TW416049B - Optical recording medium and method of producing same - Google Patents

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TW416049B
TW416049B TW085105147A TW85105147A TW416049B TW 416049 B TW416049 B TW 416049B TW 085105147 A TW085105147 A TW 085105147A TW 85105147 A TW85105147 A TW 85105147A TW 416049 B TW416049 B TW 416049B
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TW085105147A
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Toshiyuki Kashiwagi
Shoji Fukuchi
Motohiro Furuki
Yoshitake Yanagisawa
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Sony Corp
Sony Disc Technology Inc
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Description

經濟部中央標隼局員工消费合作.攻印裝 A7 _____B7_ _五、發明説明（1 ) · 發明背景 發明領域： 本發明係關於一種光學記錄介質和其製造方法，且更 特別而言，係關於一種光學記錄介質，其可藉由雷射光束 之照射而記錄和/或再生一資訊訊號在訊號記錄介質上， 並包括一透明層，而雷射光束可經由該透明層而照射在訊 號記錄層上，和此種光學記錄介質之製造方法。 習知技藝： 如圖1所示，習知之記錄介質•如一光碟，包括透明 層5 1具有約1. 2mm之厚度》透明層5 1之一側表面 上具有資訊坑或引導凹槽以構成訊號記錄區域或部份。在 訊號記錄區域或部份之外，依序提供一反射膜層5 2和一 保護膜層5 3用以保護該反射層5 2。資訊坑或引導凹槽 以由光學拾取裝置之物鏡透鏡5 4所集中之雷射光束照射 。在例如C D之光碟之製造過程之複製步驟中，在先前主 控步驟中所準備之沖壓機安裝至一壓床》而後，當成基底 之樹脂材料（例如聚碳酸鹽）倒入壓床中並加熱，而後受 到壓縮模製處理以轉換沖壓機之坑圇樣在基底上》基底亦 作用當成透明層5 1。由於光穿透當成透明層5 1之基底 ，必需提供使用真空沈積方法以鋁製成之反射層5 2。反 射層5 2進一步上塗覆以保護膜5 3以避免對反射層5 2 造成損壤。 因此，由光學拾取裝置之物鏡透鏡5 4側觀看，用以 H, Ϊ—I- I - I I -I . - I - 1 1 - - - IK m (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS } A4規格（210X297公釐） A7 B7 經濟部中央榡準局貝工消f合作杜印製 五、發明説明（2 ) . 再生之雷射光束乃經由厚度爲1. 2mm之透明層51而 照射在資訊坑上•而後，由資訊坑反射之方經由透明層 5 1返回•因此，可由光碟中讀出必要之資訊。 當成基底之透明層5 1之厚度會因爲應力，熱，和經 濕氣而變形，特別是稱爲 ' 偏移〃之傾斜，且雷射光束之 特點集中在資訊坑中*特別是慧形像差·假設光碟之偏斜 保持固定，具有較小厚度之透明層將有助於形成具有較小 像差之點。 近年來，對於高密度光碟之需求快速的增加。髙密度 之光碟可藉由增加光學拾取裝置之物鏡透鏡之數值孔徑 NA和減少光碟之軌跡節距而達成》在此例中，已顯著的 表現前述之趨勢，亦即當偏斜保持固定時，會增加點之像 差量，且由於增加之像差，所再生之訊號會受到破壞*但 是，當透明層之厚度爲1. 2mm時，此問題更無法克服 *除非透明層由極平坦且不變形之材料（如玻璃板）製成 〇 此外，在考慮磁光碟之情形中，其中前述之反射層以 由記錄材料製成之記錄層取代，如圖2所示，由於透明層 61之厚度爲1. 2mm，來自磁場調變線圈55之外部 磁場無法記錄和/或再生資訊訊號在記錄層6 2上，結果 ，磁場調變線圈5 5必需位在保護層6 3之一側上’相對 於提供有光學拾取裝置之物鏡透鏡5 6和透明層6 1之側 。結果，此種安排限制了使用磁光碟之記錄和再生裝置之 尺寸降低可能性。 參紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）~~_ r _ ----^---^----策---^---.丨訂 (請先聞讀背面之注意Ϋ項再填寫本頁) 經濟部4-央樣準局負工消費合作?+.甲|!. A7 _B7_____五、發明説明（3 ) . 發明概要 因此，本發明之目的乃在提供一種光學記錄介質，其 可高密度的再生儲存在其中之資訊。 本發明之另一目的乃在提供一種光學記錄介質之製造 方法，其中可高度的改善生產率。 本發明之另一目的乃在提供一種磁光型光學記錄介質 ，其可達成對記錄和再生裝置之尺寸之降低》 在本發明之第一觀點中，本發明提供一種光學記錄介 質，其可藉由使用一雷射光以記錄和/或再生一資訊，包 含’·一支持層具有一資訊訊號記錄部份在一側表面上，其 中雷射光束入射於此；和一透明層位在該支持層上，且其 厚度小於該支持層。 在本發明之第二觀點中，本發明提供一種光學記錄介 質之製造方法，包含之步驟爲：將用於基底之材料倒入一 壓床中，並使該材料加熱並受到壓縮模製以形成具有轉換 資訊坑之基底；在該基底上形成反射層；和形成一透明層 ，其可穿透一雷射光束，且具有之厚度小於在反射層上之 基底之厚度》 在本發明之第三觀點中，本發明提供一種光學記錄介 質之製造方法，該光學記錄介質可藉由使用一雷射光束而 將資訊寫入光學記錄介質或將資訊由光學記錄介質中讀出 ，包含之步驟爲：形成一磁性記錄膜在基底之一側表面上 •其中雷射光束入射於該側表面上；和形成一透明層，其 厚度小於在磁性記錄膜上之基底之厚度* 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 7 ----；--------取-------.—訂 (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部中央樣準局貞工消費合作."s U A7 _______B7五、發明説明（4 ) 在本發明之第四觀黏中，本發明提供一種光學記錄介 質之製造方法，包含之步驟爲··將一透明樹脂倒入一壓床 中，並加熱，且使該樹脂受到壓縮模製處理以形成具有轉 換資訊坑之透明層；在形成在該透明層上之資訊坑上形成 一反射層；和經由該反射層，黏著該透明層在厚度大於透 光層之一基底上。 依照本發明之光學記錄介質，和支持層比較，其具有 比0. 5mm或更小厚度之透明層。結果，即使使用在光 學拾取裝置中之物鏡透鏡之數值孔徑較大時，由於慧形像 差而引起對再生訊號之破壞可限制至相當低的程度，藉此 可完成高密度再生。 由下述之說明配合對附圖和申請專利範圍之了解，本 發明之上述和其它目的|特徵和優點將變的更加清楚· 圖式之簡單說明 圖1爲習知光學記錄介質之構造之示意圖： 圖2爲習知磁光碟之構造之示意圓： 圖3爲依照本發明之第一實施例之光學記錄裝置之構 造之π意圖； 圖4 Α至4 G爲依照本發明之第一實施例之光碟之製 造方法中，連續顯示主碟形成步驟之圖； 圖5 A和5 B爲依照本發明之第一實施例之光碟之製 造方法中，射出成型步驟之圖； 圖6 A至6 C爲依照本發明之第一實施例之光碟之製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家橾準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 7
經濟部中央標準局男工消费合作，ί!印U A7 _B7_五、發明説明（5 ) . 造方法中，反射膜和透明層形成步騾之圖； 圖7 A至7 C爲依照本發明之第一實施例之光碟之製 造方法中，反射層形成步驟之圖； 圖8爲當透明層黏著至碟基底時，用以執行依照本發 明之第一實施例之光碟之中央孔之集中方式圖； 圖9爲依照本發明之第二實施例之光碟之構造； 圖1 0A至1 0 C爲依照本發明之第二實施例，在用 於圖9之光碟之製造方法中，反射層形成和碟基底形成步 驟之圖： 圖11A和11B爲當透明層黏著至碟基底時，用以 依照本發明之第二實施例執行光碟之中央孔集中方式之圖 1 圚12爲依照本發明之第三實施例之磁光碟之構造圖 圓13爲應用以再生依照本發明之光學記錄介質之光 學拾取裝置之示意圖； 圖14爲圖13之光學拾取裝置之物鏡透鏡系統之截 面圖；和 圖1 5爲如圖1 4所示之物鏡透鏡系統之平面圖* 較佳實施例之詳細說明 以下參考附圖說明本發明之較佳實施例，其中顯示依 照本發明之製造方法所製造之光學記錄介質。 在下述之較佳實施例中，其中顯示一種光碟，其可根 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 本紙张尺度適用中國國家榡车（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -8 - 經濟部中央橾隼局員工消费合作社中製 A7 ____B7五、發明説明（6 ) 據來自雷射光束之輻射在光學記錄介質上而導致之反射光 束之量，以再生資訊訊號•在第一實施例中，使用厚度爲 1 0 0 /zm之透明層，在第二實施例中.使用厚度爲5 m m之透明層。 一般而言’當光碟射出成型時，形成中央孔之中央部 份之厚度小於光碟之剩餘基礎部份之厚度。藉此，和剩餘 基礎部份比較，可提高中央部份之冷卻率，藉以防止模製 樹脂之沈降檩示或後黏貼之發生。亦即，薄中央部份根據 快速硬化而作用當成一阻擋器。薄中央部份可有效的導致 光碟之雙折射之消除和改善傳送能力•提供光碟之中央孔 之窄中央部份稱爲、閘"，且最後藉由沖壓而由剩餘基礎 部_份移去。結果，藉中央部份不會對光碟之最終形狀產生 任何影響》當閘之厚度進一步窄化時，前述當成阻擋器之 功能更加確定/但是，在此例中，會發生之問題爲欲模製 之樹脂之流動性的破壞。此外，當欲使光碟之基礎部份之 厚度變成更薄時，會升高相同之問題。另一方面《當閘變 寬時，雖然可生產具有較小厚度之光碟*仍會輕易的產生 不需要的雙折射和對轉換能力之破壞。 在前述之說明中*說明由在光碟之射出成型中之閘之 一般概念》 實際上，當閘變寬時，可獲得具有良好外觀之直徑高 達120mm且厚度高達〇. 35mm之光碟。但是，在 此例中，會發生雙折射和傳送能力之破壞•在這些情況下 ，閘之空間窄化成0· 25mm〜0. 3mm，且如果光 9 - 本紙張尺度適用中國固家標準（CNS ) Α4说格（210X 297公釐） (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社^雙 A7 __________B7五、發明説明（7 ) 碟之厚度爲0. 6mm，則可獲得具有減少雙折射和改善 傳送能力之光碟》因此，當欲獲得具有0. 5mm或更小 厚度和良好訊號特性之光碟時，閘之空間需要爲0. 1〜 0 2 mm或更小，然而此種狀況無法實際的生產光碟。 亦即，在此種狀況下，樹脂之注入速度會由閘而顯著的限 制，因此樹脂無法到達光碟之外週緣部份。結果，無法獲 得具有所需直徑之光碟。此即爲何厚度爲〇. 5mm或最 小之光碟無法製造之原因。 用以獲得厚度爲0. 5mm或更小之光碟之可能方式 如下所述》 可採行之方法之一爲在成形基底之.背側進行產製，和 一紫外線硬化樹脂使用旋轉塗覆方法等塗覆而後硬化。相 反的，在此例中，雖以製造lmm厚之光碟。即使使用高 黏著性樹脂，光碟之厚度仍限制爲最大1 0 0 μιη ( 0. lmra)。此外，亦可能藉由提供上塗層而增加光碟 的厚度•但是，在每層之塗覆時，無可避免的會產生不均 勻塗覆，且此種不均勻性會更顯著•而此種方法亦無法獲 得0 . 5 mm或更小厚度之光碟•其它的方法包括使用其 它的片或膜。 首先，參考圖3說明依照本發明之第一較佳實施例之 光學記錄介質。 依照本發明第一實施例之光碟1包括一支持層2 .其 由例如聚碳酸鹽製成且厚度爲1. 2mm·且其上可利用 射出成型方法轉換資訊坑；一反射膜3，其由具有約 I- - - - —a^i It HI 1 1 I I IT— ru^i ^^^1 ^^^1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國固家標率（CNS ) A4規格（210X297公釐） -10 -
經濟部中央標準局員工消費i作杜印U A7 _B7_五、發明説明（8) · 5 Ο 0A厚之鋁層所製成，並彤成在支持層上；和—透明 層4，其厚度爲1 0 0 且以旋轉塗覆方法形成* 在製造依照本發明之第一實施例之光碟時，需要多數 之步驟，包括一主碟形成步驟如圖4 A至4 G所示，一射 出成型步驟如圖5 A和5 B所示，和進一步的層形成步驟 如圖6A至6 C所示，其中反射層3由濺射鋁Aj?形成， 且透明層4以旋轉塗覆方法形成。 在主碟形成步驟中，如圖4 A所示之一玻璃基底6塗 覆以一阻止物7，如圖4 B所示，該阻止塗覆玻瑰基底6 曝露至一雷射光束之輻射下如圖4 C所示，而後受到顯影 處理如圖4 D所示，藉此，坑或凹槽8會形成在阻止塗覆 基底6之表面上》接著此基底受到無電電鍍處理如圖4 E 所示，以在基底6上形成導電膜9。而後，如圖4F所示 ，基底6受到電鍍處理以沈積一鎳層當成主碟1 0。由鎳 製成之主碟10乃由玻璃基底6中移去並在後續的射出成 型步驟中使用· 在射出成型步驟中•如圖5A所示，當成壓模之N i主 碟1 0設置在一壓床中，其中倒入高溫熔融聚碳酸鹽樹脂 ，而後以壓縮模製方法模製碟支持層2，如圖5 B所示。 如上所述·依照第一實施例之光碟之碟支持層2之厚度爲 1 . 2mm» 其次，參考圖6 A至6 C，說明進一步之層形成步驟 ，其中，藉由濺射鋁而將一反射層3沈積在碟支持層2上 ，而後，透明層4形成在反射層3上。首先，碟基底2受 m. I ^1— - -I— I - I 1^1 I — .^1 -s l m n- It XV ST (請先閱讀背面之注項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4说格（210X297公釐> -11 - A7 B7 經濟部中央標準局員工消費今作社印裴 五、發明説明（9 ) - 到濺射以沈積厚約5 Ο 0A之鋁層，如圓6 A所示’藉此 •反射層3形成在碟基底2上。 在形成反射層3時，如圖7A所示，鋁沈積餍以垂直於 碟基底之表面方向成長以形成一成形坑P0，因此形成在 反射層3上之讀出坑P 1具有和成形坑P 0相同的形狀· 此垂直成長之反射層3可防止形成形狀和成形坑P 〇之形 狀不一致之坑P1’之形成》替代的，如圖7C所示，相 當大的凹槽首先提供在N i主碟1 〇上，以在碟支持層2 上形成相當大的成形坑P0，藉此可適當的校正反射層3 之可能形變。但是，在此例中，反射層3必需均勻的形成 在碟支持層2之整個表面上* 其次，如圖6 C所示|厚度約1 00//m之透明層4 以旋轉塗覆方法形成在反射層3上。特別的，一紫外線硬 化樹脂（UV樹脂）塗覆在反射層上，以形成透明餍4。 在形成透明層4時，藉由改變使用於此目的之旋轉器之圈 數目，即可控制透明層4之厚度。紫外線硬化樹脂之塗覆 可執行數次以獲得所需厚度之透明層4。 此外*透明層4可以下述之方式製造。例如，一光學 透明硬基底（如一非晶碳）可受到如濺射之物理沈稹方法 ，或化學沈積方法之作用而形成。再者，一分離準備之透 明層4’ ，例如聚碳酸鹽膜式玻璃板，可藉由使用紫外線 硬化樹脂而彎曲在反射層3上》在此例中，如圖8所示， 在受到射出成型時，碟支持層2之卡盤中央孔2 7之集中 乃同時的執行以利於後績的黏著步驟•和當透明層4_黏 本紙浪尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4現格（210X297公釐）_ _ ' n n If n I f — I J ^ I l— n m I— T • - 5 ·-· (請先聞讀背面之注意Ϋ項再填寫本頁)
經濟部中央棋準局負工消費合作社印U A7 _ B7__五、發明説明（10) · 著在形成在碟支持厝2上之反射層3時，免除中央孔2 7 之複雜定位* 在前述之第一實施例中’碟支持層2以射出成型基底 之形式製造》此乃因爲基底可使用習知之方法，設備，材 料等輕易的製造。由於碟支持層2不需要例如透光性和雙 折射之光學特性需求，任何的基底都可以使用’只要其爲 可藉由在模製時之轉換而可形成坑或引導凹槽，並具有充 足機械強度之材料即可*因此，碟支持層2可由例如金羼 或玻璃之材料製成，藉此可達成包括透明層之光碟之整體 厚度之降低，且進一步的限制光碟之形變至最低程度。 同時，介於使用以再生之物鏡透鏡之數值孔徑NA， 輻射以在光碟上形成再生點之雷射光束之波長λ，和點尺 寸Φ間之關係以下式表示： ^ = 1. 22χλ/ΝΑ 由上式明顯的可知*當數值孔徑ΝΑ增加時，點尺寸 ¢)變小。因此，當使用具有大數值孔徑之物鏡透鏡時，可 達成高密度再生，亦即，藉由使用具有大數值孔徑之物鏡 透鏡即可再生一高密度光碟。但是，除了點尺寸外，數值 孔徑N A亦會影響光碟之傾斜之承受度。亦即，光碟之傾 斜之承受度和λ/ t · ( N A ) 3 成比例，其中t爲 透明層之厚度。 一般而言，當光碟相關於光學系統傾斜時，會產生慧 本ϋ尺度適用_國國家揉準（CNS ) Α4規格（210X297公羞) ~ --· ii I - li -I I \衣 1- - I I— 1^1 t I---- ---- (請先閱讀背面之注項再填寫本頁) A7 B7 經濟部中央標準局貝工消費合作杜印裝 五、發明説明（11) · 型像差。在此例中，波前像差係數w如下式所示： W = 1/2 * t · { (N^-l )N2 s in9cos6}/(N^-sia^9) 其中t爲透明層之厚度，N爲折射係數，和0爲傾斜角。 例如，當數值孔徑NA由0. 45變成0· 60時， 偏斜界限由0. 60降低至0. 25。爲了恢復此降低之 偏斜界限，透明層之厚度必需降低β但是，如上所述，習 知透明層之厚度爲1. 2mine結果’數值孔徑ΝΑ之增 加受到了限制，如此無法獲得高密度再生和高品質再生輸 出。 另一方面，在依照本發明第一實施例之光碟中，藉由 使用旋轉塗覆方法應用紫外線硬化樹脂可製造厚度約爲 1 0 0 /zm之透明層。結果，即使光學拾取裝置之物鏡透 鏡之數值孔徑較大時，亦可免於發生由於慧型像差而對再 生訊號之破壊，如此可獲得高密度再生之資訊訊號。 其次*參考圖9說明本發明之第二較佳實施例之光碟 〇 依照第二較佳實施例之光碟具有一透明層1 6 *其由 射出成型聚碳酸鹽樹脂形成且厚度不超過0. 5mm，且 藉由來自主碟上之轉移而在其上形成資訊坑。在透明層 16上形成反射層17·該反射層17爲以濺射方法沈積 之鋁層且厚度約爲5 0 0A *透明層1 6經由反射層1 7 和紫外線硬化樹脂1 9而黏著在碟支持層1 8上，該碟支 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐）_】乂 一 "~ ϋ. - - 1 1^1 I-1 -li - .1— I— » 1 - - = I - - -i (請先鬩讀背面之注意事項再填寫本頁〕 經濟部中央揉隼局員工消炉含作.社印裝 A7 _B7__ 五、發明説明（12) . 持層18具有適當之機械應力•紫外線硬化樹脂19當作 黏著層。最好是黏著層19和碟支持層18之總厚度不小 於 0 · 7 m m。 依照本發明之第二較佳實施例之光碟之製造需要類似 之步驟包括如圖4 A至4 G所示之主碟形成步驟，如圈 5 A和5 B所示之射出成型步驟，和如圖6 A至6 C和圖 7A至7 C所示之進一步層形成步驟。因此*反射層1 7 藉由鋁之濺射而產生在透明層1 6上，並進一步藉由使用 紫外線硬化樹脂1 9而黏著在碟支持層1 8上，如圖 1 Ο A至1 0 C所示。 依照此實施例之光碟之主碟形成步驟和第一實施例使 用相同的方式執行，且因此省略其詳細之說明β 在依照第二實施例之射出成型步驟中，N i主碟1 0 首先置於壓床1 1 ，並倒入高溫熔融聚碳酸鹽樹脂•以和 圖5A和5B相同的方式。但是，在此例中，不只碟支持 層1 8，且透明層亦受到壓縮模製處理。此壓縮模製透明 層16之厚度爲0. 5mm·此外*在形成透明靥16時 ，如圖1 1 A所示，當透明層1 6黏著至碟支持層1 8時 ，同時進行碟支持層1 8之夾盤中央孔2 7之集中，藉以 利於後續之黏著步驟和免除中央孔2 7之複雜定位。 其次，藉由濺射鋁•反射層1 7沈積在透明層1 6上 。透明層16以下述方式經由反射層17黏著在具有適當 機械應力之碟支持層1 8上•首先，如圖1 〇 B所示，執 行鋁之濺射以在透明層1 6上沈積約5 0 0A厚之反射層 本紙張尺度適用中國圉家梂準（CNS ) A4規格（2丨^ W7公釐、 71 -15 - I. - 1 ^^1 II - 1^ 1- 1 I 氏 -I m in -^ϋ Ha n (請先聞讀背面之注項再填寫本頁) A7 B7
經濟部中央標準局貝工消費合作杜印U 五、發明説明（13) . 17。其次1如圚10C所示·透明層16經由反射層 1 7和以紫外線硬化樹脂製成之層而黏著至碟支持層1 8 。在此例中，由於光可透過厚度爲5 Ο 0A之鋁反射層之 量爲1 %或更小，硬化時間變的相當長。結果，反射層之 厚度限制爲約2 Ο 0A，其爲需用以獲得所需反射係數之 最小值。此外，可使用熱熔黏著物以取代紫外線硬化樹脂 因此，在依照本發明之第二實施例之光碟中，可獲得 約0. 5mm厚之透明層》結果，即使使用在光學拾取裝 置中之物鏡透鏡2 0之數值孔徑較大時，亦可避免由於慧 形像差對再生訊號之破壤至某種程度，藉此可完成高密度 再生。再者•在第二實施例中，具有預定厚度之碟支持層 以個別的步驟準備，並經由反射層1 7和紫外線硬化樹脂 層1 9而黏著至透明層1 6，因此可進一步簡化及便於光 碟之製造。 下面說明依照本發明第三實施例之光碟，其具有記錄 層以取代如第一和第二實施例之光碟之反射餍•亦即，依 照此實施例之光碟爲磁光碟型式。 此處所述之磁光碟可利用和第一和第二實施例相同的 方式製造。因此省略其說明。 如圖1 2所示，依照本發明第三實施例之磁光碟 21具有厚約0,1mm之透明層22。因此，光學拾取 裝置之一物鏡透鏡2 4和一磁場調變線圈2 5位在磁光碟 2 1之同側，亦即在相對於記錄層2 3之透明層側上。如 n··—^ ^^1 1=1 --- I ^ ι^ϋ -- - - 1 • ·-* (請先閲讀背面之注項再填寫本頁) 本纸張尺度適用中國國家橾準（CNS>A4洗格（210Χ：297公慶） -16 - 經濟部中央樣準局員工消费合作杜印製 A7 B7五、發明説明（Η) 此可降低使用於記錄和再生磁光碟2 1之記錄和再生裝置 之尺寸· 如上所述，在依照本發明之較佳實施例之光碟或磁光 碟之製造方法中，和，習知技藝比較，可降低整體之厚度。 因此，依照本發明之光或磁光碟可使用在比習知技藝（其 濃縮系統只由物鏡透鏡構成）具有更大濃縮率之濃縮系統 之再生光學拾取裝置中。 可用以再生依照本發明之光或磁光碟之光學拾取裝置 參考圚1 3說明如下。光學檢取裝置3 0包括雷射二極體 3 1當成光源以發出雷射光束。由雷射二極體3 1所發出 之雷射光束依序通過繞射光柵3 2，偏極分光束3 3，一 1/4 (四分之一）波長板34，和準直透鏡35，並入 射在物鏡透鏡系統3 6上。入射雷射光束經由物鏡透鏡系 統的收歛在光蹀2 6之訊號記錄表面*而後•雷射光束由 光碟2 6之訊號記錄表面反射並折回通過一聚焦透鏡4 0 以導入_當成光偵測元件之光偵測器中•由此產生相關於 資訊訊號之再生訊號之輸出。 來自雷射二極體31之雷射光束爲線性偏極雷射光束 ，其隨後繞射經由繞射光柵3 2。雷射光束前進經由偏極 分光器3 3和1/4波長板3 4。在1/4波長板34上 ，繞射雷射光束變成圓形偏極光束•並通過準直透鏡3 5 。當雷射光束通過準直透鏡時，其收歛成一平行射線，並 入射在一物鏡透鏡系統3 6中。 物鏡透鏡系統3 6由物鏡透鏡3 7 * —校正板3 8， <請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) '1Τ 本紙張尺度適用中困國家搮準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） 17 - 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 _B7_ 五、發明说明（15) . 和當成凸透鏡之一半球透鏡3 9所構成。物鏡透鏡系統 3 6可收歛入射雷射光束在點F，其位在光碟2 6之訊號 記錄表面上，而不會發生光徑差異。校正板3 8校正入射 雷射光束*因此，通過校正板3 8向著光碟之雷射光束形 成具有大約位在點F上之中心之球形波。半球透鏡3 9具 有球形表面3 9 a ，其曲率中心約位在點F上，和一平表 面 3 9 b。 物鏡透鏡3 6之詳細構造如圖1 4和1 5所示。圖 1 4爲物鏡透鏡系統3 6之截面圖，和圖1 5爲由光碟 26之側觀察，物鏡透鏡系統36之示意圓。 ^ 物鏡透鏡3 7和校正板3 8固定至一鏡筒4 4，且可 免於在任何方向移動，半球透鏡3 9固定安裝在一滑件 4 2上。滑件4 2和鏡筒4 4經由一板彈簧4 3互相連接 ，且具有在光碟2 6之厚度方向上之平移自由度和可隨著 光碟2 6傾斜之自由度。滑件4 2由板彈簧之偏壓力壓抵 光碟26，因此*滑件42之滑動表面42a可在光碟 2 6之光入射表面2 6 b上滑動*此時，板彈簧4 3不具 有在平行於光碟2 6之光入射表面2 6 b之方向之平移自 由度，因此無法引起介於物鏡透鏡3 7和半球透鏡3 9間 之相對位移》滑件4 2之滑動表面4 2 a大約平行於半球 透鏡3 9之平表面而設置。除非半球透鏡3 9和光蹀2 6 接觸，滑勖表面4 2 a和平表面3 9 b可位在相同平面上 »實際上，半球透鏡3 9之平表面3 9 b偏離滑件4 2之 滑動表面4 2 a數微米《 本紙張尺度適用中國國家揉準{CNS>A4規格（21〇Χ2ί>7公釐} _ ίο _ 1^—· ^^^1 *1 -I - i^i HI— m m^i n^· 一SJI (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央橾隼局貝工消费合作社印製 A7 ___B7____五、發明説明（16) . 物鏡透鏡3 7之操作如下所述· 入射在物鏡透鏡3 7上之雷射光束由物鏡透鏡3 7所 收欽並到達校正板3 8。校正板3 8具有預定之厚度和預 定之折射率|因此，雪射光束形成位在點F上之中央之球 形波。如上所述，半球透鏡3 9之球形表面具有之曲率中 心約對準於點F。光碟2 6和半球透鏡3 9之折射係數設 定爲已定值，其大約互相相等•因此，來自校正板3 8之 雷射光束垂直的入射在半球透鏡3 9之球形表面3 9 a上 ，並收歛以形成具有位在點F上之中心之球形波。 物鏡透鏡3 7具有數值孔徑NA表示成NA = s i η 0，其中0爲由最小點Sm i η所觀察之物鏡透鏡 3 7之角·如果半球透鏡3 9和光碟具有折射率Ν時，物 鏡透鏡系統36之數值孔徑NA表示爲NA=NSin0 。因此•當使用物鏡透鏡系統3 6時，由物鏡透鏡系統 3 6所獲得之點尺寸整體只爲由物鏡透鏡3 7所獲得之點 尺寸之1/Ν倍，藉此可增加光碟26之再生密度· 其次說明物鏡透鏡系統3 6之操作在光碟2 6相關於 物鏡透鏡3 7之光學軸L 〇傾斜之情形。 即使光碟2 6相關於物鏡透鏡3 7之光荸軸L 〇傾斜 時，由於滑件4 2之滑動表面4 2 a藉由板彈簧4 3之偏 壓力而與光碟2 6之光入射表面2 6 b滑動接觸·半球透 鏡3 9之曲率中心仍位在物鏡透鏡3 7之光學軸L 〇上。 因此，來自較正板3 8之雷射光束垂直的入射在半球透鏡 3 9之球形表面3 9 a上，因此不會發生光徑差異。結果 ----：--------裝------訂卜 (請先閲讀背面之注f項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（2IOX 297公釐） -19 - 經濟部中央楳準局負工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明（Π) . ，無關於物鏡透鏡系統之N S i η 0之數值孔徑，於此不 會發生慧型像差。 因此，使用依照本發明之光學記錄介質可使用於如圖 1 3所示之型式之光學拾取裝置中*藉此可達成髙密度再 生。此外，當使用光學裝置3 0時，在光學記錄介質製造 時，可獲得相關於光學記錄介質之耗損之大容忍度，和吸 收濕氣之最大容忍度，如此可增加光碟之生產率和光碟選 用材料之自由度。再者•在光碟之驅動機構中，可達成相 關於介於光學檢取裝置之光學系統之光學軸和光碟之安裝 表面間之相關垂直安排，和相關於光學檢取裝置之饋入正 確性之大容忍度，藉此，可達成光碟驅動機構之製造成本 的降低》 同時，較佳的是，依照本發明之光學記錄介質及其製 造方法不足可應用於前述之第一至第三實施例•且亦可應 用於透明層和訊號記錄層位在相對側之光碟及其製造方法 中。 如上所詳述•依照本發明，由於透明靥之厚度爲 0. 5min或更小，可達成高密度再生。此外’在依照本 發明之磁光學記錄介質中，由於磁場調變線圈和光學拾取 裝置可位在相同側，於此側上提供透明層*如此可達成記 錄和再生裝置之尺寸之降低* 再者，本發明之光學記錄介質及其製造方法可使用具 有大數值孔徑N A之物鏡透鏡系統，如此可進一步提升髙 密度再生》 ^1- I: I - - - n HI 1 Is n - i xi (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家搮準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -20 -

Claims (1)

  1. 1. 一種光學記錄介質，其可藉由使用一雷射光及一 具有7C數值孔徑NA大於0. 6之物鏡系統以記錄和/或 再生一資訊，包含： 一支持層在其側表面上具有一資訊信號記錄部，其中 雷射光束入射於此側表面上； 一透明層位在該支持層上*且具有不大於0 . 5mm 之厚度；及 一反射層安插於支持層和透明層之間。 2. 如申請專利範圍第1項之光學記錄介質，其中該 資訊訊號記錄部份由一磁性記錄膜組成。 3. 如申請專利範圍第1項之光學記錄介質，其中該 透明層之厚度約爲0. 1mm。 4. 如申請專利範圍第1項之光學記錄介質·其中該 透明層由紫外線硬化樹脂層所組成。 5. 如申請專利範圍第1項之光學記錄介質，其中該 透明層爲一透明平板，且經由一透明黏著層而設置在該反 射層上。 6. —種光學記錄介質之製造方法，包含之步驟爲= 將用於基底之材料倒入一壓床中，並使該材料加熱並 受到壓縮模製以形成具有轉換資訊坑之基底： 本紙張尺度適用由囤國家標準（CNS)A4規格（；il〇x 297公餐）_丄一 {請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) -lit I-------線 ¾.^¾¾°.¾財產局3工消费合作钍印β
    1. 一種光學記錄介質，其可藉由使用一雷射光及一 具有7C數值孔徑NA大於0. 6之物鏡系統以記錄和/或 再生一資訊，包含： 一支持層在其側表面上具有一資訊信號記錄部，其中 雷射光束入射於此側表面上； 一透明層位在該支持層上*且具有不大於0 . 5mm 之厚度；及 一反射層安插於支持層和透明層之間。 2. 如申請專利範圍第1項之光學記錄介質，其中該 資訊訊號記錄部份由一磁性記錄膜組成。 3. 如申請專利範圍第1項之光學記錄介質，其中該 透明層之厚度約爲0. 1mm。 4. 如申請專利範圍第1項之光學記錄介質·其中該 透明層由紫外線硬化樹脂層所組成。 5. 如申請專利範圍第1項之光學記錄介質，其中該 透明層爲一透明平板，且經由一透明黏著層而設置在該反 射層上。 6. —種光學記錄介質之製造方法，包含之步驟爲= 將用於基底之材料倒入一壓床中，並使該材料加熱並 受到壓縮模製以形成具有轉換資訊坑之基底： 本紙張尺度適用由囤國家標準（CNS)A4規格（；il〇x 297公餐）_丄一 {請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) -lit I-------線 ¾.^¾¾°.¾財產局3工消费合作钍印β 經-钋智慧^產局員工消費合作社印" Ate H8 1)8 六、申請專利範圍 在該基底上形成反射層；和 形成一透明層，其可穿透一雷射光束，且具有之厚度 小於在反射層上之基底之厚度。 7. 如申請專利範圍第6項之方法，其中該透明層藉 由旋轉塗覆一紫外線硬化樹脂，而後硬化該旋轉塗覆紫外 線硬化_脂而產生。 8. 如申請專利範圍第6項之方法，其中該透明層藉 由使一光學透明硬物質受到蒸氣沈積或濺射而產生。 9. 如申請專利範圍第6項之方法•其中該透明層藉 由黏著一聚碳酸鹽膜或一玻璃板經由一紫外線硬化樹脂至 該反射層而產生。 1 0 .如申請專利範圍第6項之方法，其中該透明層 之厚度爲0. 1mm * 1 1 .如申請專利範圍第6項之方法，其中該反射層 成長且沈積在該資訊坑上，在垂直於光碟之表面之方向中 〇 1 2 .如申請專利範圍第6項之方法·其中每個資訊 玩具有之尺寸足以校正發生在該反射層形成時之形變。 1 3 . —種光學記錄介質之製造方法，包含之步驟爲 將一透明樹脂倒入一壓床中，並加熱，且使該樹脂受 到壓縮模製處理以形成具有轉換資訊坑之透明層： 在形成在該透明層上之資訊坑上形成一反射層；和 經由該反射層，黏著該透明層在厚度大於透光層之一 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ;A-------- 訂----- H ί ϋ I I t 本紙張又度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公ί! ) - 2 - 六、曱請專利範圍 ' 基底上。 1 4 .如申請專利範圍第1 3項之方法*其中該光碟 之中央軸之集中乃在該透明層之形成時執行β 1 5 .—種光學記錄介質之製造方法’該光學記錄介 質可藉由使用一雷射光束而將資訊寫入光學記錄介質或將 資訊由光學記錄介質中讀出，包含之步驟爲： 形成一磁性記錄膜在基底之一側表面上，其中雷射光 束入射於該側表面上：和 形成一透明層，其厚度小於在磁性記錄膜上之基底之 厚度。 1 6 .如申請專利範圍第1 5項之方法，其中該透明 層之厚度爲0. 1mm。 --------------------Γ 訂 il <請先閱ts背面之注意事項再填寫本頁) 崾浯部智慧时產局WK工消費合作社印努 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A·!規格（210*297公g ) 3
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