JPS62234245A - 光デイスク - Google Patents

光デイスク

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Publication number
JPS62234245A
JPS62234245A JP61077468A JP7746886A JPS62234245A JP S62234245 A JPS62234245 A JP S62234245A JP 61077468 A JP61077468 A JP 61077468A JP 7746886 A JP7746886 A JP 7746886A JP S62234245 A JPS62234245 A JP S62234245A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
curable resin
substrate
optical disk
layer
resin layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61077468A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuzo Nakamura
祐三 中村
Koichiro Shimamoto
嶋本 功一朗
Akira Okazaki
岡崎 暁
Hisao Kitano
尚男 北野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissha Printing Co Ltd
Original Assignee
Nissha Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nissha Printing Co Ltd filed Critical Nissha Printing Co Ltd
Priority to JP61077468A priority Critical patent/JPS62234245A/ja
Publication of JPS62234245A publication Critical patent/JPS62234245A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、誤記録・誤再生の生じない光ディスクに関す
るものである。
〈従来の技術〉 音声や文字・画像などの情報をデジタル化することによ
り記録し再生する方法の一つとして、光ディスクを利用
する方法がある。これらの情報を記録し再生する光ディ
スクは、ピットが形成される基板と、レーザー光を反射
するための反射膜と、ピットや反射膜を保護するための
裏面保護層とから構成されている。
そして、光ディスクの表面にレーザー光が照射され、光
デイスク基板にピットを形成して情報を記録したり、あ
るいは照射されたレーザー光が光ディスクに形成された
ピットに反射され、その戻り光量を4食知することによ
って情報を再生したりすることができるものである。
〈発明が解決しようとする問題点〉 ところが、従来の光ディスクの基板はアクリルやポリカ
ーボネートなどの樹脂で形成されているので、その表面
は柔らかく傷が付きやすかった。
光ディスクに記録されている情報は、PCM録音などの
エラー修復機能を有しており、またレーザー光の焦点の
合った部分でピットを読み取るため、光ディスクは汚れ
やキズに比較的強いといえるがそれにも限度があり、光
ディスクのキズにより情報が誤って記録されたり、また
再生できない部分が生じたりした。
この欠点を改良するものとして、光デイスク表面に金属
酸化物のコーティングを行って光デイスク表面の硬度を
向上させたもの(特開昭58−137149号公報参照
)が提案されているが、これは次のような欠点を有して
いる。
(イ)金属酸化物層は、蒸着法などの方法で形成される
ので、実際には非常に薄くしか形成できず、その硬度に
劣る。
(rl)蒸着された金属酸化物のために、光デイスク基
板の光透過度が劣る。
(ハ)また、1枚ずつ蒸着を行ったりしているので非常
に生産効率が悪く、コストがかかりすぎる。
く問題点を解決するための手段〉 本発明の構成は、以上のような欠点を解決するために次
のようにした。すなわち、光ディスクのレーザー光照射
面上に、硬化性樹脂層が形成されていることを特徴とす
る光ディスクである。
以下、本発明の構成について図面を参照しながら詳細に
説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す光ディスクの拡大断面
図、第2図は従来の光ディスクの構造を示す断面図、第
3図は転写材の断面図、第4図は本発明の他の実施例を
示す断面図である。また、lは基板、2は反射層、3は
裏面保a!Hり、4は硬化性樹脂層、5はビット、6は
ベースフィルムである。
基板lとしては、従来の光ディスクと同様のアクリルや
ポリカーボネートなどの樹脂で形成されたものを用いる
ことができる。
反射M2としては、従来の光ディスクと同様のアルミニ
ウム蒸着膜を用いることができる。
裏面保護層3としては、従来の光ディスクと同様のもの
を用いることができる。
硬化性樹脂層4としては、紫外線硬化樹脂や熱硬化性樹
脂などがあるが、作業性および光ディスクへの悪影響な
どを考慮すると紫外線硬化樹脂が適している。
紫外線硬化樹脂は、紫外線硬化性化合物に光増感剤(ま
たは光開始剤)と必要に応じて高分子化合物(樹脂)な
どを混入して作製する。紫外線硬化性化合物としては紫
外線反応可能な二重結合を有する物が用いられる。たと
えば、ジオールまたはトリオール・テトラオール・ポリ
オール等の化合物を原料とする各種(メタ)アクリレー
ト化合物およびシアヌレート化合物等がある。光増感剤
としては、カルボン酸化合物類・アゾ化合物類・イオウ
化合物類・ハロゲン化合物類・過酸化物類・活性無機化
合物類等がある。
基板1のレーザー光照射面に硬化性樹脂層4を形成する
には、塗装や転写などの方法が考えられるが、作業効率
の点でロール転写や成形同時転写などの転写印刷法が適
している。
転写材のベースフィルム6上に硬化性樹B’aH4が形
成されており、必要に応じてさらにその上に接着剤層を
設けてもよい。また、離型層をベースフィルム6と硬化
性樹脂層4との間に設けてもよい、このようにして構成
された転写材を、感熱感圧転写法により、基板1に転写
した後、ベースフィルム5を引き剥がす、このようにし
て形成された光ディスクを第1図に示す。
また、裏面保護層3にさらに表面硬度を付与する必要が
あれば、裏面保護層3の上にも硬化性樹脂[4を転写し
てもよい(第4図参照)。
転写材に用いるベースフィルム6としては、その材質が
ポリエステルまたはポリオレフィン・ポリハロゲンオレ
フィン・ポリアミド・ポリエーテルサルホン等の樹脂よ
りなるフィルムを使用する。
またこれらのベースフィルム6にあらかじめ離型処理を
施したものを用いてもよい(第3図参照)。
〈実施例〉 ベースフィルムとしてメラミン離型層を設けた25μm
のポリエステルフィルムを用い、この上に下記組成の紫
外線硬化性樹脂インキをリバースコート法で厚さ10μ
mに印刷した後、グラビア印刷でアクリル系接着層を印
刷した転写材を作製した。
次に、この転写材を用いて基板がポリカーボネート樹脂
よりなるコンパクトディスク (CD)の表面にロール
転写を行ない、転写後すぐに紫外線照射機にて紫外線照
射を行った。
このようにしてできたCDの表面硬度は鉛筆引っ掻き試
験(J[5K5400)で試験したところ、硬度4Hで
あり、従来の硬度Hよりも格段に表面の硬度が高くなっ
た。
紫外線硬化性樹脂インキ組成 オレスターQ164 (三井東圧化学製)70gジペン
タエリスリトールへキサアクリレート30gコロネート
2031(日本ポリウレタン製)10gダロキュアー1
173 (メルク製)        3g2.2゛−
アゾビス−1so−ブチロニトリル    2g酢酸エ
チル/メチルエチルケトン     50g〈発明の効
果〉 本発明は、光デイスク基板の表面に硬化性樹脂層を設け
たので次のような効果を存する。
(イ)硬化性樹脂層は、転写法などの方法で形成される
ので、その厚さは充分ありその硬度にも優れている。
(El)硬化性樹脂層は、透明な硬化性樹脂により構成
されているので、光デイスク基板の光透過度が劣化しな
い。
(ハ)硬化性樹脂層は、転写法により形成されるので生
産性に優れている。
【図面の簡単な説明】
第1図・・・本発明の一実施例を示す光ディスクの断面
図 第2図・・・従来例を示す光ディスクの断面図第3図・
・・転写材の断面図 第4図・・・本発明の他の実施例を示す光ディスクの断
面図 1・・・基板、2・・・反射層、3・・・裏面保護膜、
4・・・硬化性樹脂層、5・・・ピント、6・・・ベー
スフィルム特許出願人  日本写真印刷株式会社 第2図 第3図 第4図 手続補正書く自発) 1、事件の表示 昭和61年特許願第77468号 2、発明の名称 光ディスク 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 ◎604京都市中京メチ生花卉町3番地明細書の「発明
の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 明細書第4ページ第16〜17行目に「紫外線硬化樹脂
や熱硬化性樹脂などがあるが」とあるのを、「紫外線硬
化性樹脂や電子線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などがある
が」に補正致します。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光ディスクのレーザー光照射面上に、硬化性樹脂
    層が形成されていることを特徴とする光ディスク。
  2. (2)硬化性樹脂層が、転写印刷法により形成されてい
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の光デ
    ィスク。
  3. (3)硬化性樹脂層が、紫外線硬化樹脂により構成され
    ていることを特徴とする特許請求の範囲第1項または第
    2項に記載の光ディスク。
JP61077468A 1986-04-02 1986-04-02 光デイスク Pending JPS62234245A (ja)

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