JP2000322768A - 光記録媒体 - Google Patents
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光透過層に傷や変形が生ずることを防止し、
良好な記録再生を可能とする。 【解決手段】 厚さ０．３ｍｍ〜１．２ｍｍの支持体上
に記録層が形成されるとともに、この記録層上に厚さ３
〜１７７μｍのシート状の光透過層が貼り合わされ、光
透過層側から光照射され情報の記録や読み出しが行われ
る光記録媒体である。光透過層の表面は、硬度の増加、
摩擦係数の低減、帯電防止を目的として表面処理されて
いる。例えば、表面処理された光透過層の最表面の硬度
は、ビッカース硬度で１３ＨＭＶ以上である。あるい
は、ナノインデンテーション法により測定される硬さが
０．５ＧＰａ以上、ヤング率が４ＧＰａ以上である。
良好な記録再生を可能とする。 【解決手段】 厚さ０．３ｍｍ〜１．２ｍｍの支持体上
に記録層が形成されるとともに、この記録層上に厚さ３
〜１７７μｍのシート状の光透過層が貼り合わされ、光
透過層側から光照射され情報の記録や読み出しが行われ
る光記録媒体である。光透過層の表面は、硬度の増加、
摩擦係数の低減、帯電防止を目的として表面処理されて
いる。例えば、表面処理された光透過層の最表面の硬度
は、ビッカース硬度で１３ＨＭＶ以上である。あるい
は、ナノインデンテーション法により測定される硬さが
０．５ＧＰａ以上、ヤング率が４ＧＰａ以上である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、支持体上に厚さの
薄い光透過層を貼り合わせ、この光透過層側から光照射
して情報の記録や読み出しを行う光記録媒体に関するも
のである。
薄い光透過層を貼り合わせ、この光透過層側から光照射
して情報の記録や読み出しを行う光記録媒体に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】いわゆるコンパクトディスク（ＣＤ）の
ような光ディスクでは、厚さ１．２ｍｍの透明基板側か
ら光照射され、信号の読み出しが行われる。透明基板
は、透明な熱可塑性樹脂で形成され、その表面にピット
が刻まれている。すなわち、厚さ１．２ｍｍの光透過層
があり、その底面にピットが刻まれていると言える。
ような光ディスクでは、厚さ１．２ｍｍの透明基板側か
ら光照射され、信号の読み出しが行われる。透明基板
は、透明な熱可塑性樹脂で形成され、その表面にピット
が刻まれている。すなわち、厚さ１．２ｍｍの光透過層
があり、その底面にピットが刻まれていると言える。
【０００３】この場合、照射される再生光の再生スポッ
ト径Φは次式で表される。
ト径Φは次式で表される。
【０００４】Φ＝１．２２×λ／ＮＡ λ ：再生波長 ＮＡ：レンズの開口数 例えば、再生波長を７８０ｎｍ、対物レンズの開口数Ｎ
Ａを０．４５とした場合、再生スポット径は約２．１μ
ｍである。このとき、厚さ１．２ｍｍの光透過層表面で
のスポット径は約７１５μｍであるため、通常の使用に
おいて、光透過層の表面にゴミや傷が付いたとしても、
ほとんどの場合再生光を妨げるまでには至らず、また誤
り訂正により訂正可能な場合がほとんどである。
Ａを０．４５とした場合、再生スポット径は約２．１μ
ｍである。このとき、厚さ１．２ｍｍの光透過層表面で
のスポット径は約７１５μｍであるため、通常の使用に
おいて、光透過層の表面にゴミや傷が付いたとしても、
ほとんどの場合再生光を妨げるまでには至らず、また誤
り訂正により訂正可能な場合がほとんどである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】一方、上記ＣＤ等に比
べ遥かに高密度の記録を実現することが可能な光記録媒
体として、光透過層を厚さ３〜１７７μｍのシートと
し、このシート状の光透過層側から光照射を行う光記録
媒体が提案されている。
べ遥かに高密度の記録を実現することが可能な光記録媒
体として、光透過層を厚さ３〜１７７μｍのシートと
し、このシート状の光透過層側から光照射を行う光記録
媒体が提案されている。
【０００６】そして、この光記録媒体では、従来の透明
基板に比べて光透過層が非常に薄いため、ゴミ付着によ
る記録再生光の妨げや、光ピックアップとの衝突により
生じる傷、付着したゴミを光ピックアップと光透過層で
挟み込むことで生じる傷等が大きな問題となっている。
基板に比べて光透過層が非常に薄いため、ゴミ付着によ
る記録再生光の妨げや、光ピックアップとの衝突により
生じる傷、付着したゴミを光ピックアップと光透過層で
挟み込むことで生じる傷等が大きな問題となっている。
【０００７】例として、厚さ１００μｍの光透過層の場
合について、再生スポット径及び光透過層表面でのスポ
ット径を見積もると、記録再生波長λ＝５１５ｎｍ、光
ピックアップの対物レンズの開口数ＮＡ＝０．８５、光
透過層の屈折率ｎ＝１．５８として、再生スポット径は
約０．７４μｍ、光透過層表面でのスポット径は約１３
０μｍとなる。ここで、光透過層表面ではＣＤの場合に
比べてスポット面積が約１／３０となっていること、そ
してこの値は日常生活で付着するゴミや塵の大きさに近
づいていることから、この種の光記録媒体ではゴミや傷
に対して十分に注意を払わなくてはならない。
合について、再生スポット径及び光透過層表面でのスポ
ット径を見積もると、記録再生波長λ＝５１５ｎｍ、光
ピックアップの対物レンズの開口数ＮＡ＝０．８５、光
透過層の屈折率ｎ＝１．５８として、再生スポット径は
約０．７４μｍ、光透過層表面でのスポット径は約１３
０μｍとなる。ここで、光透過層表面ではＣＤの場合に
比べてスポット面積が約１／３０となっていること、そ
してこの値は日常生活で付着するゴミや塵の大きさに近
づいていることから、この種の光記録媒体ではゴミや傷
に対して十分に注意を払わなくてはならない。
【０００８】また、従来においても、ポリカーボネート
で形成された透明基板は光ピックアップとの衝突により
傷が付きやすいということが知られているが、上記のよ
うに厚さの薄い光透過層側から光照射を行う光記録媒体
では、例えば０．８５という高ＮＡの光ピックアップを
用い、光透過層と光ピックアップとの距離（ワーキング
ディスタンス）が３００μｍ以下に設定されるので、衝
突による傷形成や、埃や塵等が付着した場合の光ピック
アップと光透過層の挟み込みによる傷の発生の割合が、
従来に比べて大幅に増加する傾向にある。したがって、
例えば光ピックアップのハウジング材料にテトラフルオ
ロエチレン系の材料を用い、線速５ｍ／秒、２０Ｈｚで
衝突させると、約１００回の衝突でトラッキングサーボ
が破綻し、読み取りの際の誤り訂正が不能になる。実
際、ポリカーボネートシートの表面には、同心円状に傷
が形成されているのが観察された。
で形成された透明基板は光ピックアップとの衝突により
傷が付きやすいということが知られているが、上記のよ
うに厚さの薄い光透過層側から光照射を行う光記録媒体
では、例えば０．８５という高ＮＡの光ピックアップを
用い、光透過層と光ピックアップとの距離（ワーキング
ディスタンス）が３００μｍ以下に設定されるので、衝
突による傷形成や、埃や塵等が付着した場合の光ピック
アップと光透過層の挟み込みによる傷の発生の割合が、
従来に比べて大幅に増加する傾向にある。したがって、
例えば光ピックアップのハウジング材料にテトラフルオ
ロエチレン系の材料を用い、線速５ｍ／秒、２０Ｈｚで
衝突させると、約１００回の衝突でトラッキングサーボ
が破綻し、読み取りの際の誤り訂正が不能になる。実
際、ポリカーボネートシートの表面には、同心円状に傷
が形成されているのが観察された。
【０００９】本発明は、このような実情に鑑みて提案さ
れたものであり、光透過層に傷や変形が生ずることを防
止し、記録再生に支障をきたすことのない光記録媒体を
提供することを目的とする。さらに本発明は、生産性、
量産性に優れた光記録媒体を提供することを目的とす
る。
れたものであり、光透過層に傷や変形が生ずることを防
止し、記録再生に支障をきたすことのない光記録媒体を
提供することを目的とする。さらに本発明は、生産性、
量産性に優れた光記録媒体を提供することを目的とす
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、種々の検
討を重ねた結果、光透過層に予め表面硬度の増加、摩擦
係数の低減、帯電防止を目的として表面処理を施してお
くことにより、光ピックアップとの衝突が生じても誤り
訂正範囲内で記録再生ができることを見出すに至った。
また、光透過層の表面の硬さを、マイクロビッカース硬
度またはナノインデンテーション法で測定することによ
り、光ピックアップとの衝突に耐えうる硬さを定量化す
るに至った。
討を重ねた結果、光透過層に予め表面硬度の増加、摩擦
係数の低減、帯電防止を目的として表面処理を施してお
くことにより、光ピックアップとの衝突が生じても誤り
訂正範囲内で記録再生ができることを見出すに至った。
また、光透過層の表面の硬さを、マイクロビッカース硬
度またはナノインデンテーション法で測定することによ
り、光ピックアップとの衝突に耐えうる硬さを定量化す
るに至った。
【００１１】本発明は、これらの知見に基づいて完成さ
れたものである。すなわち、本発明は、厚さ０．３ｍｍ
〜１．２ｍｍの支持体上に記録層が形成されるととも
に、この記録層上に厚さ３〜１７７μｍのシート状の光
透過層が貼り合わされてなり、当該光透過層側から光照
射され情報の記録及び／又は読み出しが行われる光記録
媒体において、上記光透過層の表面が表面処理されてい
ることを特徴とするものである。
れたものである。すなわち、本発明は、厚さ０．３ｍｍ
〜１．２ｍｍの支持体上に記録層が形成されるととも
に、この記録層上に厚さ３〜１７７μｍのシート状の光
透過層が貼り合わされてなり、当該光透過層側から光照
射され情報の記録及び／又は読み出しが行われる光記録
媒体において、上記光透過層の表面が表面処理されてい
ることを特徴とするものである。
【００１２】また、本発明は、光透過層の最表面の硬度
がビッカース硬度で１３ＨＭＶ以上、ナノインデンテー
ション法により測定される硬さが０．５ＧＰａ以上、あ
るいはナノインデンテーション法により測定されるヤン
グ率が４ＧＰａ以上であることを特徴とするものであ
る。
がビッカース硬度で１３ＨＭＶ以上、ナノインデンテー
ション法により測定される硬さが０．５ＧＰａ以上、あ
るいはナノインデンテーション法により測定されるヤン
グ率が４ＧＰａ以上であることを特徴とするものであ
る。
【００１３】上記表面処理を施すことにより、光透過層
の表面の傷付きや変形等が解消され、信頼性の高い記録
再生が可能となる。
の表面の傷付きや変形等が解消され、信頼性の高い記録
再生が可能となる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した光記録媒
体について、図面を参照しながら詳細に説明する。
体について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１５】図１は、本発明が適用される光記録媒体の
一例を示すものである。この光記録媒体、支持基板１上
に記録層２が形成され、さらにこの記録層２を覆って光
透過層３が貼り合わされている。情報の書き込みや読み
出しは、この光透過層３側から行われ、したがって光ピ
ックアップ４は光透過層３側に対向配置される。
一例を示すものである。この光記録媒体、支持基板１上
に記録層２が形成され、さらにこの記録層２を覆って光
透過層３が貼り合わされている。情報の書き込みや読み
出しは、この光透過層３側から行われ、したがって光ピ
ックアップ４は光透過層３側に対向配置される。
【００１６】上記記録層２は、光記録媒体の記録層とし
て知られているものがいずれも採用可能であり、例えば
反射膜、相変化型記録膜、光磁気記録膜、有機色素型記
録膜のうちの少なくとも一つが形成されている。
て知られているものがいずれも採用可能であり、例えば
反射膜、相変化型記録膜、光磁気記録膜、有機色素型記
録膜のうちの少なくとも一つが形成されている。
【００１７】上記支持基板１は、例えば熱可塑性樹脂の
成形体よりなり、必要に応じて記録層２が形成される側
の面に微細位相ピットや案内溝が形成されてなる。
成形体よりなり、必要に応じて記録層２が形成される側
の面に微細位相ピットや案内溝が形成されてなる。
【００１８】上記光透過層３は、薄いポリカーボネート
シート等からなり、その厚さは少なくとも記録領域にお
いて３〜１７７μｍに設定されている。この光透過層３
の厚さを薄くすることにより、高ＮＡの光ピックアップ
の使用が可能となり、高密度記録が可能となる。
シート等からなり、その厚さは少なくとも記録領域にお
いて３〜１７７μｍに設定されている。この光透過層３
の厚さを薄くすることにより、高ＮＡの光ピックアップ
の使用が可能となり、高密度記録が可能となる。
【００１９】そして、本発明においては、この光透過層
３のシートに、表面硬度の増加、摩擦係数の低減、帯電
防止のうちの少なくとも１以上を目的として、予め表面
処理されたシートを用いることが大きな特徴である。
３のシートに、表面硬度の増加、摩擦係数の低減、帯電
防止のうちの少なくとも１以上を目的として、予め表面
処理されたシートを用いることが大きな特徴である。
【００２０】例えば、上記光透過層３に、予めＳｉ
Ｏx、ＳｉＮx、ＳｉＮxＯy、ＳｉＣ、硬質カーボンのう
ちの少なくとも１種が予め成膜されたシートを用いるこ
とにより、表面硬度の増加を図る。あるいは、表面に予
め液状光硬化性樹脂又は液状熱硬化性樹脂が塗布硬化さ
たシートを用いることにより、表面硬度の増加を図る。
Ｏx、ＳｉＮx、ＳｉＮxＯy、ＳｉＣ、硬質カーボンのう
ちの少なくとも１種が予め成膜されたシートを用いるこ
とにより、表面硬度の増加を図る。あるいは、表面に予
め液状光硬化性樹脂又は液状熱硬化性樹脂が塗布硬化さ
たシートを用いることにより、表面硬度の増加を図る。
【００２１】このとき、光透過層３の表面硬度は、ビッ
カース硬度で１３ＨＭＶ以上、あるいはナノインデンテ
ーション法により測定される硬さが０．５ＧＰａ以上、
ヤング率が４ＧＰａ以上であることが好ましい。
カース硬度で１３ＨＭＶ以上、あるいはナノインデンテ
ーション法により測定される硬さが０．５ＧＰａ以上、
ヤング率が４ＧＰａ以上であることが好ましい。
【００２２】マイクロビッカース硬度測定法は、ダイヤ
モンドの圧子（マイクロビッカース圧子）を試料表面に
圧入することで、その硬さを測定することができる。押
し込み硬さで、対角面１３６°のダイヤモンド四角錐圧
支を用い、試験面にピラミッド形の窪みを付ける。この
ときの荷重を窪みの対角線平均長さから求めた表面積で
割った値で示す。また、このとき発生したクラック長さ
を測定することで破壊靭性値を知ることができ、クラッ
クと微細組織との相互作用等を観察することで、強靭化
機構を知ることができる。
モンドの圧子（マイクロビッカース圧子）を試料表面に
圧入することで、その硬さを測定することができる。押
し込み硬さで、対角面１３６°のダイヤモンド四角錐圧
支を用い、試験面にピラミッド形の窪みを付ける。この
ときの荷重を窪みの対角線平均長さから求めた表面積で
割った値で示す。また、このとき発生したクラック長さ
を測定することで破壊靭性値を知ることができ、クラッ
クと微細組織との相互作用等を観察することで、強靭化
機構を知ることができる。
【００２３】本法は小さな試験片があれば十分であり、
硬度や靭性が簡便に測定できるという特徴を有する。
硬度や靭性が簡便に測定できるという特徴を有する。
【００２４】ただし、蒸着やスパッタリングにより成膜
された厚さ１μｍ以下の無機物等の硬さを正確に測定す
ることは困難である。これは、下地の影響を強く受けて
しまうことや、圧子を押し込んだ際、薄膜に割れが生
じ、窪みの対角線を正確に測定できないという理由によ
る。
された厚さ１μｍ以下の無機物等の硬さを正確に測定す
ることは困難である。これは、下地の影響を強く受けて
しまうことや、圧子を押し込んだ際、薄膜に割れが生
じ、窪みの対角線を正確に測定できないという理由によ
る。
【００２５】それに比して、ナノインデンテーション法
は、微小なダイヤモンド圧子を薄膜に押し込みながら変
形中の荷重と変位を精密に測定できる方法である。薄膜
の硬さや弾性係数の測定変形及び破壊挙動の研究に用い
られている。ただし、試料が圧子と接触するため、試料
は室温に限られる。
は、微小なダイヤモンド圧子を薄膜に押し込みながら変
形中の荷重と変位を精密に測定できる方法である。薄膜
の硬さや弾性係数の測定変形及び破壊挙動の研究に用い
られている。ただし、試料が圧子と接触するため、試料
は室温に限られる。
【００２６】図２に、ナノインデンテーション法による
測定装置の一例を示す。この測定装置は、ダイヤモンド
圧子５の基端部に負荷用電磁石６を取り付け、これをバ
ネ７で支持してなるものである。ダイヤモンド圧子５の
背後には、磁石８が配置されており、この磁石８と負荷
用電磁石６の相互作用により、ダイヤモンド圧子５の試
料９に対する荷重が決められる。
測定装置の一例を示す。この測定装置は、ダイヤモンド
圧子５の基端部に負荷用電磁石６を取り付け、これをバ
ネ７で支持してなるものである。ダイヤモンド圧子５の
背後には、磁石８が配置されており、この磁石８と負荷
用電磁石６の相互作用により、ダイヤモンド圧子５の試
料９に対する荷重が決められる。
【００２７】また、ダイヤモンド圧子５の中途部には、
キャパシタンス変位計１０が取り付けられており、ダイ
ヤモンド圧子５の変位量が測定される。
キャパシタンス変位計１０が取り付けられており、ダイ
ヤモンド圧子５の変位量が測定される。
【００２８】上記測定装置においては、荷重の付加は電
磁誘導、あるいは圧電効果を利用して行う。荷重値の決
定は、前者の場合は電流値を読むことによって、後者の
場合はロードセルによって行う。実験に用いる荷重は通
常ｍＮオーダーであり、分解能は約１μｍ程度である。
変位はキャパシタンスの変化を測定することによって、
約０．２ｍＮの分解能で決定できる。
磁誘導、あるいは圧電効果を利用して行う。荷重値の決
定は、前者の場合は電流値を読むことによって、後者の
場合はロードセルによって行う。実験に用いる荷重は通
常ｍＮオーダーであり、分解能は約１μｍ程度である。
変位はキャパシタンスの変化を測定することによって、
約０．２ｍＮの分解能で決定できる。
【００２９】図３に、ナノインデンテーション法で得ら
れる典型的な荷重−変位曲線を示す。圧子には、先端形
状が正三角形のダイヤモンドBerkovich 圧子を用いる。
圧子の押し込みに伴う試料の変形挙動が複雑なため、得
られた曲線全体を解析することはできないが、最大荷重
（Ｐmax ）近傍のデータから弾性係数と硬さを導出する
ことができる。
れる典型的な荷重−変位曲線を示す。圧子には、先端形
状が正三角形のダイヤモンドBerkovich 圧子を用いる。
圧子の押し込みに伴う試料の変形挙動が複雑なため、得
られた曲線全体を解析することはできないが、最大荷重
（Ｐmax ）近傍のデータから弾性係数と硬さを導出する
ことができる。
【００３０】弾性定数（Ｅeff ）は、序荷初期の変形が
弾性変形であると見なして、曲線の最大荷重（Ｐmax ）
における接線の勾配（Ｓ）と次式の関係にある。
弾性変形であると見なして、曲線の最大荷重（Ｐmax ）
における接線の勾配（Ｓ）と次式の関係にある。
【００３１】 Ｓ＝ｄＰ／ｄｈ＝２√π・β・√Ａ・Ｅeff また、硬さは良く知られた次の関係から得られる。
【００３２】Ｈ＝Ｐmax／Ａ β：圧子形状に依存する無次元の因子 Ａ：圧子の接触面積 Ｅeff ：弾性定数 ここで、β及びＡは、Berkovich 圧子の場合、次式で与
えられる。
えられる。
【００３３】β＝１．０３４ Ａ＝２４．５ｈc２ ｈc＝ｈmax−０．７５・Ｐmax／Ｓ また、薄膜のヤング率（Ｅf ）は、測定された弾性定数
（Ｅeff ）から圧子の変形を考慮した次式によって導出
される。
（Ｅeff ）から圧子の変形を考慮した次式によって導出
される。
【００３４】１／Ｅeff＝（１−ｖf 2）Ｅf＋（１−ｖ
indenter 2）／Ｅindenter ｖindenter＝０．０７ Ｅindenter＝１１４１ＧＰａ ただし、ナノインデンテーション法においては、圧子を
深く押し込むと界面や基板の影響が生じることに注意し
て実験を行うことが必要である。Ｓｉ基板上のＡｌ薄膜
における実験結果と有限要素法を用いた計算によれば、
圧子の深さが膜厚の１／１０〜１／５以下であれば基板
の影響を無視できるとされ、この値は他の薄膜において
も目安として用いられている。
indenter 2）／Ｅindenter ｖindenter＝０．０７ Ｅindenter＝１１４１ＧＰａ ただし、ナノインデンテーション法においては、圧子を
深く押し込むと界面や基板の影響が生じることに注意し
て実験を行うことが必要である。Ｓｉ基板上のＡｌ薄膜
における実験結果と有限要素法を用いた計算によれば、
圧子の深さが膜厚の１／１０〜１／５以下であれば基板
の影響を無視できるとされ、この値は他の薄膜において
も目安として用いられている。
【００３５】本発明においては、上記表面硬度の増加に
限らず、摩擦係数の低減、帯電防止を目的として、光透
過層３に予め表面処理されたシートを用いてもよい。前
者の場合、シリコーンオイル等を予め塗布して表面処理
を行う。後者の場合、カチオン系界面活性剤、両性界面
活性剤のうちの少なくとも１種を塗布することにより表
面処理を行う。
限らず、摩擦係数の低減、帯電防止を目的として、光透
過層３に予め表面処理されたシートを用いてもよい。前
者の場合、シリコーンオイル等を予め塗布して表面処理
を行う。後者の場合、カチオン系界面活性剤、両性界面
活性剤のうちの少なくとも１種を塗布することにより表
面処理を行う。
【００３６】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
【００３７】実施例１ 予め液状光硬化性樹脂が２μｍコーティングされた厚さ
１００μｍのポリカーボネートシートをディスク状に打
ち抜き、さらに液状光硬化性樹脂を接着剤として厚さ
１．２ｍｍの光ディスク支持基板と貼り合わせ、高密度
光ディスクを作製した。
１００μｍのポリカーボネートシートをディスク状に打
ち抜き、さらに液状光硬化性樹脂を接着剤として厚さ
１．２ｍｍの光ディスク支持基板と貼り合わせ、高密度
光ディスクを作製した。
【００３８】この液状光硬化性樹脂のビッカース硬度は
４０ＨＭＶであり、未処理のポリカーボネート表面のビ
ッカース硬度に比較して約３倍硬度が増加した。
４０ＨＭＶであり、未処理のポリカーボネート表面のビ
ッカース硬度に比較して約３倍硬度が増加した。
【００３９】この結果、砂塵等の比較的高硬度の汚れが
付着し、さらにその砂塵が光ピックアップと光透過層に
挟まれても、光透過層を傷つけるという被害を低減する
ことができた。
付着し、さらにその砂塵が光ピックアップと光透過層に
挟まれても、光透過層を傷つけるという被害を低減する
ことができた。
【００４０】実施例２ 予めＳｉＯx ８０ｎｍをスパッタリングにより成膜した
１００μｍ厚のポリカーボネートシートをディスク状に
打ち抜き、さらに液状光硬化性樹脂を接着剤として厚さ
１．２ｍｍの光ディスク支持基板と貼り合わせ、高密度
光ディスクを作製した。
１００μｍ厚のポリカーボネートシートをディスク状に
打ち抜き、さらに液状光硬化性樹脂を接着剤として厚さ
１．２ｍｍの光ディスク支持基板と貼り合わせ、高密度
光ディスクを作製した。
【００４１】薄膜硬度測定法であるナノインデンテーシ
ョン法（ナノインスツルメント社製，商品名ナノインデ
ンターII）を用いて最表面の硬さ及びヤング率を測定し
たところ、それぞれ約２ＧＰａ、約１７ＧＰａであっ
た。未処理のポリカーボネートシートの最表面の硬さ及
びヤング率がそれぞれ約０．３ＧＰａ、約４ＧＰａであ
ることから、表面硬度が増加するという効果が得られた
ことがわかる。
ョン法（ナノインスツルメント社製，商品名ナノインデ
ンターII）を用いて最表面の硬さ及びヤング率を測定し
たところ、それぞれ約２ＧＰａ、約１７ＧＰａであっ
た。未処理のポリカーボネートシートの最表面の硬さ及
びヤング率がそれぞれ約０．３ＧＰａ、約４ＧＰａであ
ることから、表面硬度が増加するという効果が得られた
ことがわかる。
【００４２】また、ＳｉＯx を成膜することにより、最
表面の動摩擦係数が０．２５から０．１５へ低減すると
いう効果も得られた。
表面の動摩擦係数が０．２５から０．１５へ低減すると
いう効果も得られた。
【００４３】動摩擦係数の測定は、新東科学社製、商品
名ＨＥＩＤＯＮ２２型を用い、測定条件は直径１０ｍｍ
ステンレス（ＳＵＳ）ボールを用い荷重は２０ｇｆ、測
定速度は６０ｍｍ／分で行った。
名ＨＥＩＤＯＮ２２型を用い、測定条件は直径１０ｍｍ
ステンレス（ＳＵＳ）ボールを用い荷重は２０ｇｆ、測
定速度は６０ｍｍ／分で行った。
【００４４】摩擦係数が低減した効果により、光ピック
アップと光透過層との接触時に発生する光ディスク媒体
の傷が減少した。
アップと光透過層との接触時に発生する光ディスク媒体
の傷が減少した。
【００４５】実施例３ 予めＳｉ3Ｎ4１５０ｎｍをスパッタリングにより成膜し
た１００μｍ厚のポリカーボネートシートをディスク状
に打ち抜き、さらに液状光硬化性樹脂を接着剤として厚
さ１．２ｍｍの光ディスク支持基板と貼り合わせ、高密
度光ディスクを作製した。
た１００μｍ厚のポリカーボネートシートをディスク状
に打ち抜き、さらに液状光硬化性樹脂を接着剤として厚
さ１．２ｍｍの光ディスク支持基板と貼り合わせ、高密
度光ディスクを作製した。
【００４６】薄膜硬度測定法であるナノインデンテーシ
ョン法（ナノインスツルメント社製，商品名ナノインデ
ンターII）を用いて最表面の硬さ及びヤング率を測定し
たところ、それぞれ約４ＧＰａ、約２８ＧＰａであっ
た。未処理のポリカーボネートシートの最表面の硬さ及
びヤング率がそれぞれ約０．３ＧＰａ、約４ＧＰａであ
ることから、表面硬度が増加するという効果が得られた
ことがわかる。
ョン法（ナノインスツルメント社製，商品名ナノインデ
ンターII）を用いて最表面の硬さ及びヤング率を測定し
たところ、それぞれ約４ＧＰａ、約２８ＧＰａであっ
た。未処理のポリカーボネートシートの最表面の硬さ及
びヤング率がそれぞれ約０．３ＧＰａ、約４ＧＰａであ
ることから、表面硬度が増加するという効果が得られた
ことがわかる。
【００４７】また、ＳｉＯx を成膜することにより、最
表面の動摩擦係数が０．２５から０．１８へ低減すると
いう効果も得られた。
表面の動摩擦係数が０．２５から０．１８へ低減すると
いう効果も得られた。
【００４８】動摩擦係数の測定は、新東科学社製、商品
名ＨＥＩＤＯＮ２２型を用い、測定条件は直径１０ｍｍ
ステンレス（ＳＵＳ）ボールを用い荷重は２０ｇｆ、測
定速度は６０ｍｍ／分で行った。
名ＨＥＩＤＯＮ２２型を用い、測定条件は直径１０ｍｍ
ステンレス（ＳＵＳ）ボールを用い荷重は２０ｇｆ、測
定速度は６０ｍｍ／分で行った。
【００４９】摩擦係数が低減した効果により、光ピック
アップと光透過層との接触時に発生する光ディスク媒体
の傷が減少した。また、光ピックアップを線速５ｍ／
秒、２０Ｈｚで１０００回衝突させても、その領域の読
み取りエラー頻度は増加せず、エラー訂正頻度が増加す
る未処理ポリカーボネートシートを光透過層に用いた光
ディスクと明らかな相違が見られた。このように、Ｓｉ
3Ｎ4をポリカーボネートシート上に成膜することによ
り、光ピックアップと衝突しても読み取りに問題がない
結果が得られた。
アップと光透過層との接触時に発生する光ディスク媒体
の傷が減少した。また、光ピックアップを線速５ｍ／
秒、２０Ｈｚで１０００回衝突させても、その領域の読
み取りエラー頻度は増加せず、エラー訂正頻度が増加す
る未処理ポリカーボネートシートを光透過層に用いた光
ディスクと明らかな相違が見られた。このように、Ｓｉ
3Ｎ4をポリカーボネートシート上に成膜することによ
り、光ピックアップと衝突しても読み取りに問題がない
結果が得られた。
【００５０】実施例４ カチオン系表面改質剤（高松油脂社製，商品名ＩＮ−１
７７Ｂ）を塗布した後、１００℃で温風乾燥し、さらに
１２０℃，３分間の熱処理条件で熱処理し、１００μｍ
厚のポリカーボネートシート上に１μｍコーティングし
た。
７７Ｂ）を塗布した後、１００℃で温風乾燥し、さらに
１２０℃，３分間の熱処理条件で熱処理し、１００μｍ
厚のポリカーボネートシート上に１μｍコーティングし
た。
【００５１】この予めカチオン系表面改質剤が１μｍコ
ーティングされたポリカーボネートシートをディスク状
に打ち抜き、さらに液状光硬化性樹脂を接着剤として厚
さ１．２ｍｍの光ディスク支持基板と貼り合わせ、高密
度光ディスクを作製した。
ーティングされたポリカーボネートシートをディスク状
に打ち抜き、さらに液状光硬化性樹脂を接着剤として厚
さ１．２ｍｍの光ディスク支持基板と貼り合わせ、高密
度光ディスクを作製した。
【００５２】その結果、表面抵抗値が１０15Ω／ｃｍ2
から１０7Ω／ｃｍ2へと下がり（測定条件：２０℃、３
０ＲＨ％）、実際に静電気による埃、ゴミの光透過層へ
の付着が低減された。
から１０7Ω／ｃｍ2へと下がり（測定条件：２０℃、３
０ＲＨ％）、実際に静電気による埃、ゴミの光透過層へ
の付着が低減された。
【００５３】実施例５ １００μｍ厚のポリカーボネートシートをディスク状に
打ち抜き、さらに液状光硬化性樹脂を接着剤として厚さ
１．２ｍｍの光ディスク支持基板と貼り合わせた後、ポ
リカーボネートシート上にシリコーンオイル（信越化学
工業社製，商品名ＫＦ−９６）をスタンプ方式によりト
ップコートし高密度光ディスクを作製した。
打ち抜き、さらに液状光硬化性樹脂を接着剤として厚さ
１．２ｍｍの光ディスク支持基板と貼り合わせた後、ポ
リカーボネートシート上にシリコーンオイル（信越化学
工業社製，商品名ＫＦ−９６）をスタンプ方式によりト
ップコートし高密度光ディスクを作製した。
【００５４】その結果、表面潤滑性が増加し、摩擦係数
が０．２６から０．０８へ低減された。動摩擦係数の測
定は、新東科学社製、商品名ＨＥＩＤＯＮ２２型を用
い、測定条件は直径１０ｍｍステンレス（ＳＵＳ）ボー
ルを用い荷重は２０ｇｆ、測定速度は６０ｍｍ／分で行
った。
が０．２６から０．０８へ低減された。動摩擦係数の測
定は、新東科学社製、商品名ＨＥＩＤＯＮ２２型を用
い、測定条件は直径１０ｍｍステンレス（ＳＵＳ）ボー
ルを用い荷重は２０ｇｆ、測定速度は６０ｍｍ／分で行
った。
【００５５】これにより、光ピックアップを衝突させた
ときの光透過層の最表面損失、劣化を低減することがで
きた。
ときの光透過層の最表面損失、劣化を低減することがで
きた。
【００５６】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明によれば、光ピックアップと光透過層とが衝突しても
光透過層に傷及び変形を生じさせず、誤り訂正範囲内で
の記録再生が可能となる。
明によれば、光ピックアップと光透過層とが衝突しても
光透過層に傷及び変形を生じさせず、誤り訂正範囲内で
の記録再生が可能となる。
【００５７】また、本発明においては、予め表面処理さ
れたシートを用いているので、ディスク作製後に各ディ
スク毎に表面処理するという作製工程を省略することが
でき、生産性の点で有利である。
れたシートを用いているので、ディスク作製後に各ディ
スク毎に表面処理するという作製工程を省略することが
でき、生産性の点で有利である。
【図１】本発明が適用される光ディスクの一構成例を示
す概略断面図である。
す概略断面図である。
【図２】ナノインデンテーション法の測定に用いられる
測定装置の概略構成を示す模式図である。
測定装置の概略構成を示す模式図である。
【図３】ナノインデンテーション法で測定される荷重−
変位曲線を示す特性図である。
変位曲線を示す特性図である。
１ 支持基板、２ 記録層、３ 光透過層
フロントページの続き (72)発明者 山崎 剛 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 5D029 LA05 LA13 LA14 LA16 LB04 LB07 LB12 LC12 LC13 LC14 LC21 LC25
Claims (10)
- 【請求項１】 厚さ０．３ｍｍ〜１．２ｍｍの支持体上
に記録層が形成されるとともに、この記録層上に厚さ３
〜１７７μｍのシート状の光透過層が貼り合わされてな
り、当該光透過層側から光照射され情報の記録及び／又
は読み出しが行われる光記録媒体において、 上記光透過層の表面が表面処理されていることを特徴と
する光記録媒体。 - 【請求項２】 上記表面処理された光透過層の最表面の
硬度が、ビッカース硬度で１３ＨＭＶ以上であることを
特徴とする請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項３】 上記表面処理された光透過層の最表面
は、ナノインデンテーション法により測定される硬さが
０．５ＧＰａ以上であることを特徴とする請求項１記載
の光記録媒体。 - 【請求項４】 上記表面処理された光透過層の最表面
は、ナノインデンテーション法により測定されるヤング
率が４ＧＰａ以上であることを特徴とする請求項１記載
の光記録媒体。 - 【請求項５】 上記表面処理された光透過層は、表面に
予め液状光硬化性樹脂又は液状熱硬化性樹脂が塗布硬化
さたシートよりなることを特徴とする請求項１記載の光
記録媒体。 - 【請求項６】 上記表面処理された光透過層は、表面に
予めＳｉＯx、ＳｉＮx、ＳｉＮxＯy、ＳｉＣ、硬質カー
ボンのうちの少なくとも１種が成膜されたシートよりな
ることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項７】 上記表面処理が帯電防止処理であること
を特徴とする請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項８】 上記光透過層の表面にカチオン系界面活
性剤、両性界面活性剤のうちの少なくとも１種が塗布さ
れていることを特徴とする請求項７記載の光記録媒体。 - 【請求項９】 上記表面処理が摩擦係数低減処理である
ことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項１０】 上記光透過層の表面にシリコーンオイ
ルが塗布されていることを特徴とする請求項９記載の光
記録媒体。
Priority Applications (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11133361A JP2000322768A (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | 光記録媒体 |
| TW089108436A TW509936B (en) | 1999-05-13 | 2000-05-03 | Optical recording medium |
| AU32513/00A AU3251300A (en) | 1999-05-13 | 2000-05-04 | Optical recording medium |
| SG200002436A SG92701A1 (en) | 1999-05-13 | 2000-05-04 | Optical recording medium |
| IDP20000381A ID25943A (id) | 1999-05-13 | 2000-05-08 | Medium perekam optik |
| EP00109895A EP1052629A1 (en) | 1999-05-13 | 2000-05-10 | Optical recording medium |
| CA002307985A CA2307985A1 (en) | 1999-05-13 | 2000-05-10 | Optical recording medium |
| CN00108349A CN1274151A (zh) | 1999-05-13 | 2000-05-12 | 光学记录媒体 |
| BR0002103-2A BR0002103A (pt) | 1999-05-13 | 2000-05-12 | Meio ótico de gravação |
| KR1020000025624A KR20000077265A (ko) | 1999-05-13 | 2000-05-13 | 광 기록 매체 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11133361A JP2000322768A (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000322768A true JP2000322768A (ja) | 2000-11-24 |
Family
ID=15102936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11133361A Pending JP2000322768A (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | 光記録媒体 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1052629A1 (ja) |
| JP (1) | JP2000322768A (ja) |
| KR (1) | KR20000077265A (ja) |
| CN (1) | CN1274151A (ja) |
| AU (1) | AU3251300A (ja) |
| BR (1) | BR0002103A (ja) |
| CA (1) | CA2307985A1 (ja) |
| ID (1) | ID25943A (ja) |
| SG (1) | SG92701A1 (ja) |
| TW (1) | TW509936B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002045082A1 (fr) * | 2000-11-30 | 2002-06-06 | Sony Corporation | Support d'enregistrement optique et procede de fabrication dudit support, ainsi que machine de moulage par injection |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2469083A1 (en) * | 2001-12-03 | 2003-06-12 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical storage system, optical storage medium and use of such a medium |
| JP5399177B2 (ja) * | 2009-09-09 | 2014-01-29 | ソニー株式会社 | 光記録媒体および光記録媒体の製造方法 |
| BR112020009607A2 (pt) | 2017-12-13 | 2020-10-13 | Alcon Inc. | lentes de contato com gradiente aquoso descartáveis semanal e mensalmente |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61246743A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-11-04 | Canon Inc | 光記録媒体 |
| US4977064A (en) * | 1987-05-01 | 1990-12-11 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Optical recording medium and process for fabricating the same |
| US5190807A (en) * | 1990-10-18 | 1993-03-02 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant polymeric substrate product |
| US5485452A (en) * | 1991-06-28 | 1996-01-16 | Pioneer Electronic Corporation | Optical information recording medium |
| US5846649A (en) * | 1994-03-03 | 1998-12-08 | Monsanto Company | Highly durable and abrasion-resistant dielectric coatings for lenses |
| JP3241560B2 (ja) * | 1995-02-24 | 2001-12-25 | ソニー株式会社 | 光学記録媒体及びその製造方法 |
| DE69724740T2 (de) * | 1996-06-03 | 2004-07-08 | Kao Corp. | Optische platte, verfahren zur herstellung der optischen platte und herstellungsgerät dafür |
| WO1998010115A1 (en) * | 1996-09-03 | 1998-03-12 | Monsanto Company | Silicon-doped diamond-like carbon coatings for magnetic transducers and for magnetic recording media |
| JPH10302309A (ja) * | 1997-04-25 | 1998-11-13 | Sony Corp | 光学記録媒体 |
| JP4099549B2 (ja) * | 1997-05-16 | 2008-06-11 | ソニー株式会社 | 光記録媒体及び光学ディスク装置 |
-
1999
- 1999-05-13 JP JP11133361A patent/JP2000322768A/ja active Pending
-
2000
- 2000-05-03 TW TW089108436A patent/TW509936B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-05-04 AU AU32513/00A patent/AU3251300A/en not_active Abandoned
- 2000-05-04 SG SG200002436A patent/SG92701A1/en unknown
- 2000-05-08 ID IDP20000381A patent/ID25943A/id unknown
- 2000-05-10 EP EP00109895A patent/EP1052629A1/en not_active Withdrawn
- 2000-05-10 CA CA002307985A patent/CA2307985A1/en not_active Abandoned
- 2000-05-12 CN CN00108349A patent/CN1274151A/zh active Pending
- 2000-05-12 BR BR0002103-2A patent/BR0002103A/pt not_active IP Right Cessation
- 2000-05-13 KR KR1020000025624A patent/KR20000077265A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002045082A1 (fr) * | 2000-11-30 | 2002-06-06 | Sony Corporation | Support d'enregistrement optique et procede de fabrication dudit support, ainsi que machine de moulage par injection |
| US7224665B2 (en) | 2000-11-30 | 2007-05-29 | Sony Corporation | Optical recording medium its manufacturing method and injection molding apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ID25943A (id) | 2000-11-16 |
| AU3251300A (en) | 2000-11-16 |
| CN1274151A (zh) | 2000-11-22 |
| TW509936B (en) | 2002-11-11 |
| SG92701A1 (en) | 2002-11-19 |
| KR20000077265A (ko) | 2000-12-26 |
| CA2307985A1 (en) | 2000-11-13 |
| BR0002103A (pt) | 2001-01-02 |
| EP1052629A1 (en) | 2000-11-15 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081202 |