe圍第1項所述之方法，其中，又 ，在上述過程（b ) ，（ c ) ，（ e )中，分別與基板之 旋轉方向相反方向，且經由上述排出口從上述杯部向外周 方向每g氣。 1 5 —種塗佈方法，屬於具備上部開口及排氣口的 杯部內側將塗膜形成於基板的塗佈方法，其特徵爲具備： (a )經由上述上部開口將基板搬入杯部內，介經旋 轉夾頭來保持基板的過程，及 (b )經由上述排氣口一面排氣杯部內一面將塗佈液 供應於基板的過程，及 (c )經由上述排氣口一面排氣杯部內一面介經旋轉 夾頭來旋轉基板：擴散在上述過程（b)所供應之塗佈液 而在基板表面形成塗膜的過程，及 (d )停止基板之旋轉，將具有塗膜之基板搬出至杯 部外的過程，及 (h )在上述過程（c )中，在旋轉基板之期間，上 昇基板成位於比上述排氣口較高之位置的過程。 1 6 .如申請專利範圍第1 5項所述之方法，其中， 在上述過程（c )中，將蓋覆蓋於杯部而將上部開口成爲 關閉之狀態者。 --------KA------1T------< (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 本紙朵尺度適用中國國家揉準（CNS ) Α4^格（210X297公釐） -33- 418452 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 1 7 .如申請專利範圍第1 6項所述之方法，其中， 在上述過程（h )中，一面上昇蓋一面上昇基板者。 1 8 ·如申請專利範圍第1 7項所述之方法，其中， 在上述過程（h )中，基板之上昇速度比蓋之上昇速度快 速者。 、 1 9 .如申請專利範圍第1 7項所述之方法1其中， 在上述過程（h )中，在基板與蓋之間形成狹窄間隙地將 基板近接對面於蓋著， 2 0 ·如申請專利範圍第1 5項所述之方法，其中， 又其備爲了將在過程（c)所產生之塗佈液之霧從杯部排 出’而在過程（c )或過程（d)之期間，將杯部之排氣 變更成比過程（b )及（c )之排氣量.中之任一較大者更 大之排氣流量的過程（i )_者。 ./—^-- (请先閲讀背面之注意事項再填寫本頁〕 I 經濟部中央標隼局員工消跫合作社印5L -34- 本紙張尺度逋用中國國家揉準（CNS ) A4规格（210X297公釐）